全显微光广度计

在现有的显微镜上增加光谱仪功能 QDI 302&trade 能够与任何配有标准光学接口（C-mount）的显微镜连接，为其增加光谱仪功能。甚至可以用来升级旧型号的显微光度计。根据显微镜功能可以获得最小到微米样品的吸收或透射、反射、荧光和偏振光谱等测量分析。CRAIC还提供专为显微分光光度计特殊设计的显微镜，以确保整个系统可以采集到更大范围的光谱。 QDI 302&trade 显微镜分光光度计具有科研级高分辨探测器（CCD或PDA），可选配半导体制冷探测器，增强稳定性和保证较低的噪音水平；科研级光学接口，高分辨彩色成像系统。WIDOWS XP操作系统，应用软件使用简单，操作方便。 1. 可进行透射或吸收，反射，荧光和偏振分析； 2. 全光谱测量，200－1000nm 3. 六种采样面积 4. NIST可追溯标准品 5. 科研级制冷CCD 精度高 测定煤镜质组随机反射率，其测定结果，满足ISO 7404，ASTM D2798和国家标准GB6948-98《煤镜质组反射率测定方法》，可根据测定结果给出镜质组平均随机反射率、镜质组平均最大反射率、标准方差等煤岩参数与反射率分布图。 美国CRAIC公司是世界上研究和生产显微分光光度计的领导者。CRAIC公司的QDI系列显微分光光度分析系统采用科研级显微镜，图象采集器和科研级致冷阵列检测器光谱分析仪。可以进行紫外－可见光－红外光谱段的反射分析，透射分析，荧光分析和偏振分析。 应用领域 在煤层地质行业的应用：  测定煤的镜质组反射率，研究煤的成熟度  鉴定煤的显微组分  测定煤显微组分的百分含量 在配煤炼焦行业的应用：  鉴别单混煤  含沥青煤的特性  测定煤显微组分的百分含量 其它应用： &bull 地质学，石油、矿物分析研究 &bull 材料科学 & 物理学 &bull 生物学 & 生物技术 & 医学 &bull 平板显示设备 &bull 半导体 & 化学 北京昊诺斯科技有限公司为美国CRAIC公司系列显微分光光度计和紫外显微镜的亚太区独家代理。 王 祺 销售主管 地址：北京市朝阳区亚运村慧忠北里406号奥友会馆2012室 100012 电话：010-64842431 64842431 64861431 传真：010－64838775 E-mail：wangqi@herosbio.com 网址：www.herosbio.com

美国CRAIC是一家提供显微分光光度计解决方案的全球领先供应商，自成立以来, CRAIC 一致致力于为显微区域的深紫外，可见光，近红外研发光学测量设备，其研发的显微分光光度计可以对小于一个微米的样品进行光谱分析.CRAIC 也设计和搭建紫外-可见光-近红外透过范围的科研级显微镜，美国CRAIC系统可从微观的样品中无损的获得荧光，透射，和反射的全光谱和图像，美国CRAIC 原厂及其科研级的检测系统除了广泛应用于工业（比如半导体检查），制药，还应用于材料科学、地质科学、生物科学及制药、表面等离子共振，法医痕迹鉴证等科学研究领域 深圳云纬科技有限公司成为美国CRAIC 在中国的一级代理商，我公司与美国CRAIC公司一起携手，为国内微区光谱科研贡献最先进的微区光谱解决方案，深圳云纬科技有限公司是一家专业的检测分析仪器设备供应商，专业为客户提供最全面的，最先进的显微光谱分析检测仪器设备。我们也是一家技术型的贸易企业，也一直致力于材料科学，地质研究，生物科学及制药，刑侦和工业检测等领域。 CRAIC一直致力于以下研究显微分析技术 紫外-可见光-近红外 显微光谱学技术 紫外-可见光-近红外 显微镜学 色度显微光谱学 透射显微光谱学 &显微镜学 反射显微光谱学 &显微镜学 荧光显微光谱学 &显微镜学 偏振光显微光谱学 &显微镜学 拉曼显微光谱学 膜厚测量 谱模式 美国CRAIC 具有全球最丰富的显微分光光度计的设计，开发，制造和安装的经验美国CRAIC 一直致力于为全球科研提供最高水准的卓越品质和服务

美国CRAIC是一家提供显微分光光度计解决方案的全球领先供应商，自成立以来, CRAIC 一致致力于为显微区域的深紫外，可见光，近红外研发光学测量设备，其研发的显微分光光度计可以对小于一个微米的样品进行光谱分析.CRAIC 也设计和搭建紫外-可见光-近红外透过范围的科研级显微镜，美国CRAIC系统可从微观的样品中无损的获得荧光，透射，和反射的全光谱和图像，美国CRAIC 原厂及其科研级的检测系统除了广泛应用于工业（比如半导体检查），制药，还应用于材料科学、地质科学、生物科学及制药、表面等离子共振，法医痕迹鉴证等科学研究领域 深圳云纬科技有限公司成为美国CRAIC 在中国的一级代理商，我公司与美国CRAIC公司一起携手，为国内微区光谱科研贡献最先进的微区光谱解决方案，深圳云纬科技有限公司是一家专业的检测分析仪器设备供应商，专业为客户提供最全面的，最先进的显微光谱分析检测仪器设备。我们也是一家技术型的贸易企业，也一直致力于材料科学，地质研究，生物科学及制药，刑侦和工业检测等领域。 CRAIC一直致力于以下研究显微分析技术 紫外-可见光-近红外 显微光谱学技术 紫外-可见光-近红外 显微镜学 色度显微光谱学 透射显微光谱学 &显微镜学 反射显微光谱学 &显微镜学 荧光显微光谱学 &显微镜学 偏振光显微光谱学 &显微镜学 拉曼显微光谱学 膜厚测量 谱模式 美国CRAIC 具有全球最丰富的显微分光光度计的设计，开发，制造和安装的经验美国CRAIC 一直致力于为全球科研提供最高水准的卓越品质和服务

深圳云纬科技有限公司是一家专业的检测分析仪器设备供应商，专业为客户提供最全面的，最先进的显微光谱分析检测仪器及其它光电检测设备。我们是专业技术型的贸易企业，一致致力于材料科学，地质研究，生物科学及制药，刑侦和工业检测等领域。 经美国CRAIC科技公司授权，云纬科技正式成为中国区一级代理商，我公司与美国CRAIC公司一起携手，为国内微区光谱科研贡献最先进的微区光谱解决方案，美国CRAIC显微分光光度计在全球各大研究室使用普遍，其先进的测量技术、高度集成的系统及稳定性深受高新技术海归人才及国内高端科研人才的认可和亲睐。关于美国CRAIC显微全光谱分析测试系统 20/30PV 美国CRAIC最新20/30PV显微光谱分析集成系统为紫外-可见-近红外显微光谱学设定了一个新的标准。使用最前沿技术的20/30 PV不仅可以让用户测试微米级样品的吸收、反射、拉曼、荧光激发或其他光源类型下的光谱，还同时提供了数字成像功能。美国CRAIC 20/30 显微分光光度计系统，结合了显微学和光谱学的优势，用于微小样品或样品的微小区域的光谱分析；微区光谱测试的范围从深紫外到近红外，同时也提供全波段的成像。具备先进的光谱及图像分析软件、自动化的参数设置、简单易用、能长时间稳定工作等优良特性。 最新CRAIC 20/30 PV集成了紫外－可见－近红外光谱仪、拉曼光谱仪、成像系统于一身，根据产品不同，可以做紫外可见近红外（200-2500nm）的光谱分析，还可以集成显微Raman系统，同时科研级光谱仪和高分辨彩色数字成像系统都使用了最新的显微镜光路系统及科研级光学接口。 高灵敏度的固态阵列检测器件使用了热电制冷的方式提高了器件的信噪比，增强稳定性,并保证设备能长时间稳定地工作；高分辨率的数字成像系统在用于紫外、近红外以及可见光波段的彩色成像。多种类型的光源包提供了从深紫外到近红外的光源，类型包括透射光、反射光、荧光等，偏振光和拉曼激光也可以根据用户需求提供。CRAIC精巧的软件不仅可以控制显微镜、光谱仪和数字成像系统，还同时提供了先进分析功能，甚至包括薄膜厚度测量及色度测量。 20/30PV系列为显微观测、材料科学、地质科学、生物科学及制药、表面等离子共振，法医痕迹鉴证，石墨烯及纳米管等领域提供完美的显微光谱分析方案，20/30 PV是显微分光光度计最顶尖的代表。关于美国CRAIC显微光谱分析系统 FLEX美国CRAIC最新的FLEX型号光谱仪集成系统为紫外-可见-近红外显微光谱学设定了一个新的标准。FLEX系列是20/30PV型号的简化版，有着比20/30PV更优惠的价格，并与20/30PV一样有着很高的稳定性和全光谱分析能力，使用最前沿技术的FLEX不仅可以让用户测试微米级样品的吸收、反射、拉曼、荧光激发或其他光源类型下的光谱，还同时提供了数字成像功能。光谱测试的范围从深紫外到近红外，同时也提供全波段的成像。具备先进的光谱及图像分析软件、自动化的参数设置、简单易用、能长时间稳定工作等优良特性。FLEX是工厂产品检测以及实验室样品分析的完美工具。FLEX集成了紫外－可见－近红外（200-2200nm）光谱仪、拉曼光谱仪、成像系统于一身，同时光谱仪和数字成像系统都使用了最新的显微镜光路系统。其高灵敏度的固态阵列检测器件使用了热电制冷的方式提高了器件的信噪比，并保证设备能长时间稳定地工作。高分辨率的数字成像系统在用于紫外、近红外以及可见光波段的彩色成像。多种类型的光源包提供了从深紫外到近红外的光源，类型包括透射光、反射光、荧光等，偏振光和拉曼激光也可以根据用户需求提供。精巧的软件不仅可以控制显微镜、光谱仪和数字成像系统，还同时提供了先进分析功能，甚至包括薄膜厚度测量。关于美国CRAIC显微光谱分析系统 508PV508PV可以通过开放光学接口安装到任意显微镜或者探测平台上，从而让您获得光谱测量及图像处理能力，甚至是视频及动态光谱测试。根据显微镜的配置，您可以完成显微样品的吸收、透射反射、偏振、甚至是荧光激发的光谱。CRAIC同样也提供适应于光谱仪的显微镜，可以提供更宽的光谱范围、更强信噪比及出众 成像数据508PV 还可用于升级旧的显微光度计，用508PV取代旧的光谱仪，电子部件，软件和计算机系统。508PV提供了专门用于显微光谱测试的光谱仪，使用TE制冷技术保证长时间稳定的工作和极低的噪声水平。科研级的光学接口连接显微镜通用C接口适配器，集成光谱分析，图像分析及仪器控制的软件。整个仪器稳定可靠，简单易用，科学设计保证客户无故障使用数年。目前CRAIC系列分光光度计已用于煤炭，石油，地质，矿物学，生物学，半导体科学，材料科学，工业质量控制及刑事科学等。深圳云纬科技有限公司 / Shenzhen Yunway Tech Co.ltd深圳市龙岗区天安云谷产业园一期B栋 联系人：颜经理 电话：18520190828邮箱：Michael.yan@cloudsway.net.cn

全脑显微光学成像：介观水平绘制全脑精细结构地图的有力工具Whole-brain Optical Imaging: A Powerful Tool for Precise Brain Mapping at the Mesoscopic Level江涛1 &bull 龚辉1,2 &bull 袁菁1,21华中科技大学苏州脑空间信息研究院，苏州215000，中国2华中科技大学武汉光电国家研究中心，武汉430074，中国第一作者：江涛通讯作者：袁菁 大脑是生命进化的顶峰，破译大脑工作机理是人类的终极梦想，但迄今为止，科学家们还未能揭示出记忆、思维和意识这些大脑功能的基本机制。由于对大脑结构和功能的了解有限，也导致治疗如阿尔茨海默病和帕金森病等脑疾病的有效药物和方法的缺乏。哺乳动物的大脑是一个高度复杂的网络，由数百万到数十亿个密集的相互连接的神经元组成，同时神经元的胞体、小动脉和小静脉的直径仅为几十微米，毛细血管的直径仅为几微米，而树突和轴突纤维的直径则在1微米及以下。在介观尺度绘制全脑范围神经环路、血管网络的三维精细结构可以为理解大脑提供重要的结构信息，是阐明脑功能运行机理的一个重要前提。 近年来，在介观尺度绘制脑联接图谱，定义细胞种类及其排布规律，以理解脑功能的结构基础，助力人工智能、组织再生工程等新兴学科的发展，已成为生命科学的重要前沿方向之一。绘制脑图谱涉及在介观尺度进行特异性标记、全脑显微光学成像、大数据处理及生物学解读，其中全脑显微光学成像扮演了不可或缺的重要角色，负责以亚细胞分辨率获取全脑三维精细结构，为绘制脑图谱提供数据基础，所采集图像的质量与完整度，直接影响到后续相关数据挖掘的难易程度。显微光学成像方法具有亚微米的横向分辨率及"光学切片"的层析成像能力，在介观水平观察神经环路结构具有天然优势。通过结合组织光透明技术或组织切片技术（图1）来克服组织散射和吸收对于光学成像深度的限制，可以实现细胞分辨的全脑显微光学成像。各类全脑显微光学成像技术的快速发展带来了前所未有的大规模精细数据，在全脑细胞、神经环路和血管的定量分析方面显示出巨大的应用潜力，推动了神经解剖学的复兴。 图1 全脑显微光学成像的技术路径。A 光片照明显微成像与组织光透明处理结合实现全脑成像。B 各类块表面层析成像与组织切片结合实现全脑成像 图2 全脑显微光学成像结果展示。A MOsPlxnD1+单级输入神经元的小鼠全脑三维水平面渲染图。B、C 6个AAV-GFP标记（prelimbic area）神经元形态重建结果的水平面和矢状面展示图。D 100μm厚小鼠血管冠状面图像的最小值投影图。D、E 海马局部血管的三维可视化结果。 全文总结目前，各类特异性标记、全脑显微光学成像和信息学工具的无缝整合已经开始产生统计学上的有力结论，改变人类对脑神经联接关系的认识和理解。全脑显微光学成像方法的持续发展将为破译结构-功能关系、理解复杂的大脑功能和人类大脑疾病提供关键信息。文章链接：https://link.springer.com/article/10.1007/s12264-023-01112-y

红外显微光谱法是非破坏性、结构敏感的检测方法，目前已在基于分子结构的单细胞领域的研究中发挥重大作用，诸如蛋白构象改变、氧化还原、脂质体的产生与降解等。但是受制于红外光谱仪本身的限制，对于生物组织样品来说制样非常困难，因此极大的限制了红外光谱在生物医学方面的应用。O-PTIR (Optical Photothermal Infrared) 光学光热红外光谱是一种快速简单的非接触式光学技术，通过检测由于本征红外吸收引发的样品表面快速的光热膨胀或收缩，克服了传统IR衍射的极限，空间分辨率可达500 nm。近期，美国PSC公司又推出了非接触亚微米分辨荧光红外拉曼同步测量系统mIRage-LS，将O-PTIR技术与荧光（FL）进一步有机结合，利用落射荧光快速定位 O-PTIR 测量的区域，提供了对样品荧光标记区域以及邻近未标记组织的化学结构的快速光谱分析。图 1. FL-OPTIR 显微镜基本原理和观测方法这项全新的技术对样品要求非常低，而红外光谱的空间分辨率可达亚微米级别，为红外光谱在生物医学方面的应用提供了全新的视角。比如在阿尔茨海默病 (AD) 研究方面，AD的关键病理特征是淀粉样蛋白折叠，这些 β-折叠结构具有特定的振动特征，对于红外光谱来说十分敏感，但是受制于传统红外光谱仪本身的限制，在生物组织样品上直接测量非常困难。而非接触式的FL-PTIR技术却能够很好适用于这些样品，并且已经有多个小组通过实验证明了FL-PTIR能够应用于具有特殊化学敏感性的活细胞成像研究。Craig Prater等人通过这项技术成功实现了荧光定位下的OPTIR红外观测，并且完成了对组织中单个病理结构内的 β-折叠结构进行结构分析、在脑组织的特定细胞和培养的原代神经元分析。首先，作者使用了12个月周龄的 APP/PS1 转基因小鼠的大脑切片，用淀粉样蛋白特异性发光共轭聚电解质探针mytracker R（Ebba Biotech，Solna，Sweden）进行标记，并用OPTIR进行观测β 折叠结构的分布。相比于传统红外很难定位的问题，FL-OPTIR通过宽场荧光能够快速定位淀粉样蛋白斑块。并直接在脑组织中评估其在单个斑块中的结构。通过 k 均值聚类方法对其进行分析，清楚地显示了在 1630 cm–1处具有高振幅和低振幅的两组光谱的存在，并且具有 1630 cm–1高振幅的光谱清楚地与荧光信号共定位。光谱分析表明 Amytracker 没有对酰胺 I 和 II 区域有明显的吸收，因此表明 Amytracker 可用于 OPTIR 测量的荧光引导。图 2. FL-OPTIR 对脑组织中的淀粉样斑块进行成像荧光和红外图谱和热图的展示。 在第二个实验中，作者提供了一个概念性方法验证实验，证明 FL-OPTIR 可用于研究组织中的特定细胞类型，而这对传统红外显微光谱法来说十分具有挑战性。为此作者对脑组织中与淀粉样斑块相关的小胶质细胞进行成像，以评估它们的光谱特征，从而了解小胶质细胞是否可以将 Aβ 原纤维转化为单体的问题。这个实验使用 Aβ 特异性抗体 82E1 标记的 16 μm 组织切片，并用抗体 Iba1 对小胶质细胞进行了免疫标记。通过FL-OPTIR可以定位淀粉样斑块附近的小神经胶质细胞并测量 OPTIR 光谱。通过测量，发现 82E1 阳性小胶质细胞表现出β-折叠含量升高，表明小胶质细胞与 Aβ 原纤维相关。图 3. 脑组织中淀粉样斑块周围小胶质细胞的成像。 在第三个实验中，作者研究了 FL-OPTIR 在培养的原代神经元中 Aβ结构成像的适用性。与组织研究类似，淀粉样蛋白的结构异质性使得研究神经毒性与 Aβ 结构之间的关系仍具有挑战性。因此，为了直接评估神经元中的淀粉样蛋白结构，作者使用FL-OPTIR技术基于荧光信号引导的光谱测量，发现远端比近端神经突部分（分支后）相关的 Aβ 包含更多的 Aβ-聚集体, 作者认为这些神经元隔室可能本质上更容易结合 Aβ或者能够主动运输到远端。图 4. 初级神经元中 Aβ (1–42) 的结构成像。 总结：新型成像方法FL-OPTIR 结合了荧光成像和红外光谱来描述生物组织内的结构变化。能够针对复杂系统中的特定细胞、细胞器和分子进行分析和检测，解决了生物标本中红外光谱定位困难的问题。能够直接在组织中定位和分析淀粉样蛋白和相关的小胶质细胞，这可以解决局部环境在 AD 进展中的作用，帮助识别与淀粉样斑块相关的小胶质细胞，并在亚细胞水平上直接研究小胶质细胞中的纤维结构。为复杂样品中的蛋白质和细胞进行红外光谱分析提供了新的测量方法，为红外在生物领域的应用提供更加便捷实验途径。 作为美国PSC公司在中国的独家代理，Quantum Design中国于2020年将非接触亚微米分辨红外拉曼同步测量系统—mIRage系统引入国内，助力中国科研工作者取得一个又一个重大突破： 国内经典案例分享：南京大学环境学院借助mIRage建立了一种新型的塑料表面亚微米尺度化学变化表征方法。该工作发表在知名期刊Nature Nanotechnology上。 中国农业大学借助mIRage成功实现对玉米粉中痕量微塑料的原位可视化表征。该工作发表在Science of the Total Environment上。为满足国内日益增长的生物红外表征需求，更好的为国内科研工作者提供专业技术支持和服务，Quantum Design中国北京样机实验室引进了荧光引导光学光热红外显微光谱，为您提供样品测试、样机体验等机会，期待与您的合作！

一、项目基本情况项目编号：JSTCC2200214610（SEU-ZB-220868）项目名称：东南大学理科平台原位热光电化学显微光谱成像系统采购项目预算金额：250.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：240.0000000 万元（人民币）采购需求：序号标的名称数量01原位热光电化学显微光谱成像系统1套合同履行期限：合同生效（关境内产品）或开具信用证（关境外产品）后6个月内安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：无（本项目不属于专门面向中小企业采购的项目）3.本项目的特定资格要求：（1）本项目接受进口产品投标（注：本文件所称进口产品是指通过中国海关报关验放进入中国境内且产自关境外的产品），对于采用进口产品投标的供应商，必须提供下列授权文件之一（原件或扫描/复印件）：① 该设备制造商出具的授权函；② 制造商的国内子公司或办事处出具的授权函；③ 制造商对授权的区域代理商出具的授权函及该区域代理商出具的授权函；④ 供应商取得的产品代理证书；（2）采购代理机构将通过“信用中国”网站（http://www.creditchina.gov.cn）中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn )查询供应商在采购公告发布之日前的信用记录并保存，通过以上查询渠道，供应商不得有被列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录；（3）单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得参加同一合同项下的政府采购活动；（4）为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加该采购项目的其他采购活动；（5）本项目不接受联合体投标。三、获取招标文件时间：2023年01月03日 至 2023年01月10日，每天上午8:30至11:30，下午14:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：江苏省南京市鼓楼区郑和中路118号D座16楼1612室（https://www.jstcc.cn/）方式：线上支付。有意向的供应商应在https://www.jstcc.cn/平台（新版）免费注册（具体步骤请参考登陆网页相关指南或使用手册，注册时的联系人须为负责本项目投标的联系人。本项目后续相关通知将通过https://www.jstcc.cn/平台直接发送给此联系人。供应商注册的联系人信息错误是其自身的风险，采购人及采购代理机构对此不承担责任。技术支持电话：4000580203，13696606237），线上支付并下载发票后，与采购代理机构联系后到江苏省南京市郑和中路118号D座16楼1612室领取纸质招标文件，电子版招标文件可在系统平台自行下载，其效力与纸质招标文件具有同等法律效力。提醒：供应商必须在上述招标文件发售截止时间前完成注册及购买招标文件线上支付事宜,否则系统到时即关闭,不再接受支付购买。售价：￥400.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2023年01月30日 14点00分（北京时间）开标时间：2023年01月30日 14点00分（北京时间）地点：江苏省南京市鼓楼区郑和中路118号D座15楼1504室五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜1、“申请人的资格要求：”中“1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；”具体为：（1）具有独立承担民事责任的能力，提供法人或其他组织的营业执照等证明文件，复印件加盖公章；（2）具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度，提供开标时间前的财务报表复印件加盖公章（法人或者其他组织成立未满六个月的可以不提供）；（3）具有履行合同所必需的设备和专业技术能力，提供证明材料或承诺函（自行编写）；（4）有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录，提供纳税凭据复印件加盖公章（依法免税的应提供相应文件说明）、依法缴纳社会保障资金的凭据复印件（凭据可以是缴费的银行单据、专用收据、社会保险缴纳清单或者所在社保机构开具的证明等，依法不需要缴纳社会保障资金的应提供相应文件说明）；（5）参加政府采购活动前三年内（成立时间不足三年的、自成立时间起），在经营活动中没有重大违法记录，提供声明函原件（自行编写，重大违法记录是指供应商因违法经营受到刑事处罚或责令停产停业、吊销许可证或者执照、较大数额罚款等行政处罚）。2、采购项目需要落实的政府采购政策：《政府采购促进中小企业发展管理办法》；《关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》；《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》；《关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》。3、因疫情防控需要，建议各供应商将投标文件通过顺丰或其它可靠方式，在投标截止时间前，寄送到江苏省南京市鼓楼区郑和中路118号D座16楼1612室，江苏省招标中心有限公司，具体快递收件人、联系电话见招标文件，文件寄出后，请发送短信到快递收件人联系号码告知：供应商名称+所投标项目编号+快递公司名称+快递单号，请考虑文件在途时间，投标文件必须在投标文件接收截止时间（投标截止时间）前寄送到。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名称：东南大学地址：江苏省南京市玄武区四牌楼2号联系方式：物理学院：刘老师13022501618；实验室与设备管理处：刘老师 025-837926932.采购代理机构信息名称：江苏省招标中心有限公司地址：江苏省南京市鼓楼区郑和中路118号D座16楼1612室联系方式：徐凌云、顾建钧，025-83307682、832499243.项目联系方式项目联系人：顾建钧电话：025-83249924

长光辰英推出的SC-catcher单细胞显微光镊操纵与分选系统，集显微成像、光镊操纵与细胞分选于一体，为科研工作者带来前所未有的细胞操控体验。产品优势 超高精度显微操纵：应用光镊技术，在显微镜下精准实现单细胞/单颗粒的捕获，并操控其进行移动和分离，单细胞得率＞95%。 高活性单细胞分离：光镊技术具有低损伤的特点，能够最大程度保持细胞的原位状态、生长活性及代谢功能，单细胞培养成活率＞90%。 单液滴按需生成：可根据用户需求，有选择地将一个或多个目标细胞包裹在同一个液滴中进行下游实验，例如细胞互作研究。现在，我们正式向广大科研人员发出邀请，参与我们的Demo实验征集活动！活动时间：2024年5月11日至2024年5月31日目标人群：希望利用SC-catcher开展研究工作的科研人员参与方式1.在线提交一份SC-catcher单细胞显微光镊操纵与分选系统的应用需求表。2.辰英的小伙伴将即刻与您联系，送出辰英定制的精美礼品。3.长光辰英的应用科学家们将提供技术支持和咨询服务，协助实验方案的设计。4.您的Demo需求一旦通过审核，您还将享受价值5000元的光镊Demo实验服务。加入我们的SC-catcher Demo征集活动，开启您的微观世界探索之旅，与全球科研工作者一起，推动生命科学的新发展！扫描二维码，提交您的需求吧！

近日，一篇关于&ldquo 纳米颗粒荧光分析&rdquo 的论文发表在了《angewandte chemie》杂志上，文章标题为《Observation of Multiphoton-Induced Fluorescence from Graphene Oxide Nanoparticles and Applications in In  Vivo Functional Bioimaging》，文章作者利用复享的显微光谱仪系统针对生物活体纳米颗粒进行了荧光光谱分析，获得了与理论值相吻合的测试结果。 复享的显微光谱系统是一套完整的显微光谱测量解决方案，它包括了成套显微光谱系统、光谱仪及显微镜适配器、以及定制显微镜三个部分，能够针对微小样品进行角度分辨光谱测量，是研究微纳光学结构、光子晶体纳米纤维的利器。 复享的显微光谱系统为国内多个一流科研院所提供光子晶体研究、生物荧光分析、纳米材料光学性能表征、微加工材料光学性能表征、结构色研究等。更多信息可点击：http://www.ideaoptics.com/Products/PContent.aspx?pd=ARM 作为国内领先的光谱仪生产制造商，上海复享仪器设备有限公司为高校科研院所提供成熟的光谱仪系统解决方案，我们在复杂光谱检测领域拥有数项发明专利，正逐步成为行业领域的领导者。 文章链接： http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/anie.201206107/abstract

赛默飞世尔科技在2008 Pittcon推出了全新概念的Nicolet iN10 型傅立叶变换红外显微光谱仪，这一全新的系统将高级的显微红外技术平民化，无论是实验室的仪器专家，还是一个刚刚接触仪器试验初学者都可以利用如此高精尖技术的显微红外技术得到理想的实验数据及可靠的实验结果。让复杂的光谱分析变成了象数码照相机一样简单。分析者无需成为仪器专家，只需专注于测试结果的分析，从而有更多的精力投入到自己的研究课题中。 就在新品推出的喝彩声尚未落下，赛默飞世尔科技的资深销售经理辛明先生就卖出了全世界第一台全新概念的Nicolet iN10傅立叶变换红外显微光谱仪。这充分说明了中国用户对科技发展的前瞻性及与时俱进的科学态度，准确的把握住了仪器发展的脉搏，充分认识到Nicolet iN10独特设计对于红外光谱测试的合理性。 作为业内技术的领导者，赛默飞世尔科技对传统傅立叶红外光谱仪进行了颠覆性的革命：将传统光学平台中的主要光学部件直接应用于红外显微镜的光路中，缩短了光学传输的距离，降低了能量损失，大大提高了检测灵敏度。使50 um以上采样区域的红外微区分析仅仅使用室温的DTGS检测器即可。传统的FT-IR显微镜的一个特征是需要液氮冷却的检测器，而Nicolet iN10 FT-IR型显微镜配备室温检测器, 这就消除了由于液氮冷却所导致的时间浪费，危险性，成本消耗和使用的不便。加之高效的Slide-on ATR采样附件，这种检测器使得Nicolet iN10 型傅立叶变换红外显微镜的使用比传统红外光谱及显微红外光谱更加简便快速。Nicolet iN10 型傅立叶变换显微红外为独特的一体化设计，无需外加主机光谱仪，提供了优异的光学功效,使得数据的获得变得更为简捷。由于 Nicolet iN10 无需外加主光学台，因此拥有老式FT-IR仪器的用户可采用这一系统，而无需担心兼容性问题。甚至，Nicolet iN10可以用于车载移动实验室。 随着全新理念设计的Nicolet iN10的出现，必将引领傅立叶红外光谱仪崭新的发展，&hellip &hellip &hellip 。

2012-2021年，光谱仪器及技术突飞猛进，相关的新产品、新技术层出不穷：拉曼、近红外、激光诱导击穿光谱、太赫兹、高光谱、超快光谱、光谱成像......不仅给科研注入了新的活力，更是给企业带来了客观的经济效益。“光谱十年”之际，仪器信息网特别策划《点亮光谱仪器 “高光”时刻》系列活动，以期盘点光谱仪器及相关技术的突出成果，展现光谱仪器及相关厂商的“高光”时刻。从最简单的光学光谱模块到定制化的解决方案，HORIBA Scientific（Jobin Yvon光谱技术）旗下的光学光谱部门一直致力于光谱仪部件及集成光谱仪系统的研制和生产，可提供各种规格的单色仪、探测器、光源、附件及应用软件，可为科研人员组建高性能的光谱测量系统。本期，我们特别邀请到了HORIBA 科学仪器事业部技术支持工程师吴鹤讲述HORIBA光谱仪的“高光”时刻。HORIBA 科学仪器事业部技术支持工程师 吴鹤仪器信息网：过去十年间，哪些光谱技术的进步让您印象深刻？HORIBA：对于不同的科研人员，其具体需求也不尽相同，模块化光学光谱搭建系统凭借其高度灵活性在光谱技术研究领域占据着重要地位，针对不同的应用如拉曼、光致发光、暗场散射、时间分辨光致发光、等离子体发射、可调单色光源等可提供灵活多样的解决方案。另外，随着对微结构或材料的研究日趋广泛，模块化显微光学光谱搭建系统也应运而生，且在各个研究领域有广泛应用。仪器信息网：截至目前，贵公司有哪几款光谱仪器曾经获得“科学仪器优秀新品”奖 ？该仪器研发的背后有什么样特别的故事？ HORIBA：HORIBA Scientific（Jobin Yvon光谱技术）有着两百多年的光学光谱研究历史，顺应技术的发展、时代的进步，不断进行技术革新。Horiba的多款仪器包括拉曼、荧光、光学光谱搭建系统多次获得仪器信息网颁发的各类奖项。其中，MicOS显微光谱测量系统获得了“2013年科学仪器行业优秀新产品奖”。一般来说，采用标准显微镜与光谱仪耦合测量光谱常采用光纤耦合方式，一方面，信号损失大，耦合效率较低，另一方面，很多样品在应用显微镜测量时会遇到困难，比如：侧面发光样品或者在正置低温恒温器中的样品。在做光致发光光谱测量时，若应用多个波长激发，标准显微镜的灵活性会受到限制。MicOS开创性地将显微测量和光谱测量高效率地耦合于一体，光谱仪最多可同时接三个探测器，能与多个激发波长匹配，并且可提供物镜朝下或物镜侧向的两种配置选择，以满足不同客户的特定需求。仪器信息网：获奖产品的销售情况如何？解决了哪些关键问题？有哪些典型用户或典型的应用案例？行业影响力及用户的反馈情况如何？HORIBA：MicOS显微光谱测量系统用户遍布全球，用途多种多样，如二维材料特性研究、电致发光材料的表征、半导体材料或器件的质量检测和缺陷研究等等。MicOS将显微测量和光谱测量高效率地耦合于一体，将显微探测头直接与iHR三光栅光谱仪耦合，光谱仪最多可同时接三个探测器，使其可覆盖紫外、可见、近红外的宽光谱范围（200nm~1600nm）；能与多个激发波长匹配，灵活性极强且易于操作；内置数码相机设计，可实时观察样品；可提供物镜朝下或物镜侧向的两种配置选择，便于测量侧向发光器件或放置在正置低温恒温器中的样品；配合自动平台可进行mapping测量。MicOS系统已有很多工业用户，在工业生产中，无论是器件的研发过程还是质量检测过程，MicOS系统都发挥着十分重要的作用。仪器信息网：贵公司光谱仪器的生产工艺是如何把控的？在产品的质控及生产车间管理方面有什么独特的地方？ HORIBA：HORIBA Scientific有着十分丰富的光学光谱研究、设计和生产经验，根据客户的实际需求，既可以单独提供光谱仪、探测器、光源、以及光栅等部件，也可以提供完整的解决方案，并且对于生产的仪器都有严格的质量把控。对于单独的部件，在生产时会进行质量测试，确保部件质量，对于外购附件也同样对其质量严格把关；对于整套的系统，有标准的技术参数和验收流程，依据标准进行整体的性能测试，以保证整套系统的性能与质量。仪器信息网：未来贵公司光谱产品线的发展规划，重点发展哪些类别的光谱产品？HORIBA：HORIBA Scientific自创立以来，始终致力于科研级光学光谱产品的研发生产，顺应技术进步与时代潮流，不断创新与发展。除了模块化光学光谱部件与系统，HORIBA还提供高性能整机系统，包括拉曼光谱仪、荧光光谱仪、粒度分析仪、椭圆偏振光谱仪、射频辉光放电光谱仪（GD-OES）、等离子体共振成像仪（SPRi）、阴极荧光光谱仪、碳硫氧氮氢分析仪以及各种OEM光谱仪。涉及的应用包括材料、化学、生命科学、制药、环境、地质、能源、光伏、考古、艺术品等等，对于不同的测量及应用需求提供合适的解决方案。仪器信息网：从行业发展角度来说，您认为目前光谱仪器整体技术水平怎么样？未来最具前景的光谱仪器或者技术是什么？最具前景的应用将体现在哪些方面？HORIBA：光谱技术作为重要的分析技术，所涉领域非常广泛。目前微纳材料及显微结构的研究仍然十分热门，因此显微光谱的测量需求只增不减。另外，随着研究方向的多样化，对仪器的多功能性要求也日益增强。HORIBA Scientific的MicOS系统将显微探测头与iHR三光栅光谱仪高效耦合，配置灵活、可覆盖光谱范围宽，易于通过内置相机观察样品情况，可以进行mapping测试，是显微水平光致发光、电致发光和光调制反射光谱研究的理想选择。另外，HORIBA scientific新推出的SMS（Standard Microscope Spectroscopy Systems）是基于iHR光谱仪与标准显微镜通过定制化耦合模块(MicroSpex)集成的系统，该模块与标准显微镜耦合可适用于从深紫外到近红外的显微光谱测量，如显微拉曼、显微光致发光、暗场散射、显微时间分辨光致发光、反射/透射、电致发光等多种光谱研究，灵活性高，可根据需求进行搭建的定制化系统，为用户提供高质量光谱测量与成像。

日前，中国计量科学研究院研制的微光夜视仪测量装置顺利通过国家质检总局组织的专家鉴定。 　　微光夜视仪是在夜间无人工照明情况下用于目标观察的光电成像仪器，是低照度环境下摄取图像的重要装备。为统一弱光光度量值，确保微光夜视行业的量值统一性和可溯源性，并为各种微光夜视仪和微光成像系统进行性能评价，我国迫切需要建立微光夜视仪测量标准装置和简易型现场评价设备。 　　为此，中国计量科学研究院于2008年围绕夜视环境的模拟、夜视器件光学性能参数测试、简易型微光光度/辐射度测量仪器三方面开展了微光夜视仪测量装置的研究工作。 　　项目组以微光夜视仪光电性能参数测量为重点，同时把测量对象扩展至各类光电成像系统及核心器件光电性能参数测量评价领域，首次建立了微光夜视仪测量装置和夜视辐射亮度测量装置。 　　据课题负责人、中国计量科学研究院光学所副研究员徐英莹介绍，该项目在三方面实现了创新：一是微光夜视仪测量装置适于微光夜视行业光度量和辐射度量的量值溯源，相关参数的测试水平已步入国际先进行列 二是建立了夜视辐亮度测量装置，完成了弱光照度下光谱辐亮度的量值传递 三是研制了真实环境光谱模拟的可调积分球光源。 　　目前，该研究成果已得到广泛应用，为飞机座舱照明系统、头盔夜视仪等提供了辐射度计量标准和光度计量标准，实现了光电成像系统/器件的性能评价，为微光夜视领域的量值溯源和量值统一打下了基础。

汽车油漆是道路交通事故逃逸案中重要的物证信息之一，现场采集油漆样本的光谱特征对于缩小嫌疑车辆范围，同一性认定并确定逃逸车辆有重要意义。 汽车车身油漆由底漆层、中涂层、面漆层、清漆层等组成，不同厂家和车型对应不同的车身油漆。所以汽车油漆隐含着汽车车型的重要信息，是道路交通事故逃逸案中重要的物证信息之一。了解汽车油漆的光谱特征，对于进行同一性认定，缩小嫌疑车辆范围，查找逃逸车辆有重要意义。汽车油漆信息的检测主要由傅立叶红外显微光谱法、扫描电镜/能谱分析法、质谱法、裂解气相色谱法及各种检测方法的联用等。其中红外显微光谱法具有快速、无损、量少、可视化等优点，能够精确测量和分析油漆的成分信息，是目前汽车油漆物证检测中最常用的方法。本文利用红外显微光谱法对车辆碰撞现场采集的微量油漆碎片与肇事嫌疑车辆油漆样本进行红外光谱比对分析，为交通肇事事故分析提供了强有力的技术依据。 本文利用岛津 IRTracer-100 和 AIM-9000 红外显微镜分析某肇事故现场碎片与两辆嫌疑车取样样本进行对比分析，结果表明：嫌疑车 1#取样样本与事故现场发现油漆碎片在 1300 cm-1~1600 cm-1 区间差异性比较明显；而嫌疑车 2#取样样本与事故现场发现油漆碎片结果一致，所以其作为肇事车辆可能性更大。红外显微光谱法具有快速、无损、量少、可视化等优点，能够精确测量和分析油漆的成分信息，为交管部门快速、准确判断肇事事故案件提供了技术依据。 岛津 IRTracer-100 和 AIM-9000 红外显微镜 了解详情，敬请《红外显微光谱法分析车辆碰撞现场微量油漆物证》关于岛津 岛津企业管理（中国）有限公司是（株）岛津制作所于1999年100%出资，在中国设立的现地法人公司，在中国全境拥有13个分公司，事业规模不断扩大。其下设有北京、上海、广州、沈阳、成都分析中心，并拥有覆盖全国30个省的销售代理商网络以及60多个技术服务站，已构筑起为广大用户提供良好服务的完整体系。本公司以“为了人类和地球的健康”为经营理念，始终致力于为用户提供更加先进的产品和更加满意的服务，为中国社会的进步贡献力量。 更多信息请关注岛津公司网站www.shimadzu.com.cn/an/。 岛津官方微博地址http://weibo.com/chinashimadzu。 岛津微信平台

2012年1月11日，奥林巴斯在全球同步推出了引领显微光学技术革命的DSX系列光学数码显微镜。 奥林巴斯以高端的光学技术著称,而且数码技术也是屈指可数的。现在，利用两项卓越技术的完美融合,我们创造出了新型的光电数字显微镜，使我们在工业显微镜领域取得了巨大的领先。只有奥林巴斯的显微镜才能够使任何使用者满怀信心的进行操作,同时实现高清晰度的视频显示并且实现超高精确度的测量，这些方面我们都走在时代的前沿,并将引领工业显微镜行业的新标准。 &rlm DSX系列光学数码显微镜，是一个全新的产品。通过先进的光学数码技术颠覆了传统显微镜的定义，从以下几个方面，DSX 系列为用户在检测效率上提供了很大的帮助。 &rlm 1. 操作的舒适性 ‣ DSX 是由显微镜、数码相机及软件组成的一个整体系统。 它能够实现前所未有的简单操作性和便捷性。 ‣ DSX 能够为客户实现最佳的观察方案。 &rlm 2. 更高的可靠性 ‣ DSX 将先进的光学技术与可靠的测量方法完美的整合成在一起。 ‣ DSX 能够为客户改善可靠性提高帮助 有关DSX光学数码显微镜的详细信息，请访问 DSX光学数码显微镜专用网址：http://www.olympus-ims.com/zh/microscope/opto-digital/ 奥林巴斯仪器信息网网址： http://olympus.instrument.com.cn 2012年2月-3月，奥林巴斯（中国）有限公司将会陆续在上海、成都、广州、北京等城市举办大型新产品发布会，届时欢迎业内人士和媒体朋友莅临指导！ 活动联系： 胡翠兰 奥林巴斯(中国)有限公司 电话:(86)21-51706110 传真:(86)21-51706236 地址:上海市徐汇区淮海中路1010号嘉华中心10F 邮编：200031 E-mail:cuilan_hu@olympus.com.cn

随着我国综合国力的增长，在生命科学研究领域的投资也在逐年递增。作为现代生命科学研究不可或缺的先进工具之一，显微镜设备已经落户众多科研机构以及各大医院、高校。而如今，如何缩短人员培训周期、提升学习效率，将设备迅速投入科研工作，随之成为很多机构必须直面的问题。日前，作为显微镜行业历史悠久的领先品牌，奥林巴斯在上海浦东软件园正式成立了奥林巴斯显微光学培训中心，中国解剖学会副理事长周国民以及奥林巴斯相关领导出席了开幕仪式。 　　随着我国综合国力的增长，在生命科学研究领域的投资也在逐年递增。作为现代生命科学研究不可或缺的先进工具之一，显微镜设备已经落户众多科研机构以及各大医院、高校。而如今，如何缩短人员培训周期、提升学习效率，将设备迅速投入科研工作，随之成为很多机构必须直面的问题。日前，作为显微镜行业历史悠久的领先品牌，奥林巴斯在上海浦东软件园正式成立了奥林巴斯显微光学培训中心，中国解剖学会副理事长周国民以及奥林巴斯相关领导出席了开幕仪式。 　　据悉，此培训中心是目前国内同行业中首个专供用户学习和使用的大型显微光学培训中心，为了达到最专业的培训效果，奥林巴斯在培训中心内设置多个专业电教会议室、培训室，并为培训人员提供了丰富的显微镜样机及相关配件，以及配备了专业的技术人员提供高水准的培训服务。中国所有科研机构及人员只要预约就可以光临培训中心免费使用样机、进行实验。同时奥林巴斯也会根据行业需要定期举办各种培训。奥林巴斯表示，此培训中心的成立旨在推动我国微观图像的教学研究的发展，提高光学显微镜的应用率，提升基于显微图像研究结果的多元性和多样性，同时推动中国科研人员显微成像技术的不断提高，加强科研人员之间的交流与合作。 　　值此培训中心开幕之际，奥林巴斯也联手中国解剖学会，举办了首届中国解剖学会数码显微摄影培训班。经历三天培训与考核，30位来自国内多家研究院所、高校和医疗机构的学员，有幸成为数码显微摄影培训班的首批毕业生。中国解剖学会作为此次培训发起者之一，也对首届培训班给予了充分的肯定和支持，认为培训有助于推动中国科研人员显微成像技术的不断提高，同时能够加强科研人员之间的交流与合作，希望培训结业的学员，能够在各自岗位贡献更多价值，并把所学技能传递给更多人，实现培训效果最大化。 　　 　　奥林巴斯培训中心的成立，为推动中国科研人员显微成像技术的不断提高、以及数码显微镜在生命科学领域的应用开辟了一条捷径，而且通过初现成效的数码显微摄影培训班不难看出，以合作为契机，一种厂商与社会互动、互惠、共生的良性循环模式已经显现端倪，在直接推动生命科学不断进步的同时，也为行业与社会的共同发展，探索出一条新的道路。

PerkinElmer 针对临床诊断、生命科学和分子成像应用推出&ldquo L3D-Low Light Level Detection&rdquo 微光探测解决方案平台。 德国纽伦堡 - 传感器 + 测试 2010 展会 &ndash 第 12 展厅，展位号 503 - 专注于提高人类健康及其生存环境安全的全球领先公司 PerkinElmer, Inc.，今天在德国纽伦堡本周举行的第 17 届年度传感器 + 测试展会上宣布首次推出适用于要求苛刻的微光探测应用的创新解决方案平台,称为&ldquo L3D-Low Light Level Detection&rdquo 。 PerkinElmer 的整套 L3D 应用解决方案有助于促进人类健康和环境健康所需的多种应用的发展，包括： 共聚焦显微镜、荧光和发光、 分子/PET 成像、 核酸扩增、 粒子检测及其它研究领域和科学仪器。 PerkinElmer 不断推出的雪崩光电二极管 (APD)、单光子计数模块 (SPCM)、通道式光电倍增管 (CPM) 和硅光电倍增管 (SiPM) 等光子探测技术和产品为公司微光检测解决方案的发展提供了基础，这些解决方案可以很好地满足要求苛刻的临床诊断、分子成像及分析仪器的技术需求。 传感器 + 测试展会中推出的 L3D 的特点包括： - 使用新的短波长增强型硅雪崩光电二极管 &ndash PerkinElmer 的 雪崩光电二极管 是微光探测应用的理想选择。我们最新的大面积短波长增强型硅雪崩光电二极管专用于要求苛刻的分子成像和荧光检测应用。 - 千兆赫兹光子探测模块 (GPDM) &ndash 适于微光条件下的分析和临床诊断应用。新型千兆赫兹光子探测模块在单操作模式下可提供最高的动态范围并且噪声极低。 - 单光子计数模块 (SPCM) &ndash 我们领先的单光子计数模块可为共聚焦显微镜、微粒粒度分析和时间相关单光子计数 (TCSPC) 应用提供极高的光子探测效率 (Pd Efficiency) 和极低的暗噪声。 - 硅光电倍增管 (SiPM) - PerkinElmer 最近与 Max Planck Innovation 签定了独家协议，获准使用该公司超高速、低交叉干扰的硅光电倍增管技术。该技术可提供前所未有的光子检测效率和极短的响应时间。就灵敏度和成本方面的优势来说，原始设备制造商可用它作为传统光电倍增管的直接替代方案。 有关 PerkinElmer 光子检测功能的详细信息，请访问 www.perkinelmer.com.cn/PhotonDetection。 关于 PerkinElmer, Inc.。 PerkinElmer, Inc. 是一家专注于提高人类健康及其生存环境安全的全球领先公司。据报道，该公司 2009 年收入为 18 亿美元，拥有约 8,800 名员工，为超过 150 个国家/地区的客户提供服务，同时该公司也是标准普尔 500 指数的成员。 有关其它信息，请致电800-820-5046 或 +86(0)21-39879510&ndash 3208或访问 www.perkinelmer.com.cn 。 # # # PerkinElmer 联系人： Francine Bernitz 电话：978.224.4321

台湾超微光学参加了于2012年10月16-18日召开的2012北京国际光电产业博览会暨第十七届北京国际激光、光电子及光显示产品展览会（ILOPE 2012）。在此次展会上，超微光学展出了超微型光谱模组及微型光谱仪系列产品。 超微光学的系列超微型光谱模组有着微小的体积及相当低的设置成本，微型光谱仪同样具有此方面的优势，并具有宽光谱范围、高解析度及可编程微控制器，使用USB接口，无需外接电源，可同时连接多台光谱仪。

1月27日，由大连化物所微型分析仪器研究组(105组)关亚风研究员、耿旭辉研究员团队研发的“微光探测器(光电放大器)”通过了中国仪器仪表学会组织的新产品成果鉴定。鉴定委员会一致认为：该产品设计新颖、技术创新性强，综合性能达到国际先进、动态范围和长期稳定性能达到国际领先水平，同意通过鉴定。　　微光探测器是科学仪器和光学传感器中的关键器件之一，广泛应用于表征仪器和化学分析仪器中，如物理发光、化学发光、生物发光、荧光、磷光、以及微颗粒散射光等弱光探测中，其性能决定着光学检测仪器的灵敏度和动态范围指标。该团队经过十五年技术攻关，成功研制了具有自主知识产权的高灵敏、低噪音、低漂移的AccuOpt 2000系列微光探测器(光电放大器)，并批量生产，用于替代进口光电倍增管(PMT)、制冷型雪崩二极管(APD)和深冷型光电二极管(PD)对弱光的探测。　　该微光探测器已形成产品，在单分子级激光诱导荧光检测器、黄曲霉毒素检测仪、深海原位荧光传感器等多款仪器上应用，替代PMT得到相同的检测信噪比和更宽的动态线性范围。经权威机构检测和多家用户使用表明，该微光探测器具有比进口PMT更好的重复性、稳定性和性能一致性，具有广阔的应用前景。　　由于疫情原因，鉴定会以线上会议方式召开。该项目研发得到了国家自然科学基金、中国科学院重点部署项目等资助。

微光探测器是科学仪器和光学传感器中的关键器件之一，广泛应用于表征仪器和化学分析仪器中，如物理发光、化学发光、生物发光、荧光、磷光、以及微颗粒散射光等弱光探测中，其性能决定着光学检测仪器的灵敏度和动态范围指标。　　长期以来，我国民用微光探测器处于“国外品牌独秀，国内依赖进口”的被动局面。针对这种“卡脖子”现象，中国科学院大连化物所微型分析仪器研究组(105组)关亚风研究员、耿旭辉研究员团队经过十五年技术攻关，成功研制了具有自主知识产权的高灵敏、低噪音、低漂移的AccuOpt 2000系列微光探测器(光电放大器)，并批量生产，用于替代进口光电倍增管(PMT)、制冷型雪崩二极管(APD)和深冷型光电二极管(PD)对弱光的探测。　　近期，该产品通过了由中国仪器仪表学会组织的新产品成果鉴定，获鉴定委员会一致认可：该产品设计新颖、技术创新性强，综合性能达到国际先进、动态范围和长期稳定性能达到国际领先水平。　　微光探测器研制成功的背后，有哪些鲜为人知的故事？产品在替代进口器件方面有何优势？团队接下来还有哪些产业化计划？带着疑问，仪器信息网特别采访了团队的核心人物——中国科学院大连化物所关亚风研究员。中国科学院大连化物所关亚风研究员　　Q、首先祝贺关老师团队研发的“微光探测器(光电放大器)”通过中国仪器仪表学会组织的新产品成果鉴定。据了解，您团队研制该技术已经有15年的时间了，请您介绍该项目的研制背景?　　关亚风：说来话长，我本人是从上世纪90年代初开始从事微型色谱的研究，开始时就是研制微型色谱仪的关键器件与部件。　　2003年，团队承接了“十五”科学仪器攻关专题“液相色谱激光诱导荧光检测器(LIF-D)的研制与技术开发”，当时为激光诱导荧光检测配套的是进口光电倍增管(PMT)。由于背景光的存在，光电倍增管用在激光诱导荧光检测器时的信号增益只能用在5,000~30,000区间，但实际上光电倍增管的增益可以达到百万以上，也就是说我们只使用了光电倍增管的低增益区。由此，我想到了使用雪崩光电二极管，但试验结果显示雪崩二极管的灵敏度无法达到要求，而且当时雪崩二极管的价格加上辅助电路价格达到PMT价格的2/3，只能放弃这条技术路线。　　2005年，我开始尝试用光电二极管来检测荧光，尽管选择了当时性能最好、自带前置放大器的光电二极管(都是日本、英国公司的产品)，但距离理想的灵敏度还有2个数量级的差距。从那时起，我开始构思如何提高光电二极管的检测灵敏度。借鉴我在气相色谱微型热导检测器研制上的成功经验，将思路放在降低噪音和漂移上，而不是提高增益上。我在研制气相色谱的热导检测器时，国际上都是通过提升其热敏丝的温度来提高检测器的灵敏度。但我反其道而行之，不去提升它的响应值，而是通过降低检测器的噪音，优化信噪比，再配合一个低噪音低漂移前置放大器来提升灵敏度。所研制的微池热导检测器的灵敏度在当时可以比肩国外公司的产品。我当时的实验室条件无法提高光电二极管的响应值，很自然地想到通过降低噪音来提高信噪比。　　我首先考虑了光电材料界面以及连接导线界面的热电偶和接触电阻对噪音和温度漂移的影响，后来想出了抵消这个影响的方案。经过数年努力，到2012年时对弱光的检测下限达到了雪崩二极管的检测灵敏度，同时线性范围达到了5个数量级，比雪崩二极管宽2个数量级。这时我决定启用团队力量，集中力量攻关，2013年达到用PMT的进口名牌荧光检测器灵敏度的1/4水平，也就是PMT增益在4千左右的水平。耿旭辉2013年博士毕业后加入我们团队继续研制荧光检测器并加入微光探测器攻关。到2014年底，我们的微光探测器噪音、漂移比常规光电二极管降低了两个数量级，不仅检测灵敏度达到PMT增益在2万的而水平，而且动态范围延申了2个数量级，达到近6个数量级。2015年底实现了微光探测器产业化并开始推广销售。团队用简单、低成本的方式实现了弱光信号的高灵敏检测，解决了卡脖子难题，使国内微光探测器不再单纯依赖于进口光电器件，同时也克服了光电倍增管和雪崩二极管线性范围窄的问题。　　Q：您刚才提到了微光探测器攻克的技术难点以及取得的成果，我们想追问，AccuOpt 2000系列微光探测器(光电放大器)相比进口器件而言有哪些优势，未来还有哪些需要提升的地方?　　关亚风：我先讲一下优点，首先它性能长期稳定、不漂移 其次它对强光免疫，AccuOpt 2000受强光照射后秒级恢复，不影响性能 第三它抗强烈震动和冲击，抗电磁干扰，可以放在手持式仪器上，摔地上也不怕 第四是它不需要高压模块，且功耗低 第五是开机3分钟即能达到稳定状态 第六是使用寿命长，达15年 再有就是价格便宜，不需要调理电路，拿来就能直接用。　　缺点是响应速度比较慢，10毫秒级。不过90%的应用对于响应速度没有要求，只有10%的高端应用追求响应速度快，需要高速调制，这点我们无法满足。另一个即可以说是缺点也可以说优点，就是光谱响应范围较宽，为300~1150 nm，但在深紫外区间没有响应。目前国内ICP等发射光谱的重点在紫外区，这是AccuOpt 2000所欠缺的，也是未来重点拓展的一个方向。AccuOpt 2000系列微光探测器(光电放大器)　　Q：AccuOpt 2000系列微光探测器应用有哪些?其中实际应用效果最好的案例是哪个?解决的最大问题是什么?　　关亚风：最牛的应用是高端，我们团队采用小型、廉价的激光二极管替代激光器为光源，用自主研制的硅基微光探测器替代进口光电倍增管探测荧光，由耿旭辉博士负责研制出“紧凑式”共聚焦激光诱导荧光检测器，我们分析了单个白血病细胞中的active caspase3蛋白，检测限达7个分子(91 pL检测体积内)。研究成果在Analytical Chemistry这一分析化学的国际顶级期刊上发表。　　我们最欣喜的、量大的应用是黄曲霉毒素荧光检测器。我们放了一台在一家知名国外仪器公司的实验室，他们自己测了一年，证明灵敏度比他们现有仪器高一倍，漂移少一倍。另外一家知名国外仪器公司买了我们一台，与它最新型号相比我们的灵敏度高两倍，比它老的型号高5~6倍。进口品牌荧光检测器的功耗在75瓦~150瓦之间，而我们的产品总功耗只有4瓦，其中3瓦消耗在了交流-直流变换器和直流-直流变换器上。　　2019年和2020年，团队与中国科学院深海科学与工程研究所共同研制的4500米级多种型号深海原位荧光传感器搭载深海勇士号/探索一号和二号在某海域科考航次中多次海试成功，均获得了有效数据。AccuOpt 2000就是我们荧光传感器中的荧光探测器件，取代进口PMT得到优于国外同类传感器的灵敏度和更宽的动态线性范围。　　眼下新冠肺炎疫情来袭，团队也探索AccuOpt 2000在PCR等设备上的应用。不过，检测器灵敏度过高，而国内试剂的使用量又太大，限制了该部件在国产仪器中的使用。当前团队正与企业展开合作，希望能突破这一关键问题。　　Q：AccuOpt 2000系列微光探测器目前产业化情况如何?与哪些仪器企业进行了合作?下一步有哪些产业化计划?　　关亚风：AccuOpt 2000系列自2014年研制成功，2015年已着手推进量产工作。五年来，器件的性能不断优化，团队基于ISO9000质量管理体系来管理生产全流程，短时间内完成了960支成品的生产，面向市场售出约140支，自用了200多支。　　我们是专业的研发团队，生产装配不在话下，难点反而在于市场销售。以新冠检测为例，国内所有做荧光检测、生物检测的都是我们的潜在用户，但问题卡在哪?就是刚才说的国内试剂使用量太大，检测器的高灵敏度反倒成了问题。一些灵敏度比我们低得多、售价七百元以下的光探测器反而能卖出去。我们必须介入到更早期的研发中才能培育市场需求。后续我们也会加大宣传，推进它的市场销售。　　Q：核心零部件/器件对科学仪器至关重要，光电探测器更是影响仪器整体性能提升的关键一环。关老师您从事光电器件的研究近二十年，据您观察，当前国内光电探测器的发展情况如何，国产光电探测器面临哪些关键问题，您有哪些发展建议?　　关亚风：国产光电器件的品种相对较少，有些特殊应用领域的做得不错，但是民用的、工业用的相比国外差距还很大。卡脖子问题往往是“叫好不叫座”，都知道关键器件很重要，但落实到具体层面做的人反而很少。我认为有两方面的原因：　　首先对企业来说，别看光电器件重要，但研制难度大，实际的产值低、做出的产品卖不出去多少，所以利润薄。如果没有政策引导和项目扶持，企业自然不愿意投入经费与人力，最后成了公益事业，产业发展举步维艰。需要政策倾斜，例如企业根据销量享受相应的退税优惠，或者科技攻关项目给予经费支持，企业才有动力去啃这块“硬骨头”。　　其次对于科研院所而言，现有基层的评价体系侧重于论文、专利、产值等评价指标，而研发光电器件的有效成果又不能去发论文或申请专利，原因是很容易被他人或竞争对手复制 但不发论文又意味着与提职称、评奖基本无缘，这就导致了真正潜下心来研究能实际应用的光电器件的人才越来越少。评价体制要落地，而非悬在半空中。这些问题不解决，关键器件的研制很难往下走，就会永远被别人卡着脖子。　　光电器件的研制需要理论基础扎实、知识面广的复合型人才，这样的人很容易在热门领域发光发热，能潜心去坐这张“冷板凳”的人才不多。　　话说回来，我最初也不是专门研究光电器件的，而是光电器件的用户。当初进入这个领域，是受越来越高的进口器件价格和日益严苛的进口限制所迫。把一个学化学的人逼着去搞光电器件并取得成功，这也是个小概率事件吧。

一、项目基本情况项目编号：GXZC2023-J1-001494-JDZB项目名称：超高分辨场发射扫描电子显微镜采购采购方式：竞争性谈判预算金额：275.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：275.0000000 万元（人民币）采购需求：超高分辨场发射扫描电子显微镜1台。如需进一步了解详细内容，详见谈判文件。合同履行期限：自签订合同之日起120个工作日内完成产品安装、调试，通过验收并交付使用。本项目( 不接受 )联合体投标。1.采购人信息名 称：广西师范大学　　　　　地址：广西桂林市雁山区雁中路1号　　　　　　　　联系方式：辛老师、0773-3696563　　　　　　2.采购代理机构信息名 称：广西机电设备招标有限公司　　　　　　　　　　　　地　址：广西桂林市七星区骖鸾路31号湘商大厦603　　　　　　　　　　　　联系方式：郑雯峪、蒋仕波，0773-3696789转1　　　　　　　　　　　　3.项目联系方式项目联系人：郑雯峪、蒋仕波电　话：　　0773-3696789转1二、项目基本情况项目编号：ZBUSTC-GJ-06项目名称：中国科学技术大学苏州高等研究院全光谱激光扫描共聚焦显微镜采购项目预算金额：365.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：365.0000000 万元（人民币）采购需求：包号货物名称数量主要功能是否允许采购进口产品采购预算1全光谱激光扫描共聚焦显微镜1套主要用来进行组织和细胞中荧光标记的分子和结构检测、荧光强度信号的定量分析、深层组织和细胞成像、亚细胞结构高分辨检测、荧光漂白及恢复实验以及其他生物学应用。是365万元合同履行期限：合同签订后 150 天（国内供货）或者L/C后 150 天（进口免税）本项目( 不接受 )联合体投标。1.采购人信息名 称：中国科学技术大学苏州高等研究院　　　　　地址：苏州市独墅湖高教区仁爱路188号　　　　　　　　联系方式：秦老师；wangpeng1107@ustc.edu.cn　　　　　　2.采购代理机构信息名 称：东方国际招标有限责任公司　　　　　　　　　　　　地　址：北京市海淀区丹棱街1号互联网金融中心20层　　　　　　　　　　　　联系方式：李雯；王军；郭宇涵；010-68290530；010-68290508　　　　　　　　　　　　3.项目联系方式项目联系人：李雯；王军；郭宇涵电　话：　　010-68290530；010-68290508三、项目基本情况 项目编号：CBNB-20236027G 项目名称：宁波市中医院激光共聚焦显微镜采购项目 预算金额（元）：5100000 最高限价（元）：5100000 采购需求： 标项名称: 激光共聚焦显微镜 数量: 1 预算金额（元）: 5100000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途：包含扫描检测系统、万能分光系统、荧光寿命传感成像分析系统等。详见招标文件。 备注：组成联合体的成员数量不超过2个。 合同履约期限：详见招标文件。 本项目（是）接受联合体投标。1.采购人信息 名 称：宁波市中医院 地 址：宁波市海曙区丽园北路819号（广安路268号） 传 真：/ 项目联系人（询问）：郑老师 项目联系方式（询问）：0574-87089099 质疑联系人：李老师 质疑联系方式：0574-87089098 2.采购代理机构信息 名 称：宁波中基国际招标有限公司 地 址：宁波市鄞州区天童南路666号中基大厦19楼 传 真：0574-87425373 项目联系人（询问）：周旭坤 项目联系方式（询问）：0574-87425380 质疑联系人：王莹巧 质疑联系方式：0574-87425583 　　　　　　 3.同级政府采购监督管理部门 名 称：宁波市政府采购管理办公室 地 址：宁波市海曙区中山西路19号 传 真：/ 联系人 ：李老师 监督投诉电话：0574-89388042

9月6日至8日，第二十届北京分析测试学术报告会暨展览会(BCEIA)在中国国际展览中心举办。开幕仪式上宣布了BCEIA获奖名单，我所微型分析仪器研究组(105组)耿旭辉研究员、关亚风研究员团队研制的“Accuopt 2000微光探测器”获2023年BCEIA金奖(分析测试仪器零部件)。 　　弱光探测器是科学仪器和光学传感器中的关键器件之一，广泛地应用在表征仪器和化学分析仪器中，其性能决定着光学检测仪器的灵敏度和线性动态范围指标。研究团队经过十五年技术攻关，研制出国产化的Accuopt 2000微光探测器组件。该微光探测器已量产，在细粒子光散射检测器、黄曲霉毒素荧光检测器、深海原位荧光传感器等十余款仪器上应用，替代了光电倍增管(PMT)，得到了相同的检测信噪比和更宽的线性动态范围。经中国仪器仪表学会成果鉴定，其综合性能达国际先进、动态范围和长期稳定性达国际领先水平。 　　BCEIA金奖由中国分析测试协会设立，以奖励对我国分析测试仪器创新发展做出贡献的开发和研制生产单位，促进我国分析测试仪器技术的发展和水平的提高，推动新研制分析测试仪器产业化和推广应用。BCEIA金奖每两年评选一次，2023年度首次将分析仪器零部件列入申报范围，共有13个整机产品和5个零部件产品获得2023 BCEIA金奖。

1、 会议流程：会议时间：2023年8月28-31日会议地址：青岛鑫江温德姆酒店会议承办单位：青岛天仁微纳科技有限责任公司日期时间地点内容备注8月28日星期一全天一楼大厅报到，签到会务组酒店签到11:30-13:00指引已报到的参会嘉宾自助午餐会务接待组14:00-17:00二楼华润厅青少年科普课堂：《微电子微光刻科学技术知识的宣贯、播种、科学普及教育从娃娃抓起的亲子活动》及《以魔方为例谈谈学习方法的重要性的科普活动》和《魔方与现代科学及魔方与标准化的研究》。“魔方爷爷”17:30-18:00技术交流 海德堡仪器公司技术专家董越先生《创新先进技术-双光子聚合(TPP)实现3D微光刻及微型打印》。光映科技公司18:30-21:00欢迎晚宴8月29日星期二6：30-8:00一楼餐厅自助早餐至10：00结束大床房 双早双床间 双早8:30-12:00一楼鑫江厅全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会（TC203/SC4）年会暨第十三届微光刻技术交流会开幕式：1）主办单位领导致欢迎辞。2）青岛市领导致辞。3）承办单位领导致欢迎辞。4）微光刻分委会秘书长 有关委员会《三十年历程及十年磨一剑》简介。5）集体照微光刻技术交流报告6) 湖南大学段辉高教授：《力学辅助光刻及其应用》。7）苏州大学陈林森教授：《微纳光制造（数字光刻/智能纳米压印）》8）中国科学院上海高等研究院X射线光学技术实验室副主任吴衍青研究员《上海光源 EUV光刻胶检测技术新进展》9）北京大学物理学院副研究员朱振东老师：《氮化硅微腔光频梳器件关键技术》10）神光光学集团有限公司首席科学家，神光研究院曹海平院长：《神光光学用于微光刻的玻璃材料和元件》。11）中国科学院光电技术研究所研究员王建老师：《面向特种芯片的光刻技术与装备》主持人：微光刻分技术委员会主任委员冯稷主任主持人：湖南大学段辉高教授主持人：清华大学李群庆教授12:00-13:00二楼华润厅自助午餐GenIsys公司13:30-18:00一楼鑫江厅半导体设备和材料及先进光刻技术交流会1） 青岛天仁微纳科技有限责任公司事业发展经理 Massimo Tormen：Manufacturing advanced photonic devices needs reliable nanoimprinting lithography solutions。2)海德堡仪器公司Nano AG/杨菲博士：《纳米扫描热探针直写技术（NanoFrazor）》一种可应用于纳米尺度科学研究的纳米制造技术。3)锐时科技（北京）有限公司副总经理朱军先生：《Raith Nanofabracation Application Updates 2023》。4) Genlsys公司亚太总监陈利奇先生：《GenlSys Update 2023》。5）清华大学刘泽文教授：《光刻技术回顾与展望》。6) 中国科学院微电子研究所研究员夏洋老师：《集成电路工艺装备及科教融合》。7) 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究员张志宇老师：《大幅面微纳结构光学表面制造技术》。8) 江苏长进微电子材料有限公司总经理王凯先生：《新型高分辨率电子束光刻胶和用于三层结构新型显影工艺》。9) 长飞石英技术 (武汉) 有限公司销售副总监肖畅先生：《微光刻用合成石英材料开发进展与应用》。10) 矽万 (上海）半导体科技有限公司陈硕先生：《基于3D光刻的曲面衬底非球面微透镜阵列》。11) 苏州锐材半导体有限公司销售经理江茜女士：《SOI晶圆和其它晶圆键合新材料》。12) 深圳清力技术有限公司实验平台负责人潘旭捷先生：《深圳超滑技术实验平台微纳米工艺介绍》。13) 纳糯三维科技 (上海) 有限公司总经理崔万银博士：《双光子灰度光刻技术在微光学器件中的应用》。14) 中国科学院微电子研究所杨尚老师《数字化掩模灰度光刻的建模与仿真》。15) 福建省水电科学研究院刘辉文老师：《电位限制式电子束投影光刻技术的新进展》主持人：清华大学刘泽文教授主持人：上海交通大学程秀兰教授18:00-20:00二楼华润厅晚宴Raith 锐时科技公司20:00-21:00一楼鑫江厅Genlsys公司用户会8月30日星期三6：30-8:00一楼餐厅自助早餐至10：00结束大床房 双早双床间 双早8:30-12:00一楼鑫江厅微光刻标准化分技术委员会年会1）纳米压印国家标准制定工作组筹建情况介绍。包括工作组成员及主要起草单位和主要起草人介绍。2）关于“纳米压印国家标准”申请立项书草案。3）“纳米压印国家标准”初稿草案。4）其它有关纳米压印技术建议。2023-2024年两届承办方交接牌仪式2023年第十三届承办单位青岛天仁微纳科技有限责任公司董事长冀然先生交会牌，致感谢词；2024年第十四届承办单位中国科学院上海高等研究院X射线光学技术实验室副主任吴衍青研究员接会牌，致欢迎词。微光刻分技术委员会主任委员冯稷主任12:00-13:00二楼华润厅自助午餐神光光学集团13:00-17:00待定重要的调研参观考察待定18:00-20:00二楼华润厅欢送晚宴青岛天仁微纳科技有限责任公司8月31日星期四6:00-10:00一楼餐厅自助早餐至10：00结束大床房 双早双床房 双早9:00-12:00退房参会嘉宾返程会务组2、 交通信息参考会议地点：青岛鑫江温德姆酒店（青岛市城阳区黑龙江中路220号）路线建议：1、飞机：青岛胶东国际机场——青岛鑫江温德姆酒店网约车：40.3公里，【时长：37分钟，总费用：80元左右】；地铁-公交：地铁8号线（胶东机场地铁站--青岛北站）--地铁1号线（青岛北站--仙家寨）--A2出口步行6分钟至汽车北站，乘坐即青1号线（汽车北站--仙山东路黑龙江路）-青岛鑫江温德姆酒店，【时长：1小时42分钟，总费用：8元】；地铁-打车：地铁8号线（胶东机场地铁站--青岛北站）--地铁1号线（青岛北站--仙家寨）--A3出口打车至青岛鑫江温德姆酒店，【时长：1小时23分钟，总费用：17元】；2、 高铁：（1）青岛北站——青岛鑫江温德姆酒店网约车：12公里，【时长：20分钟，总费用：30元左右】；地铁-公交：地铁1号线（青岛北站--仙家寨）--A2出口步行6分钟至汽车北站乘坐即青1号线（汽车北站--仙山东路黑龙江路）-青岛鑫江温德姆酒店，【时长：50分钟，总费用：4元】；地铁-打车：地铁1号线（青岛北站--仙家寨）--A3出口打车至青岛鑫江温德姆酒店，【时长：33分钟，总费用：13元】；（2）青岛站——青岛鑫江温德姆酒店网约车：29公里，【时长：35分钟，总费用：53元左右】；地铁-公交：地铁1号线（青岛站--仙家寨）--A2出口步行6分钟至汽车北站乘坐即青1号线（汽车北站--仙山东路黑龙江路）-青岛鑫江温德姆酒店，【时长：1小时15分钟，总费用：6元】；地铁-打车：地铁1号线（青岛站--仙家寨）--A3出口打车至青岛鑫江温德姆酒店，【时长：58分钟，总费用：16元】。青岛鑫江温德姆酒店--喆啡酒店打车：6分钟，费用约9元步行：1.5公里，约20分钟附件：青岛部分热门景点市南沿海一线（五四广场、奥帆中心、情人坝、小麦岛公园、燕儿岛山公园游玩线路比较集中，建议已一条线路游玩）★酒店—五四广场酒店步行500米到达西小水公交站台乘坐公交车502路（市政府南通路方向）10站到市政府南通路公交站台下车，步行15分钟即到五四广场。★五四广场—奥帆海洋文化旅游区—情人坝—燕儿岛山公园—小麦岛公园以五四广场为沿海一线游玩起点，五四广场导航指引步行10分钟即到奥帆海洋文化旅游区，步行20分钟即到情人坝，步行30分钟即到燕儿岛山公园，步行50分钟即到小麦岛公园；★栈桥景区酒店步行500米到达仙山东路黑龙江路公交站台乘坐公交车即青1号线（汽车北站方向）2站到汽车北站公交站台下车，步行230米至仙家寨（汽车北站）地铁站（王家港方向）乘坐地铁1号线乘19站青岛站G口方向即到★中山公园—八大关风景区酒店步行260米到达黑龙江中路仙山东路公交站台乘坐公交车103路（李村站方向）19站到李村站公交站台下车，步行220米至李村地铁站（青岛站方向）14站中山公园地铁站A口出步行500米即到中山公园。中山公园步行10分钟即到八大关风景区。★崂山风景区酒店步行500米到达西小水公交站台乘坐公交车502路（市政府南通路方向）3站到黑龙江中路枣山路站公交站台下车，步行200米至枣山路地铁站乘坐地铁2号线（泰山路方向）乘5站站内换乘地铁11号线（钱谷山方向）9站北九水地铁站B1口出站即到。石老人海水浴场★即墨古城酒店步行500米到达仙山东路黑龙江站台乘坐公交车即青1号线（汽车城公交枢纽站方向）7站到得利电器公交站台下车，同站换成即墨2006路（永昌公交总站方向）14站到即墨古城（西门）公交站★金沙滩风景区酒店步行260米到达黑龙江中路仙山东路公交站台乘坐公交车941路（临时站方向）11站到重庆中路瑞金路公交站台下车，步行250米至瑞金路地铁站（王家港方向）21站山里地铁站C口出到达山里地铁站公交站乘坐公交车黄岛4路（灵山卫公交枢纽站方向）5站到电影学院公交站台下车即到。参会方式：返回回执即可（邮箱请查看回执）第二轮回执表.doc

近年来,美国对中国芯片产业不断围追堵截。受此影响，中国半导体产业开始加大研发力度，尽可能缩短打破海外技术垄断的时间。在业内外看得见的数据背后，是国家的鼎力支持、企业和科研人员的不懈坚持。有这样一群老科学家，他们将自己的一生奉献给了中国半导体事业。已经80岁高龄的科学家陈宝钦就是其中之一，一辈子都在从事光掩模制造与光刻技术相关的工作。仪器信息网有幸采访到这位多年来为祖国半导体事业奔波的老科学家——陈宝钦教授。从矿石收音机与半导体结缘陈宝钦教授1942年出生于福州郊区的一个农民家庭，而世界上第一台现代电子数字计算机埃尼阿克(ENIAC)，也诞生于1946年2月14日的美国宾夕法尼亚大学，当时的计算机是由如同电灯泡一样的真空管组成，也称之为电子管，直到1947年，世界上才出现了第一只半导体晶体管，这时的陈老师也才是个五岁的农村孩子。而陈宝钦14岁念初中时，突然好奇地按一本科普杂志《知识就是力量》中所介绍方法，利用一根大头钉插在一小块锗矿石上，加上耳机、漆包线线圈和可变电容组装了一个简易的锗矿石收音机，居然非常奇妙地能听到各种各样大大小小微弱的电台吱吱哇啦广播声响。虽然这只是最简单的收音机，可就是这个最原始的《矿石收音机》在他心中播下了半导体科技的种子，启蒙了陈宝钦接下来的半导体结缘之路。上世纪五十年代，我国制版光刻领域还是空白。半导体处在起步阶段，在黄昆、谢希德、林兰英、王守武、黄敞、高鼎三、吴锡九等归国老一辈科学家的带领下，我国的半导体技术教育、科研和产业开始蹒跚起步。当时全国开始了半导体产业的建设，周总理主持制定“十年科学技术发展远景规划纲要”，将半导体科技等列为国家重要科技项目。由北大、复旦、南大、厦大、东北人大（吉林大学前身）等五校在北大成立联合半导体专门化。1960年，18岁的陈宝钦考入了北京大学物理系物理专业，并于1963年被分到半导体专门化，师从黄昆老师。毕竟能考入北京大学，也是来自福建学生中的佼佼者，在北京大学前两年的基础课学习中没有什么问题。但在后两年发现开始吃力，毕竟受制于从农村背景出来的孩子，无论在知识面还是各方面基础上都逐渐跟不上来自北京上海大城市同学。尤其是自己记忆力差，反应能力也慢，显然有点笨，有点打退堂鼓准备回家跟奶奶种地去。后来在在一位非常要好的北京同学鼓励下，争口气，坚持下来。虽然来自农村的孩子与来自大城市的孩子相比，智商不足，但是可以用勤奋来补救，从此陈老师采用笨鸟先飞的方法，充分发挥自己超强的联想分析能力、图像识别能力和归纳总结本领，实现了学业上的追赶和逆袭。陈宝钦回忆说，“自己为了跟上老师讲课，课堂上的笔记如鬼画符，时间久了自己都不知道画的什么符，所以每天晚上都躲在学生宿舍楼拐角上一间小会议厅桌子堆里，将白天的笔记认真地整理成图文并茂工工整整的另一套笔记。实践证明，这种学习方法，产生了奇迹般的效果。尤其是原子物理学的一大串经验公式没有什么道理，真的记不住，采用这种办法居然都能记住了，即使忘了，翻到那一页，不用细看，很快就想起来了。”说明勤奋可以补救智商的不足，实现追和赶！采访过程中，陈老师还展示了几十年保存下来他当年自己耐心整理的工工整整的学习笔记本应1966年毕业的陈宝钦，由于文革的缘故，1968年才分配工作到中国科学院半导体所。从26岁到半导体所开始，陈宝钦正式开启了其半导体职业生涯。而这些宝贵的经历也为陈宝钦未来在半导体的科研求索之路奠定了精神基础。亲历光刻技术发展六十年亲历中国光刻技术发展六十年，陈宝钦已到耄耋之年，花白的头发和风风火火的步伐，显得神采奕奕，精神抖擞。“我年轻的时候喊过一句口号叫做要健康为祖国工作五十年，现在我做到了，这几十年中，最脏的活干过、最苦的活干过、最累的活干过、最危险的活也干过，但是，一辈子最有意思的就是从事微电子、微光刻、电子束光刻研究工作，以及指导研究生、青少年的科普工作。”采访中，他对自己的半导体人生这样总结道。年轻时这些艰苦的磨炼成为他的人生珍贵的精神财富。正如其所言，从青年时代到耄耋之年，陈宝钦参与到了诸多半导体研究中，将自己的研究经历总结为“一辈子就干一件事：光掩模制造与光刻技术，见证了中国微电子技术特别是光刻技术的从无到有的发展整个过程。”上世纪六十年代是人工为主的制版光刻技术萌芽年代。1968年，陈宝钦从北京大学刚进入半导体所工作时，整个半导体工艺全是手工的，而他则从利用手术刀、坐标纸和钢板尺手工刻版图，自制光刻胶（感光胶），采用电子束蒸发工艺自制铬板和镉板开始，从事光刻版（光掩模）制造工艺，也曾用废旧的显微镜搭建简易的曝光装置。人工为主的制版光刻技术萌芽年代，沿用古老传统的照相术及显微镜缩小曝光七十年代，我国科学家王守觉看到国外同行发表的用拼图感光方式产生版图的图形发生器论文，证实了他早在1965年提出的创新设想并在1966年初见成效的制版途径的正确性，成功地改造成了我国第一台能自动制版的积木式图形发生器。在1975年，33岁的陈宝钦也参加了王守觉先生的团队，把一台工具显微镜改造成“图形发生器”实验并参加了几项光刻机研制工作。而在同期除手动半自动的劳动牌光刻机外，因为电路器件的可靠性稳定性不过关的问题，当年研发的光刻设备基本上都成了一堆废铁。在这段研究岁月中，因为正好遇上唐山大地震，整个研究所就剩下陈老师和在楼道望风的实验室马俊如主任，就在那样的条件下用手工摇曝光机制备第一批1k位规模的集成电路掩模版，乃至的后来4k、16k、64k位规模的集成电路掩模版。在1979 年和1981年的中国科学院科技进步一等奖中，陈宝钦正是负责其中掩模制造，在其中扮演了重要角色。1982年中国科学院授予先进工作者称号。中国科学院京区先进工作者上世纪八十年代，陈宝钦开始研发光学分辨率增强技术之一的相移掩模技术，让只有1微米加工能力的精缩机，通过自已制备的全透明掩模掩模曝光成功完成了制备180纳米的线条和60纳米的园点阵列的实验。科学院科技进步奖证书此外，基于多年的研发经验，陈宝钦还研究出了一种别具特色的光学图形合成技术。这是一种基于高精度光学分步重复精密缩小照相机（简称精缩机）进行光学图形投影拼接成像的一种方法。由于精缩机的图形拼接精度高于光学图形发生器，可以利用精缩机的分步重复功能，采用各种称之为“图形词汇”的图形单元高效率地拼接出高精度的周期性比较强的大面积图形，也可以采用不同的“图形词汇”拼出各种高精度复杂的图形。当年正是基于独特的用微米级精缩机当＂光学图形发生器，实现了亚微米精度的《图形合成技术》。由于当年没有激光图形发生器，更没有电子束图形发生器。为了帮助中国科学院长春光机所完成高精度圆光栅模版的任务，就是采用这种光学图形合成技术手工拼接的方法圆满地完成了任务，获得了中国科学院二等奖及国家科技进步三等奖。通过在掩模制造中的深度钻研，陈宝钦的能力也获得了认可。1986年，109厂与中国科学院半导体研究所、计算技术研究所有关研制大规模集成电路部分人员合并成立中国科学院微电子中心（中科院微电子所前身）。在此之前，1985年，陈宝钦便只身一人带着嫁装（GCA3696PR精缩机）从中国科学院半导体研究生来到微电子中心和原来科学院109厂制版工艺室的六位制版技术人员（带GCA3600FS光学图形发生器）组建了一个计算机辅助设计光掩模制造小组，从事计算机辅助光掩模制造工艺及介观物理课题光学光刻分辨率增强技术研究。上世纪九十年代是国际上集成电路特征尺寸向深亚微米推进的十年，同期我国改革开放引进了5～8英寸的生产线，开展了亚微米加工技术研究，逐渐开始进入以电子束光刻高精度制版光刻年代。1992年，50岁的陈宝钦来到美国ETEC公司考察电子束光刻机和多头电子束光刻技术，并着手于电子束投影光刻的研发。自此，陈宝钦的工作内容也由特征尺寸100~0.5微米的光学光刻转向精度更高的电子束光刻技术，在1994年参加了中国科学院电工研究所的顾文琪老师从美国引进的二手JEOL6AII电子束可变矩形束掩模曝光机改造升级实验工作。开始有了电子束掩模制版系统。1992年以后，在以陈宝钦为代表的老科学家们的努力下，我国的微纳加工技术从光学曝光的深亚微米一直做到现在的电子束光刻20纳米，10纳米，乃至能够找到5纳米。尽管我们设备条件落后国外三到五代，经费比国外同样的课题少100倍，甚至1000倍的条件下始终紧紧咬住国际先进水平不松口，与国外同步地开展纳米加工技术的研究。中国科学院微电子研究所JBX6300FS电子束光刻系统巧合的是日本爱徳万测试株式会社的字符式投影电子束光刻系统所采用硅镂空掩模版的图形字符库技术与当初陈宝钦研究出的光学图形合成技术的图形词汇库基于相同的原理，异曲同工。当初正是基于这种掩模图形词汇库技术，陈宝钦始终走在国内掩膜光刻技术的前沿，完成了一系列的技术突破。如今的陈宝钦身体很硬朗，在2018年实现了自己年轻时的承诺，做到了为祖国健康工作50年，而在从事微光刻技术研究开发40年间将特征尺寸缩小1000倍集成度提高千万倍。为祖国半导体事业奔波，播种微电子的种子三十年前，国内半导体设备和材料标准化工作刚刚起步，与国际水平相去甚远。面对此情此景，引进、吸收国际标准，转化为国家标准就显得尤为重要。基于此陈宝钦老师就开始投身半导体设备和材料标准化工作，1991年9月24日，国家技术监督局组织成立“中国SEMI标准化工作组”，翻译出版SEMI标准1990中译版。1992年，SEMI中国标准化委员会成立，正式开启了中国半导体设备与材料的标准化历程。2003年，全国标准化技术管理委员会SEMI中国更名为“全国半导体设备与材料标准化技术委员会”，并申请筹建了“微光刻分技术委员会”。如今，陈宝钦就任全国半导体设备和材料标准化委员微光刻分技术委员会秘书长。2022年第十二届微光刻分技术委员会年会也由合肥芯碁公司承办，在合肥召开。但实际上微光刻分技术委员会在刚成立的前十届年会都是筹的状态。由于国标委没有正式批复成立，委员会也只能自筹经费。“在微光刻分技术委员会长达十年的筹备历程中，一分经费也没有，怎么办？”，陈教授回忆最初筹备年会时的情况道。面对缺少经费的困境，陈教授联想到了奥运会的申办制，于是决定年会争取发动与微光刻技术相关的企业、高等院校、科研院所的积极性，自愿申报承办会议的办法，并且把每年的微光刻技术交流会和微光刻标准化技术年会合并进行，同时欢迎国外与微光刻建设及半导体设备和材料的厂家参加我们的标准化技术和微光刻技术交流会。结果会议很受欢迎，申请承办年会的单位居然排队到2030年。好事多磨，在经历了多年的努力下，终于在2020年5月26日，国家标准化建设管理委员会正式批准成立全国半导体设备和材料标准化委员微光刻分技术委员会。微光刻分技术委员会在筹建的这些年里，组织编撰的标准《微电子学微光刻技术术语》报批稿15万字，涉及十一组分类和一千五百条专业术语，配套的宣贯手册稿达25万字，极大的推动了我国在微光刻领域的标准化工作。该标准规定了与微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术术语；先进光刻技术术语；微光刻图形化和图形数据处理技术术语；微光刻感光材料、铬板与基片术语；光掩模与先进掩模技术术语；光刻工艺（曝光、刻蚀与微纳米加工）技术术语；电子束掩模制造与直写技术术语；光刻及掩模质量参数测量和评定术语；掩模制造设备和微光刻设备术语。陈教授心系祖国微电子事业发展，将一生奉献给祖国微电子事业。退休后除了奋斗在科研第一线和研究生教学第一线外，也活跃在科普第一线，当微电子科学播种机，致力于激发祖国的花朵对微电子的热情，为祖国的微电子事业发展和人才培养持续发光发热。这些年来，陈宝钦始终为青少年和娃娃们作科普讲座，希望将来在他们中间有的能成长成为微电子科技工匠。由于近五年陈宝钦在全国各地进行了数百场科普讲座，为全国青少年科普工作做出重要贡献，2021年中国科学院授予陈宝钦教授十三五期间科普工作先进个人荣誉称号。2022年4月26日在上海大学线上空中课堂中进行的一场《先进光刻技术》讲座的受众近三万人，2022年5月1日在北京大学网络学院校友会亲子科普直播《微电子如何把沙子炼造成芯片，以魔方为例谈谈学习方法问题》讲座的受众也近一万人。陈宝钦认为，科普要从娃娃抓起，更要从幼儿园开始播种微电子的种子。每次讲座中，陈教授都以魔方为例畅谈学习方法，生动活泼的科技课堂受到师生的一致好评。陈宝钦从自身经历谈起，到光刻技术发展史，再到半导体集成电路关键工艺技术，最后以魔方为引，启示青少年如何做人、做事、做学问，助力青少年科技创新。也由此收获了诸多“铁粉”。 陈宝钦寄语半导体制造工艺是人类迄今为止最精细的加工工艺，它要求：最完美的半导体晶体材料、最精密的制造设备、最纯净的气体和化学品材料、最精准的工艺技术、最洁净的厂房环境、最敬业的团队成员，这几个条件缺一不可。需要整个社会重建诚信、重视工匠精神、重整学术道德、重塑民族素质才有希望实现追和赶。本来科学与技术都是全人类的共同财富，可是现在世界上有的政客要把它霸占为己有，我们中国集成电路发展遇到百年变革的挑战和机遇 ，面对无赖堵劫，中国已经没有退路！ 老祖宗告诉我们别理这般小人！ 管好自己的人，看好自己的门，做好自己的事！高端集成电路芯片制造技术和高端光刻机都是世界科技的珠穆朗玛峰，也是一次新的万里长征，需要以攀登科学高峰的精神，踏踏实实努力追和赶，别想投机取巧弯道超车。做好每一件简单的事，就是不简单；做好每一件平凡的事，就是不平凡。社会分工有不同，一个人能力有大小，只要咱们脚踏实地地努力搞好本职工作，就会对国家有贡献，就会成为社会有用的人才。陈宝钦研究员，博士生导师，1942年生于福建省福州市，1966年毕业于北京大学物理系，1968-1985年任职于中国科学院半导体研究所，1986年至今于中国科学院微电子研究所。兼职中国科学院大学（国科大）教授；全国半导体设备和材料标准化技术委员会副主任、微光刻分技术委员会秘书长；全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长，计量与测试技术工作组委员；中国科学院老科技工作者协会理事、微电子分会理事长、科学讲师团成员；全国大学生创新创业iCAN金牌讲师团成员；北京电子学会半导体专业委员会副主任、制版分会主任；中国科学院大型仪器设备研发监理，中国科学院重庆绿色智能技术研究院学术委员会委员。

德国 Nanoscribe 公司推出针对微光学元件（如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件等）具有特殊性能的新型材料 – IP-n162光刻胶。全新的光敏树脂材料具有高折射率，高色散和低阿贝数的特性，这些特性对于3D微纳加工创新微光学元件设计尤为重要，尤其是在没有旋转对称和复合三维光学系统的情况下。“使用IP-n162这样的高折射率光敏树脂可以实现强大的设计自由度。设计人员可以利用更少的时间和成本制造出更强大、更薄、弧度更小且更紧凑的微透镜。”Simon Thiele，由BMBF资助的同名衍生公司项目PRINTOPTICS和CTO项目参与人说道。这个项目由德国Nanoscribe公司携手斯图加特大学和Karl Storz医学技术公司，共同合作研发在用于内窥镜应用中的光纤上打印微型光学器件。图为Nanoscribe公司高精度双光子微纳3D打印设备：Photonic Professional GT2 & Quantum X以及新型材料IP-n162全新IP-n162光刻胶是为基于双光子聚合技术的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可以完美配合Nanoscribe公司的双光子微纳3D打印系统PPGT2和Quantum X，制作出具有高精度形状精度的创新微光学设计，并将高精度微透镜和自由曲面3D微光学提升到一个新的高度。主要特点：高折射率光刻胶，在589nm波长下n = 1.62低吸收率适合红外微光学，也是光通讯、量子技术和光子封装等需要低吸收损耗应用的最佳选择高色散低阿贝数由于其光学特性，高折射率聚合物可促进许多运用突破性技术的各种应用，例如光电应用中，他们可以增加显示设备、相机或投影仪镜头的视觉特性。此外，这些材料在3D微纳加工技术应用下可制作更高阶更复杂更小尺寸的3D微光学元件。例如适用于AR/VR应用的微型成像系统和3D感测。新型IP-n162阿贝数低至25，使其成为了Nanoscribe高色散光刻胶。用该款光敏树脂所打印的样品结构，其光学性能能接近常规用注塑成型技术制作的光学聚合物，例如聚碳酸酯（polycarbonate）或聚酯（polyesters）。IP-n162材料尤其适合用于制作消色散光学系统，即通过使用由较低折射率和较高折射率材料（例如IP-n162）打印并组和而成的复合光学元件。图示结构由Simon Thiele设计，TTI GmbH TGU Printoptics, 由Nanoscribe打印制作“在IP-n162光刻胶的使用过程中，我所实现的最强大的设计是一个复杂的光学系统。该系统由两个具有完全自由曲面表面的透镜组成，以实现无失真的图像。集成衍射透镜的特点是在透镜顶部包含精细的阶梯结构，用来矫正色彩误差，而IP-n162打印材料的高折射率有助于减小这些阶梯结构并减少杂散光。”Thiele根据使用新型光敏树脂的经验说道。 更多有关双光子微纳3D打印产品和技术应用咨询欢迎联系Nanoscribe中国分公司 - 纳糯三维科技（上海）有限公司 德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳3D打印系统： Photonic Professional GT2 双光子微纳3D打印设备 Quantum X 双光子灰度光刻微纳打印设备

仪器信息网讯 9月22日，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第三届年会暨第十二届微光刻技术交流会在合肥成功召开。本届会议由全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会主办，合肥芯碁微电子装备股份有限公司（以下简称“芯碁微装”）承办。会议吸引了业界两百余位资深专家及企业代表参会。 会议现场会议伊始，由合肥市政府副市长赵明，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会秘书长陈宝钦，中科院标准化管理委员会专家组麻云凤，合肥芯碁微电子装备股份有限公司董事长程卓以及市人大常委会副主任、合肥高新区党工委书记、管委会主任宋道军分别致辞。合肥市政府副市长 赵明 致辞全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会秘书长 陈宝钦 致辞中科院标准化管理委员会专家组 麻云凤 致辞合肥芯碁微电子装备股份有限公司董事长 程卓 致辞市人大常委会副主任、合肥高新区党工委书记、管委会主任 宋道军 致辞致辞结束后，大会进入2022年度微光刻技术交流会环节。大会首日交流会环节邀请了12位业界专家依次分享报告，对微光刻技术、微光刻设备和材料技术的发展趋势、最新研究成果及进展等展开深入的交流与探讨。上午的报告由中科院理论物理研究所研究员冯稷主持。中科院理论物理研究所研究员 冯稷 主持报告人 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 陈东博士报告题目 《激光直写光刻技术及应用》芯碁微装的陈东博士从激光直写技术及其在泛半导体领域的应用两方面介绍了芯碁微装的技术与应用。据介绍，激光直写技术分为激光束直写式光刻、基于2D数字空间光调制器的直写式光刻等种类，其关键技术性能指标包括产能、解析、精度和稳定性等。当前直写激光已被应用于集成电路（掩模版、晶圆、晶圆级封装、功率半导体、第三代半导体等）、平板显示（LCD、OLED等高端显示）、纳米器件（MEMS、生物芯片、3D器件等）和高端PCB等领域。报告人 北京超弦存储器研究院 师江柳博士报告题目 《应用于前沿存储器工艺的先进光刻工艺研发介绍》师江柳在报告中详细介绍了北京超弦存储器研究院的情况，DRAM对先进光刻的需求以及研究院先进光刻工作三方面内容。据介绍，DRAM存储芯片市场份额巨大，发展前景广阔，是半导体产业的核心支柱之一。中国的DRAM市场接近全球的60%，但自给能力严重不足，且核心技术受制于人，亟需关键技术的突破。当前，北京超弦存储器研究院积极搭平台、引人才、建队伍、出成果，为国产存储器产业发展提供技术来源、协调资源调配、培养专业人才、实施知识产权保护，致力于成为国内存储器技术发展的“探路人”。报告人 上海交通大学教授 周林杰报告题目 《光电子芯片封装测试技术》当前硅基光电子正朝大规模集成应用发展，同时硅光技术促进了片上光互联、量子计算、激光雷达、光子计算新应用的蓬勃发展，但光芯片的封装和测试成本却高居不下。据周林杰介绍，硅光芯片封测面临硅间接带隙材料不能发光、硅波导与光纤模式失配大使得耦合效率低、电学控制端口数多和失效检测等问题，而光电子芯片封装测试平台可提供光电子芯片封装、光电子芯片及器件测试、失效分析等服务。报告中，周林杰详细介绍了平台的电学封装、光学封装和失效分析的技术，并举了大规模光开关和激光雷达芯片两个实例。报告人 中国科学院微电子研究所研究员 齐月静报告题目 《光刻精密测量技术》光刻机是半导体产业的重要装备，其中前道光刻机的生产厂家主要有ASML、Nikon、Canon和上海微电子。光刻机的核心指标包括分辨率、套刻精度和产率，核心分系统包括对准、步进扫描曝光和成像质量控制系统。报告中，齐月静详细介绍了光刻精密测量技术中的投影物镜波像差检测、对准和套刻的关系、对准原理、对准装置等内容。以上为上午的报告内容，下午的会议交流由清华大学刘泽文教授和中科院重庆研究院王德强研究员依次主持。清华大学教授 刘泽文 主持中科院重庆研究院研究员 王德强 主持报告人 合肥芯碁微电子装备股份有限公司总经理 方林报告题目 《芯碁光刻机发展历程》芯碁微装成立于2015年，总部位于中国合肥，于2021年4月1日在科创板正式挂牌上市，成为中国首家光刻设备上市企业。据介绍，芯碁微装致力于以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发和生产，主要产品为PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他镭射直接成像系统。目前产品已广泛应用于IC芯片、掩模版、MEMS、生物芯片、PCB、Touch Panel、FPD、LED等影像转移领域。从2015年成立至今，通过自主研发，不断技术创新，芯碁微装的设备装机量已累计超过700台。报告人 长沙韶光芯材科技有限公司副总经理 彭博报告题目 《长沙韶光芯材科技有限公司》彭博在报告中介绍了长沙韶光芯材料科技有限公司的情况。据介绍，长沙韶光芯材科技有限公司1980年全套引进德国生产线作为分厂存在；2003年成为独立法人的国有公司；2011年改制为民营企业，经营层控股/员工持股；2022年引入股权投资。报告最后，彭博这样形容韶光芯材，“老牛亦解韶光贵，不待扬鞭自奋蹄”。报告人 青岛天仁微纳科技有限责任公司北区销售总监 李心报告题目 《天仁微纳 纳米压印光刻领导者》纳米压印光刻是光刻技术的一种，可以低成本加工微纳结构，在某些领域比投影光刻更具优势。李心表示，随着技术继续发展，在某些工艺节点，纳米压印技术有可能替代投影式光刻。目前，纳米压印已应用到消费类电子产品、车载光学、AR眼镜、生物芯片、显示等领域，随着纳米压印光刻技术日趋成熟，应用领域也会越来越多。报告中，李心还介绍了天仁微纳的发展历程、产品及生产线、解决方案等内容。报告人 锐时科技（北京）有限公司副总经理 朱国报告题目 《2022 Raith公司及最新应用简介》Raith于1980年创立，是一家先进的纳米加工、电子束光刻、聚焦离子束加工、纳米工程和逆向工程应用领域的精密技术解决方案提供商，总部位于德国多特蒙德，通过在荷兰，美国和亚洲（香港和北京）的子公司以及代理商和服务网络。朱国表示，Raith是纳米制造设备的全球市场和技术领导者，在全球安装了1100余套系统，开发了用于纳米结构打印和扫描的最高精度系统，经营着专门的产品平台战略，拥有最广泛的纳米制造系统产品组合。报告人 清华大学教授 刘泽文报告题目 《智能传感器与光刻技术创新-集成氮化镓MEMS传感器》刘泽文教授表示，智能传感时代已经到来，More-than-moore的系统集成值得引起光刻界的重视，基于新材料和新型加工技术的高性能传感器具有巨大的应用前景。光刻和微纳加工技术具有巨大的创新空间，创新永远在路上。创新成就的取得，需要加强企业和研究机构之间的学科和工程交叉合作，需要政府的综合协调和支持。报告人 北京汇德信科技有限公司销售技术工程师 王涛报告题目 《PHABLE紫外/深紫外光刻机特点及应用》王涛在报告中介绍了北京汇德信科技有限公司独家代理的产品-PHABLE紫外/深紫外光刻机。据介绍，该设备是泰伯效应（Talbot）光刻机（DTL技术），采用了非接触曝光的方式，具有纳米-微米级曝光分辨率，分为手动、自动机型，且可以实现大面积纳米周期图案。其中纳米级分辨率可达＜50nm（DUV）、＜100nm（UV），能实现4‘‘、6’‘、8’‘大面积图案化。此外，PHABLE曝光技术可以在曲面上进行曝光，最大高低差2-3mm表面上曝光纳米图形。报告人 南京南智先进光电集成技术研究院 王前进老师报告题目 《EBL在LNOI光电芯片制备的应用及问题》光电集成是后摩尔时代的可行路径之一。当前光电技术进入集成化发展阶段，产业即将迎来爆发。王前进表示，如果电子学革命的地理中心是以衬底材料来命名，即“硅材料”，那么光子学革命的诞生地应该以“泥酸锂”命名。而南智光电专注于薄膜铌酸锂特色工艺。据介绍，南智光电集成公共技术平台一期由南京市江北新区研创园投资兴建，系南京市首个光电集成领域开放式平台。平台一期占地5000平米，建有超净实验室2000平米，各类设备6000余万元，涵盖光刻、镀膜、刻蚀、封装等各工艺环节，有工艺及研发队伍40人。报告人 中国科学技术大学工程师 周典法报告题目 《光刻工艺装备的运行保障》周典法老师在报告中介绍了装备运行中的常见问题、装备的故障诊断和修复以及装备的运行保障措施。周典法表示，设备的运行保障以预防为主，需加强日常巡检，定期对易损件耗材进行更换和备件储备，确保电力供应正常，还要培养一位自家的硬件维修工程师。合影留念9月22日的微光刻技术交流会到此结束。23日，大会将召开2022年度先进光刻技术交流会、2022年度第三届微光刻分技术委员会年会和2022-2023年两届承办方交接牌仪式，并邀请专家参观合肥芯碁微电子装备股份有限公司产业链上/下游企业。

奥谱天成是国内领先的拉曼光谱仪提供商，其研制生产的ATR8100型高灵敏度制冷显微拉曼光谱仪，将高清显微镜及高灵敏度度拉曼光谱仪两者的优点结合，采用了高稳定镜架和专利技术的显微光谱、拉曼光路融合技术，形成了独特的共轭对焦系统，使得精准的对焦成为可能；ATR8100还采用了高灵敏度背照式拉曼信号增强面阵CCD，并进行了深度制冷，辅以超低噪声的双关双采样CCD信号处理技术，从而得到了超高灵敏度、超低噪声的拉曼光谱。 ATR8100型高灵敏度制冷显微拉曼光谱仪，是拉曼技术研究人员的必备工具，可以带给科研工作者的益处：ATR8100可以替代进口的台式激光显微拉曼（例如Horiba，Renishaw、Thermo Fisher），得到同样的实验结果；ATR8100可以解决大型台式拉曼光谱仪机时不足的困境；ATR8100采用全固态光路，工作非常稳定，不易坏，非常适合学生们进行拉曼实验； ATR8100上市以来，得到了广大拉曼工作者的反馈和认可，ATR8100也分别在厦门大学、华中科技大学、中南大学、中国科学院等科研机构安家落户，ATR8100在多个大型企业也得到了一席之地，为拉曼技术的应用发展贡献自己的微薄之力。　　金砖峰会期间，奥谱天成积极支持国家的大政方针，峰会过后，ATR8100吹响集结号，整装待发，密集交付。　　奥谱天成将持续在显微拉曼光谱仪研制的大力投入，为拉曼事业多做仪器、做好仪器！　　在ATR8100的基础上，带自动聚焦功能的ATR8200型显微拉曼光谱仪即将面世；另外，带成像扫描（Mapping）功能的ATR8300型也在紧锣密鼓的进行中，预计将在2017年10月与您见面哦！ 产品实验测试结果分享： 　　　　　　图二　ATR8100进行的Sers实验1（上图为样品图片，下图为Sers拉曼谱图）　　　　　　　　　　　　　　图三　ATR8100进行的Sers实验2（上图为样品图片，下图为Sers拉曼谱图）　　　　　　　　　　　图4 ATR8100测试Si的拉曼光谱（500mW，1S积分时间）　　　　　　　　图5 ATR8100测试酒精的拉曼光谱（500mW，1S积分时间）

p 　　据物理学家组织网16日报道，英国国家物理实验室（NPL）的研究人员研制出了一种全光二极管，新二极管能被用于微型光子电路中，有望为微纳光子学芯片提供廉价高效的光二极管，从而对光子芯片和光子通信等领域产生重要影响。 /p p 　　北京大学现代光学研究所研究员肖云峰对科技日报记者解释说：“二极管能传输一个方向上的电流，但却阻挡反向电流，是几乎所有电子电路的基本组成元件，但现有的光学二极管需要大块磁光晶体，严重阻碍了其在微纳尺度上的集成，成为集成光子学领域面临的重大挑战之一。” /p p 　　在新研究中，帕斯卡· 德尔海耶博士领导的团队将光发射到一个微谐振器（一个硅芯片上的玻璃微环）内。尽管微环直径仅与人头发丝相当，却可使光在微环内来回传播。利用微环增强的光学克尔效应，该团队制造出了新的全光二极管。新二极管仅能在一个方向上传输光，且可集成到微纳光子电路中，因此，克服了二极管需要大块磁光晶体这一限制。 /p p 　　德尔海耶强调称：“这些二极管有望为微光芯片提供廉价高效的光二极管，也将为可用于光学计算的新型集成光子电路铺平道路，还可能对未来的光子通信系统产生重大影响。” /p p 　　据悉，中国科学家也在该领域获得了较好的成果，例如中国科学技术大学董春华博士利用微腔光力相互作用，得到了全光控制的非互易微腔器件，包括全光二极管和环形器等。 /p p 　　肖云峰说：“尽管最新研究并非第一个全光二极管，但获得的器件具有操作简单、隔离度高等特点，是一个很有潜力的方案。当然，与现有的全光二极管方案类似，基于谐振腔的全光二极管往往存在带宽限制，仅能在较窄的谐振模式内工作。未来还需进一步研究，突破其限制。” /p

仪器信息网讯 9月23日，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第三届年会暨第十二届微光刻技术交流会在合肥顺利落幕。本届会议由全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会主办，合肥芯碁微电子装备股份有限公司（以下简称“芯碁微装”）承办。继大会9月22日进行开幕及首日日程后，23日大会召开了2022年度先进光刻技术交流会、2022年度第三届微光刻分技术委员会年会和2022-2023两届承办方揭牌仪式，会议由中科院重庆研究院王德强研究员和全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会秘书长陈宝钦分别主持。报告人 中国科学技术大学副研究员 徐光伟报告题目 《氧化镓半导体功率电子器件》功率器件广泛应用于电能传输变换的各个环节，因而在各大电脑相关领域应用广泛。功率器件是“弱点控制”和“强电运行”间的桥梁，高性能功率器有助于降低电能传输变换过程中损耗。随着近年来新能源汽车智能化升级需求的爆发，功率半导体市场增速飞快。当前氧化镓材料及器件的研究，呈现出显著的加速发展态势，是日本、美国、欧洲的研究热点和竞争重点。徐光伟在报告中从氧化镓功率器件、模型和电路等方面介绍了课题组在氧化镓功率电子器件的研究内容与进展。报告人 中科院重庆研究院王德强研究员 王德强报告题目 《Cross Disjoint Mortise Confined Solid-State Nanopores for Single-molecule Detection》&《基因改造蚕丝光刻胶》固态纳米孔在单分子检测应用中引起了广泛关注。然而，获得具有高灵敏度和鲁棒性的可控纳米孔需要在纳米孔制造方面取得革命性突破。作为一种方便、低成本的纳米孔制备方法，可控介质击穿技术很难控制纳米孔的位置和数量。这项工作提出了一种使用聚焦镓离子束和受控介电击穿技术制造的交叉分离榫眼约束固态纳米孔（CDM-Nanopore）的概念。由两个不相交的榫眼结构形成的受限域通过受控的介电击穿方法定位了纳米孔制造的位置。随后，王德强研究员又介绍了西南大学家蚕基因组生物学国家重点实验室和中国科学院重庆绿色智能技术研究院联合研发的基因改造蚕丝光刻胶。王德强表示，蚕丝蛋白属于天然蛋白，其力学性能好，生物相容性好，易于改性；结构独特使得其制备简便，分辨率良好，产业成熟，因而原料丰富，成本低廉，是绿色光刻胶的理想原料。下一步，王德强所在团队将瞄准中端需求，实现进口替代；之后，面向高端需求，突破自主可控。报告人 福建省科学研究院 刘辉文报告题目 《电位限制式电子束投影光刻技术原理》最初的电子束投影光刻使用常规掩模，采用透射加吸收高压电子束的原理。部分高压电子撞击到掩蔽层而后吸收，穿过掩模掩蔽层图形时在金属图形侧壁会产生散射并影响分辨率。另外，提高加速电压会造成掩模严重热形变，而减小束流又无法满足生产效率。而电位限制式电子束投影光刻技术采用反射加透射的原理选择性地通过电子，高压电子无法穿过掩模板掩蔽层，穿过掩膜版图案的电子将图案印到涂抹了光刻胶的晶体上。报告中，刘辉文介绍了对电位限制式电子束投影光刻技术进行的不同图形的仿真曝光，得到了分辨率为20nm的图形。从理论上验证了高压电子束能够穿过掩模图形缝隙，并在新型掩模下方形成图形，图形线条连续清晰。电位限制式电子束投影光刻技术能够解决原有电子束投影光刻技术的问题，结合其他技术有望解决电子束投影光刻技术实用化问题。通过本次电磁仿真和计算，从理论上验证了新型电子束投影光刻技术的可行性，为以后实物验证做了前期准备，并有望下一步制作高分辨率的电子束投影光刻系统。报告人 中国科学院微电子研究所 杨尚报告题目 《激光直写仿真及其邻近效应校正》激光直写是利用激光束对基片表面的抗蚀材料实施曝光，显影后在抗蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓。在半导体领域中，激光直写由于其灵活，价格低廉，无需掩模版的优势，常被用于掩模版的刻写和其它例如3D打印等较为灵活的领域。激光直写系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描，光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形。报告中，杨尚展示了model-based OPC，利用模型匹配工艺条件，从而对版图进行修正。杨尚表示，本次报告只是一个思路的呈现，待其开发成熟，会有更加广阔的应用空间。基于模型的激光直写OPC只适用于图案局部，有着精度高，理论依据充足，自适应性良好的优点。若应用于全图的OPC，则需要加快运行速度也可以采用基于模型优化后的规则，进行rule-based OPC，来完美匹配现有工艺和设备条件等因素，以实现更为精准的OPC修正。2022年度先进光刻技术交流会到此结束，大会进入2022年度第三届微光刻分技术委员会年会环节。《抗蚀剂标准修订工作组》副组长李伟 汇报全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会秘书长陈宝钦 汇报《抗蚀剂标准修订工作组》副组长李伟汇报了有关三项原抗蚀剂标准标准申请修订立项情况。分会秘书长陈宝钦对有关《微电子学微光刻技术术语》国家标准报批修改终稿情况进行了汇报。 大会最后进行了2022-2023年两届承办方交接牌仪式。由分会秘书长陈宝钦主持，第十二届承办单位合肥芯碁微电子装备有限公司方林总经理将会牌交接到第十三届承办单位青岛天仁微纳科技有限公司特派代表李心。2023年，微光刻人将相约青岛。 大会结束后，合肥芯碁组织并邀请专家团队参观了“中国声谷”和合肥芯碁微电子装备股份有限公司。免费直播会议推荐仪器信息网联合电子工业出版社特主办首届“半导体工艺与检测技术”主题网络研讨会。会议旨在邀请领域内专家围绕半导体产业常用的工艺与检测技术，从各种半导体制造工艺及其检测技术等方面带来精彩报告，依托成熟的网络会议平台，为半导体产业从事研发、教学、生产的工作人员提供一个突破时间地域限制的免费学习、交流平台，让大家足不出户便能聆听到精彩的报告。主办单位： 仪器信息网 电子工业出版社直播平台：仪器信息网网络讲堂平台会议官网：https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/semiconductor20220920/会议形式：线上直播，免费报名参会（报名入口见会议官网或点击上方图片）通知：第二轮通知|首届“半导体工艺与检测技术”网络会议将于9月26日召开

各位委员、各个单位:兹定于 2024年10月27-30日在上海举行“全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第五届年会暨第十四届微光刻技术交流会”会议有关事宜通知如下:一、会议信息:(一)会议议程:10月27日报到，28-29日安排会议，30日返程(二)会议地点:上海中兴和泰酒店(上海市浦东新区浦东张江高科科苑路866号)(三)指导单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会。(四)主办单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会。(五)承办单位:上海光源，中国科学院上海高等研究院。(六)参会人员:全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会全体委员、代表及国内外微光刻标准化技术的嘉宾和朋友。(七)第二轮通知将于2024年10月08日发出。二、会议收费与住宿1、本届会议不收取会议费用，交通费用及食宿费用自理。住宿:上海中兴和泰酒店（上海市浦东新区浦东张江高科科苑路 866 号）。单人间:550元人民币/天/人，标准间:550元人民币/天/2人，(均含双早)。2、交通信息参考路线建议-机场:(1)上海虹桥国际机场--上海中兴和泰酒店地铁2号线直达:2号航站楼地铁入口--地铁2号线(浦东国际机场方向)--乘坐 17站-张江高科站2出口-中兴和泰酒店，【时长:1小时4分钟，总费用:6元】 (2)上海浦东国际机场--上海中兴和泰酒店地铁2号线直达:浦东国际机场站入口--地铁2号线(徐泾东方向)--乘坐 10站-张江高科站2出口-中兴和泰酒店，【时长:58分钟，总费用:5元】 路线建议-火车站:(1)虹桥火车站--上海中兴和泰酒店地铁:虹桥火车站地铁入口--地铁2号线(浦东国际机场方向)--乘坐 18 站-张江高科站2 出口-中兴和泰酒店，【时长:1小时5分钟，总费用:6元】 (2)上海火车站--上海中兴和泰酒店地铁:上海火车站地铁入口--地铁4号线内圈(宜山路方向)--乘坐 18 站-张江高科站2出口-中兴和泰酒店，【时长:1小时5分钟，总费用:6元】 (3)上海南站--上海中兴和泰酒店地铁:上海南站地铁入口--地铁1号线(富锦路方向)-人民广场站下车 换乘地铁2号线(浦东国际机场方向)--张江高科站2出口-中兴和泰酒店，【时长:1小时3分钟，总费用:5元】 三、会议联系人1、标委会秘书处会务组联系人 :郝美玲:18551384180 semiml@126.com 微信:h85786757陈宝钦:13661034296 chenbq@ime.ac.cn 微信:chenbg4207022、上海光源、中国科学院上海高等研究院会务组联系人李红红:13536512860，lihh@sari.ac.cn 龙家丽:17717636503 1ongil@sari.ac.cn 微信:wxid 9maiawdpke8122四、参会回执请在 2024年9月28日前把回执（文末附件）及申请做报告的文稿题目(欢迎发送电子版PPT 文件)发至微光刻分技术委员会行政秘书处专用电子邮箱地址:semiml@l26.com并抄送到 chenbg@ime.ac.cn 以便主办方安排会务、住宿及会议资料文集。附件 第一轮通知附件2-回执参会反馈表2024.7.28.doc

仪器信息网讯 8月29日，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第四届微光刻分委会年会暨第十三届微光刻技术交流会在青岛成功召开。本届会议由全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会秘书处和青岛市城阳区人民政府主办，青岛天仁微纳科技有限责任公司承办。会议吸引了业界三百余位资深专家及企业代表参会。 会议现场大会开幕式由微光刻分技术委员会主任委员冯稷主持，青岛轨道交通产业示范区工委委员、管委副主任矫鲲，青岛轨道交通产业示范区管委招商部部长刘新歧，青岛天仁微纳科技有限责任公司董事长冀然，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会秘书长陈宝钦分别致辞。微光刻分技术委员会主任委员 冯稷 主持开幕式青岛轨道交通产业示范区工委委员、管委副主任 矫鲲 致辞青岛轨道交通产业示范区管委招商部部长 刘新歧 致辞青岛天仁微纳科技有限责任公司董事长 冀然 致辞全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会秘书长 陈宝钦 致辞致辞结束后，大会进入2023年度微光刻技术交流会环节。大会首日交流会环节邀请了21位业界专家依次分享报告，对微光刻技术及应用、微光刻设备和材料技术的发展趋势、最新研究成果及进展等展开深入的交流与探讨。报告人：湖南大学 陈艺勤副教授报告题目：《力学辅助光刻及其应用》面临极端加工要求，仅仅依靠常规的微光刻技术面临难加工材料、难加工结构、难加工基底等加工难题。针对于此，陈艺勤所在课题组提出力学辅助光刻技术，人为地通过结构设计或添加外场等方式放大微光刻工艺过程中结构内部或结构之间的相互作用；通过人为施加的力学手段来代替或者补充微光刻技术的某一个或某几个工艺环节。报告中，陈艺勤介绍了其所在课题组利用高分辨的力学辅助光刻技术，围绕材料、工艺、应用三个方面开展的系列工作。报告人：苏州大学 陈林森教授报告题目：《微纳光子制造：赋能创新的引擎》陈林森教授三十年来从全息光学到微纳光学迈向光子制造，先后获得3项国家科技进步二等奖；5项江苏省科技奖一等奖；6项中国专利优秀奖。21世纪是“追光”的世纪，谁率先攻克大面积微纳结构功能化难题，谁将在光子领域处于主动地位。但传统光刻技术难以解决大面积光子器件的制备难题，已有图形化技术难以加工复杂微纳结构。面向科技前沿与重大需求，需要确立“更好的解决方案”。自主可控光子技术，对新材料、新装备、新器件的可控性与安全性意义重大。针对于此，陈林森教授基于光场重构、智能计算、数字化光刻与柔性纳米压印，构成了“微纳光制造”底层关键技术，推出了一系列产业化的产品和设备。报告人：中国科学院上海高等研究院X射线光学技术实验室副主任 吴衍青研究员报告题目:《SSRF-XIL线站EUV光刻胶光刻性能检测技术进展》我国尚处于EUV光刻核心关键技术攻关阶段，国内EUV光刻胶的研发尚属于起步阶段。光刻胶的光刻性能检测是光刻胶研发的必要条件，而13.5nm在波长检测是衡量光刻胶曝光性能最准确的检测方法。曝光后可以获得光刻胶的三个主要参数：分辨率、灵敏度和边缘粗糙度。光刻胶研发过程中需多次迭代、检测，获得最佳曝光性能。吴衍青表示，同步辐射EUV干涉光刻是业界公认的检测方法。当前上海光源已为国内多所高校/研究所/企业单位提供光刻胶性能检测支持，取得了丰硕的成果。报告人：神光光学集团有限公司首席科学家 曹海平院长报告题目：《神光光学用于微光刻的玻璃材料和元件》高纯石英性能优良被称为“玻璃之王”，石英玻璃具有比其它以二氧化硅为骨架的如钠钙硅玻璃、硼硅玻璃、普通光学玻璃等混合物玻璃无法比拟的独特和优异性能，尤其透明石英玻璃的光学性能非常优异，在紫外到红外辐射的连续波长范围都有优良的透射比。曹海平在报告中对比了海内外主流厂商的工艺，并介绍了神光光学的六大特色生产工艺：国内首创立式单灯闭式沉积装置，集成原料预处理、反应合成和适应生长三大模块；超精准燃烧管控和液态物蒸发创造了恒定的流场，确保高纯度；优异的燃烧器热场匹配先进的沉积炉温场，形成最佳的合成界面和产品截面；先进的自动化控制的适应生长获得长度向一致性及轴对称性；首创通过槽沉热成型抑制横向延展后的缺陷分布和改善二次缺陷；自主研发多级精密退火工艺减少了应力影响。之后，曹海平介绍了神光光学石英玻璃的应用、产品关键指标等信息。报告人：青岛天仁微纳科技有限责任公司事业发展经理 Massimo Tormen报告题目：《Manufacturing advanced photonic devices needs reliable nanoimprinting lithography solutions》在可预见的未来，光子器件正在并将在我们的社会中大规模使用。纳米压印技术与其他技术相比具有竞争优势。Massimo Tormen 表示，与其他现有复制技术不同，纳米压印（NlL）技术结合了高分辨率、2.5D图案化能力的特点，吞吐量大，需要的投资和运行成本适中；与DUV和EUV光刻相比，因为NIL的缺陷率更高，目前电子工业不使用NIL技术，但光子学应用的缺陷容忍度略高，这使NlL有机会成为先进光子器件的首选制造技术，因为其他竞争先锋发挥着更大的作用（分辨率、吞吐量、成本、2.5D图案化能力等）；NIL可以在许多光子应用中赢得与投影光刻的竞争优势。目前天仁微纳的UV-NIL技术越来越成熟。报告人：海德堡仪器公司Nano AG 杨菲博士报告题目：《NanoFrazor—A versatile Nanopatterning Tools》海德堡仪器的杨菲博士在报告中介绍了一种可应用于纳米尺度科学研究的纳米制造技术—纳米扫描热探针直写技术。据介绍，海德堡的相关产品NanoFrazor具有高分辨率纳米光刻15 nm横向分辨率，报告题目：《Raith Nanofabracation Application Updates 2023》本次微光刻年会，锐时科技带来了超高性能电子束光刻系统EBPG Plus、VOYAGER 高性能电子束曝光系统、FIB-SEM系统VELION、CHIPSCANNER 高分辨率电子束曝光机和激光光刻解决方案PICOMASTER。由于时间关系，朱国先生主要介绍了超高性能电子束光刻系统EBPG Plus。据了解，EBPG Plus是一种超高性能电子束光刻系统，100kv写入模式和5 nm以下的高分辨率光刻，涵盖了各种纳米制造设备中直接写入纳米光刻、工业研发和批量生产的广泛前沿应用。新系统集稳定性，保真度和精度于一体，确保最佳的高分辨率光刻结果的所有性能参数之间的完美交互。报告人：Genlsys公司亚太总监 陈利奇先生报告题目：《GenlSys Update 2023》陈利奇主要介绍了GenlSys的五类产品。据了解，GenlSys的电子和激光束直接写入软件是高斯光束直写系统的市场领导者，安装在全球大多数主要的纳米制造中心，已成为先进电子束光刻的必备品；蒙特卡罗模拟软件可以进行电子束光刻建模与校正中电子分布的MC模拟，可完成过程校准、PSF可视化、提取和管理；3D光刻模拟和OPC软件覆盖了接触式光刻（掩模对准器）和投影光刻（步进器/扫描仪），电子束光刻和激光直写光刻（海德堡仪器激光系统）；SEM图像分析与计量是一款可用于基于SEM的计量和检验的计量软件；掩模版生产软件是用于掩模室的专用MDP，高性能（层次结构、并行处理、掩模过程校正…）等。报告人：清华大学 刘泽文教授报告题目：《光刻技术回顾与展望》刘泽文教授主要在报告中回顾了光刻技术的起源、发展与展望。刘泽文教授表示，微光刻技术不仅是人类科技文明的集大成，也是科学技术和现代企业、政府协同推进实现技术进步的典范。EUV光刻机设备本质上是一台基于物理原理的科学工具，而不是普通的机械设备，是高投入、多学科、多技术、多企业、有组织协同发展的结果。在中国这样的国家，有一家甚至两家以上的机构组织进行EUV光刻研发是很有必要的，不仅符合中国的国家利益，也符合人类利益。任何形式的垄断，总是不好的。在重视EUV光刻的同时，需要在新的方向上进行探索，保持创新力，寻找突破点。EUV微光刻技术值得微光刻技术标准化分委员会专家们关注。报告人：中国科学院微电子研究所 何萌报告题目：《集成电路产教融合实训装备与教学实践》集成电路是制造业的最高端，其多步工艺、精细加工、复杂、环境要求高、资金密度高；是精密光学、等离子体物理、磁学、精细化学、数学模型、材料科学等多种学科融合学科；也是精密机械、光学工程、电控技术、软件、温度控制技术等多种技术集成；其技术更新快，每18个月更新一代。但当前集成电路学科实验教学面临诸多难点。针对于此，夏洋等团队设计了系列课程，筹备建设了集成电路学科平台。何萌认为，产教融合需要高校和企业联合开设课程，定向培养高端专业工程性人才，形成集成电路产教融合教学联盟。报告人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 魏鸿达报告题目：《大幅面微纳结构的光学表面制造技术研究》据介绍，科技部某项目需研制600*300mm*40mm位相板，以此实现以3.1米主镜为基准，两次装调实现5镜共基准。由于600mm超过设备运动范围（400mm）限制，需要开发激光直写远距离高精度拼接曝光技术。报告中，魏鸿达介绍了拼接方案，第一步完成450*300mm图案加工，经显影、刻蚀、再次涂胶后，第二次曝光完成第二部分加工；两次摆放基板会造成坐标系破坏，产生拼接误差，需重构坐标系，降低误差，大尺度多范围设定靶标；精准提取十字刻线质心，数据拟合修正，以基板靶标重建坐标系，实现在同一坐标系下两次直写。此外，魏鸿达还介绍了离子束刻蚀技术以及相关应用拓展。报告人：中国科学院光电技术研究所 胡松研究员报告题目：《面向广义芯片的光刻技术与装备》广义芯片包括集成电路在内所有由光刻技术制造具体一定功能和集成度的系统，如第二代第三代化合半导体，传感器（应变，光栅，光电探测器，气体传感器等），显示器件，生物芯片，发光器件，MEMS，微光学元件，分立电子器件，通迅器件等。随着信息时代的发展，非IC广义芯片的应用十分广泛，需求量十分巨大；针对广义芯片的光刻机需要适应大量非IC标准要求，目前尚未形成垄断，国内具有实现自主可控的能力；国内相关单位需要把握当前窗口，形成面向广义芯片光刻设备的研发与应用链条，解决相关行业自主可控问题。报告人：江苏长进微电子材料有限公司总经理 王凯先生报告题目：《新型高分辨率电子束光刻胶（用于多层结构和灰度光刻）》江苏长进微电子材料有限公司成立于2021年，专业从事半导体光刻胶产品的研发、生产和销售。公司的产品系列完整，产品应用领域涵盖集成电路 (IC)、发光器件 (LED) 、分立器件 (Transistor) 、先进封装(WLCSP，Bumping，FO-WLP，Chiplet)、微机电系统 (MEMS) 、掩膜版 (Mask) 等。报告中，王凯介绍了长进微电子的产品分类、技术路线、电子束胶在多层结构和灰度光刻中的应用等。报告人：长飞石英技术 (武汉) 有限公司销售副总监 肖畅先生报告题目：《长飞石英-微光刻用合成石英材料开发进展与应用》长飞石英基于30余年的光纤预制棒合成石英沉积、热处理等工艺的深入研发与制备经验开发出多种石英制备技术，并建立了全面的石英材料检测平台。长飞合成石英材料，为光学、半导体、光通信等多个行业领域，提供高品质石英材料产品。依托于先进的检测设备与专业的检测能力，长飞石英检测中心可对石英材料的各类光学特性与参数，进行全方位深入测试，为产品研发与交付提供质量保障。报告人：矽万 (上海）半导体科技有限公司 陈硕先生报告题目：《基于3D光刻的曲面衬底非球面微透镜阵列》变焦复眼具有体积小、视场角大、灵敏度高等优点，非常适用于高性能的光电探测器、光场相机等。得益于3D光刻技术设计自由度高、幅面大、粗糙度低以及保真度高等优点制得了人工超复眼结构。该结构实现了信息共享功能：由于光敏单元的独特结构，能够实现不同光敏单元对物体信息的共同成像；变焦功能: 人工超复眼作为由五种不同焦距子眼组成的复眼，能够感知不同焦平面上的物体；大视场角: 由于在曲面上制备了大量的光敏单元，因此人工超复眼的视场角比在平面上制备的微透镜阵列更大，测试结果显示人工超复眼可工作范围视场角约为62°；超疏水微透镜阵列：在复眼结构中增加超疏水结构，使得在高湿度环境仍具有良好的成像功能。基于信息共享功能与变焦功能，人工超复眼不仅可以在曲面上实现变焦成像，也可以在平面上实现变焦成像。相信这种具有新颖结构的微光学元件为制造具有高光学性能的小型化设备提供了新思路。报告人：苏州锐材半导体有限公司销售经理 江茜女士报告题目：《SOI晶圆和其它晶圆键合新材料》SOI技术是在顶层硅和背衬底之间引入了一层埋氧化层。被称为“二十一世纪的微电子技术”。目前全球制造SOl晶圆的技术主要有四种：注入氧分离技术 (Separation by lmplanted Oxygen，SIMOX)、键合回刻技术 (Bond and Etch-back SOl，BESOI)、智能剪切技术 (smart- Cut )和无研磨基台影响CMP技术 (GCIF: Grinding Chuck Impact Free)。江茜女士在报告中介绍了苏州锐材 SOI核心技术产品、新的晶圆键合材料、SOI主要应用等内容。报告人：深圳清力技术有限公司实验平台负责人 潘旭捷先生报告题目：《深圳超滑技术实验平台微纳米工艺介绍》结构超滑是指两个固体表面直接接触做相对滑移运动时，摩擦极低、磨损为零的状态。结构超滑的初步概念最早可追溯到上世纪八九十年代。之后，郑泉水课题组于2002年预言第一个超滑器件，荷兰Frenken院士于2004年第一次在极端条件下观测到纳米尺度的超滑现象。2012年，郑泉水课题组首次在大气环境下实现了微米尺度的结构超滑，标志着结构超滑技术的诞生。报告中，潘旭捷介绍了结构超滑技术的原理、在微纳米器件中的应用和深圳结构超滑技术实验平台。报告人：纳糯三维科技 (上海) 有限公司总经理 崔万银博士报告题目：《双光子灰度光刻技术在微光学器件中的应用》Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL ®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能，以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性。报告中，崔万银介绍了相关技术在硅片上3D加工、光纤端面加工和硅光芯片上的3D加工的应用。报告人：苏州美图半导体技术有限公司总经理 王云翔先生报告题目：《美图&研材工艺介绍》王云翔是美图半导体和研材微纳的创始人。报告中，王云翔介绍了美图&研材的业务架构，键合机、喷胶机、光刻机等产品及其在纳米森林、深结构刻蚀、金属微结构、薄膜器件、生物芯片、量产芯片等方面的应用。报告人：福建省水电科学研究院 刘辉文报告题目：《电位限制式电子束投影光刻技术的新进展》刘辉文在去年报告成果的基础上进行了进一步的研究，电位限制式电子束投影光刻技术进行了分辨率为20nm图形的仿真曝光，并在新型掩模下方0.8um处汇聚形成图形，图形中心线条粒子分布呈类高斯分布。通过增加带电层与原来静电场共同形成柱状透镜，使穿过掩蔽层图形缝隙的电子束汇聚。解决了电子散射问题，使电子能够在远离掩蔽层的位置曝光，解决了采用电位限制式电子束投影光刻技术实用化的问题。电位限制式电子束投影光刻技术能够解决原有电子束投影光刻技术的问题，结合其他技术能够解决电子束投影光刻技术实用化问题。通过本次电磁仿真和计算，从理论上验证了新型电位限制式电子束投影光刻技术的可行性和实用性，为以后实物验证做了前期准备，朝着制造高分辨率的电子束投影光刻系统又前进了一步。