扫描束曝光系统

仪器信息网扫描束曝光系统专题为您提供2024年最新扫描束曝光系统价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括扫描束曝光系统参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的扫描束曝光系统您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合扫描束曝光系统相关的耗材配件、试剂标物,还有扫描束曝光系统相关的最新资讯、资料,以及扫描束曝光系统相关的解决方案。
当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

扫描束曝光系统相关的厂商

  • 留言咨询
  • 400-860-5168转1300
    南京覃思科技有限公司创立于2004年,总部位于六朝古都南京,在首都北京设有分公司,业务区域覆盖全国各省市及港澳地区。本公司是一家从事电子光学和实验室科研领域的仪器及耗材销售与服务的专业公司,主要经营范围:电子光学仪器及其配套设备和附件、光学仪器、电子仪器、与仪器配套的计算机软硬件的销售、研发以及技术服务。本公司拥有良好的客户资源和技术能力,专注进口仪器及耗材廿载,助力用户科研上台阶,深得用户好评与信赖。覃思科技是瑞士Safematic、美国Tousimis、加拿大Comet Technologies(原ORS Dragonfly)、加拿大KA Imaging、美国JC Nabity、美国PIE Scientific、荷兰ASI、荷兰Micro to Nano、韩国LabSpinner、日本ATTO等厂家授权的中国区代理。我们向客户提供多样化的产品组合,销售的产品及提供的服务包括但不限于:1)瑞士Safematic系列喷金仪、喷碳仪、磁控离子溅射镀膜仪、热蒸发镀膜仪、手套箱专用镀膜仪等;2)美国Tousimis系列临界点干燥仪,分为非洁净室版本和洁净室版本两大类,前者常用于电镜制样,后者多用于超净间内的材料研究用途。有常规手动、半自动、全自动、触摸屏全自动等多种操控方式的CPD可选;3)加拿大Dragonfly三维图像分析软件,具有AI深度学习解决方案模块,广泛用于 FIB-SEM切片三维重构、X-Ray MicroCT/NanoCT、MRI、Serial Sectioning等扫描成像所获取的三维体数据(Volumetric Data)的后续处理和定量分析;4)加拿大KA Imaging台式3D相衬增强MicroCT(X射线显微镜XRM,显微CT,微米CT)、高分辨X射线探测器(16M像素,相位衬度成像,非晶硒直接转换技术,可用于硬X射线包括HEXM等同步加速器线束)、平板探测器(便携式三能探测器,单次曝光三张图像:DR、低密度和高密度图像,无运动伪影);5)荷兰ASI出品的基于混合像素技术的TPX3Cam系列时间戳粒子成像高速相机探测器;6)美国NPGS纳米图形发生器,基于电镜改装的EBL电子束曝光系统;7)美国PIE Scientific出品的系列电镜样品及TEM样品杆等离子清洁仪、用于真空腔室的远程在线式等离子清洁系统、TEM样品杆真空储存器及多功能处理腔室;8)荷兰M2N电镜耗材、工具等显微学用品:载网、支持膜、样品台、靶材、碳棒碳绳、载玻片、标样、钨灯丝、银导电胶、碳胶带、铜胶带等;9)韩国LabSpinner外泌体等细胞外囊泡快速分离提纯仪、外泌体提取试剂盒;10)日本ATTO 电泳、凝胶成像、生物/化学发光成像系统、活细胞延时成像系统;11)来自欧洲的电镜隔振、消磁解决方案;12)显微镜配套及定制:国产ACCUR显微电动平台、CCD摄像头、显微图像分析软件;承接各种显微镜的数字化改造、及其它非标设计和定制业务。在“把优质产品和优质服务奉献给用户”的工作方针指导下,我公司经常举办或赞助各类学术研讨、交流及技术培训等社会活动,经常参加各种展会。我们的客户群涵盖了知名大学、研究机构、医疗机构、企业和医院。大学类客户包括:北京大学、清华大学、中国人民大学、中国科学院大学、浙江大学、南京大学、中国科学技术大学、上海科技大学、华南理工大学等著名高等院校。研究所类客户包括:中科院化学研究所、地质与地球物理研究所、高能物理研究所、散裂中子源科学中心、生物物理研究所、半导体研究所、宁波材料技术与工程研究所、大连化学物理研究所、金属研究所、长春应用化学研究所、等离子体物理研究所,以及中国石化研究院、海洋三所等著名研究机构。我们还和英特尔国际(上海和大连)、西捷科技国际(无锡)、陶氏化学(上海)等著名跨国公司合作,并为他们提供仪器及服务。本公司一向坚持以“诚信经营、诚实服务”为立业宗旨,奉行“精研覃思、无微不至”的企业文化,公司将以更优秀的科技产品及技术服务回报社会,愿与社会各界竭诚合作,共谋发展。
    留言咨询
  • 森雅公司专业制作各类医疗模体检测仪表:X射线机多功能质量检测仪,CT剂量检测仪,铅尺,核磁共振检测仪,千伏表,脉冲表,毫安及毫安秒表,剂量仪,放射扫描三维水箱,放射扫描二维水箱,放射扫描一维水箱,矩阵。影像检测模体:500型CT性能检测模体,600型CT性能检测模体,CT头部及体部剂量模体,低对比度测试卡,低对比分辨力测试模体,3D躯干检测模体,核磁共振性能检测模体,CR/DR性能检测模体,DSA性能检测模体,乳腺机性能检测模体,数字乳腺机检测模体,19孔低对比度细节模体,3D牙科机头部检测模体,牙科机检测模体,AEC自动曝光控制模体,星卡,分辨率测试卡,乳腺机低对比度细节模体,牙科机机低对比度细节模体,低对比度测试模体,3D躯干检测模体,3D头部检测模体,放射外科头部检测模体,剂量验证模体,超声模体,多普勒流量测试系统,PET及SPECT检测模体,直线加速器检测装置,核医学设备检测模体套装,伽马刀球形检测模体等
    留言咨询

扫描束曝光系统相关的仪器

  • 【Gatan】697 Ilion II Datasheet 宽束氩离子抛光系统 品牌: GATAN 名称型号:氩离子抛光系统Ilion II 697制造商: GATAN公司经销商:欧波同有限公司产品综合介绍 产品功能介绍氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备,以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛,包括由多元素组成的试样,以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面,集成电路焊点,多层薄膜截面,颗粒、纤维断面,复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商,其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学,能源科学等领域, 客户范围涵盖全球的科研院所,高校,各类检测机构及大型工业企业实验室,并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商,是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业,总部位于香港,分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴,公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念,与蔡司,Gatan品牌强强联合,正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。 产品主要技术特点氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪,可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果,用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上,从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中,可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到最优化。 集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方,调用配方可获得高精度重复实验。 涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan专利的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换( 1分钟),省去了换样过程中必须完全泄真空至大气的烦恼。1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测3. 配方模式的控制界面,用于一键操作4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制5. 枪电压范围为100V到8000V的三元(阴极、阳极与聚焦极)构造潘宁离子枪6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度,增量为0.1度7. 扇形抛光角度可变且可程序化,范围从10度~90度8. 离子枪无需零件更换,寿命超过30,000小时9. Gatan专利的样品/挡板配置,装样简单,再次抛光位置准确10. 独特的离子束调制功能,可进行扇形抛光和平面抛光11. 洁净的真空系统,分子泵与隔膜泵搭配12. 操作简单,维护方便 抛光前- 俯视SEM图CuInSe2样品 抛光90S后SEM 图 CuInSe样品 产品主要技术参数: 1、 离子枪:两个配有稀土磁铁的三元构造(阴极、阳极与聚焦极)潘宁离子枪,聚焦离子束设计,高性能无耗材2、 抛光角度: +10° 到 -10° ,每个离子枪可独立调节3、 离子束能量:100 V 到 8.0 kV4、 离子束流密度:10 mA/cm2 峰值5、 抛光速度:300 μm/h(8.0 kV条件下对于硅试样)4.2样品台6、 样品装载: Ilion专利的样品挡板, 装样简单,再次抛光位置准确,可重复使用,配合Sample Stub可直接转至SEM中观察 7、样品旋转:0.5到6 rpm连续可调8、束流调制:独特的离子束调制功能,可进行扇形截面抛光(扇形角度为10到90度可调)和平面抛光。9、样品观察:数码变焦显微镜,配有PC及Digital Micrograph软件采集图像,通过Gatan Digital Micrograph软件可进行实时成像(300x–2,200x)与图像存储和分析10、液氮冷台:配置液氮冷台,样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤 4.3真空系统11、干泵系统:两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵12、压力:5x10-6 托基本压力,8.5x10-5托工作压力13、真空规:冷阴极型,用于主样品室;固体型,用于前级机械泵14、样品空气锁: 独特的Whisperlok设计,样品更换时间1Min,无需破样品室真空4.4用户界面15、10 英寸触摸屏: 操作简单,且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。16、配方操作模式:自定义不同的加工参数组合,实现一键操作。 产品主要应用领域: EBSD样品制备截面样品制备金属材料(合金,镀层)石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料电子半导体器件PCB电路版截面抛光SEM图镀锌钢板截面抛光Zn晶粒 Fe晶粒
    留言咨询
  • Elionix电子束曝光系统 400-860-5168转1679
    品牌:Elionix型号:ELS-F125/F100/HS50关键词标签:电子束曝光,电子束直写简短描述:(40字):利用电子束在抗蚀剂上书写纳米级图案,通过ELB设备曝光和显影,可用于加工sub-10nm的精细结构。一、简介ELS-F125是Elionix推出的世界上最早的加速电压高达125KV的电子束曝光系统之一,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)ELS-F125具有以下优点:l 超高书写精度- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小化 @ 125 kVl 高通量、均匀性好- 超大视野书写:500um视场下10 nm线宽- 高束流下电子束直径依然很小,高通量而不影响分辨率,2 nm 电子束直径@ 1 nAl 界面用户友好基于Windows系统的CAD和SEM界面:-简单易用的图案设计功能-易于控制的电子束条件二、主要功能l 主要应用纳米器件的微结构集成光学器件,如光栅,光子晶体等NEMS结构,复杂精细结构光刻掩模板,压印模板l 技术能力型号ELS-F125ELS-F100ELS-HS50电子枪ZrO/W 热场发射枪ZrO/W 热场发射枪ZrO/W 热场发射枪加速电压125 kV, 75 kV, 25 kV100 kV, 50 kV, 25 kV50 kV, 20 kV最小束流直径Φ 1.7 nm (@ 125 kV)Φ 1.8 nm (@ 100 kV)Φ 2.8nm (@ 50 kV,1 nA)最小线宽5 nm or less (@125 kV)6 nm or less (@100 kV)20 nm (@ 50 kV, 2 nA)电子束束流5 pA to 100 nA20 pA to 100 nA1 nA to 1 μA视场范围Max. 3,000 μm x 3,000 μmMax. 3,000 μm x 3,000 μmMax. 3,000 μm x 3,000 μmMin. 100 μm x 100 μmMin. 100 μm x 100 μmMin. 100 μm x 100 μm束流定位Max. 1,000,000 x 1,000,000 (20bit DAC)Max. 1,000,000 x 1,000,000 (20bit DAC)Max. 1,000,000 x 1,000,000 (20bit DAC)束流定位分辨率Min. 0.1 nmMin. 0.1 nmMin. 0.1 nm大样品尺寸8" wafer or 7" square mask8" wafer or 7" square mask8" wafer or 7" square mask三、应用
    留言咨询
  • 介绍:1)显微镜 LED曝光系统 UTA系列,为不需使用光罩即可以完成Pattern曝光的投影式曝光设备。 2)使用金相显微镜和 LED 光源 DLP 光机,即可在涂布光阻的基板上进行数个微米 分辨率的曝光。 3)Pattern 形状可以使用计算机绘图自由制作。4)可在一般环境操作,样品外观及尺寸限制小,价格比一般电子束曝光机更便宜、方便性更高,可以大幅降低研发成本。特色: 使用显微镜和 DLP 组合之曝光系统,可比既有系统拥有更具竞争性之价格。 ‚ 软件操作简便,可以自由绘制曝光Pattern。 ƒ 透过物镜倍率选择,调整曝光范围大小与分辨率。 „ 可以制造微米等级尺寸的 Pattern 。使用案例:ü形成薄膜 FET 以及 Hole 效果量测用试料之电极。 üMo 原石取出薄片,形成原石特性评估的电极。
    留言咨询

扫描束曝光系统相关的资讯

  • “1.5米扫描干涉场曝光系统”通过验收
    p /p p style=" text-align: center " img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 311px height: 212px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202009/uepic/4ca21b5b-64a5-457f-b1d8-824702f6ea76.jpg" title=" tpxw2020-09-29-03.jpg" alt=" tpxw2020-09-29-03.jpg" width=" 311" height=" 212" / /p p style=" text-align: center " 图1. “1.5米扫描干涉场曝光系统”项目验收专家组会议现场 /p p style=" text-align: center " img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 324px height: 243px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202009/uepic/60a97bc9-669b-4a03-a6b5-caa2176d22eb.jpg" title=" tpxw2020-09-29-04.jpg" alt=" tpxw2020-09-29-04.jpg" width=" 324" height=" 243" / /p p /p p style=" text-align: center " 图2. 项目负责人巴音贺希格研究员汇报项目完成情况 /p p   2020年8月24-25日,国家自然科学基金委员会(以下简称自然科学基金委)信息科学部组织专家对中国科学院长春光学精密机械与物理研究所承担的国家重大科研仪器设备研制专项(部委推荐)“1.5米扫描干涉场曝光系统”进行了结题验收。验收专家组由光学、仪器、档案和财务等领域的23位专家组成。自然科学基金委党组成员、副主任王承文出席 /p p   专家组认为,项目组成功研制了1.5米扫描干涉场曝光系统,取得了一系列技术创新和突破,各项性能指标均达到或超过项目计划书要求,全面完成了项目的研制任务;项目管理文件和技术文档记录全面,内容真实可靠,档案立卷符合规范要求;项目经费使用符合管理办法要求;一致同意项目通过验收。 /p p   王承文副主任对项目组取得的成果给予肯定,强调仪器设备在科学研究、技术创新以及科技强国建设中的重要地位,并希望依托单位和项目组进一步做好项目的科技成果转化,使科学仪器设备发挥更大的作用。 /p p br/ /p
  • 1100万!国科大杭州高等研究院单晶X射线衍射仪、扫描电子显微镜及电子束曝光系统采购项目
    一、项目基本情况 1.项目编号:0625-23218C93 项目名称:国科大杭州高等研究院扫描电子显微镜及电子束曝光系统 预算金额(元):6000000 最高限价(元):/ 采购需求: 标项名称: 扫描电子显微镜及电子束曝光系统 数量: 1 预算金额(元): 6000000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途:详见招标文件 备注:允许进口 合同履约期限:标项 1,详见招标文件 本项目(是)接受联合体投标。 2.项目编号:ZJ-2362384 项目名称:国科大杭州高等研究院单晶X射线衍射仪采购 预算金额(元):5000000 最高限价(元):5000000 采购需求: 标项名称: 单晶X射线衍射仪 数量: 不限 预算金额(元): 5000000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途:单晶X射线衍射仪1台。具体以招标文件第三部分采购需求为准,供应商可点击本公告下方“浏览采购文件”查看采购需求。 备注:允许进口 合同履约期限:标项 1,按照招标文件要求 本项目(是)接受联合体投标。二、获取招标文件 时间:/至2023年11月10日 ,每天上午00:00至12:00 ,下午12:00至23:59(北京时间,线上获取法定节假日均可,线下获取文件法定节假日除外) 地点(网址):政采云平台(https://www.zcygov.cn/) 方式:供应商登录政采云平台https://www.zcygov.cn/在线申请获取采购文件(进入“项目采购”应用,在获取采购文件菜单中选择项目,申请获取采购文件) 售价(元):0 三、对本次采购提出询问、质疑、投诉,请按以下方式联系1.采购人信息 名 称:国科大杭州高等研究院 地 址:杭州市西湖区转塘街道象山支弄1号 传 真: 项目联系人(询问):王老师 项目联系方式(询问):0571-86085786 质疑联系人:沈老师 质疑联系方式:0571-86080792 2.采购代理机构信息 名 称:浙江国际招投标有限公司 地 址:杭州市文三路90号东部软件园1号楼3楼317室 传 真:/ 项目联系人(询问):沈建平(18005883302)、倪樟如 项目联系方式(询问):0571-81061840,0571-81061802 质疑联系人:董福利 质疑联系方式:0571-81061818        3.同级政府采购监督管理部门 名 称:杭州市财政局政府采购监管处 /浙江省政府采购行政裁决服务中心(杭州) 地 址:杭州市上城区四季青街道新业路市民之家G03办公室 传 真:/ 联 系 人:朱女士/王女士 监督投诉电话:0571-85252453
  • 澳大利亚研制纳米电子束曝光系统
    本报讯 据澳大利亚莫纳什大学网站报道,澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。   电子束曝光技术可直接刻画精细的图案,是实验室制作微小纳米电子元件的最佳选择。这款耗资数百万美元的曝光系统将在澳大利亚亮相,并有能力以很高的速度和定位精度制出超高分辨率的纳米图形。该系统将被放置在即将完工的墨尔本纳米制造中心(MCN)内,并将于明年3月正式揭幕。   MCN的临时负责人阿彼得凯恩博士表示,该设备将帮助科学家和工程师发展下一代微技术,在面积小于10纳米的物体表面上实现文字和符号的书写和蚀刻。此外,这种强大的技术正越来越多地应用于钞票诈骗防伪、微流体设备制造和X射线光学元件的研制中,还可以支持澳大利亚同步加速器的工作。   凯恩说:“这对澳大利亚科学家研制最新的纳米仪器十分重要,其具有无限的潜力,目前已被用于油漆、汽车和门窗的净化处理,甚至对泳衣也能进行改进。而MCN与澳大利亚同步加速器相邻,也能吸引更多的国际研究团队的目光。”   MCN的目标是成为澳大利亚开放的、多范围的、多学科的微纳米制造中心。该中心将支持环境传感器、医疗诊断设备、微型纳米制动器的研制,以及新型能源和生物等领域的研究和模型绘制。除电子束曝光系统外,MCN中还包含了高分辨率双束型聚焦离子束显微镜、光学和纳米压印光刻仪、深反应离子蚀刻仪和共聚焦显微镜等众多设备。   凯恩认为:能够介入这种技术使我们的科学家十分兴奋,它可以确保我们在未来十年内在工程技术前沿领域的众多方面保持领先地位,也将成为科学家在纳米范围内取得更大成就的重要基点。(张巍巍)

扫描束曝光系统相关的方案

  • 新型扫描电镜样品制备系统在不同领域的应用
    它就是GATAN Ilion II 697氩离子束抛光系统,该款设备是在Gatan公司经典的691离子减薄仪技术上发展而来。它的问世改变了此前人们用手动或机械研磨的方法对样品进行研磨抛光的局限性。利用氩离子精密抛光装置,可以获得平滑的截面和平面,而不会对样品造成机械损害,是扫描电镜样品制备的新型手段,目前已经广泛应用于全球各大高校科研院所。
  • 扫描电子显微镜图像系统改造方法
    扫描电子显微镜是观察物质微观表面形貌的主要工具,它主要由真空系统、电子光学系统、图像系统和控制系统组成。现代扫描电子显微镜图像显示系统和控制系统都已经实现PC控制下的数字化,同时增加了图像处理功能,能够容易的与通用软件相结合,方便编辑报告、论文和信息传送。对于早期模拟图像系统和专用计算机控制的数字图像系统的扫描电子显微镜可以通过外接计算机图像采集系统实现模拟图像数字化,或图像系统数字化。什么是模拟图像数字化?就是将获取的图像模拟信号经过模数转换器(ADC)变成数据输入到计算机中存储、显示和处理。根据这种原理制成的图像系统,就是我们常说的被动式图像系统。其优点:采集卡电路简单,价格便宜。缺点:安装、调试困难,因为它需要和扫描电子显微镜的扫描系统同步,所以要改变原扫描电子显微镜内部电路,稍不小心就会造成事故,给扫描电子显微镜带来硬伤。另外,由于不能和扫描电子显微镜扫描真正同步,采集到的图像变形,最为明显的是圆变为椭圆,同时不能实时处理,只有将采集到的图像存储以后进行处理,才可以输出。什么是图像系统数字化?用数字扫描系统替代模拟扫描系统,由此获取的图像信号数据,完全对应电子束扫描点上的样品信息,图像显示分辨率对应电子束在样品上扫描过的行和列的点数,图像扫描和图像显示全数字化。需要说明的是现代数字扫描电子显微镜自定义分辨率值为:1024×1024,这是一个最佳值(从采集速度和分辨率两方面考虑),这和被动式图像系统所谓的图像分辨率不是一个概念。我们称这样的系统为主动式图像系统,国外升级扫描电子显微镜也是采用此种方法。其优点:图像质量高,速度快,不会产生图像变形等问题,安装简单,因为所有扫描电子显微镜都预留有外部图像控制接口,当外部控制信号到来时,内部扫描部分自动被旁路,显示部分被消隐,不需要改变任何内部电路结构。缺点:采集卡电路复杂,成本高。 综述,以上介绍了两种扫描电子显微镜改造图像系统的方法,最主要的区别在于是“被动式图像系统”还是“主动式图像系统”上,其中主动式图像系统是近年来国际上普遍使用的,因为被动式图像系统是一种早期图像数字化过渡产品,所谓的图像分辨率实质上是模拟信号取样点数,并非数字图像分辨率,像质较差,而主动式图像系统标称的分辨率才真正是数字图像分辨率,可以有效提高图像质量。
  • 小鼠各器官在扫描电镜下的微观形貌
    因小鼠的基因和人类基因达到了极高的相似度,最高可以达到98%,在小鼠身上做实验获得的结果,和人类身上的很是相似,很多人类难以治愈的疾病,可以在小鼠身上找到相似性状,从而加以实验发现治病基因。使用扫描电镜对小鼠各器官细胞微观形貌的观察在临床病理上的研究有重要意义。本篇文章我们分享的是关于小鼠各器官在扫描电镜下的微观形貌。

扫描束曝光系统相关的资料

扫描束曝光系统相关的试剂

扫描束曝光系统相关的论坛

  • IRIS INTREPID ICP-AES的两次曝光的技术说明

    IRIS INTREPID ICP-AES的两次曝光的技术说明

    关于IRIS采用UV(紫外)/VIS(可见)分开曝光的技术说明1.由于IRIS Intrepid采用了高分辨分光系统和最宽的波长范围(165-1050nm),扩展的波长范围超出了CID检测器的感光面,因此采用UV(紫外)/VIS(可见)两次曝光的方式。采用UV(紫外)/VIS(可见)分开曝光的方式也更有利于两个波段各自的最佳聚焦。2.由于ICP光谱在450nm以上波段会产生很强的氩(Ar)背景,在VIS(可见)谱段的谱线测量只需很短的曝光时间(一般为5秒),因此IRIS光谱仪尽管比一次曝光多了一次VIS(可见)波段的曝光,但时间很短(5秒钟左右),且在分析过程中全自动进行。如果样品中不测K、Na,Ba,Sr等长波元素,该仪器也只需一次UV(紫外)曝光。3.UV(紫外)/VIS(可见)间的切换采用了专利技术(如图)。利用狭缝前的棱形镜的切入和切出,使光分别经过狭缝1(对应测量UV波段)和狭缝2(对应VIS波段)。由于该光线平移的距离只决定于棱形镜的形状,而与机械定位无关,因此有非常好的重复性。这样的切换无需整个光路的移动,稳定性好。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/09/200509271136_8109_1639048_3.jpg[/img]相比之下:PE的4300DV由于采用的是SCD(分段CCD)检测器,为了解决“溢出”问题,在每次测定前必须要增加一次“预曝光”以确定不同强度谱线的不同曝光时间(分4组),且不同的曝光时间组是顺序进行(group sequence)的,即在其每次样品测定时,实际上经历:预曝光+第1组的曝光时间(最强谱线)+第2组的曝光时间(较强谱线)+第3组的曝光时间(较弱谱线)+第四组的曝光时间(很弱的谱线)。当然如果样品中各测量元素的谱线强度相近时,可能只需1-2组曝光时间,但“预曝光”是无法省略的。由此可见,4300DV的每次样品测定同样需要多次的曝光,无非它是软件控制进行,表观上不易察觉而已。另外4300DV本身是双向观察,经常需要垂直方式测一次,水平方式再测一次。由于4300DV 的SCD检测器之检测单元较大,无法拟合出很好的谱线谱峰,其狭缝是要移动的,在其MSF扣干扰时,必须移动狭缝四次,分别曝光四次,以实现元素干扰校正。此狭缝的移动是真正的机械移动,要引起整个光路移动,相对而言,重复性难于永久保证。Varian的Vista也是采用CCD检测器,在每次测定时同样也要增加一次“预曝光”,然后分成很多组曝光时间依次顺序曝光(特别是MPX型)。Vista的光栅面积是最小的,其所用级次范围最少(是IRIS和OPTIMA4300的一半),因此其每个级次必须覆盖较宽的波长范围,这就使很多谱线落在中阶梯分光系统的闪耀区之外(中阶梯分光系统的闪耀区域仅在每个级次的中央位置),这些边缘谱线的聚焦和能量均会变差,因此Vista的总体聚焦效果较差,边缘谱线的光学分辨、强度也较差,当然Varian提供的一些谱线的分辨率和检出限均很好,因为这些谱线均是那些“精心挑选”的落在中阶梯分光系统的中央位置的“最佳”谱线。

  • 近红外光谱仪器的光栅分光系统

    [font=宋体]光栅作为分光器件的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱仪[/color][/url]器所占比例很大,由于使用全息光栅,[/font][font=宋体][font=宋体]使光栅的质量大大提高,没有鬼线,杂散光很低,使光栅分光系统的光学性能有很大的提高。其中一种光栅分光系统采用精密波长编码技术的扫描技术,通过精密控制光栅的转动实现单色光的获取,如图[/font][font=Times New Roman]2-4[/font][font=宋体]所示;另一种技术路线是采用固定凹面光栅的同时配上多通道检测器,如图[/font][font=Times New Roman]2-5[/font][font=宋体]所示,检测器的不同通道单元接收不同波长的单色光,该方式改变了光谱扫描的方式,光谱读取的速度大大提高。上述两种光栅分光光谱仪器价格适中,对[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]技术的普及与推广起很大作用。其中采用阵列检测器的光栅光谱仪因为没有任何移动部件,一般认为仪器的稳固程度较高,非常适宜用于在线系统。[/font][/font][align=center][img=,228,183]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/06/202406251642251485_5277_4070220_3.png!w397x413.jpg[/img][font=宋体] [/font][img=,229,183]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/06/202406251642298588_3148_4070220_3.png!w491x346.jpg[/img][/align][align=center][font=宋体][font=宋体]图[/font][font=Times New Roman]2-4[/font][font=宋体]光栅扫描型分光系统示意图图[/font][font=Times New Roman]2-5[/font][font=宋体]固定光栅[/font][/font][font='Times New Roman']—[/font][font=宋体]多通道传感分光系统示意图[/font][/align]

  • ICP分光系统

    分光系统也是采购考察的重点对象,直接影响ICP-OES 的分析性能,一般要求其波长范围至少在180-870nm(这个主要根据分析元素的需要来确定,对于测定紫外波长的元素,可以考虑采购分析元素响应的波长范围),由于测定的稳定性、重复性和对紫外波长测定的灵敏度,一般对光室都采用驱气或真空方式的恒温保护措施,光室是否进行特殊处理将影响光谱仪开机预热时间的长短和测定的精密度,至于分光系统中其他的及色散元件在《原子吸收光谱仪采购浅谈》已做了简单的探讨,在此主要针对目前各厂家比较常用的做个介绍。1.1平面光栅光谱仪:主要用于单道扫描ICP-OES 上,目前大部分厂家的顺序扫描的都采用这个,如:VARIAN Liberty、海光SPS8000(使用两个光栅,其中凹面光栅做前置光谱分离,平面光栅做主单色器)、日立306、JY-ULTAMA2、比较特别的是GBCIntegra XL采用双光路即两个单色器),作为顺序扫描的ICP-OES,是按顺序一个一个的测定元素的,一般采用步进马达或电磁驱动转动光栅(还有一种是转动检测器的,如LEEMAN PROFILE,采用中阶梯光栅),在远离分析波长时采用高速转动,接近分析波长后,慢慢跨越并超过波峰位置,同时进行积分来测定的,由于具有不可避免的机械和热不稳定性,不能直接转到波峰进行强度测定,寻峰扫描是在一定波长范围内进行的,测定信号必须要高出背景信号数倍才能出峰,在测定痕量物质或有较大邻近线干扰时可能出现误寻峰的问题,与目前所谓的“全谱”相比具有很大的价格优势和测定灵活性,从理论上讲可以用于元素所有谱线的分析,适合与基体复杂多变和非标准样品的分析,更适合做仪器分析研究工作的人员,当然他也有一个弱点就是分析时间相对较长、氩气用量大,因此这两个参数也是考察单道扫描ICP的重要指标,目前对于元素分析时间并没有一个统一的认识,建议采购时作为临时考察对象。计量要求平面光栅光谱仪波长示值误差在±0.05nm,波长重复性不大于0.01nm,对于实际分辨率要求其能完全分开Fe263.132nm 和Fe263.105nm或者能分开Hg313.155nm和Hg313.184nm即可。1.2凹面光栅光谱仪:此类型光谱仪以前主要用于制造多通道ICP发射光谱,也属于多元素同时测定类型,其具有结构简单,使用光学元件少,光栅本身兼色散、准直、成像功能,不存在色差,但象散比较严重,凹面光栅光谱仪没有使用反射镜,光损失小,在短波方向进行准确分析是他的特点(如:斯派克的可以测定130-190nm 的),可以用于测定波长小于190nm 的元素,但是由于其狭缝、通道有限和固定,因此限制了分析的灵活性和同时中阶梯光栅光谱仪:中阶梯光栅光谱仪是采用较低色散的棱镜或其他色散元件做为辅助色散元件,安装在中阶梯光栅的前或后来形成谱线色散方向和谱级散开方向正交(即交叉色散),形成二维色散图象。他主要依靠高级次、大衍射角来、更大的光栅宽度来获得高分辨率的,这是目前较高水平光谱仪所用的分光系统,配合CCD、SCD、CID检测器可以实现“全谱”多元素“同时”分析,也有采用中阶梯光栅的顺序扫描的光谱仪,如:LEEMAN PROFILE。相对于平面光栅有很高的分辨率和色散率,由于减少了机械转动不稳定性的影响,其重复性、稳定性将有很大的提高,而相对于凹面光栅光谱仪在同时具备多元素分析的情况下,可以灵活的选择分析元素和分析波长,目前各厂家的“全谱”基本都采用此类型的,只是光路设计和使用光学器件数量上略有不同, Thermo IRISINTREPID Ⅱ的光路是先通过棱镜后再用光栅色散, VARIAN 700 系列的光路是先通过棱镜再到光栅后再通过棱镜形成二维色散,而Leeman Prodigy的光路是采用两个棱镜在光栅前后分别色散的, PE OPTIMA的采用两个光栅、两个检测器,经第一个光栅分光后光路分紫外和可见两路,紫外光路再投到第二个光栅上,而可见的经过棱镜分光,最后到达SCD 检测器,整个光路系统使用了10 多个光学器件,是目前所见使用最多光学器件的仪器。1.3对于中阶梯光栅光谱仪光学分辨率要求在200nm处至少小于0.009nm(如:LEEMANProdigy、Thermo IRIS INTREPID Ⅱ为小于0.005nm、VARIAN 700 小于0.007nm、PEOPTIMA 4000\5000为小于0.006nm、2000为小于0.009nm),当然上述资料是各厂家的宣传资料,实际的大家可以考察,看能否完全分辨开Cu213.598nm和P213.618nm两条谱线,或者用Mo 的半峰宽来考察实际分辨率。光学系统还有一个参数那就是杂散光,一般要求在As193.696nm处用10000ppm钙测定其BEC要小于3ppm(在这方面Thermo、LEEMAN、VARIAN、PE的指标都表现的很好)。

扫描束曝光系统相关的耗材

  • 氩离子激光系统
    氩离子激光系统Sacher Lasertechnik提供了整套配备电源和远程控制器的风冷氩离子激光系统产品线,应用于工业和科研领域。可用波长为458nm,488nm,514nm及多线发射。功率范围从5mW到500mW。应用:生物分析和生命科学流式细胞术细胞分类排序DNA分析荧光光谱显微镜和共聚焦显微镜曝光技术胶片和缩微胶片曝光印刷全息计算机直接控制板(CTP)测试和测量干涉测量法光谱学速度测量(LDA,PLiF,PDA,CTA) 矩形设计1、165LG氩离子激光器 2、131LG氩离子激光器3、131LG氩离子激光器圆柱形设计1、181LG氩离子激光器
  • 紫外曝光机配件 laser lithography
    紫外曝光机配件非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统和掩模准直机,适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。 紫外曝光机配件特点 1)完美的单色曝光,曝光带宽小于10nm 2)冷紫外曝光,衬底环境温度实时控制,从而实现均匀曝光,消除热效应; 3)超强的功率密度 4) 紫外LED寿命更长,高达10000小时; 5)方便用户使用的触摸屏配置; 6) 不需要预热; 7)计算机控制紫外光源强度调节; 8)自动晶圆装载和卸载功能; 9)超低能耗; 紫外曝光机配件参数 分辨率:2微米 发射光谱:365+/-5nm, 385+/-5nm 4英寸晶圆照明: 25mW/cm^2 +/-10% 暴晒时晶圆温度加热:1摄氏度 暴晒循环:1秒~18小时 记忆的曝光循环数: 10个 功率:180W 重量:8.2kg尺寸: 260x260x260mm^2电源: 110V/230v50Hz
  • 大面积扫描开尔文探针系统配件
    大面积扫描开尔文探针系统配件能够在垂直方向移动开尔文探针实现电动控制开尔文探针与样品的距离。 样品安装到真空吸盘上,真空吸盘可带着样品移动150x150mm位移,从而实现开尔文扫描探针系统大面积扫描样品表面。大面积扫描开尔文探针系统配件特色: 电动控制开尔文探针与样品的距离 电动控制样品XY移动范围150 mm x 150 mm 具有编码器的主动定位定位追踪系统 Z方向步进大小: 625 nm X - and Y-方向: 5 μm / microstep 功函分辨率:: 1 meV with 1.4 mm tip diameter on metals 最小的探针直径: 0.1 mm 集成法拉第防护功能 框架表面镀金 开尔文探针头采用纯金工艺 最大外形尺寸: 50 cm (W) x 60 cm (D) x 25 cm (H) 最大样品尺寸: 150 mm x 150 mm 真空样品吸盘 包含参考样品标准: HOPG, Au on Si, Al/Au-edge, Potential Check 可选配温度和湿度传感器
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制