搜索
我要推广仪器
下载APP
首页
选仪器
耗材配件
找厂商
行业应用
新品首发
资讯
社区
资料
网络讲堂
仪课通
仪器直聘
市场调研
当前位置:
仪器信息网
>
行业主题
>
>
湿法刻蚀显影机
仪器信息网湿法刻蚀显影机专题为您提供2024年最新湿法刻蚀显影机价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括湿法刻蚀显影机参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的湿法刻蚀显影机您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合湿法刻蚀显影机相关的耗材配件、试剂标物,还有湿法刻蚀显影机相关的最新资讯、资料,以及湿法刻蚀显影机相关的解决方案。
湿法刻蚀显影机相关的方案
伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器(MEMS)加工
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器,用于监测土壤的力学结构变化,一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工,Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层,在完成镀膜(溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam)用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题,刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。
圆晶湿法刻蚀清洗工艺中采用耐腐蚀电动针阀的流量控制解决方案
化学药液流量的精密控制是半导体湿法清洗工艺中的一项关键技术,流量控制要求所用调节针阀一是开度电动可调、二是具有不同的口径型号、三是高的响应速度,四是具有很好的耐腐蚀性,这些都是目前提升半导体清洗设备性能需要解决的问题。为此,本文提出了相应的解决方案,解决方案的核心是采用具有系列口径的高速和耐腐蚀的电动针阀。
Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究
重庆某研究所在在氮化硅刻蚀工艺研究中采用 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE.针对氮化硅刻蚀工艺中硅衬底刻蚀损失的问题, 为了提高氮化硅对二氧化硅的刻蚀选择比, 采用 CF4, CH3F和O2这3种混合气体刻蚀氮化硅, 通过调整气体流量比, 腔内压强及功率, 研究其对氮化硅刻蚀速率、二氧化硅刻蚀速率及氮化硅对二氧化硅选择比等主要刻蚀参数的影响.
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度
衍射光学元件因其独特的光学性能在多个高技术领域中得到广泛应用。随着技术的发展,对衍射光学元件的制造工艺提出了更高的要求。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的应用,为实现高精度和高均匀性的光学元件制造提供了新的解决方案。
Hakuto IBE离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
随着微纳制造技术的发展,软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为一种常用的软刻蚀材料,其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点,为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀
提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻(ALE)是一种技术允许每次精确除去一个原子层,是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
实验室电热板湿法消解法操作
湿法消解是在化学分析和食品检测中常用的样品前处理方法。湿法消解通过向样品中加入强氧化剂(如浓硝酸、浓硫酸、高氯酸、高锰酸钾、过氧化氢等),并加热使样品中的有机物质分解、氧化,呈气态逸出。这种氧化反应速度快,能够在较短的时间内完成样品的消解处理,提高了分析效率。
海能仪器:现代实验室湿法消解的概况(样品前处理)
湿法消解是目前做元素分析的最直接、最有效、最经济的一种样品前处理手段,随着实验室设备的技术的创新和发展。孔式消解器和微波技术将是实验室湿法消解的两种主流实验设备产品!
上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀
深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板
本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制作面阵石英 DNA 芯片模板中的应用。该设备配备 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700,确保了高真空度和刻蚀过程的高均匀性。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的芯片模板表面微结构形貌有利于 DNA 序列样本与芯片模板的吸附耦合,提高了实验效率和准确性。
莱伯泰科湿法消解仪器精品荟萃
随着我国家对环境、食药、疾控、质检等安全机制的重视,在元素分析和有害金属元素检测上将投入更大的检测力度。在检测分析工作中,样品前处理的工作非常重要,样品前处理的工作完成的好坏直接会影响结果的准确性。为了快速、高效的等到准确的检测结果,除了提高分析仪器、分析手段,更要提高对样品前处理的处理手段。下面了解一下有关湿法消解的相关设备和应用方法。
上海伯东IBE离子束刻蚀用于铌酸锂LiNbO3薄膜刻蚀
随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现,铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样,成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台,在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能,IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。
湿法纺丝纤维的黏度控制
粘度是植物纤维胶纤维在执行纺丝工艺步骤之前和该过程中的重要参数。尽管粘度不合规会直接影响细丝的质量,但粘度过高也会加大所需的精力。使用在线粘度测量装置L-Vis 510,可监测熟成过程的粘度增长情况以适时结束此工艺步骤,并可确定执行湿法纺丝的最佳时机。从而,确保获得一致的高质量产品和最佳工艺条件。另外一种好处是,还能减少人工采样和实验室测量工作。
上海伯东 IBE离子束刻蚀(离子铣)基本原理与应用介绍
在半导体制程工艺中,刻蚀(Etch)是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分,以化学反应或物理作用的形式加以去除,完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀(Wet Etching)和干刻蚀(Dry Etching)。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺,即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后,将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种:PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
MC方案:光刻胶溶解的实时监测
为了优化半导体和光子器件的图形制作工艺,对光刻胶溶解过程的表征进行了不断的研究。溶出度的实时监测可为此类表征提供必要的信息。在本应用中,通过使用FR-Pro VIS/NIR和FR液体附件,对标准显影剂(AZ726MIF)中的抗蚀剂(AR-N7520.18)薄膜的溶解过程进行实时监控。
QCM-D研究光刻蚀分解
光响应高分子(光刻胶)材料被广泛的应用于工业处理,如电子器件和刻蚀。他们对光敏感,并且大量使用在表面上。本文主要采用QCM-D技术对光响应高分子的性能进行了研究。
DS-360石墨消解系统-湿法常压消解化妆品中的砷和汞方法
石墨消解仪进行样品湿法常压消解更安全、环保,采用多孔消解仪可以快速大批量消解样品。仪器整机采用高严格防腐蚀处理技术,可以在严酷恶劣的酸碱环境中进行实验。
如何优化制粒工艺?制药必会的湿法制粒技术!
湿法制粒技术 湿法制粒是制药行业最为常用的技术之一。该工艺旨在获得所需特性的混合物,适用于压片、包衣等后续工艺流程。制粒过程应坚固、可重复、可控,并且还应提供最佳的收率。湿法制粒技术主要用于改善低剂量混合物的流动性、可压性、生物利用度、均一性、粉末的静电性能以及剂型的稳定性。
不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响
岛津AXIS Supra具备全自动传样系统,样品预抽时便可进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪,单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析,低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析,20 kV最大团簇能量可以保证无机材料的有效分析。
SALD-2300湿法测定电池级碳酸锂的粒径分布
本文参考行业标准《电池级碳酸锂》(YS/T 582-2013)与标准《粒度分析 激光衍射法》(GB/T 19077-2016),使用岛津激光粒度仪SALD-2300湿法测试电池级碳酸锂粉末的粒径大小和分布。本法使用微量样品池,以无水乙醇作为分散介质,在快速搅拌条件下进行测试,样品分散充分,测试速度快,数据稳定且重复性好,可满足电池级碳酸锂粉末粒度的测试要求。
高压消解法、湿法消解法、微波消解法如果检测食品中铅元素,配套的产品方案
试样前处理的三种消解方法及配套不同的产品,在前处理方法中,保留湿法消解和压力罐消解,删除干法灰化和过硫酸铵灰化法,增加微波 消解,适用于各类食品中铅含量的测定
原子吸收石墨炉法测定空心胶囊Cr ——微波消解及湿法样品处理方法比较
铬的测定通常采用比色法和原子吸收光谱法。比色法干扰因素较多,操作繁杂;原子吸收光谱法具有操作简便、快速、准确的优点。本文参照2010年版《中国药典》及食品类检测方法GB-T5009.123-2003《食品中铬的测定》,采用高压消解法、微波消解法及湿法分别对多个用户空心胶囊样品进行处理,经石墨炉检测后,对三种方法的结果进行了比对,其结果均很接近,从而证明了这三种方法均适用于对胶囊中铬的检测。
北京东西分析仪器:原子吸收石墨炉法测定空心胶囊Cr ——微波消解及湿法样品处理方法比较
铬的测定通常采用比色法和原子吸收光谱法。比色法干扰因素较多,操作繁杂;原子吸收光谱法具有操作简便、快速、准确的优点。本文参照2010年版《中国药典》及食品类检测方法GB-T5009.123-2003《食品中铬的测定》,采用高压消解法、微波消解法及湿法分别对多个用户空心胶囊样品进行处理,经石墨炉检测后,对三种方法的结果进行了比对,其结果均很接近,从而证明了这三种方法均适用于对胶囊中铬的检测。
湿法珠磨制备米诺地尔纳米颗粒实现高效靶向毛囊
Oaku团队致力于通过纳米技术,特别是通过珠磨法制备了5%MXD纳米颗粒制剂(MXD-NPs)。该配方既具有MXD纳米颗粒的分散性,又通过使用靶向毛囊的纳米颗粒来增强毛发生长效果,从而解决MXD治疗AGA中的疗效和安全性之间的平衡问题。
自动熔点仪法检测对苯二酚的熔点
对苯二酚是一种有机化合物,主要用于制取黑白显影剂、蒽醌染料、偶氮染料、橡胶防老剂、稳定剂和抗氧剂。在有机化学领域中,对于纯粹的有机化合物一般都有固定的熔点,熔点测定是辨认物质本性的基本手段,也是纯度测定的重要方法之一。在国家标准《工业用对苯二酚》中对对苯二酚的熔点测定方法和结果有明确的规定,本文采用全自动熔点仪法检测对苯二酚的熔点,操作简单、快速、结果准确。
Hakuto 离子蚀刻机20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄
某陶瓷基片制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于 5G 陶瓷基片银薄膜减薄, 通过蚀刻工艺把基片涂层银薄膜刻蚀减薄, 并降低工差, 提高薄膜均匀性.
感光性干膜(Dry film)显影液中的碳酸钠的检测
在印刷电路板生产工艺上,用紧贴在印刷电路板曝光后的感光性干膜来显影。将其浸泡在碳酸钠溶液中,没有被曝光的干膜保护膜被碳酸盐溶解,以实现显影。
HM&M珠磨机:与盐野义制药合作研发难溶性药物所需的湿法珠磨机
盐野义制药开始着手与广岛金属公司共同研究和开发用于解决难溶性药物在研磨时引入污染物这一问题的新型珠磨机。
TRILOS超高压纳米均质机在触摸屏用银浆和碳浆的应用
目前常用的金属网格工艺是,通过显影、蚀刻等工艺在PET膜上得到预留凹槽;再将导电银浆刮涂入刻蚀的预留凹槽中,进行低温固化,形成金属网格触控电极及周边引线,得到金属网格电容式触摸屏。该工艺方法由于工艺简单,成本低、透光性好,产品柔性高等优势,逐步成为触摸屏柔性化、大尺寸、轻薄化发展的重要趋势。在上述工艺技术中,银浆是其核心原材料之一……
扫描电镜在 PCB 失效分析中的应用(二)
PCB 的制造过程,有与芯片相似的过程,需要进行曝光→显影→刻蚀。在 PCB 工艺中,使用图形转移的 关键材料是菲林(film),俗称贴膜工艺,分为干膜和湿膜。
相关专题
助力高校用户选型 耐克特粒度仪解决方案
助力高校用户选型 虹科实验室仪器设备一站式解决方案
莱伯泰科超级品牌日:一站式服务 让实验更省心
邀您共探:实验室离心机市场发展现状
第九届中国第三方检测实验室发展论坛暨展览会
品牌合作伙伴客户关怀月第二季-21大品牌工程师上门巡检
食品中砷、汞形态分析国标发布 将给原子荧光市场带来多大冲击?
钢研纳克超级品牌日:材料产业质量基础设施建设的引领者
莱伯泰科超级品牌日-质谱产品发布会
2022仪器圈抗击新冠疫情纪实
厂商最新方案
相关厂商
陕西爱姆加电子设备有限公司
佛山市鑫晟光电科技有限公司
江苏雷博科学仪器有限公司
湿法筛分仪
上海艾尧科学仪器有限公司
陕西思的信息资讯有限公司
中普尼实业集团有限公司
Dymek
介可视公司
苏州清芯卓半导体设备有限公司
相关资料
GBT 21199-2007 激光打印机干式单组分显影剂.pdf
GBT 21200-2007 激光打印机干式双组分显影剂用色调剂.pdf
JB/T 10933-2010 干式单组份显影剂用磁性粉 技术条件
GBT 21201-2007 激光打印机干式双组分显影剂.pdf
HJ 595-2010 水质 彩色显影剂总量的测定 169成色剂分光光度法(暂行)
JB/T 10940-2010 激光打印机干式单组份非磁性显影剂 技术条件
HJ 595-2010 水质 彩色显影剂总量的测定 169成色剂分光光度法(暂行).pdf
HJ 595-2010 水质 彩色显影剂总量的测定 169成色剂分光光度法(暂行)
HJ 595-2010 水质 彩色显影剂总量的测定 169成色剂分光光度法
HJ 595-2010 水质 彩色显影剂总量的测定 169成色剂分光光度法(暂行)