头孢唑林钠标准品

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  • 关注:头孢唑林注射剂严重不良反应
    日前,国家食品药品监督管理总局发布第五十九期《药品不良反应信息通报》,提醒关注头孢唑林注射剂严重不良反应。   头孢唑林为&beta -内酰胺类广谱抗生素,为第一代注射用头孢菌素。该药对大多数敏感的革兰阳性球菌与常见的革兰阴性杆菌均有较强抗菌作用。目前,我国批准的头孢唑林注射剂有注射用头孢唑林钠和注射用五水头孢唑林钠两种。   2013年,国家药品不良反应病例报告数据库共收到头孢唑林注射剂严重病例报告349例。严重不良反应/事件累及系统排名前三位的依次为全身性损害、呼吸系统损害、皮肤及附件损害,具体不良反应表现以过敏性休克和严重过敏样反应最为突出。同时头孢唑林注射剂临床不合理用药问题依然存在,其中以超适应症用药、单次用药剂量过大表现最为明显。   根据病例报告数据库信息分析情况,国家食品药品监督管理总局提示:   1、有关药品生产企业结合品种实际修改完善说明书相关内容,加强上市后药品不良反应监测,做好安全用药宣传和培训,指导临床合理用药。   2、医护人员关注头孢唑林注射剂严重不良反应和临床合理用药问题,严格按照药品说明书使用,避免超适应症用药、避免单次用药剂量过大等。建议基层医疗机构加强对医务人员临床用药和急救知识的培训,促进合理使用抗生素,保障公众用药安全。   如需了解详细信息,请登陆国家食品药品监督管理总局网站(http://www.sfda.gov.cn)或国家药品不良反应监测中心网站(http://www.cdr.gov.cn)。   小贴士:   1.头孢唑林是什么药品?主要治疗什么疾病?   头孢唑林是第一代头孢菌素,抗菌谱广,适用于治疗敏感细菌所致的支气管炎及肺炎等呼吸道感染、尿路感染、皮肤软组织感染、骨和关节感染、败血症、感染性心内膜炎、肝胆系统感染及眼、耳、鼻、喉科等感染,也可作为外科手术前的预防用药。不宜用于中枢神经系统感染,对慢性尿路感染,尤其伴有尿路解剖异常者的疗效较差,不宜用于治疗淋病和梅毒。国家食品药品监督管理总局批准的头孢唑林制品有注射用头孢唑林钠和注射用五水头孢唑林钠两种,现有数据无法判断二者在安全性上有明显差别。   2.头孢唑林的严重不良反应主要是什么?   头孢唑林注射剂严重不良反应/事件系统损害以全身性损害、呼吸系统损害、皮肤及其附件损害为主,具体不良反应表现以过敏性休克最为突出。过敏性休克一般累及多个器官系统,发展迅速,若不及时处理,常可危及生命。故在用药过程中应密切监测,如病人出现皮疹,瘙痒、心悸、胸闷、血压下降、意识模糊等过敏性休克的症状,应立即采取有效的急救措施。   3.头孢唑林注射剂为什么要每日分次使用?   头孢唑林属于时间依赖性抗菌药物,其抗菌效果主要取决于血药浓度超过所针对细菌的最低抑菌浓度(MIC)的时间,血药浓度在体内代谢达到最高后慢慢下降,当降至无效浓度时就进行下一次用药,可尽量延长药物在体内的有效浓度时间,起到较好的治疗作用。说明书中规定本品应分次给药,目的是缩短给药间隔时间,使24小时内血药浓度高于致病菌的最小抑菌浓度时间超过60%。   鉴于头孢唑林达到最小有效浓度后再增加药物浓度也不会提高其抗菌效果,如一次即给予一日总用药量,不仅会使药效降低,还会造成血药浓度过高,增加代谢负担,导致用药风险增加。故在应用本品时,应严格按照说明书要求分次使用。
  • 前沿合作 | 2D-LCMS-QTOF法对注射用头孢美唑钠的未知杂质进行结构解析
    岛津中国创新中心与北京阳光诺和药物研究股份有限公司和中国食品药品检验研究院合作,采用岛津二维高效液相色谱串联四极杆飞行时间质谱法(2D-LC-QTOF),对头孢美唑钠热降解的未知杂质进行了定性鉴定。 背景介绍β-内酰胺类抗生素,主要包括头孢菌素类、青霉素类和碳青霉烯类。头孢美唑是第二代半合成的头孢类抗生素。2020版《中国药典》,美国药典(USP43)和日本药典(JP17)都收录了注射用头孢美唑钠。在注射用头孢美唑钠的质量研究中,发现其对热比较敏感,头孢美唑内酯(cefmetazole lactone)和1-甲基-5-巯基四氮唑(1-methyl-5-mercaptotetrazolium)在高温条件下均有明显增加,主峰后出现3个明显的未知杂质。 某仿制药和参比制剂样品中实际检出的未知杂质含量超过了ICH Q3B规定的鉴定阈值(头孢美唑日用最大剂量为4g,对应的杂质鉴定阈值为0.10%;部分样品中如图1所示杂质3的量超过0.10%),故尝试对注射用头孢美唑钠检出的未知杂质进行结构分析。图1给出了注射用头孢美唑钠热解样品的一维(图1A)和3种目标杂质(杂质1-3)的二维(图1B)紫外色谱图。图1 注射用头孢美唑钠热解样品的一维(1A)和3种目标杂质(杂质1-3)的二维(1B)色谱图 解决方案岛津液相系统Nexera LC-40 +高分辨质谱仪LCMS-9030 基于二维液相色谱-高分辨质谱系统,采用中心切割技术将在一维中采用含非挥发性盐的流动相中分离得到的目标未知物导入二维色谱,在二维色谱中采用质谱兼容的挥发性流动相,进而采用高分辨质谱对未知物进行定性鉴定。一维色谱采用《中国药典》中注射用头孢美唑钠的有关物质检查方法,流动相中含不挥发的磷酸盐和离子对试剂(四丁基氢氧化铵,TBAH)。二维色谱采用C18色谱柱,利用磷酸盐在色谱柱上不保留,TBAH在高比例水相下不易洗脱等性质,通过阀切换技术和改变流动向比例等方法洗脱导入废液,避免质谱污染。 表1 头孢美唑钠中杂质的分子式、加和离子和误差 在结构解析中,通过比较头孢美唑钠和未知降解杂质的母离子及特征碎片离子的相关性,结合文献报道的头孢类抗生素及杂质的裂解规律,对头孢美唑钠中的三种未知杂质进行科学合理的定性分析。表1列出了三种未知杂质的分子结构和误差。以杂质2为例,在正模式下的一级质谱图(见图2A):主要离子为m/z 488.0320,m/z 372.0160,m/z 505.0586。m/z 488.0320与m/z 505.0586相差17,可推断m/z 505.0586为m/z 488.0320的[M+NH4]+峰。m/z 488.0320的二级产物离子质谱图(见图2B)。推测杂质2的结构和裂解规律(见图3),杂质2可能为7-甲巯基头孢美唑。同时,7-甲巯基头孢美唑也是一种常见的头孢美唑杂质。 图2 杂质2在正模式下的扫描离子(2A)和m/z 488.0320的产物离子质谱图(2B) 图3 杂质2可能的结构和质谱裂解规律 结论本研究对头孢美唑中的3种未知杂质进行了科学合理的定性分析,对于头孢美唑的质量控制及安全性评价具有重要意义。本分析方法适用于β-内酰胺类抗生素中未知杂质的分离和定性,具有很强的通用性,同时可对化学药物、天然产物、多组分生化药等复杂组成体系进行定性鉴别,从而提供可靠的质量控制分析方法。 本工作基于创新中心搭建的专属性中心切割二维反相色质谱联用分析平台(2D-LC-QTOF)和开发的《抗生素杂质数字化标准品数据库》,该数据库收录了β-内酰胺类抗生素的一般杂质和聚合物杂质的色谱和高分辨质谱数据,还登录了抗生素相关杂质的液相色谱-三重四极杆质谱分析方法。该分析平台不仅为企业客户大大降低了企业研发成本,同时也为企业的工艺改进、剂型研发、品质提升等方面提供技术参考。 参考文献:《采用二维高效色谱-串联四级杆飞行时间质谱法对注射用头孢美唑钠的未知杂质进行结构解析》《中国药学杂志》中图分类号:R917 文献标识码:A 文章编号:1001-2494(2022) 08-0645-06 doi: 10.11669/cpj.2022.08.009
  • 前沿合作 | 岛津携手阳光诺和揭示头孢西丁钠新颖聚合方式
    岛津中国创新中心与北京阳光诺和药物研究股份有限公司合作,采用岛津高效液相色谱串联四极杆飞行时间质谱(2D LCMS-QTOF)对注射用头孢西丁钠有关物质进行结构鉴定,揭示了一种由噻吩环引发的新颖聚合方式。该研究成果发表在国际知名学术期刊《Talanta》(IF= 6.1)。背景介绍Introductionβ-内酰胺类抗生素是临床应用较广的一类抗感染药物,其β-内酰胺四元环张力较大容易开环断裂,生成N-型或L-型聚合物。聚合物杂质引发的过敏反应严重威胁临床用药安全,是β-内酰胺类抗生素杂质谱研究的重点。由于聚合物杂质稳定性差、含量低、聚合方式多样、聚合程度各异,以及小分子杂质的干扰,聚合物杂质的控制存在很大挑战。本研究基于创新中心搭建的专属性中心切割二维反相色质谱联用分析平台和创新中心开发的《抗生素杂质数字化标准品数据库》,无需改变一维色谱流动相条件,即可实现头孢西丁聚合物杂质的专属性检测。图1 头孢西丁钠破坏样品检测色谱图(254 nm,一维HPSEC色谱图,上;二维反相色谱图,中;聚合物杂质HPLC检测色谱图,下)解决方案Solution图2 岛津液相系统Nexera LC-40 +高分辨质谱仪LCMS-9030本方案一维采用HPSEC系统,磷酸盐流动相定位头孢西丁钠中的聚合物杂质,然后采用阀切换技术,使用500 μL定量环将聚合物峰全部转移至二维反相色谱,脱盐、分离并质谱鉴定。基于LCMS-9030四极杆飞行时间质谱高分辨,高质量准确度和二级碎片定性的功能,通过比较头孢西丁钠与聚合物杂质母离子和特征碎片离子的相关性对头孢西丁钠四种未知聚合物杂质进行科学合理的定性分析。其中聚合物C1分子量较2分子头孢西丁少2个H(Mr. 852.09),根据其同位素比例和特征碎片离子信息,推断其为一分子头孢西丁7-位侧链与另一分子头孢西丁7-位噻吩环联结形成的,该新颖聚合方式尚未见文献报道。C1是实际样品中的优势聚合物(占比>50%),可作为注射用头孢西丁钠质量控制的指针性聚合物。最终,本研究建立了注射用头孢西丁钠聚合物检测的反相色谱方法,并探索其用于日常检验的可能性。表1 头孢西丁钠及四种聚合物杂质的质谱信息(ESI+)图3 C1一级质谱图(A)和母离子m/z 870的二级质谱图(B)(ESI+)图4 C1聚合物可能的结构和裂解规律结论Conclusion本文采用创新中心搭建的专属性中心切割二维反相色质谱联用分析平台对注射用头孢西丁钠中的聚合物杂质进行研究,展示了二维色谱-串联质谱技术在不挥发盐类流动相系统中对未知杂质结构鉴定的巨大潜力。岛津飞行时间质谱LCMS-9030采集全谱信息,提供快速、高灵敏度的测试结果,确保实验数据的可靠性,支持追溯性分析有利于未知物的结构鉴定。创新中心开发的《抗生素杂质数字化标准品数据库》,收录了β-内酰胺类抗生素一般杂质和聚合物杂质的色谱和高分辨质谱数据,大大降低了企业的研发成本,同时也为药物工艺改进、剂型研发、品质提升等方面提供技术参考。参考文献:《Characterization of polymerized impurities in cefoxitin sodium for injection by two-dimensional chromatography coupled with time-of-flight mass spectrometry》.https://doi.org/10.1016/j.talanta.2023.125378

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  • 多参数食品安全快速检测仪SP-1218D采用10.1寸彩色触摸显示屏,具有数据互联网云传输功能的新一代多项目多通道检测,能实现现场检测实时网络传送数据,是一台综合快速检测仪器,结合光谱分析和干式免疫胶体金检测技术,可快速检测食品中的添加剂、非食品添加剂、伪劣食品、粮食安全、食品理化指标,蔬菜水果农药残留,兽药残留、水产品抗生素残留、粮食真菌毒素等含量的测定,检测项目可根据需要升级添加。多参数食品安全快速检测仪SP-1218D整合在一个高强度工具箱内,携带方便,适合市场监管部门、农产品安全检测部门以及在实验室和商品流动检测车中使用。产品特点1、多用型食品分析,可以任意扩展食品安全检测项目,一机多用,数据即时传送网络云平台。2、采用10.1寸高分辨率彩色液晶触摸屏全中文显示,智能化操作。带大容量数据保存功能。4、检测项目全面,可扩展到100多个,光谱检测和干式免疫胶体金检测相结合,12通道快速检测.5、带有嵌入式微型热敏打印机,直接打印每个检测通道的测试报告,报告详细直观,内容包含通道号、浓度、中文样品名、检测日期、检验员、检测单位。同时可外接通用常规A4激光及喷墨打印机。6、自动显示样品中检测项目的浓度。7、多参数食品安全快速检测仪SP-1218D带有线网口、无线WiFi、蓝牙功能、3G\4G通讯上网功能,可实现数据实时云传送,实现大数据云平台管理。技术指标1、 彩色液晶触摸大屏尺寸:10.1寸2、 吸光值显示范围:0.000-4.000A3、 透光值显示范围:0.00-100.00%T4、 透光值分辨率:0.01%T5、 吸光值分辨率:0.001A6、透射比准确度:±0.5%(T)7、透射比重复性:≤0.2% (T)8、光电流漂移:≤0.2%(3分钟)9、测量准确度:5%10、检测通道:12个11 、胶体金检测模块:3个11.1测量速度:<0.5s11.2检测精度:CV值小于1%(标准卡),批间误差<3%,灵敏度高于0.001.11.3检测输出:色度检测,CT比值检测,T线检测,C线检测等自动判断功能。12、食品快速检测模块:食品添加剂及非添加剂检测模块:甲醛、二氧化硫、亚硝酸盐、双氧水、吊白块、硼砂、苯甲酸钠、山梨酸、溴酸钾、火碱、植物油过氧化值、酸价、酱油氨基酸态氮、碘盐、、过氧化苯甲酰、尿素、甲醇、硫酸铝钾、丙二醛、苏丹红、罗丹明B、味精谷氨酸钠、蜂蜜葡萄糖、蜂蜜蔗糖、糖精钠、水中汞、铅、砷。农药残留:蔬菜水果、粮食、新鲜茶叶中有机磷类及氨基甲酸酯类农药残留;菊酯、啶虫脒、乙草胺、毒死蜱、百菌清、克百威、多菌灵、阿维菌素、吡虫啉、豆芽无根水、6苄氨基嘌呤、多效唑、甲基对硫磷、甲萘威、涕灭威、豆芽无根水(本氧乙酸)、 豆芽 6-苄氨基嘌呤、多效唑、菊酯、涕灭威、甲荼威、吡虫啉、阿维菌素等。肉类及水产品:组胺、挥发性盐基氮、盐酸克伦特罗、莱克多巴胺、沙丁胺醇1.畜禽类:盐酸克伦特罗、沙丁胺醇、莱克多巴胺、氟苯尼考、氟喹诺酮类药物、β-内酰胺类、喹乙醇林可霉素、泰乐菌素、头包类药物(三合一)、氨苄青霉、啊维菌素类药物、地塞米松、金刚烷胺蜂蜜、水产品抗生素激素:呋喃唑酮、呋喃妥因、呋喃西林、呋喃它酮、孔雀石绿、氯霉素、五氯酚钠、磺胺、土霉素、喹诺酮、头孢氨苄、内酰胺类、四环素、硝基米唑(甲硝唑)、庆大、链霉素、甲氧卞胺嘧啶、喹乙醇、红霉素、青霉素、奎乙醇代谢物、林可霉素、新霉素、卡那霉素、泰乐菌素、替米考星、甲砜霉素、等粮食真菌毒素、转基因、重金属:黄曲霉毒素B1\M1、赭曲毒素、伏马毒素、玉米赤霉烯酮、呕吐毒素、T2毒素、玉米赤霉烯酮、大米大豆Bt转基因Cry1Ab/Ac、重金属镉液态奶及制品:三聚氰胺、蛋白质、内酰胺类抗生素、四环素、氯霉素、金霉素、土霉素、黄曲霉毒素M1、喹诺酮、磺胺、庆大霉素、卡那霉素、林可霉素、新霉素、大观霉素、替米考星、红霉素、链霉素、甲氧苄氨嘧啶、头孢氨苄、泰乐菌素、地塞米松检测卡保健品药品:西地那非、西布曲明、苯二氮卓、苯巴比妥、甲基睾酮、氢氯噻嗪、氯丙嗪、可乐定、双胍类、酚酞、二氢吡啶、咖啡因化妆品:氯霉素、卡那霉素、大观霉素、新霉素、链霉素、内酰胺类、地塞米松、磺胺、喹诺酮、林可霉素、己烯雌酚、雌二醇、雌三醇、甲硝唑、糖皮质激素、四环素、阿维菌素。细菌:沙门氏菌、大肠杆菌O157等检测项目150多项,可升级增加及更换。13、通讯接口: USB 3个14、无线通讯接口: 蓝牙、wifi、3G/4G无线上网15、工作电源:220V±10%
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    在科研中,很多用户需要用到光栅或点阵这些周期性的结构。有时用户不需要研究微纳米加工工艺,这样如果能花费低廉的价格买到这些成品将十分方便,只要接着从事后续的工作就可以了;有的用户自已拥有微纳米加工设备及经验,但纳米量级的尺寸要采用电子束曝光的方法来进行光刻,若有效面积超过1平方厘米,占机时间会很长,并需要调整电子束光刻及干法刻蚀工艺来优化成品。 鉴于此,我们向用户提供光栅及点阵的纳米结构成品。衬底材料为硅单晶,可广泛应用于各类科学研究。 产品类型: 标准模板一 ○ 光栅纳米结构模板 (线条+间距)○ 二维纳米模板(矩形或六边形)标准模板二 ○ 光栅结构○ 柱状点阵模板○ 孔阵模板2x2cm2模板四英寸模板六英寸模板标准模板一 我们可提供纳米级微结构,衬底材料为硅单晶,广泛应用于科学研究。批量生产,质量有保证,且性价比高。 产品精度: 线宽/深度:±15%周期精度:优于0.5%衬底宽度和高度误差:± 0.2 mm衬底厚度:0.675 ± 0.050 mm 具体规格如下表所示: 光栅纳米结构模板 (线条+间距) Linear Nanostamps (line+space) 序号周期沟槽深度占空比 ①线宽 ②样片尺寸③1139 nm50 nm50%69.5 nm12.5×12.5×0.7 mm2139 nm50 nm50%69.5 nm25×25×0.7 mm ⑤3278 nm④110 nm50%139 nm12.5×12.5×0.7 mm4416.6 nm110 nm50%208 nm12.5×12.5×0.7 mm5500 nmmultiple ⑥44%220 nm8×8.3×0.7 mm6500 nmmultiple ⑥60%300 nm8×8.3×0.7 mm7555.5 nm110 nm50%278 nm20×9×0.7 mm8555.5 nm140 nm50%278 nm20×9×0.7 mm9555.5 nm110 nm29%158 nm20×9×0.7 mm10555.5 nm140 nm29%158 nm20×9×0.7 mm11600 nmmultiple ⑥43%260 nm8×8.3×0.7 mm12600 nmmultiple ⑥55%330 nm8×8.3×0.7 mm13606 nm190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm14606 nm④190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm15606 nm190 nm50%303 nm29×24.2×0.7 mm ⑤16675 nm170 nm32%218 nm24×10×0.7 mm17675 nm170 nm32%218 nm24×30.4×0.7 mm ⑤18700 nmmultiple ⑥47%330 nm8×8.3×0.7 mm19700 nmmultiple ⑥55%375 nm8×8.3×0.7 mm20833.3 nm200 nm50%416 nm12.5×12.5×0.7 mm21833.3 nm200 nm50%416 nm25×25×0.7 mm ⑤ ①占空比表示线宽和周期的比率。③第二个尺寸相当于沟槽的长度。④scientific" grade offered at a discount. It has at least 80% of usable area. Up to 80/100 scratch/dig/particles and irregular substrate shape may present.⑤可定做更大尺寸⑥深度可做成150, 250 和 350 nm。 二维纳米模板(矩形或六边形)2D nanostamps (rectangular and hexagonal lattice) 序号周期晶格类型沟槽深度特征宽度衬底尺寸1500 nmrect postmultiple ①135 nm8×8.3×0.7 mm2500 nmrect postmultiple ①210 nm8×8.3×0.7mm3600 nmrect postmultiple ①195 nm8×8.3×0.7mm4600 nmrect postmultiple ①275 nm8×8.3×0.7mm5700 nmrect postmultiple ①260 nm8×8.3×0.7mm6700 nmrect postmultiple ①350 nm8×8.3×0.7mm7500 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm8600 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm9600 nmhex postmultiple ①240 nm8×8.3×0.7mm10700 nmhex postmultiple ①220 nm8×8.3×0.7mm11700 nmhex postmultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm12600 nmhex holemultiple ①180 nm8×8.3×0.7mm13700 nmhex holemultiple ①200 nm8×8.3×0.7mm14700 nmhex holemultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm ①深度可做成150, 250 和 350 nm rect post:hex post:hex hole:标准模板二 我们可提供纳米级微结构,衬底材料为硅单晶,广泛应用于科学研究。批量生产,质量有保证,且性价比高。产品精度:直径±10%线宽±10%高度/深度±15%产品说明:硅片厚度:0.5mm(特殊情况另标注)模板尺寸:产品规格+/-0.2mm缺陷面积:1% 具体规格如下表所示: 光栅结构(周期,线宽,高度,有效面积,衬底尺寸) Part NoDescriptionImagePattern 10Line gratingPeriod: 70 nmWidth: 25 nmor 35 nmHeight: 32nmor 40 nmArea: 4x 0.5 x 1.2 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 2Line gratingPeriod: 300 nmWidth: 170 nmHeight: 210 nmArea: 30 x 30 mm2Substrate: Si 30 x 30 mm2Pattern 23Line arryPeriod: 150 nmWidth: 75 nmHeight: 116 nmArea:25 x25 mm2Substrate:Si 30 x 30 mm2 柱状点阵模板(周期,柱直径,高度,有效面积,衬底尺寸) Part NoDescriptionImagePattern 1Square pillar arrayPeriod: 300 nmDiameter: 145 nmHeight: 170 nmArea: 14 x 14 mm2Substrate: Si 14 x 14 mm2Pattern 6High-resolution pillar arrayPeriod: 35 nmand 42 nmDiameter: 15 - 20 nmHeight: 25nmArea: each period 25x25 um2Substrate: Si 12.5 x 12.5 mm2Pattern 3Hexagonal pillar arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 310 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 15Hexagonal pillar arrayPeriod: 750 nmDiameter: 325 nmHeight: 260 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 7Hexagonal pillar arrayPeriod: 1000 nmDiameter: 400 nmHeight: 280 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 26 x 26 mm2Pattern 17Hexagonal pillar arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 470 nmHeight: 750 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (0.7mm) 25 x 25 mm2Pattern 20Hexagonal pillar arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1800 nmHeight: 1200 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2 孔阵模板(周期,孔直径,高度,有效面积,衬底尺寸) Part NoDescriptionImagePattern 11Square hole arrayPeriod: 90 nmDiameter: 45 nmHeight: 50 nmArea: 4x 0.6 x 0.6 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Pattern 13Square hole arrayPeriod: 300 nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 4 x 4 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Substrate: Quartz (2.3 mm thick)Pattern 24Square hole arrayPeriod: 350 nmDiameter: 225 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 4Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 50 nm, 450 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 5Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 400 nmHeight: 680 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 14Hole array on Rhombic latticePeriod:* x=610nm, y=425nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Chip size: Si 24 x 24 mm2* center-to-center distance in x and yPattern 16Hexagonal hole arrayPeriod: 750 nmDiameter: 380 nmHeight: 420 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 18Hexagonal hole arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 490 nmHeight: 470 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 19Hexagonal hole arrayPeriod: 1500 nmDiameter: 780 nmHeight: 550 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 21Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1500 nmHeight: 850 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 22Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1200 nmHeight: 1500 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm22x2cm2标准纳米压印模板 我们提供电子束光刻方法制备的硅模板,衬底尺寸为20x20mm2。图形分辨率高,有效区域为5x5mm2。批量生产,质量有保证,且性价比高。产品精度: 标准高度:100nm直径: ±10%线宽: ±10%缺陷面积: 1% 具体规格如下表所示: 孔阵(矩形孔阵) 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_h_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_h_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_h_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm 孔阵(六边形孔阵) 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_h_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm2P300h_h_5w5300nm5x5mm2125nm/ 100nm3P400h_h_5w5400nm5x5mm2150nm/ 100nm 柱状点阵(矩形柱状点阵) 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_p_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_p_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_p_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm 柱状点阵(六边形柱状点阵) 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_p_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm2P300h_p_5w5300nm5x5mm2110nm/ 100nm3P400h_p_5w5400nm5x5mm2120nm/ 100nm 大面积四英寸模板我们提供四英寸硅或石英模板,可用于压印工艺。批量生产制作,质量有保证且性价比高。 产品精度: 高度/深度:±15%直径:±10%线宽:±10%缺陷面积:1% 具体规格如下表所示: Holes on Hexagonal Lattice(六边形孔阵) Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image1P520h_h_20w20520 nm260nm20x20 mm2450 nm/200 nm2P600h_h_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm3P600h_h_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm4P750h_h_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm5P780h_h_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm6P1000h_h_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm7P1000h_h_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm8P1500h_h_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm9P1500h_h_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm10P3000h_h_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Holes on Square Lattice(矩形孔阵) Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image11P350s_h_20w20350 nm250nm20x20 mm2300 nm/150 nm12P350s_h_100d350 nm250nm100dia300 nm/150 nm Pillars on Hexagonal Lattice(六边形柱状) Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image13P600h_p_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm14P600h_p_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm15P750h_p_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm16P780h_p_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm17P1000h_p_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm18P1000h_p_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm19P1500h_p_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm20P1500h_p_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm21P3000h_p_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Pillars on Square Lattice(矩形柱状点阵) Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image22P150s_p_30w30150 nm75nm30x30 mm275 nm/ —23P250s_p_30w30250 nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm24P300s_p_30w30300 nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm25P400s_p_30w31400nm250nm30x30 mm3200 nm/100 nm26P500s_p_30w30500 nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Linear Gratings(光栅结构) Part NoProductPeriodWidthAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image27P150L_p_30w30150nm70nm30x30 mm275 nm/ —28P250L_p_30w30250nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm29P300L_p_30w30300nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm30P400L_p_30w30400nm200nm30x30 mm2200 nm/100 nm31P500L_p_30w30500nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Multi-pattern(复合结构) Part NoProductDescriptionDiameterPeriodAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)32MHSL_400-800Linear, hexagonal, square array combination,Periods: 400-800nmpitch dependentho, les/lineseach period,7.5mm x 7.5mm400 nm/150 nm33MP250L300Multi-period linear grating combination 1, Periods: 250nm, 275nm, 300nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period,7mm x 7mm200 nm/100 nm34MP300L600Multi-period linear grating combination 2,Periods: 300nm, 400nm, 500nm, 600nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period,10mm x 10mm300 nm/150 nm
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  • 欧洲药典标准品2
    异烟酸地塞米松 Dexamethasone isonicotinate 10 mg 奶蓟提取物 Milk thistle standardised dry extract *** 120 mg 免疫球蛋白面板抗- D抗体 Immunoglobulin panel for anti-D antibodies test BRP (2 Amp.) 2000 mg 硫利达嗪系统适应 Thioridazine for system suitability 0.21 mg 癸酸南诺龙 Nandrolone decanoate *** 5 mg 去甲羟基安定峰鉴别 Oxazepam for peak identification 0.008 mg 双氢速甾醇 Dihydrotachysterol *** 10 mg 硫辛酸含杂质B Thioctic acid containing impurity B 30 mg 硫辛酸 Thioctic acid 110 mg 癸酸诺龙峰鉴别 Nandrolone decanoate for peak identification*** 10 mg 癸酸诺龙系统适应性 Nandrolone decanoate for system suitability *** 10 mg 大观霉素系统适应性 Spectinomycin for system suitability 20 mg 舒巴坦峰鉴别 Sulbactam for peak identification 20 mg 多沙唑嗪杂质D Doxazosin impurity D 10 mg 多沙唑嗪杂质F Doxazosin impurity F 10 mg 甲磺酸多沙唑嗪 Doxazosin mesilate 60 mg 地高辛峰鉴别 Digoxin for peak identification 10 mg 碘曲仑 Iotrolan 100 mg 非班太尔 Febantel 110 mg 氟康唑 Fluconazole 50 mg 氟康唑峰鉴别 Fluconazole for peak identification 10 mg 丙酸氯倍他索 Clobetasol propionate 40 mg 苯唑西林峰鉴别 Oxacillin for peak identification 10 mg 维库溴铵 Vecuronium bromide 10 mg 咪达唑仑杂质C Midazolam impurity C 0.08 mg 盐酸阿米替林 Amitriptyline hydrochloride 10 mg 苄氟噻嗪杂质A Bendroflumethiazide impurity A 5 mg ß -醋地高辛 ß -Acetyldigoxin 30 mg 头孢拉定峰鉴别 Cefradine for peak identification 6 mg 绿原酸 Chlorogenic acid 20 mg 氯倍他索峰鉴别 Clobetasol for peak identification 2 mg 氯倍他索杂质J Clobetasol impurity J 0.4 mg 羟乙膦酸钠 Etidronate disodium 10 mg 氟康唑杂质B Fluconazole impurity B 10 mg 氟康唑杂质C Fluconazole impurity C 5 mg 常春藤提取物 Ivy leaf standardised tincture *** 2 mL 泮库溴铵系统适应性 Pancuronium bromide for system suitability 20 mg 盐酸帕罗西汀 Paroxetine hydrochloride (anhydrous) 100 mg 盐酸帕罗西汀杂质C Paroxetine hydrochloride (anhydrous) impurity C 10 mg 帕罗西汀杂质E Paroxetine impurity E 5 mg 盐酸帕罗西汀杂质H Paroxetine hydrochloride (anhydrous) impurity H 10 mg 醋酸泼尼松龙峰鉴别 Prednisolone acetate for peak identification 10 mg 缬草提取物 Valerian standardised dry extract *** 400 mg 盐酸沃尼妙林 Valnemulin hydrochloride 10 mg 沃尼妙林峰鉴别 Valnemulin for peak identification 20 mg 沃尼妙林杂质E Valnemulin impurity E 10 mg 盐酸文拉法辛 Venlafaxine hydrochloride 50 mg 文拉法辛系统适应性 Venlafaxine for system suitability 1 mg 长春西汀 Vinpocetine 10 mg 长春西汀杂质A Vinpocetine impurity A 10 mg 长春西汀杂质B Vinpocetine impurity B 10 mg 硫辛酸系统适应性 Thioctic acid for system suitability 10 mg 硫酸软骨素钠 Chondroitin sulphate sodium (marine) 100 mg Rocuronium bromide - Reference Spectrum unit 阿尔维林峰鉴别 Alverine for peak identification 0.125 mg 盐酸大观霉素 Spectinomycin hydrochloride 100 mg 醋酸甲羟孕酮系统适应性 Medroxyprogesterone acetate for system suitability *** 10 mg 达那肝素钠 Danaparoid sodium *** 10 mg 甲氨蝶呤峰鉴别 Methotrexate for peak identification 20 mg 氯雷他定系统适应性 Loratadine for system suitability 20 mg 氯雷他定杂质F Loratadine impurity F 10 mg 氯雷他定杂质H Loratadine impurity H 50 mg 阿尔噻嗪 Altizide 150 mg 阿尔维林杂质D Alverine impurity D 10 mg 比沙可啶峰鉴别 Bisacodyl for peak identification 10 mg 克拉屈滨峰鉴别 Cladribine for peak identification 10 mg 克拉屈滨杂质C Cladribine impurity C 2-chloro-7H-purin-6-amine *** 5 mg 登溴克新 Dembrexine hydrochloride monohydrate 10 mg Dopexamine dihydrochloride 10 mg 登溴克新杂质B Dopexamine impurity B 10 mg 登溴克新杂质F Dopexamine impurity F 10 mg 依那普利二水 Enalaprilat dihydrate 100 mg 盐酸托烷司琼 Tropisetron hydrochloride 40 mg 乙基吲哚羧酸 Ethyl indole-3-carboxylate 10 mg 托烷司琼杂质B Tropisetron impurity B 10 mg 愈创木酚 Guaiacol 2200 mg 正十二烷基磺酸钠 Sodium laurilsulfate 40 mg 盐酸特拉唑嗪 Terazosin hydrochloride dihydrate 40 mg 特拉唑嗪杂质A Terazosin impurity A 10 mg 特拉唑嗪杂质L Terazosin impurity L 10 mg 特拉唑嗪杂质N Terazosin impurity N 10 mg 维库溴铵峰鉴别 Vecuronium for peak identification 10 mg 酮洛酸氨丁三醇峰鉴别 Ketorolac trometamol for peak identification 5 mg 依那普利系统适用性 Enalaprilat for system suitability 10 mg 帕罗西汀系统适用性 Paroxetine for system suitability 5 mg 萘普生杂质L Naproxen impurity L 10 mg 降钙素甘氨酸 Calcitonin-Gly *** 0.4 mL 盐酸头孢吡肟 Cefepime dihydrochloride monohydrate 150 mg 盐酸头孢吡肟系统适用性 Cefepime dihydrochloride monohydrate for system suitability 15 mg 莫达非尼 Modafinil 110 mg 系统适应性 Modafinil for system suitability 0.1 mg 阿奇霉素峰鉴别 Azithromycin for peak identification 15 mg 苯唑西林钠 Oxacillin sodium monohydrate 110 mg 可拉屈滨 Cladribine 50 mg 毛地黄毒苷元 Digoxigenin 5 mg 阿奇霉素系统适应性 Azithromycin for system suitability 0.05 mg 醋地高辛峰鉴别 ß -Acetyldigoxin for peak identification 10 mg 格列吡嗪杂质D Glipizide impurity D 10 mg 噻吗洛尔 (R)-timolol 20 mg 苯甲酮 Benzophenone 40 mg 替米沙坦 Telmisartan 30 mg 替米沙坦峰鉴别 Telmisartan for peak identification 10 mg 盐酸坦索罗辛 Tamsulosin hydrochloride 10 mg 坦索罗辛杂质D Tamsulosin impurity D 10 mg 坦索罗辛杂质H Tamsulosin impurity H 10 mg 坦索罗辛消旋 Tamsulosin racemate 10 mg 来氟米特 Leflunomide 100 mg 硫酸大观霉素 Spectinomycin sulphate tetrahydrate *** 10 mg 盐酸育亨宾 Yohimbine hydrochloride 20 mg 碘曲仑系统适应性 Iotrolan for system suitability 5 mg 吡咯烷酮 Pyrrolidone 20 mg 非班太尔系统适应性 Febantel for system suitability 10 mg 马鞭草苷 Verbenalin 11 mg 核糖核酸 Ribonucleic acid 100 mg 甲氨蝶呤杂质C Methotrexate impurity C 10 mg 甲氨蝶呤杂质E Methotrexate impurity E 10 mg 特拉唑嗪杂质E Terazosin impurity E 10 mg 特拉唑嗪系统适应性 Terazosin for system suitability 0.5 mg Human coagulation factor VII concentrate BRP *** 2x26 mg 替勃龙系统适应性 Tibolone for system suitability *** 10 mg 水杨苷 Salicin 50 mg 诺香草胺 Nonivamide 10 mg 辣椒素 Capsaicin 50 mg 碘海醇峰鉴别 Iohexol for peak identification 10 mg 钩果草甙 Harpagoside 1.03 mg 来氟米特峰鉴别 Leflunomide for peak identification 1 mg 盐酸吉西他滨 Gemcitabine hydrochloride 50 mg 吉西他滨杂质A Gemcitabine impurity A 20 mg 甲磺酸溴隐亭系统适应性 Bromocriptine mesilate for system suitability *** 5 mg 依那普利拉 Enalaprilat impurity G 0.005 mg 美吡拉敏杂质A Mepyramine impurity A 10 mg 美吡拉敏杂质C Mepyramine impurity C 10 mg 美吡拉敏杂质D Noradrenaline impurity D 15 mg 美吡拉敏杂质E Noradrenaline impurity E 10 mg 盐酸去氧肾上腺素 Phenylephrine hydrochloride for peak identification 2 mg 甲氧苄啶系统适应性 Trimethoprim for system suitability 0.00075 mg 来曲唑 Letrozole 70 mg 去甲肾上腺素杂质F Noradrenaline impurity F 10 mg 枸橼酸阿尔维林 Alverine citrate 5 mg 氯雷他定 Loratadine 60 mg 滑液囊支原体 Mycoplasma synoviae BRP *** 1 mL 猪鼻支原体 Mycoplasma hyorhinis BRP *** 1 mL 口腔支原体 Mycoplasma orale BRP *** 1 mL 发酵支原体 Mycoplasma fermentans BRP *** 1 mL 胆甾原支原体 Acholeplasma laidlawii BRP *** 1 mL 比沙可啶系统适应性 Bisacodyl for system suitability 5 mg 纳洛酮峰鉴别 Naloxone for peak identification 10 mg 癸酸睾酮 Testosterone decanoate for system suitability 0.4 mg 紫杉醇 Paclitaxel 40 mg 紫杉醇杂质C Paclitaxel impurity C N-debenzoyl-N-hexanoylpaclitaxel 5 mg 峰鉴别 Paclitaxel natural for peak identification 10 mg 美托拉宗 Metolazone 80 mg 美托拉宗系统适应性 Metolazone for system suitability 10 mg 盐酸莫西沙星 Moxifloxacin hydrochloride 110 mg 甲硫哒嗪 Thioridazine 10 mg 米氮平 Mirtazapine 10 mg 利托那韦峰鉴别 Ritonavir for peak identification 10 mg 肾上腺素杂质A Adrenaline tartrate with impurity A 15 mg 氟奋乃静杂质混合物 Fluphenazine impurity mixture 0.07 mg 氧托溴铵 Oxitropium bromide 50 mg Somatropin/desamidosomatropin resolution mixture 33 mg Eq Influenza Subtype 2 American-like/South Africa Horse Antiserum BRP *** 1 mg 氧托溴铵杂质D Oxitropium bromide impurity D 10 mg 利托那韦 Ritonavir 80 mg 氧托溴铵杂质B Oxitropium bromide impurity B 15 mg 异己酸睾酮系统适应性 Testosterone isocaproate for system suitability 5 mg 莫西沙星峰鉴别 Moxifloxacin for peak identification 10 mg 劳拉西泮杂质D Lorazepam impurity D 10 mg 半合成紫杉醇峰鉴别 Paclitaxel semi-synthetic for peak identification 10 mg 甘油二异硬脂酸酯 Triglycerol diisostearate 200 mg 米氮平系统适应性 Mirtazapine for system suitability 10 mg 诺孕酪 Norgestimate 10 mg 诺孕酪系统适应性 Norgestimate for system suitability 5 mg 盐酸多佐胺 Dorzolamide hydrochloride 50 mg 多佐胺杂质A Dorzolamide impurity A 5 mg Agnus castus fruit standardised dry extract *** 200 mg 联苯乙酸 Felbinac 10 mg 联苯乙酸杂质A Felbinac impurity A 20 mg 达卡巴嗪 Dacarbazine *** 20 mg 达卡巴嗪杂质A Dacarbazine impurity A 10 mg 达卡巴嗪杂质B Dacarbazine impurity B 10 mg 盐酸黄酮哌酯 Flavoxate hydrochloride 10 mg 黄酮哌酯杂质A Flavoxate impurity A 10 mg 黄酮哌酯杂质B Flavoxate impurity B 10 mg 半合成紫杉醇系统适应 Paclitaxel semi-synthetic for system suitability 1 mg 肾上腺素杂质混合物 Adrenaline impurity mixture 0.005 mg 盐酸罗哌卡因一水合物 Ropivacaine hydrochloride monohydrate 10 mg 罗哌卡因杂质G Ropivacaine impurity G 5 mg 聚糖酐 Dextranomer 50 mg Macrogol 40 sorbitol heptaoleate 20 mg 印地那韦系统适应性 Indinavir for system suitability 20 mg 莫昔克丁系统适应性 Moxidectin for system suitability 10 mg Tibolone - Reference Spectrum unit 香精油 Essential oil 1000 mg 多佐胺系统适应性 Dorzolamide for system suitability 5 mg 非索非那定杂质A Fexofenadine impurity A 5 mg 非索非那定杂质B Fexofenadine impurity B 0.01 mg 非索非那定杂质C Fexofenadine impurity C 5 mg 乌洛托品 Methenamine 10 mg 壬苯醇醚9 Nonoxinol 9 10 mg 非诺特罗峰鉴别 Fenoterol for peak identification 1.2 mg 核黄素峰鉴别 Riboflavin for peak identification 0.1 mg 氯氮平峰鉴别 Clozapine for peak identificat他啶峰鉴定 Ceftazidime for peak identification 10 mg 孕二烯酮杂质I Gestodene impurity I 0.01 mg 齐多夫定 Zidovudine 60 mg 齐多夫定杂质A Zidovudine impurity A 10 mg 齐多夫定杂质B Zidovudine impurity B 10 mg 醋己氨酸锌 Zinc acexamate 50 mg 醋己氨酸锌杂质A Zinc acexamate impurity A 50 mg 唑吡坦杂质A Zolpidem impurity A 10 mg 佐匹克隆氧化物 Zopiclone oxide 20 mg

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