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纳米线性位移台

仪器信息网纳米线性位移台专题为您提供2024年最新纳米线性位移台价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括纳米线性位移台参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的纳米线性位移台您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合纳米线性位移台相关的耗材配件、试剂标物,还有纳米线性位移台相关的最新资讯、资料,以及纳米线性位移台相关的解决方案。

纳米线性位移台相关的耗材

  • 纳米位移平台
    纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台,采用了陶瓷伺服电机驱动,非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用,例如:精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力,大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸,采用模块化设计,用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术,提供坚固,精确,高速的定位,满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术,确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度,高精度,高分辨率,高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比,具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度 XT 25 XT 50 XT 2525 XT 5050 Travel Length (mm) 25 mm 50 mm 25 x 25 mm 50x 50 mm Trajectory Control Accuracy Linear Encoder ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 4.0 &mu m Straightness/Flatness ± 1.0 &mu m ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m Yaw/Pitch/Roll 5 arc-sec 5 arc-sec 10 arc-sec 10 arc-sec 2 axis system Orthogonality Standard Grade NA NA 5 arc-sec 5 arc-sec High Precision NA NA 2 arc-sec 2 arc-sec Extra High Precision NA NA 1 arc-sec 1 arc-sec
  • 银纳米线-银纳米线
    参数:Agnws-40平均直径/纳米:40平均长度/微米:30银纯度(%):99.5浓度(毫克/毫升):20Agnws-L50平均直径/纳米:50平均长度/微米:200银纯度(%):99.5浓度(毫克/毫升):20Agnws-60平均直径/纳米:60平均长度/微米:20银纯度(%):99.5浓度(毫克/毫升):20Agnws-90平均直径/纳米:90平均长度/微米:60银纯度(%):99.5浓度(毫克/毫升):20Parameter:Agnws-40Average Diameter/nm:40Average Length/um:30Silver Purity (%):~99.5Concentration (mg/ml):20Agnws-L50Average Diameter/nm:50Average Length/um:200Silver Purity (%):~99.5Concentration (mg/ml):20Agnws-60Average Diameter/nm:60Average Length/um:20Silver Purity (%):99.5Concentration (mg/ml):20Agnws-90Average Diameter/nm:90Average Length/um:60Silver Purity (%):~99.5Concentration (mg/ml):20
  • 银纳米线-银纳米线 联系我们
    参数:Agnws-120平均直径/纳米:120平均长度/微米:20银纯度(%):99.5浓度(毫克/毫升):20Agnws-200平均直径/纳米:200平均长度/微米:25银纯度(%):99.5浓度(毫克/毫升):20Agnws-300平均直径/纳米:300平均长度/微米:30银纯度(%):99.5浓度(毫克/毫升):20Agnws-400平均直径/纳米:400平均长度/微米:30银纯度(%):99.5浓度(毫克/毫升):20Parameter:Agnws-120Average Diameter/nm:120Average Length/um:20Silver Purity (%):99.5Concentration (mg/ml):20Agnws-200Average Diameter/nm:200Average Length/um:25Silver Purity (%):~99.5Concentration (mg/ml):20Agnws-300Average Diameter/nm:300Average Length/um:30Silver Purity (%):~99.5Concentration (mg/ml):20Agnws-400Average Diameter/nm:400Average Length/um:30Silver Purity (%):~99.5Concentration (mg/ml):20
  • 二氧化钛纳米线
    参数:Ti02NW-A直径(纳米):10长度(微米): 10Ti02NW-B直径(纳米):100长度(微米):10-30Parameter:Ti02NW-ADiameter(nm):~10Length(um):10Ti02NW-BDiameter(nm):~100Length(um):10-30
  • 纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH
    纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH屹持光电提供各种纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒,为工业和科研提供低成本的纳米光子学研究。基板可用于光学、生物学、化学、物理学(例如中子散射)、聚合物研究、纳米压印、微流体等各种应用。如果需要,可以用金属或介电涂层涂覆基底。大多数表面特征具有略微梯形的横截面轮廓,具有直平行台面和沟槽。也可以使用格状结构。提供多种特征尺寸和沟槽深度。可以在发货之前拍摄基板的SEM图像以验证确切的轮廓。表中显示的尺寸代表目标值。周期的精度优于0.5%,而沟槽深度和线和空间的宽度可能与目标值相差15%。SEM用于说明目的。可定制更精确尺寸信息。 纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH规格描述值 基材宽度和高度公差标准公差±0.2 mm通光孔径(CA)距基板边缘0.5 mm(图案可延伸至基板边缘)基材厚度0.675±0.050mmCA表面质量P / N “-P”:60/40,最高20/10CA表面质量P / N “-S” :80/100CA外表面质量无要求材料单晶硅,反应离子蚀刻 1、线性纳米棒(线+间隔)P/N周期(nm)凹槽深度(nm)工作周期1线宽度2(nm尺寸3(mm)SNS-C72-1212-50-P1395050%69.512.5×12.5×0.7SNS-C72-2525-50-P13950 50%69.525×25×0.7 5SNS-C36-1212-110-P27811050%13912.5×12.5×0.7SNS-C24-1212-110-P416.611050%20812.5×12.5×0.7SNS-C20-0808-150-D45-P50015044%2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D45-P50035044%2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-150-D60-P50015060%3008×8.3×0.7 SNS-C20-0808-350-D60-P50035060%3008×8.3×0.7SNS-C18-2009-110-D50-P555.511050%27820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D50-P555.514050%27820×9×0.7SNS-C18-2009-110-D29-P555.511029%15820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D29-P555.514029%15820×9×0.7SNS-C16.7-0808-150-D45-P60015043%2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D45-P60035043%2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-150-D55-P60015055%3308×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D55-P60035055%3308×8.3×0.7SNS-C16.5-2912-190-P60619050%30329×12×0.7SNS-C16.5-2912-190-S 460619050%30329×12×0.7SNS-C16.5-2924-190-P60619050%30329×24.2×0.7 5SNS-C14.8-2410-170-P67517032%21824×10×0.7SNS-C14.8-2430-170-P67517032%21824×30.4×0.7 5SNS-C14.3-0808-150-D45-P70015047%3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-350-D45-P70035047%3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055%3758×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055%3758×8.3×0.7SNS-C12-1212-200-P833.320050%41612.5×12.5×0.7SNS-C12-2525-200-P833.320050%41625×25×0.7 5SNS-C11.7-1212-200-P85520050%42812.5×12.5×0.7SNS-C11.7-2525-200-P85520050%42825×25×0.7 5纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH1 占空比表示线(台面)宽度与周期的比率。2 表示台面的宽度值。3 第二维对应于凹槽长度。4 以“-S”结尾的是“科研”等级。它至少有80%的可用面积。可能存在高达80/100表面质量值。5 可提供更大的自定义尺寸 2、2D纳米图案(矩形和六边形网格)P/N周期(nm)格子类型凹槽深度特征宽度(nm)尺寸(mm)S2D-24B3-0808-150-P700矩形1502608×8.3×0.7S2D-24B3-0808-350-P700矩形3502608×8.3×0.7S2D-18B3-0808-150-P700矩形1503508×8.3×0.7S2D-18B3-0808-350-P700矩形3503508×8.3×0.7S2D-24C2-0808-150-P600六角1501658×8.3×0.7S2D-24C2-0808-350-P600六角3501658×8.3×0.7S2D-18C2-0808-150-P600六角1502408×8.3×0.7S2D-18C2-0808-350-P600六角3502408×8.3×0.7S2D-24C3-0808-150-P700六角1502208×8.3×0.7S2D-24C3-0808-350-P700 六角3502208×8.3×0.7S2D-18C3-0808-150-P700 六角1502908×8.3×0.7S2D-18C3-0808-350-P700六角3502908×8.3×0.7S2D-24D2-0808-150-P600六角孔1501808×8.3×0.7S2D-24D2-0808-350-P600六角孔3501808×8.3×0.7S2D-18D3-0808-150-P700六角孔1502008×8.3×0.7S2D-18D3-0808-350-P700六角孔3502008×8.3×0.7S2D-24D3-0808-150-P700六角孔1502908×8.3×0.7S2D-24D3-0808-350-P700六角孔3502908×8.3×0.7 rect post hex post hex hole 相关产品: 脉冲压缩透射光栅高功率光束组合光谱衍射光栅 光通信透射衍射光栅 纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒
  • 多功能纳米压痕仪配件
    多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量,精确给出硬度,弹性模量,杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计,可广泛集成原子力显微镜,光学显微镜,激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器,为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪,它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量(杨氏模量),负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度,弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌,采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块,实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能,具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块,能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像,并能够全自动测量,可以批量处理分析测量结果。
  • 电容位移传感器
    电容位移传感器是德国MICRO-EPSILON公司的电容非接触式位移传感器系统,电容位移传感器应用于工厂生产应用,设备测试,实验室和不同工序的质量保证。电容位移传感器规格测量范围 (mm):0.05 | 0.2 | 0.5 | 1 | 2 | 3 | 5 | 10最大线性 0.1μm最高分辨率0.0375nm在亚纳米范围内,有超高的稳定性和精度 模块化,高达8个通道 外部或内部前置放大器 以太网端口 无磨损 免维护 线性特性 适用于所有导电材料 测量速率高
  • 共焦位移传感器配件
    共焦位移传感器配件是测量位移的高精度位移传感器,共焦位移传感器配件可用在标准的和全球唯一独特的小型化设计产品,运用不同反射特性测量各种不同的表面,并用于单面厚度的测量。共焦位移传感器配件规格测量范围(mm):0.12 | 0.300 | 1 | 3 | 8.5 | 10 | 20 | 22 | 24 最大线性0.12μm 最大分辨率0.005μm 极小和恒定的光斑尺寸 高精度测量,也用于镜子和玻璃 纳米级分辨率 单面厚度测量 轴向和径向版本
  • 纳米升降台
    纳米升降台,纳米升降平台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学,服务科学,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米升降台,纳米升降平台,精密升降台。这款纳米升降台是美国进口的短行程的精密升降台,Elevator Stage,纳米升降平台特别适合竖直的Z轴应用,它具有极佳的上下定位功能,超高分辨率,超高重复精度和机械稳定性。产品特色:这款纳米升降台采用高密度交叉滚珠导向系统用于竖直导向,确保最大的稳定性。单立柱式的X滚珠导向系统提供了适度的高刚性,使得这款纳米定位台具有极小的滞后和相当大的承载能力。纳米升降台应用:这款纳米定位台比较适合对Z轴垂直升降精度较高要求的应用。比如,光学成像系统中焦平面的准直,半导体测试,视频测量等。纳米升降台参数行程:4mm驱动系统:无刷伺服-丝杆驱动最大速度:20mm/s最大负载;10kgTTL分辨率:100nm, 50nm, 25nm, 12.5nm, 10nm, 1nm重复精度:5x分辨率
  • 多功能纳米硬度计配件
    孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量,精确给出硬度,弹性模量,杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计,可广泛集成原子力显微镜,光学显微镜,激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器,为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪,它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量(杨氏模量),负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度,弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌,采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块,实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能,具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块,能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像,并能够全自动测量,可以批量处理分析测量结果。
  • 线性硅纳米印章(纳米图案硅片)
    LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底,为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学(如中子散射)、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要,基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓,具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄,以验证准确的轮廓。产品特点 Nanopatterned Silicon StampsII-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile. Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service通用参数 (LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)描述数据基材宽度高度误差标准公差±0.2 mm净孔径(CA) 距基板边缘0.5 mm(图案可延伸至基板边缘)基底厚度0.675 ± 0.050 mmCA的表面质量P/N以“p”结尾:划痕/挖:最大划痕宽度,最大最大直径。可提供高达20/10的规格CA的表面质量P/N以“-S”结尾:由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状CA外表面质量无要求Material材料单晶硅,反应离子刻蚀2D Nanostamps Part Number周期Period(nm) 晶体类型Lattice Type槽深Groove Depth(nm)特征宽度Feature Width(nm) Size(mm)S2D-18B2-0808-350-P600Rect Post3502758.0 x 8.3 S2D-18B3-0808-350-P700Rect Post3503508.0 x 8.3S2D-18C2-0808-350-P600Hex Post350240 8.0 x 8.3S2D-18C3-0808-150-P700Hex Post1502908.0 x 8.3 S2D-18C3-0808-350-P700Hex Post3502908.0 x 8.3S2D-18D3-0808-350-P700Hex Hole3502008.0 x 8.3S2D-24B2-0808-150-P600Rect Post 1501958.0 x 8.3S2D-24B2-0808-350-P600Rect Post 350 1958.0 x 8.3S2D-24B3-0808-150-P700Rect Post 1502608.0 x 8.3
  • 三维位移台
    该电动三维位移台是一款无刷直线伺服电机驱动的电动直线位移台,融合了高速高精度的特点,具有亚微米的定位精度,三维位移平台可以为用户带来高工作量/吞吐量,最大负载高达50kg,最高速度高达3m/s.主要特色:三维位移台精确导向系统为高速度长行程提供稳定的定向和导向保障 三维位移台强大的直线电机提供高负载能量和大驱动力;三维移动台高分辨率直线编码器(光栅尺)提供精确的定位反馈和闭环数字伺服控制;三维移动台具有美国制造的坚固耐用特性,高可靠性,长期工作。产品特色:这款三维位移平台采用直接驱动的直线电机用于位移台的定位。这种技术与传统的导螺杆驱动的位移台相比,具有明显的优势:三维位移平台没有螺杆驱动系统中出现的弹性形变问题,可保障更为复杂而精密的定位轨迹,更短的设置和行进时间,更高的重复精度,更快的伺服反应。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台这种技术没有旋转惯性,可获得更高的加速度和行进速度。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台台消除了旋转部件的磨损问题,具有更高的可靠性,更长的工作时间和寿命,更长的检修间隔时间,大大降低用户的使用成本。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台这种直接驱动的直线电机具有高分辨率的编码器,可以精确调节速度,这种直线电机和其它部件可经过特殊处理具有真空兼容性,用于真空环境。产品描述:这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台的所有结构材料都是高强度的铝合金材料,材料表面经过精密机械加工,并进行硬质阳极氧化镀膜(涂层)成浅灰色。电动直线位移台采用两个带有再循环线性轴承的精密方形导轨作为承载部件,它由预加载的滚珠器件精密导引,这种导向系统只需要标准的润滑服务,不需要其他维护。这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台尺寸紧凑,驱动电机不单独外悬,直线电机,编码器和电缆等驱动部件安装于位移台底座,这种设计从而避免了那些外悬电机等核心部件受冲击等损害,具有更为安全的结构。这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台采用再循环轴承系统并配带精密导轨支撑位移台高速度,高精度运动。三维位移台,三维移动台,三维位移平台使用的高强度铝合金材料,精密机械加工工艺把电动位移台的刚度和稳定性发挥到极致。三维位移台,三维移动台,三维位移平台对于铝材料的标准处理是阳极氧化硬质涂层,对于不修钢部件采用抛光处理,对于特殊要求,比如Teflon特氟隆浸渍硬质涂层,非阳极氧化处理,化学镀镍等都可为用户提供。产品应用:这个系列三维位移台,三维移动台,三维位移平台是无刷直线电机(Brushless linear motor)驱动的电动位移台, 即使在高负载情况下也有超高可靠性和精密定位能力,是高负载,高精度高可靠性的最佳电动直线位移台。三维位移台,三维移动台,三维位移平台具有超高加速能力和行进速度.这种电动直线位移台具有更小的惯性,比传统的罗杆驱动等机械传动的位移平台更适合应用.根据牛顿定律可知,负载的轻重直接影响到加速度,这款直线电动位移台,具有较高的加速度和运行速度, 能够帮助用户减少时间而提供工作量.直线电动位移台,电动直线位移台,电动位移台。产品规格和型号参数行程范围:125-750mm驱动系统:无刷直线电机最大加速度: 取决于负载最大速度:3米/秒(无负载时)最大峰值力:800N最大连续力:160N最大负荷:XY平台50Kg,Z轴25kg反馈系统:非接触式直线编码器系统TTL分辨率:5 μm, 1μm, 0.5μm,0.25μm, 0.2μm,100 nm & 50 nm重复精度:5x分辨率构造:铝合金主体,硬质灰色阳极镀膜 型号LX-8125LX-8375LX-8500LX-8625LX-8750行程(mm)125375500625750精度 Standard SP 标准型± 11μm± 12μm± 16 μm± 18μm± 22 μm High Precision HP高精度型± 5 .5μ± 7 μm± 8 μm± 10 μm± 11 μm平整度 Standard SP标准型± 6 μm± 12 μm± 20 μm± 28 μm± 36 μm High Precision HP高精度型± 4 μm± 6 μm± 10 μm± 14 μm± 18 μmYaw/Pitch/Roll Standard SP20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec High Precision HP10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard SP20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-secHigh Precision HP5 arc-sec5 arc-sec5 arc-sec5 arc-sec5 arc-secExtra High Precision XHP3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec
  • 乙醇铜纳米线
    参数:载体:乙醇外观:红色悬浮平均直径:100-200 nm粒度:200 nm-1000 nm长度:1-10微米纯度: 98%Parameter:Carrier:EthanolAppearance:Red SuspensionAverage diameter:100-200 nmParticle Size:200 nm-1000 nmLength:1-10 umPurity:98%
  • 电动位移台
    直线电动位移台,电动直线位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学,服务科学,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口直线电动位移台,电动直线位移台,电动位移台。该直线电动位移台是一款无刷直线伺服电机驱动的电动直线位移台,融合了高速高精度的特点,具有亚微米的定位精度,可以为用户带来高工作量/吞吐量,最大负载高达50kg,最高速度高达3m/s.主要特色:电动直线位移台精确导向系统为高速度长行程提供稳定的定向和导向保障 直线电动位移台强大的直线电机提供高负载能量和大驱动力;电动直线位移台,高分辨率直线编码器(光栅尺)提供精确的定位反馈和闭环数字伺服控制;直线电动位移台具有美国制造的坚固耐用特性,高可靠性,长期工作。产品特色:这款直线电动位移台采用直接驱动的直线电机用于位移台的定位。这种技术与传统的导螺杆驱动的位移台相比,具有明显的优势:*直线电动位移台没有螺杆驱动系统中出现的弹性形变问题,可保障更为复杂而精密的定位轨迹,更短的设置和行进时间,更高的重复精度,更快的伺服反应。*电动直线位移台这种技术没有旋转惯性,可获得更高的加速度和行进速度。*直线电动位移台消除了旋转部件的磨损问题,具有更高的可靠性,更长的工作时间和寿命,更长的检修间隔时间,大大降低用户的使用成本。* 电动直线位移台这种直接驱动的直线电机具有高分辨率的编码器,可以精确调节速度,这种直线电机和其它部件可经过特殊处理具有真空兼容性,用于真空环境。产品描述:这 款直线电动位移台的所有结构材料都是高强度的铝合金材料,材料表面经过精密机械加工,并进行硬质阳极氧化镀膜(涂层)成浅灰色。电动直线位移台采用两个带 有再循环线性轴承的精密方形导轨作为承载部件,它由预加载的滚珠器件精密导引,这种导向系统只需要标准的润滑服务,不需要其他维护。这款直线电动位移台尺寸紧凑,驱动电机不单独外悬,直线电机,编码器和电缆等驱动部件安装于位移台底座,这种设计从而避免了那些外悬电机等核心部件受冲击等损害,具有更为安全的结构。这款电动直线位移台采用再循环轴承系统并配带精密导轨支撑位移台高速度,高精度运动。直线电动位移台使用的高强度铝合金材料,精密机械加工工艺把电动位移台的刚度和稳定性发挥到极致。电动直线位移台对于铝材料的标准处理是阳极氧化硬质涂层,对于不修钢部件采用抛光处理,对于特殊要求,比如Teflon特氟隆浸渍硬质涂层,非阳极氧化处理,化学镀镍等都可为用户提供。产品应用:这个系列Linax直线电动位移台是无刷直线电机(Brushless linear motor)驱动的电动位移台, 即使在高负载情况下也有超高可靠性和精密定位能力,是高负载,高精度高可靠性的最佳电动直线位移台。直线电动位移台具有超高加速能力和行进速度.这种电动直线位移台具有更小的惯性,比传统的罗杆驱动等机械传动的位移平台更适合应用.根据牛顿定律可知,负载的轻重直接影响到加速度,这款直线电动位移台,具有较高的加速度和运行速度, 能够帮助用户减少时间而提供工作量.直线电动位移台产品规格和型号参数直线电动位移台行程范围:125-750mm直线电动位移台驱动系统:无刷直线电机直线电动位移台最大加速度: 取决于负载直线电动位移台最大速度:3米/秒(无负载时)直线电动位移台最大峰值力:800N直线电动位移台最大连续力:160N电动直线位移台最大负荷:XY平台50Kg,Z轴25kg电动直线位移台反馈系统:非接触式直线编码器系统电动直线位移台TTL分辨率:5 μm, 1μm, 0.5μm,0.25μm, 0.2μm,100 nm & 50 nm电动直线位移台重复精度:5x分辨率电动直线位移台构造:铝合金主体,硬质灰色阳极镀膜 型号LX-8125LX-8375LX-8500LX-8625LX-8750行程(mm)125375500625750精度 Standard SP 标准型± 11&mu m± 12µ m± 16 µ m± 18µ m± 22 &mu m High Precision HP高精度型± 5 .5µ ± 7 µ m± 8 µ m± 10 µ m± 11 µ m 平整度 3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec
  • 纳米颗粒分析仪配件
    纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关,采用纳米颗粒跟踪分析(NTA)技术,通过激光散射装置(纳米观测)与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合,生成纳米颗粒图像,是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理 纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块,可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此,在超显微图像中,较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。 纳米观测模块 纳米观测模块的设计,可以使其安装在超显微镜,顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。 顶眼超显微镜 顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪,模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。 NTA 软件 上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点,要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法,得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量,当我们知道相关的量后,我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如,可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器,可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是,用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。 MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包,被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序,可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。 MiNan是自带Morphious纳米系统的软件,研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状(形态)和浓度的测量。每个粒子是一个个体,但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果,即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高,同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时,粒子尺寸和浓度,蛋白质聚集和粘度都可以被分析。 纳米颗粒分析仪配件应用 ? 在制药或复合产业研发药物 ? 用于病毒筛查 ? 用于开发纳米生物标记物或毒物筛查 ? 用于蛋白质聚集的动力学模型研究 ? 用于通过膜泡的表征研究疾病 ? 用于促进纳米复合材料的发展 纳米颗粒分析仪配件特色 ? 在同一时间多粒子高通量表征 ? 实时视觉展示粒子,允许用户评估试验,无需额外复杂性 ? 方便和易于使用的软件,允许用户通过宏设置任何实验 ? 添加像高通量自动采样器,泵或加热和制冷配件 ? 自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序,操作轻松舒适 ? 超级高效和购买成本低 ? 该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵 ? 激光波长可选择 ? 通过给过滤器添加电动轮,得到自适应荧光分析 纳米颗粒分析仪配件参数 ? 尺寸 10 nm - 2000 nm* ? 浓度 106 - 109 粒子/ mL ? 荧光检测 纳米颗粒分析仪配件规格 温度范围 15-40 °C 电源 230V AC/115V AC, 50/60 Hz 摄像机 USB3 CMOS分辨率:1936x1216 161帧/秒,像素尺寸5.86μm:颜色校准模块 功耗 18W 激光波长 405nm(紫色),488nm(蓝),532nm(绿),642nm(红色) 尺寸范围 从10 nm到2000 nm (取决于材料) 焦点 电脑控制电动调焦 个人计算机 SDD亿康 II SDSSDHII-120G-G25HDD 西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节 GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM 处理器 英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz 显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB 电源 酷冷至尊 G750M 750w 机箱 酷冷至尊黑 软件 Windows® &(或更高).由Mishell® 供电 Mishell是Microptik BV公司的注册商标。 Windows是微软公司的注册商标。 MiNan尖端程序在Mishell下运行,以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子 尺寸(长×宽×高) 20 x 18 x 30 cm 重量 10.5 kg
  • Kleindiek纳米操纵仪配件
    Kleindiek纳米操纵仪配件是为外部电子显微学制备样品而设计的超精密样品拾取装卸系统,它在纳米尺度灵活微操纵样品。Kleindiek纳米操纵仪配件安装安装有一根微夹钳,一个四轴辅台,在表面有一个允许快速接近的小型CCD摄像头。Kleindiek纳米操纵仪是由安装在一个超小型平台上的一个四轴辅台构成。在辅台上安装了一个微夹钳,促进提取。操作该辅台将预切样品放置在微夹钳下。在这之后,微夹钳夹住样品并轻轻地固定住样品,固定要足够牢固,只要使辅台向旁边下落,就可以将样品从大量材料提取出。一旦分离,在TEM网格上,将样品与SEM兼容胶水接触,并且用离子束固化。Kleindiek纳米操纵仪配件规格:取样室兼容平台上的辅台最大样品尺寸:30mm行程:X和Y =10mm行程:Z轴为3mm行程:R =360°(无限)速度:可达1mm/秒分辨率:0.5nm笛卡尔运动没有反弹或翻转是大多数SEM和FIB工具的简单取样室装置几乎不受震动影响微夹钳运输和组装微型物体的高分辨率夹持器抓握区域:(5至10 μm)分辨率:20nm夹持力:5至5000μN(变量)最大跨度范围:20?40 μmSemCam样品表层的小相机允许快速接近包括显示器和LED照明
  • 二维位移平台
    电动XY位移台和电动二维位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学,服务科学,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口电动XY位移台,电动二维位移台,XY二维位移台。这款电动XY位移台是美国制造的高精度电动二维位移台,采用了XY双轴组合型设计,可以设计成实心顶部,也可设计成开放的框架结构,同时满足超净工作间和真空环境的使用要求。主要特色电动XY位移台超薄设计,3层结构;电动二维位移台直线伺服或滚轴丝杆驱动系统XY二维位移台集成的非接触式位置编码器电动XY位移台分辨率高达1纳米电动二维位移台内部预加载的辊导向系统XY二维位移台可集成伺服控制功能这 款电动XY位移台采用特殊的3层结构设计,保证了最小的形变和最高的精度,电动二维位移台的刚度和稳定性也得到了最大化,从而保证了XY二维位移台的最佳 支撑和完整性. 无空回(backlash-free)的预装引导系统保证了电动XY位移台实现平稳,低摩擦,高精度地定位,无故障长期使用。应用这款电动XY位移台,电动二维位移台具有广泛的应用,比如,可用于计量和制造领域,半导体封装,测试和制造领域,视频检测,微细加工,激光加工,告诉加工,激光和检测等领域。也有许多用户把这套电动XY二维位移台用于显微镜上,替代精度不足的传统显微镜载物台。配置行程范围100x100mm到300x300mm位移台高度最低可达60mm开放框架或固体顶部适合超净间使用真空兼容,适合真空环境使用非磁性主要参数:行程范围:100x100mm, 150x150mm, 200x200mm, 300x300mm驱动系统;步进电机,伺服电机,直线伺服电机,陶瓷伺服电机最大加速度:由负载决定最大速度:直线电机驱动:500mm/s,滚珠螺杆:250mm/s,滚柱丝杠驱动:40mm/s最大负载:15kgTTL分辨率:50nm重复精度:≤1μm构造:铝合金主体,灰色硬质涂层 MS-100 STMS150-STMS200-STMS300-STMS-OFTTravel Length (mm)100x 100150x 150200x200300x300100x150Trajectory Control Accuracy Standard Precision SP± 7.5µ m± 10µ m± 15µ m± 20µ m± 15µ /mHigh Precision HP ± 5µ m± 7.5µ m± 10µ m± 10µ mn/aExtra High Precision XHP± 3µ mna
  • 二氧化钛纳米捕获柱 164212
    二氧化钛纳米捕获柱使用 Thermo Scientific™ 二氧化钛纳米捕获柱有助于对磷肽进行富集。订货信息:Nano-Trap ColumnsNano Trap Column, 100 μm i.d. x 1 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164205Nano Trap Column, 100 μm i.d. x 1 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164205Nano Trap Column, 200 μm i.d. x 1 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164215Nano Trap Column, 200 μm i.d. x 2 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164206Nano Trap Column, 100 μm i.d. x 1 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164205Nano Trap Column, 200 μm i.d. x 2 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164206Acclaim PepMap100 Nano Trap Column, C18, 5 μm, 100 A, 100 μm i.d. x 1 cm, Set of 2164197Acclaim PepMap100 Nano Trap Column, C18, 5 μm, 100 A, 100 μm i.d. x 2 cm, Set of 2164199Acclaim PepMap100 Nano Trap Column, C18, 5 μm, 100 A, 200 μm i.d. x 1 cm, Set of 2164212Acclaim PepMap100 Nano Trap Column, C18, 5 μm, 100 A, 200 μm i.d. x 2 cm, Set of 2164213The Titanium-Dioxide Nano-Trap columns support the enrichment of phosphopeptides. They are available in 100 μm and 200 μm i.d. format, and are packed with 5 μm particle size. In addition, a combination of Titanium-Dioxide and Acclaim® PepMap100 C18 is also available. TIO2 Nano Precolumns SpecificationsI.D.100-μm200-μmStationary PhaseTIO2 5-μmTIO2 5-μmTIO2 5-μmTIO2 5-μmBed Length1 cm1 cm2 cm2 cm1 cm / 1 cm1 cm / 1 cmColumnFused-silicaFused-silica
  • STED纳米标尺
    产品特点:作为第一个超高分辨率显微技术的STED方法彻底改变了光学显微镜。适用于STED的校准探针--GATTA-STED纳米标尺也终于面世。标尺带有高量子效率的荧光标记染料ATTO 647N。两个荧光分子之间的距离固定,我们提供的尺寸包括:30nm,50nm,70nm和90nm。纳米标尺,AFM纳米标尺,原子力显微镜纳米标尺,共聚焦显微镜纳米标尺,超高分辨显微镜纳米标尺,SIM纳米标尺,STED纳米标尺,STORM纳米标尺,电镜纳米螺旋标尺,金纳米螺旋标尺,显微镜亮度灵敏度标尺,显微镜纳米标尺产品参数:
  • 水铜纳米线
    参数:载体:水外观:红色分散平均直径:100-200 nm长度:0.8-6um纯度:≥96.5Parameter:Carrier:WaterAppearance:Red DispersionAverage diameter:100-200 nmLength:0.8-6 μmPurity:≥96.5
  • STORM纳米标尺
    产品特点:该方法STORM或dSTORM是在光学显微镜中最常用的超分辨率技术之一。GATTA-STORM系列的纳米标尺是现在这项技术的理想校准探针。为了模拟你的STORM或dSTORM测量值作为传真尽可能标尺携带常用染料的AlexaFluor 647.我们提供的尺寸标记到标记距离30nm,50nm和94nm。纳米标尺,AFM纳米标尺,原子力显微镜纳米标尺,共聚焦显微镜纳米标尺,超高分辨显微镜纳米标尺,SIM纳米标尺,STED纳米标尺,STORM纳米标尺,电镜纳米螺旋标尺,金纳米螺旋标尺,显微镜亮度灵敏度标尺,显微镜纳米标尺技术参数:
  • SIM纳米标尺
    产品特点:GATTA-SIM系列的纳米标尺可以用于检测您的SIM系统的分辨率。该纳米标尺带有两个荧光标记,这些荧光标记都是来自于密集排列的高量子效率的染料分子。两个荧光标记之间的距离固定,尺寸包括120nm,140nm和160nm。我们为您提供带有以下颜色的不同尺寸的纳米标尺,包括:红色(ATTO 647N),黄色(Alexa Fluor 568)或蓝色(Alexa Fluor 488)。纳米标尺,AFM纳米标尺,原子力显微镜纳米标尺,共聚焦显微镜纳米标尺,超高分辨显微镜纳米标尺,SIM纳米标尺,STED纳米标尺,STORM纳米标尺,电镜纳米螺旋标尺,金纳米螺旋标尺,显微镜亮度灵敏度标尺,显微镜纳米标尺技术参数:
  • 电镜纳米螺旋标尺
    产品特点:金纳米螺旋标尺(L,R)是手性的纳米标记物,尤其适合于3D断层扫描,电子显微镜(EM)或冷冻电镜。我们的手性标记物显示纯手性(L或R),由于高对比度和金纳米颗粒的精准排列,可以很容易地被电镜检测到。金纳米螺旋标尺(L,R)是用DNA折纸技术制备,金纳米颗粒(10nm)被排列成纳米螺旋(螺距57nm 长110nm 直径34nm)。纳米标尺,AFM纳米标尺,原子力显微镜纳米标尺,共聚焦显微镜纳米标尺,超高分辨显微镜纳米标尺,SIM纳米标尺,STED纳米标尺,STORM纳米标尺,电镜纳米螺旋标尺,金纳米螺旋标尺,显微镜亮度灵敏度标尺,显微镜纳米标尺技术参数:在透射电镜载网中:样品放在干燥的透射电镜载网上使用,以提高由银增强放大了的螺旋效果。样本存储在石蜡膜覆盖的塑料孔中进行运输。保质期是6个月。在缓冲液中:该纳米螺旋储存在缓冲液(1X TE,11mM MgCl2)中运输。样本量约为30μL,这个量足以用于10个以上的TEM。样品保存于低温的保温盒中进行运输。适当的储存条件下(避光,4℃),保质期为3个月。
  • 纳米 cHiPLC 色谱柱 804-00003
    纳米 cHiPLC 色谱柱纳米 cHiPLC 色谱柱仅限研究使用,不可用于诊断程序。SCIEX 纳米 cHiPLC 色谱柱旨在实现耐用性和易用性。 我们的制造流程采用独特的溢流口结构,可以将固定相微粒保留在色谱柱中。这些堰的重现性更高,而其死体积几乎为 0 (~13 pL)。相比于 nanoLC 色谱柱(采用熔融石英管制造而成,再加上由烧结的固定相微粒制成的筛板),cHiPLC 色谱柱更加耐用,而且更加容易操作和连接,不会产生死体积。简单:即插即用型芯片提升了简易性,并具备纳米柱的性能可扩展:在多用户实验室内快速切换工作流程和项目的灵活性每次:每天、柱间以及实验室间的结果均可重现色谱柱设计我们精心设计了捕集器-芯片和分析色谱柱-芯片,旨在实现相当于甚至优于填充毛细管的分离效果。利用熔融石英,可以使用圆柱形通道填充 nanoLC 色谱柱和捕集器。我们的 cHiPLC 色谱柱采用独特的堰结构,而非由熔融固定相微粒制成的传统筛板,可以将固定相微粒保留在色谱柱中。这些堰的重现性更高,而其死体积几乎为 0 (~13 pL)。此外,筛板材料上可能发生的样品组分吸收在这些类型的结构上并不会出现。获得专利的连接系统与每块芯片之间的连接通过获得专利的连接系统实现,该连接系统可以连接七个通往外部的通道,且死体积小于 1 nl。用于连接芯片的力为预设,因此用户每次更换芯片时,都能实现专门的防泄漏连接,无需用户进行任何调整。提升的柱间重现性除了在短短几秒内更换 nanoLC 色谱柱或捕集器的简易性外,使用我们的 cHiPLC 色谱柱也可提升柱间重现性。所有芯片均完全一样,而且我们的填充程序可以确保在 nanoLC 内实现最佳的柱间重现性。对于需要在多个色谱柱间长期保证保留时间稳定性的应用中,这一点非常重要。示例应用包括,结合使用保留时间与精确质量进行肽/蛋白质鉴定,以及使用编程 MRM 在生物标记物验证中进行肽定量。订货信息:纳米 cHiPLC 色谱柱和捕集柱具有多种固体相和柱长可选。cHiPLC 色谱柱部件号纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C18-CL 3μm 120A804-00001纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C18-CL 3μm 300A804-00003纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C18-CL 5μm 120A804-00002纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C18-CL 5μm 300A804-00004纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ReproSil-Pur C18-AQ 3μm 120A804-00011纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C8-CL 3μm 120A804-00005纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C4-CL 5μm 300A804-00018纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm 石墨化碳 3μm 250A804-00020纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm HALO HILIC804-00022捕集柱部件号纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C18-CL 3μm 120A804-00006纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C18-CL 3μm 300A804-00008纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C18-CL 5μm 120A804-00007纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C18-CL 5μm 300A804-00009纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ReproSil-Pur C18-AQ 3μm 120A804-00016纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C8-CL 3μm 120A804-00010纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C4-CL 5μm 300A804-00019纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm 石墨化碳 3μm 250A804-00021纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm HALO HILIC804-00023基于芯片的微粒捕集器(堰)(位于自动进样器和 cHiPLC nanoflex 之间)800-00354跨接器芯片部件号直接进样跨接器芯片800-00408捕集-洗脱跨接器芯片800-00389双柱跨接器芯片800-00421
  • 电容位移传感器capaNCDT-6100
    电容位移传感器是德国米铱公司电容式位移传感器的高精度位移传感器,用于非接触式位移和位置测量,电容位移传感器是典型的应用如定位,磨损测量,间隙测量,位移,圆度等。电容位移传感器规格测量范围(mm):0.2 | 0.5 | 1 | 2 | 3 | 5 | 10 最大线性0.2μm 最高分辨率0.03μm 高稳定性和高精度 无磨损和免维护 线性特性 适用于所有导电材料
  • 共焦位移传感器
    共焦位移传感器是一种高精度共焦位置传感器,应用于高精位置传感和测量,共焦位移传感器外径仅为4mm,是不锈钢表壳,应用于窄腔或钻孔内。共焦位移传感器规格测量范围(mm): 0.4 | 1.5 | 2.5 | 3.5 | 6.5最大线性 0.3μm最高分辨率 0.016μm独特的微型传感器 孔内测量 设计稳固 轴向或径向版本
  • 显微镜位移台配件EK300
    显微镜位移台配件EK300专业为显微镜设计的手动载物台,提供300x300mm行程,负载能力高达5KG, 高级全铝材质制造,是高性价比显微镜位移台。显微镜位移台配件EK300特色 具有德国专利的粗调技术 通过同轴驱动coaxial drive进行微调或细调 特别适合反射光应用显微镜位移台配件EK300参数 行程范围:最大305x305mm 驱动方式:同轴驱动/齿条与齿轮coaxial drive / rack and pinion 具有德国专利粗调技术 材料:高级铝 表面处理:阳极氧化涂层,黑漆喷涂anodic coating, black laquered 产品重量:18.2kg 负载能力:5kg 订购编号:FPMAR-00-23-012-0000本载物台适合显微镜品牌和型号 : Olympus MX61L
  • 碳纳米管
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。碳纳米管MWCNTs
  • 高端炭基材料高剪切乳化机,环保水性纳米碳材高速乳化机,碳纳米管材料高剪切乳化机,碳纳米管浆液高剪切乳化机混合机,碳纳米复合母胶高剪切乳化机,液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备,超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机,炭黑高速自吸粉混合机设备
    高端炭基材料高剪切乳化机,环保水性纳米碳材高速乳化机,碳纳米管材料高剪切乳化机,碳纳米管浆液高剪切乳化机混合机,碳纳米复合母胶高剪切乳化机,液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备,超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机,炭黑高速自吸粉混合机设备 碳纳米管是一维的纳米材料,在工程材料域,碳管以其优异的物理机械性能成为聚合材料理想的填料。具有优异的力学性能、导电、导热性能,因而被认为是聚合物基复合材料理想的力学强化和功能改性材料,采用碳纳米管制成的复合材料表现出良好强度、弹性和抗疲劳性,碳纳米管也逐渐用于橡胶制品、轮胎、塑料等工业中。 但是,碳纳米管的呈纳米纤维状,自身易团聚和缠结,且碳纳米管表面为规整的石墨晶片结构,表面惰性大,与聚合物基体亲和性差,导致碳纳米管在橡胶基质中的分散性差,而且成本也高,这些限制了碳纳米管在橡胶中的规模化应用。 在橡胶工业中,将碳纳米管填充到各种橡胶基体以提高橡胶基体的性能成为研究高端橡胶产品的理想共混复合材料之一,但碳纳米管自身有着很高的表面自由能,易发生团聚现象,碳纳米管与基体间的相互作用是另一个难题,碳管表面没有任何反应官能图,碳管的惰性使其与聚合物基体间化学界面作用弱,碳纳米管对聚合物基体的改善效果难达到预期,因此制备出尺寸均匀,分散好,性能稳定的碳纳米管及其复合材料是拓展其应用域的需要。 目,在碳管的分散性及其复合材料研究中已经取得许多进展。常用的方法中是将采用表面活性剂对碳管表面改性,将其悬浮液与胶乳复合制得复合母胶,该技术在一定程度解决了碳纳米管的分散,但由于表面活性剂中其它基团的加入会降低复合母胶的性能;因此需要提供一种避免活性剂的加入影响碳纳米管与聚合物间结合的技术方案。 针对现阶段技术中存在的问题,在碳纳米管分散均匀的基础上在其表面引入羧基、羟基等官能团,避免偶联剂的加入影响碳纳米管与胶乳之间的结合。一种高分散碳纳米复合母胶的制备方法,包括以下步骤:1、将碳纳米管在分散液中剪切,制得短切碳纳米管悬浮液;2、通入氧化气体对短切碳管悬浮液氧化,制得短切碳纳米管氧化液;3、将补强材料加入短切碳纳米管氧化液,制得碳纳米管浆液;4、在碳纳米管浆液中加入偶联剂,制得复合浆液;5、将天然橡胶胶乳分散于复合浆液中,制得碳纳米管-天然橡胶复合材料;6、将碳纳米管-天然橡胶复合材料凝固、干燥制得高分散碳纳米复合母胶。 上海依肯根据市场技术需求结合多年来积累的成功案例经验特别推出ERS2000系列高剪切乳化机(混合机),ERS2000在线式高速高剪切乳化机,主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组乳化分散头(定子+转子)同时工作,乳液经过高剪切后,液滴更细腻,粒径分布更窄,因而生成的混合液稳定性更好。三组乳化分散头均易于更换,适合不同的工艺应用。该系列中不同型号的机器都有相同的线速度和剪切率,非常易于扩大规模化生产。 上海依肯ERS2000系列高剪切乳化机(混合机)设备参数选型表:型号 标准流量L/H输出转速rpm标准线速度m/s马达功率KW进口尺寸出口尺寸ERS 2000/4300-100014000442.2DN25DN15ERS 2000/5300010500447.5DN40DN32ERS 2000/10800073004415DN50DN50ERS 2000/202000049004437DN80DN65ERS 2000/304000028504455DN150DN125ERS 2000/407000020004490DN150DN125高端炭基材料高剪切乳化机,环保水性纳米碳材高速乳化机,碳纳米管材料高剪切乳化机,碳纳米复合母胶高剪切乳化机,液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备,超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机,炭黑高速自吸粉混合机设备。。。需要了解更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐蒙蒙 182-0189-1183,公司有样机可以免费为客户进行测试验证实验。
  • 显微镜位移台配件 EK300
    显微镜位移台配件 EK300专业为显微镜设计的手动载物台,提供300x300mm行程,负载能力高达5KG, 高级全铝材质制造,是高性价比显微镜位移台。 显微镜位移台配件 EK300特色 具有德国专利的粗调技术 通过同轴驱动coaxial drive进行微调或细调 特别适合反射光应用 显微镜位移台配件 EK300参数 行程范围:最大305x305mm 驱动方式:同轴驱动/齿条与齿轮coaxial drive / rack and pinion 具有德国专利粗调技术 材料:高级铝 表面处理:阳极氧化涂层,黑漆喷涂anodic coating, black laquered 产品重量:18.2kg 负载能力:5kg 订购编号:FPMAR-00-23-012-0000本载物台适合显微镜品牌和型号 : Olympus MX61L
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