米卡芬净钠标准品

其他高纯管控标准品慧淘科仪为您提供高质量的高纯国家管控标准品，包括：抗精神病/抗抑郁类奥氮平、氯丙嗪、氯氮平、多虑平、卡马西平、去甲替林、三氟拉嗪、阿米替林、氯米帕明、丙咪嗪盐、异丙嗪抗焦虑/失眠类唑呲坦、佐匹克降、地西泮、硝西泮、氯硝西泮、劳拉西泮、阿普唑仑、艾司唑仑、咪达唑仑、三唑仑等中枢神经类咖啡因、可卡因类、苯丙胺类、氯丙嗪、氟呱啶醇、卡西酮类、利多卡因、尼可刹米、氯化琥珀胆碱等镇痛/麻醉类芬太尼类、吗啡类、可待因类、阿片类、哌替啶、曲马多、喷他佐辛、布托啡诺、巴比妥类、苯二氮卓类、氯胺酮、四氢大麻酚、大麻酚、大麻二酚、羟考酮等非药用类精麻药品↗麻醉药品↗其他↗精神药品一类↗精神药品二类↗

在科研中，很多用户需要用到光栅或点阵这些周期性的结构。有时用户不需要研究微纳米加工工艺，这样如果能花费低廉的价格买到这些成品将十分方便，只要接着从事后续的工作就可以了；有的用户自已拥有微纳米加工设备及经验，但纳米量级的尺寸要采用电子束曝光的方法来进行光刻，若有效面积超过1平方厘米，占机时间会很长，并需要调整电子束光刻及干法刻蚀工艺来优化成品。 鉴于此，我们向用户提供光栅及点阵的纳米结构成品。衬底材料为硅单晶，可广泛应用于各类科学研究。 产品类型： 标准模板一 ○ 光栅纳米结构模板 (线条+间距)○ 二维纳米模板（矩形或六边形）标准模板二 ○ 光栅结构○ 柱状点阵模板○ 孔阵模板2x2cm2模板四英寸模板六英寸模板标准模板一 我们可提供纳米级微结构，衬底材料为硅单晶，广泛应用于科学研究。批量生产，质量有保证，且性价比高。 产品精度： 线宽/深度：±15%周期精度：优于0.5%衬底宽度和高度误差：± 0.2 mm衬底厚度：0.675 ± 0.050 mm 具体规格如下表所示： 光栅纳米结构模板 (线条+间距) Linear Nanostamps (line+space) 序号周期沟槽深度占空比 ①线宽 ②样片尺寸③1139 nm50 nm50%69.5 nm12.5×12.5×0.7 mm2139 nm50 nm50%69.5 nm25×25×0.7 mm ⑤3278 nm④110 nm50%139 nm12.5×12.5×0.7 mm4416.6 nm110 nm50%208 nm12.5×12.5×0.7 mm5500 nmmultiple ⑥44%220 nm8×8.3×0.7 mm6500 nmmultiple ⑥60%300 nm8×8.3×0.7 mm7555.5 nm110 nm50%278 nm20×9×0.7 mm8555.5 nm140 nm50%278 nm20×9×0.7 mm9555.5 nm110 nm29%158 nm20×9×0.7 mm10555.5 nm140 nm29%158 nm20×9×0.7 mm11600 nmmultiple ⑥43%260 nm8×8.3×0.7 mm12600 nmmultiple ⑥55%330 nm8×8.3×0.7 mm13606 nm190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm14606 nm④190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm15606 nm190 nm50%303 nm29×24.2×0.7 mm ⑤16675 nm170 nm32%218 nm24×10×0.7 mm17675 nm170 nm32%218 nm24×30.4×0.7 mm ⑤18700 nmmultiple ⑥47%330 nm8×8.3×0.7 mm19700 nmmultiple ⑥55%375 nm8×8.3×0.7 mm20833.3 nm200 nm50%416 nm12.5×12.5×0.7 mm21833.3 nm200 nm50%416 nm25×25×0.7 mm ⑤ ①占空比表示线宽和周期的比率。③第二个尺寸相当于沟槽的长度。④scientific" grade offered at a discount. It has at least 80% of usable area. Up to 80/100 scratch/dig/particles and irregular substrate shape may present.⑤可定做更大尺寸⑥深度可做成150, 250 和 350 nm。 二维纳米模板（矩形或六边形）2D nanostamps (rectangular and hexagonal lattice) 序号周期晶格类型沟槽深度特征宽度衬底尺寸1500 nmrect postmultiple ①135 nm8×8.3×0.7 mm2500 nmrect postmultiple ①210 nm8×8.3×0.7mm3600 nmrect postmultiple ①195 nm8×8.3×0.7mm4600 nmrect postmultiple ①275 nm8×8.3×0.7mm5700 nmrect postmultiple ①260 nm8×8.3×0.7mm6700 nmrect postmultiple ①350 nm8×8.3×0.7mm7500 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm8600 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm9600 nmhex postmultiple ①240 nm8×8.3×0.7mm10700 nmhex postmultiple ①220 nm8×8.3×0.7mm11700 nmhex postmultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm12600 nmhex holemultiple ①180 nm8×8.3×0.7mm13700 nmhex holemultiple ①200 nm8×8.3×0.7mm14700 nmhex holemultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm ①深度可做成150, 250 和 350 nm rect post:hex post：hex hole：标准模板二 我们可提供纳米级微结构，衬底材料为硅单晶，广泛应用于科学研究。批量生产，质量有保证，且性价比高。产品精度：直径±10%线宽±10%高度/深度±15%产品说明：硅片厚度：0.5mm（特殊情况另标注）模板尺寸：产品规格+/-0.2mm缺陷面积：1% 具体规格如下表所示： 光栅结构（周期，线宽，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 10Line gratingPeriod: 70 nmWidth: 25 nmor 35 nmHeight: 32nmor 40 nmArea: 4x 0.5 x 1.2 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 2Line gratingPeriod: 300 nmWidth: 170 nmHeight: 210 nmArea: 30 x 30 mm2Substrate: Si 30 x 30 mm2Pattern 23Line arryPeriod: 150 nmWidth: 75 nmHeight: 116 nmArea:25 x25 mm2Substrate:Si 30 x 30 mm2 柱状点阵模板（周期，柱直径，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 1Square pillar arrayPeriod: 300 nmDiameter: 145 nmHeight: 170 nmArea: 14 x 14 mm2Substrate: Si 14 x 14 mm2Pattern 6High-resolution pillar arrayPeriod: 35 nmand 42 nmDiameter: 15 - 20 nmHeight: 25nmArea: each period 25x25 um2Substrate: Si 12.5 x 12.5 mm2Pattern 3Hexagonal pillar arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 310 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 15Hexagonal pillar arrayPeriod: 750 nmDiameter: 325 nmHeight: 260 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 7Hexagonal pillar arrayPeriod: 1000 nmDiameter: 400 nmHeight: 280 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 26 x 26 mm2Pattern 17Hexagonal pillar arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 470 nmHeight: 750 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (0.7mm) 25 x 25 mm2Pattern 20Hexagonal pillar arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1800 nmHeight: 1200 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2 孔阵模板（周期，孔直径，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 11Square hole arrayPeriod: 90 nmDiameter: 45 nmHeight: 50 nmArea: 4x 0.6 x 0.6 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Pattern 13Square hole arrayPeriod: 300 nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 4 x 4 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Substrate: Quartz (2.3 mm thick)Pattern 24Square hole arrayPeriod: 350 nmDiameter: 225 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 4Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 50 nm, 450 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 5Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 400 nmHeight: 680 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 14Hole array on Rhombic latticePeriod:* x=610nm, y=425nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Chip size: Si 24 x 24 mm2* center-to-center distance in x and yPattern 16Hexagonal hole arrayPeriod: 750 nmDiameter: 380 nmHeight: 420 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 18Hexagonal hole arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 490 nmHeight: 470 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 19Hexagonal hole arrayPeriod: 1500 nmDiameter: 780 nmHeight: 550 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 21Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1500 nmHeight: 850 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 22Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1200 nmHeight: 1500 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm22x2cm2标准纳米压印模板 我们提供电子束光刻方法制备的硅模板，衬底尺寸为20x20mm2。图形分辨率高，有效区域为5x5mm2。批量生产，质量有保证，且性价比高。产品精度： 标准高度：100nm直径： ±10%线宽： ±10%缺陷面积： 1% 具体规格如下表所示： 孔阵（矩形孔阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_h_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_h_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_h_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm 孔阵（六边形孔阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_h_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm2P300h_h_5w5300nm5x5mm2125nm/ 100nm3P400h_h_5w5400nm5x5mm2150nm/ 100nm 柱状点阵（矩形柱状点阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_p_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_p_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_p_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm 柱状点阵（六边形柱状点阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_p_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm2P300h_p_5w5300nm5x5mm2110nm/ 100nm3P400h_p_5w5400nm5x5mm2120nm/ 100nm 大面积四英寸模板我们提供四英寸硅或石英模板，可用于压印工艺。批量生产制作，质量有保证且性价比高。 产品精度: 高度/深度：±15%直径：±10%线宽：±10%缺陷面积：1% 具体规格如下表所示： Holes on Hexagonal Lattice（六边形孔阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image1P520h_h_20w20520 nm260nm20x20 mm2450 nm/200 nm2P600h_h_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm3P600h_h_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm4P750h_h_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm5P780h_h_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm6P1000h_h_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm7P1000h_h_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm8P1500h_h_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm9P1500h_h_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm10P3000h_h_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Holes on Square Lattice（矩形孔阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image11P350s_h_20w20350 nm250nm20x20 mm2300 nm/150 nm12P350s_h_100d350 nm250nm100dia300 nm/150 nm Pillars on Hexagonal Lattice（六边形柱状） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image13P600h_p_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm14P600h_p_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm15P750h_p_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm16P780h_p_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm17P1000h_p_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm18P1000h_p_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm19P1500h_p_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm20P1500h_p_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm21P3000h_p_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Pillars on Square Lattice（矩形柱状点阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image22P150s_p_30w30150 nm75nm30x30 mm275 nm/ —23P250s_p_30w30250 nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm24P300s_p_30w30300 nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm25P400s_p_30w31400nm250nm30x30 mm3200 nm/100 nm26P500s_p_30w30500 nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Linear Gratings（光栅结构） Part NoProductPeriodWidthAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image27P150L_p_30w30150nm70nm30x30 mm275 nm/ —28P250L_p_30w30250nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm29P300L_p_30w30300nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm30P400L_p_30w30400nm200nm30x30 mm2200 nm/100 nm31P500L_p_30w30500nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Multi-pattern（复合结构） Part NoProductDescriptionDiameterPeriodAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)32MHSL_400-800Linear, hexagonal, square array combination，Periods: 400-800nmpitch dependentho, les/lineseach period，7.5mm x 7.5mm400 nm/150 nm33MP250L300Multi-period linear grating combination 1， Periods: 250nm, 275nm, 300nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period，7mm x 7mm200 nm/100 nm34MP300L600Multi-period linear grating combination 2，Periods: 300nm, 400nm, 500nm, 600nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period，10mm x 10mm300 nm/150 nm

1. 工业酚 苯酚结晶点测定仪 型号：HAD-L3710标准GB/T3710 概 述HAD-L3710苯酚结晶点测定仪是根据国家标准GB/T3710《工业酚、苯酚结晶点测定方法》设计、制造的。本仪器适用于高温煤焦油中的粗酚、经分馏制得的工业酚、苯酚结晶点的测定。仪器特点 ：采用透明玻璃缸做浴槽，透明便于观察，制冷采用压缩机风冷，节能环保。 HAD-L3710技术参数1、 工作电源： AC220V±10%；50Hz。2、 工作冷槽： 透明玻璃缸。3、 冷槽控温： 0℃～50℃。4、 显示精度： ±0.1℃。5、 测量精度： ±0.1℃。6、浴液搅拌： 搅拌电机自动搅拌，功率6W，1200r/min。7、制冷系统： 压缩机制冷。8、工作单元： 双孔9、环境温度： ≤30℃。10、相对湿度： ≤85%。11、整机功耗： 不大于2000W。 2..美国空气采样泵 低流速空气采样器 型号HAD-FS113 HAD-FS113空气采样泵是一款低流量个体及定点空气采样泵，可采集粉尘及各种毒气，此款采样泵广泛应用于疾控中心及环境监测站大气粉尘及毒气收集 HAD-FS113空气采样泵产品特点 恒流采样时，流量误差值控制在 ±5%内 具采样时间显示功能，可计算至秒。 流量误差超过设定流量的 ±5%以上或电量不足时30秒内自动停机。 具双过滤系统，确保采样器内部不受污染。 机体附有吸附管切割装置，不需另带其它切割工具。 无脉冲现象，并可连接吸附瓶Impinger采样。 HAD-FS113空气采样泵产品参数 总流量范围（具有流量±5%控制） 1 ～ 350 cc/ min恒流低流量（具有流量±5%控制） 1 ～ 200 cc/ min背压可承受25” H2O恒流低流量 1 ～ 350 cc/ min背压可承受18 ± 3” H2O可充电电池 镍镉4.8V 0.5安培.小时指示器 流量故障，电池检测操作温度 -20℃-45℃存储温度 -40℃-45℃操作湿度 1-85%RH，无凝结存储湿度 0-100%，无凝结重量 0.34kg尺寸（Wx Hx D） 6.4 x 11.8 x 3.5公分 3.紫外可见分光光度计 型号：HAD-V1500PC HAD-V1500PC技术指标及基本参数：波长范围： 190～1100nm 光谱带宽： 2nm 波长准确度： ±0.5nm 波长重现性： ≤0.2nm透射比准确度: ±0.3% τ透射比重复性：0.15% τ波长调节：自动调节 光度范围： -0.3～3A 显示方式： 128*64液晶杂散光： ≤0.05% τ (220nm NaI，340nm NaNO2)稳定性： 0.001A/h（500nm预热后） 测光方式： 透过率、吸光度、浓度、能量 检测器： 进口硅光二极管 光源： 进口氘灯，进口钨灯 电源： AC 220V/50Hz 110V/60Hz 功率： 120W 仪器尺寸：480×350×220mm 主机净重： 15Kg 4.便携式多参数水质测定仪 型号:HAD-LP4C HAD-LP4C产品介绍： 仪器采用单色冷光源，利用微电脑自动处理数据，直接显示水样的浓度值（用户可以根据需要指定测量参数）。广泛适用于饮用水、地表水、地面水、污水和工业废水的测定。技术参数1.测量范围：（根据用户需要选择参数，限4种光源通道）硝酸盐：0.20～10.00mg/L 氯离子：0.20～100.00mg/L 硫酸盐：5.0～200mg/L磷酸盐：0.02～50.0mg/L 2.示值误差： 氨氮: ≤±3%(F.S)亚硝酸盐氮：≤±5%（F.S）溶氧：≤±5%（F.S）3.重复性 ：≤3%4.光学稳定性：仪器吸光值在20min内漂移小于0.002A5.外形尺寸：80mm×230mm×55mm6.重量： 0.5kg7.正常使用条件：⑴ 环境温度:5～40℃ ⑵ 相对湿度: ≤85%⑶ 供电电源：锂电池 5.四合一多参数水质检测仪（COD、氨氮、浊度、六价铬）型号：HAD-29513 一、HAD-29513产品简介：该产品将经典的比色法与先进的计算机技术结合起来，应用微电脑光电子比色检测原理取代传统的目视比色法，消除了人为误差，测量分辨率大大提高。实现了测定过程的自动化。可广泛地应用于厂矿企业排污口监测、城市污水处理工厂进出口监测、江河湖泊水质监测和污水治理设施过程控制之中。 二、HAD-29513主要功能特点： 大屏幕液晶背光显示器，240*128点阵，纯中文操作界面，人性化的程序设计。测量范围宽，并可据水样实际情况自动进行量程切换。1点至7点校正模式，自动计算斜率、截距及相关系数，测量精度高。故障自诊断智能设计，使仪器管理和维护简易方便。大容量数据存储，可保存30000次的测量结果，断电保护设计，确保仪器不受损坏和数据记录永不丢失。抗干扰能力强，适用于工业现场。可广泛应用于地表水和污染源的监控。采用半导体冷光源发光器，光源寿命可达几万小时。可连接电脑导出测量数据，可连接打印机自动打印测量数据。试剂用量少，运行成本低，抗干扰能力强。 三、HAD-29513主要技术参数：氨氮参数： 1、测定方法：纳氏比色法；2、测定范围：（0 ～ 50mg/L）；3、测量误差：≤±5 %4、曲线参数：可设定100条测量曲线参数；COD参数： 1、测定方法：快速催化法（铬法）；2、测定范围：5 ~ 2500 mg/L（＞1000 mg/L时稀释测定）；3、测量误差：5~100 mg/L，绝对误差≤±5 mg/L 100 mg/L~2500 mg/L，相对误差≤±5 %4、消解温度：165 ± 1℃； 消解时间：10分钟；5、测定时间：30分钟同时测定9、12、25支水样；6、抗氯干扰：[CL-] ＜1000mg/ L；[CL-] ＜4000mg/ L（可选配）；7、温度示值误差＜± 1℃；浊度参数：性能参数1.测定方法：分光光度法；2.测定范围：0～400 NTU(＞100 NTU时分段测定，超量程可稀释测定)；3.测量误差：≤±5 %；4.内置实时时钟，实时时钟月累积误差小于10秒； 6.多参数水质分析仪 硝酸盐 氯离子检测仪 型号:HAD-P4B六价铬、锰、铁 HAD-P4B产品介绍： 该仪器可以根据需要进行重金属及无机盐（包括铜、镍、六价铬、锰、铁、锌、铅、镉、氰化物、磷酸盐、硫酸盐、亚硝酸盐、硝酸盐、余氯、硬度等）等参数自由的组合（含有四种光源通道）。广泛适用于饮用水、地表水、地面水、污水和工业废水的测定。 HAD-P4B技术参数1、测量范围：超过稀释测定硝酸盐：0.20～10.00mg/L氯离子：0.20～100.0mg/L2、最小分辨率：0.01 mg/L3、示值误差: ≤±5%（pH：±0.1 pH）4、重复性 ：≤3%5、光学稳定性：≤0.002A/20min6、外形尺寸：主机 266mm×200mm×130mm7、功耗：30W8、重量：小于2kg7.底栖动物采样器 型号:HAD40不锈钢材质 介绍：放置水底拖牵，用于定性捕获或采集底泥中的底栖生物。技术参数网架：不锈钢材质；网口：长方形，40cm x 20cm。注意事项每次使用完毕请用清水冲洗，网架用抹布擦干，网衣可自然晾干，注意维护保养。 8.离心浓缩干燥机 离心干燥离心机 型号:HAD-GT83B HAD-GT83B离心浓缩是一种用于将溶剂蒸发出去的浓缩或干燥生物（非生物）样品的独特过程，离心浓缩处理过后的样品可方便地用于各种定性和定量分析上 化学、生物化学、生物分析、免疫筛选及仪器分析，LNG系列产品技术融合了离心、抽真空及加热三种因素，以有效地蒸发多种溶剂来满足实验室需求。 HAD-GT83B离心: 产生沉降、防止沸爆及样品损失，便于回收。抽真空: 使样品始终处于一种低于室温的环境中，以防止热敏感的样品失去活性和氧化。热量: 在没有外来热量的状态下水溶液会在浓缩过程中结冰，通过内置、外置辐射加热从而加速样品的蒸发速率，热辐射是在高真空状态下给样品传热最有效的方法。 离心浓缩干燥机HAD-GT83B 技术参数：转子容量：1.5ml×144或酶标板96孔×2温度范围：室温-95℃ LED显示转 速：1400rpm离心盖材质：聚丙烯透明盖加热功率：300W真 空 度：-0.1Pa过温保护：可调节1-10℃ 出厂标准2℃体 积：570×470×410（mm）其他配置：液氮冷阱兼容应 用：DNA离心腔材质：铝合金真 空 泵：选配 9.多模式超声波测厚仪 型号：HAD-T180回波模式下 HAD-T180产品概要HAD-T180多模式超声波测厚仪，基于超声波传播原理，可对金属、塑料、陶瓷、玻璃及其他多种超声波的良导体材料进行厚度测量，也可实现对材料声速的反测。与传统的测量方法相比，超声波测厚仪的优势在于它只要接触到被测工件的一面即可完成测量，其独特的可穿透涂层测厚度的性能为表面涂有油漆或防腐材料的工件厚度检测提供了更加高效的解决方案，测量前无需处理掉表面的涂层，直接亦可测量。被广泛应用于石油、化工、冶金、造船、航空、航天等领域的生产设备中各种管道及压力容器腐蚀减薄程度的监测，也可用于对各种板材及各种加工零件做精确的测量。是提高生产效率与合格率、节约成本必备的专业精密仪器。 HAD-T180技术参数测量范围 发射-回波模式下，(0.65～600)mm（45#钢，探头分段适用）；回波-回波模式下，(3～30)mm 示值误差 ±0.05mm（≤10mm）；±（0.5%H+0.01）mm(10mm)；H为被测物厚度测量频率 单点测量时每秒钟7次、扫描模式每秒钟16次屏幕显示 高对比度的段码液晶显示（支持EL背光显示）分 辨 率 0.1mm/0.01mm可切换声速范围 (1000～9999)m/s（可对已知厚度物体反测声速）工作模式 发射-回波模式（P-E）和回波-回波（E-E）模式探头校准 零点校准、两点校准测厚模式 单点测量、最值测量和差值测量数据存储 可存储管理20组（每组100个）厚度数据单位制氏 公制或者英制（可选）通讯接口 USB1.1（可与PC通讯接口）工作电源 两节5号（AA尺寸）碱性电池，可连续工作50小时（默认亮度时）以上自动节电 具有自动关机节电功能外壳属性 材质：ABS工程塑料；尺寸：150mm×74mm×32mm；重量：245g 功能特色适用于测量金属(如钢、铸铁、铝、铜等)、塑料、陶瓷、玻璃、玻璃纤维及其他任何超声波良导体的厚度。 兼备两种测厚模式：发射-回波模式和回波-回波模式，可以穿透涂层进行厚度测量而不计入涂层厚度。大容量存储，低功耗设计，可超长待机数月以上。已知厚度可以反测声速，满足多种材料的厚度检测需求。 10彩屏泵吸二合一气体检测仪 型号：HAD-AK2 HAD-AK2产品概述：彩屏泵吸二合一气体检测仪选用进口传感器，是一款专注于检测空气中氨气、可燃气气体浓度的便携式报警设备。它最多可安装四种气体传感器，内置微型采样泵的便携式高精度气体检测仪；仪器标配3000条历史数据存储功能，可通过数据列表或曲线图查看历史数据；选配大容量SD卡数据存储功能，可通过电脑从SD卡中读取历史记录，进行打印、导出与分析；气体浓度值可用PPM、mg/m3等多种浓度单位切换表示；彩色液晶显示技术支持图文描述；中英文操作界面可切换。 HAD-AK2产品特点采用原装进口高精度传感器内置微型采样泵，泵的吸力大小有十个档位可调内置3000条历史数据，可通过数据列表或曲线图显示SD卡数据存储（选配）1、最高支持32G容量的历史数据存储2、方便的连续、分段存储，存储间隔时间可调3、配备专业的可视化数据分析上位软件彩色液晶显示技术，可显示气体名称、单位、浓度值、最大值、时间等参数支持中英文操作界面，切换简单方便气体浓度单位PPM、mg/m3可快速切换显示 HAD-AK2技术参数电池：7.4V锂离子充电电池测量精度：＜±3%(F.S)显 示：彩色液晶显示操作语言：中文、英文工作温度：-40℃～70℃ 工作湿度： 0～95%RH 报警方式：声、光、振动工作时间：100小时（关泵）尺 寸：205*75*32mm 重 量：300g 检测气体 量 程 精 度 最小读数 响应时间氨气(NH3) 0-100PPM ＜±3%(F.S) 1PPM ≤50秒可燃气（EX） 0-100%LEL ＜±3%(F.S) 1%LEL ≤10秒 氧气(O2) 0-30%vol ＜±3%(F.S) 0.1%vol ≤15秒 以上参数资料与图片相对应