纳米狭缝涂布仪

进口纳米狭缝涂布机 高性能槽模涂层研发系统型号：nRad 该仪器为小型研究纳米材料的狭缝涂布提供了高效高精度的试验机台，机台尺寸小。“狭缝涂布精密成膜装备系统”是一个高端先进制造业项目，其成膜技术可在玻璃、塑料、不锈钢等基体上精确涂布制备功能纳米、微米薄膜，在许多光电领域，如平板显示、触摸屏、薄膜太阳能电池、半导体元器件及封装、柔性及印制电子、智能玻璃等，有着非常广泛的应用。 特点：高效的材料利用率和最少的浪费基于槽模的沉积技术涂布厚度范围：从20nm到100μm均匀度为 ±3％，效率高/材料利用率高:材料利用率可达95%从研发到小批量试制、大量生产满足不同需求支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）适用于各种应用（平板显示器、触摸屏、光伏（薄膜和硅）、柔性电子产品、光学薄膜） 研发体系中无与伦比的性能和价值专有设计在小型封装中提供可靠的性能简单而灵活的设计和操作，能够为各种应用沉积各种材料紧凑型系统与大多数标准手套箱和实验室台面兼容全自动涂层工艺通过配方可编程参数控制线性伺服电机驱动的空气轴承级确保平稳运行和准确的涂层用户友好的控制与板载触摸屏和基于PC的软件极低的填充量非常适合测试小样本材料可编程涂层间隙（微米分辨率）测量并调整每个处理的基板可编程的引发步骤，以在沉积在基板上之前立即建立涂层珠 流程优势槽模涂布技术使涂布液的利用率最大化，而不会产生与替代方法相关的浪费有效利用材料可最大限度地减少对环境的影响和处置该过程适用于开发应用程序，可扩展到更大的生产规模精确，可编程控制涂层间隙和模具运动轮廓，提供高度均匀的涂层和出色的涂层边缘轮廓控制有效可调涂布速度0-2m / min 技术参数：基板尺寸：标准150mm 最大值210-300mm 150或200mm晶圆选项基板类型：玻璃、塑料、金属箔、硅片 刚性或柔韧性涂层厚度范围：20nm to 100um涂层均匀性：对于超过150nm的薄膜，±3％或更好，对于50和150nm的薄膜，±5％或更好涂料粘度范围：标准1至70 cp设备尺寸: L: 911mm W: 578mm H:645mm 设备重量：170千克/ 380ibs

“狭缝涂布精密成膜装备系统”是一个高端先进制造业项目，其成膜技术可在玻璃、塑料、不锈钢等基体上精确涂布制备功能纳米、微米薄膜，在许多光电领域，如平板显示、触摸屏、薄膜太阳能电池、半导体元器件及封装、柔性及印制电子、智能玻璃等，有着非常广泛的应用。 从研发用150mm平台到6代线，为用户提供灵活多变的配置方案。不仅用于光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)、OLED涂布等，还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。 狭缝涂布技术适用于各种涂布液，可广泛应用于不同基材表面的涂布，如玻璃，不锈钢和塑料基片涂布模具相对于基片精确地运动，并精确检测控制工艺流体及其涂布速度。 优势 可涂布不同粘度的各种材料 涂布厚度范围广泛:从20nm到150μm以上 很好的涂布一致性:通常优于±3% 效率高/材料利用率高:材料利用率可达95% 能够满足不同需求：从研发到小批量试制、大量生产 工艺具有高的可靠性和鲁棒性:良率可达到95% 适用于S2S和R2R加工模式 在一个工艺周期内可实现矩形阵列的涂布加工 过程参数 涂布间隙控制：动态控制涂布头高度 (z轴) 模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造 涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制 控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。 应用领域 平板显示 LCD, OLED, Flexible, Touch Screen LCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏 太阳能光伏 PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si 固态照明 OLED lighting 高附加值玻璃 可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃 半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

一、特点：落地式设备，为设备提供平稳性与储存空间；配备FFU空气净化系统；模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；按需供墨，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染；大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究；可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：落地式设备；结合狭缝、刮刀、线棒、超声工艺；模块化设计，便于工艺研究。四、技术参数：【外形尺寸】：1040*670*1850mm【工作台范围】：X:280 Y:280 Z:80（mm）【间隙控制精度】：2μm【最大速度】：0-60（X轴）、0-70（Y轴）、0-40（Z轴）mm/s【平台加热温度】：室温-150℃【温度偏差】：±2℃【平台平面精度】：±5μm（100mm）【溶剂体系】：水性、油性、有机溶剂等【适用基材】：玻璃、PET、CPI、金属箔等柔性基材【基材固定方式】：真空吸附【驱动方式】：步进电机+伺服电机+进口研磨级丝杆【控制方式】：触控屏控制【涂布工艺】：狭缝涂布、超声喷涂、刮刀刮涂、线棒辊涂（选配）【涂布厚度】：0.05-20μm（干膜厚度）{视涂布工艺和油墨而定}【涂布宽度】：10-200μm {根据选用涂布头而定}【涂布条数】：1-10 {可自由设定涂布条数}【狭缝头唇口线度】：≤3μm【液体粘度】：1500cps

一、特点：落地式设计，为提供设备的平稳性；助力实验室走向产业化，涂印速度可达5m/min，宽度可达400mm；集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染；工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研究等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备三、亮点：落地式设备；集合狭缝、刮刀；模块化设计，便于工艺研究四、技术参数：【外形尺寸】：815*545*1185mm【涂布宽度】：10-200mm（根据选用涂布头而定）【涂布长度】：200mm【涂布控制精度】：3μm【最大运行速度】：0-60mm/s【平台加热温度】：室温-150℃【供墨流量】：0-60ml/min【溶剂体系】：水性、油性、有机溶剂等溶剂型涂料【适用基材】：玻璃、PET、CPI、金属箔等柔性基材【基材固定方式】：真空吸附【驱动方式】：伺服电机+进口研磨丝杆+步进电机【控制方式】：触摸屏控制【涂布工艺】：狭缝涂布、高精密刮刀刮涂【涂布厚度】：0.1-10μm（干膜厚度）【狭缝头唇口线度】：≤3μm【溶液粘度】：≤1500cps

小型狭缝涂布仪英国Ossila公司小型狭缝涂布仪结构紧凑，价格实惠，使用简单，准确度高。 对于那些希望在小型实验室中扩大实验工艺的用户来说，它是理想之选。与卷对卷和片对片沉积工艺相兼容，狭缝涂布是用于可扩展沉积薄膜的技术之一。其广泛的加工窗口确保稳定、无缺陷的沉积，适用于各种粘度的溶液。薄膜均匀度高，准确且可重复，厚度可通过改变流速和基材速度来控制。产品特征u 体积小巧---紧凑型桌面设计,可放置在标准实验台，通风橱，甚至手套箱内使用。u 轻松设置---即插即用，不需要压缩气体或真空管线。u 高交叉网均匀性---衣架式溶液分配设计，流速均匀。可获得高均匀性的涂层，适用于各种粘度的溶剂。不锈钢槽模头可与广泛的材料兼容。u 通道厚度可变---可更换的不锈钢垫片，更改槽模通道的厚度。通过插入多个垫片，以100μm的间隔增加通道厚度。u 均匀的流量和厚度---槽模系统内置注射泵。用户可通过软件精确控制注射泵进入狭缝模头系统的溶液量，从而能精确和可重复地控制沉积膜的厚度。u 温度控制---操作台上的内置热板，基板温度控制在120°C。软件中可设置温度补偿以适应高气流环境，校正基板和热板温度之间的差异。通过降低表面张力控制基材温度可改善溶液的润湿性，同时干燥速率也可以改变沉积膜的纳米结构。u 基板速度设置范围广泛---操作平台可平稳，连续的移动。电机以低至1mm/s的速度到高达50mm / s的速度移动。u 精确定位---通过使用三点校平系统和高精度千分尺，可以精确调整平台和涂布头之间的位置。精细对齐可以使系统在平台行程范围内实现低至1um/厘米的高度变化。 u 涂布头高度控制---涂布头架上方预留了两个微米的空间，用于调节涂布头和平台之间的位置。通过调整狭缝模头的高度，改善弯月面的稳定性，改变最小湿膜厚度。三点调平系统，狭缝挤出式平台可以与涂布头精确对准。内置注射器泵可以精确控制溶液流量和体积。狭缝挤出头特别设计，整个涂布宽度内可保证均一涂布效果。直观的键盘覆FEP保护膜，有很好的耐溶液腐蚀性。内置软件英国Ossila公司狭缝涂布仪内置系统软件，高清全彩色LCD液晶显示屏，内置软件可编程复杂的多步骤过程，系统的不同部分可独立控制。不需要任何外部计算机控制。节省实验室空间。系统能够保存20个不同的程序，每个程序最多包含50个步骤。便于以后的重复性实验。用户可选择各种溶液分配速度，分配量，分配时间，阶段速度和移动的距离。结合简单易用的控制面板和用户界面，系统编程可快速完成。应用领域u 有机光伏u 有机场效应晶体管u 导电聚合物 u 纳米线u 纳米管u 2D材料u 有机发光二极管u 钙钛矿光伏u 钙钛矿发光二极管u 染料敏化太阳能电池还有很多...技术规格u 狭缝挤出头材质：不锈钢。u 狭缝挤出头涂布宽度：50mm(最多)。u 狭缝挤出垫片厚度：100μm。u 狭缝挤出垫片套装：5个50毫米宽垫片或5个25毫米宽的垫片。u 电热板温度：120°C。u 行程长度：100mm。u 平台速度：100μm.s-1。u 平台速度：50mm s-1。u 注射器速度：12μm.s-1。

小型台式狭缝涂布仪台式狭缝涂布机结构紧凑，价格实惠，使用简单。体积小巧，但外壳坚固，系统精确度高 - 对于那些希望在小型实验室中扩大其加工技术的人来说，它是完美的选择。 狭缝涂布系统为您的研究提供以下益处：- 不锈钢槽模头为您提供均匀的分配解决方案；- 内置便捷的操作软件 - 该系统拥有自己的独立数字控制系统，因此您无需将其连接至外部计算机；- 可互换的垫片 - 通道厚度可变，通用性更高；- 内置注射泵 - 因此您可以同步开始时间，不需要单独接外部注射泵；- 在加热阶段，温度可控制在120°C - 更好地使溶液润湿；- 行程距离可达10厘米 - 可放大设备尺寸（最多可达50平方厘米）；- 速度从1mm / m到10mm / s的电动操作台 - 为控制弯月面提供了一个宽广的加工窗口；- 操作台调平，数字式高度测量计可以精确到1um；- 三点校平系统精确对准；- 千分尺用于精确定位相对于基材位置的头部； 与卷对卷和片对片沉积工艺相兼容，狭缝涂布是用于可扩展沉积薄膜的最佳技术之一。其广泛的加工窗口确保稳定、无缺陷的沉积，适用于各种粘度的溶液。薄膜均匀度高，准确且可重复，厚度可通过改变流速和基材速度来控制。 特点：1）节省空间的设计 - 考虑到实验室空间的设计，我们的紧凑型桌面设计使设备可放置在标准实验台，通风橱，甚至手套箱内。2）轻松设置 - 即插即用。不需要压缩气体或真空管线，可以轻松地在不同的实验室和不同的环境之间移动。3）高交叉网均匀性 - 通过使用简单的衣架设计来分配溶液，横跨头宽，流速均匀。这样可获得高度均匀的涂层，适用于各种粘度的溶剂。不锈钢槽模头可与广泛的材料兼容。4）通道厚度可变 - 可互换的不锈钢垫片可以更改槽模通道的厚度。通过插入多个垫片，以100μm的间隔增加通道厚度。5）均匀的流量和厚度 - 我们的槽模系统配有内置注射泵。用户可精确控制进入狭缝模头系统的溶液量，从而能精确和可重复地控制沉积膜的厚度。内置注射泵由相同的内部软件控制，因此不需要任何外部控制 - 您可以为实验设定同步启动时间。6）温度控制 – 操作台上的内置热板可以将基板温度控制在最高温120°C。另外，软件中可以设置温度偏移量以适应高气流环境，校正基板和热板温度之间的差异。通过降低表面张力控制基材温度可改善溶液的润湿性，同时干燥速率也可以改变沉积膜的纳米结构。7）基板速度范围广 - 我们的操作平台可实现平稳，连续的移动。电机能以低至 1mm / m的速度移动到高达50mm / s的速度，该系统拥有控制弯月面的宽加工窗口。8）精确校准 - 通过使用三点校平系统和高精度千分尺，可以精确校准操作台头部。仔细对准使系统在操作台行程长度上实现低至1um / cm的高度变化。9）头部高度控制 -通过调整狭缝模头的高度，可以改善弯月面的稳定性，改变最小湿膜厚度。 内置软件狭缝涂布机内置系统软件。高清全彩色LCD液晶显示屏，内置软件可编程复杂的多步骤过程，其中系统的不同部分可以独立控制。由于所有元素都包含在系统中，因此不需要任何外部计算机控制 - 进一步节省实验室中的资金和空间。系统能够保存20个不同的程序，每个程序最多包含50个步骤。用户可选择各种溶液分配速度，分配量，分配时间，阶段速度和移动的距离。结合简单易用的控制面板和用户界面，系统编程可以快速完成。 应用领域到目前为止，夹缝涂布机的应用有很多，其中包括：有机光伏有机场效应晶体管导电聚合物纳米线纳米管2D材料有机发光二极管钙钛矿光伏钙钛矿发光二极管染料敏化太阳能电池还有很多...

一、特点：适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；包含狭缝涂布、刮刀涂布、气刀吹扫模块；狭缝涂布墨水用量低。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：适用通风橱、手套箱；墨水用量低，涂布面积10*10cm四、技术参数：【外形尺寸】：560*415*460mm 可定制【重量】：40KG【有效行程】：120mm【运行速度】：1-70mm/s【上下粗调行程】：30mm【驱动方式】：电机+进口研磨级丝杆【操作界面】：触控屏【自动供墨系统】：供墨流量：0-60ml/min【自动供墨系统】：注射器：1-10ml【真空加热】：加热面积：100*150mm【真空加热】：最高温度：150℃【真空加热】：温控精度：±2℃【真空加热】：基材固定：真空吸附【狭缝涂布】：垫片厚度：30/50/70/100μm（一套）【狭缝涂布】：涂布宽度：10-50mm【狭缝涂布】：粘度：≤1500cps【狭缝涂布】：干膜厚度：50nm-20μm 视涂布工艺和油墨而定

德国Coatema公司自1974年创建以来一直带领着全球高精密涂布的技术发展和产业化应用， Coatema也是欧洲OEA 非常重要的成员，拥有超过40年各类专业涂布和层压贴合设备生产经验拥有上百名专业技术人员及全球研发中心在欧洲、美国和亚洲设有技术服务中心以专注和创新为己任。Coatema公司专长于：纺织/纤维涂布、预浸料生产、薄膜涂布、柔性太阳能/电池功能薄膜纳米材料、生物医疗功能涂布、纸张涂布、玻璃表面涂布等。位于Dormagen的欧洲Coatema研发中心是涂布实验中心100~2000mm不同宽度的涂布线，多达40余种的涂布方式。Slot Die狭缝涂布仪是一种高端先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示(OLED,QLED),柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏，电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，生物医学，半导体封装及其他功能薄膜等领域，均能实现不同功能材料高效，高均匀，高性能的涂布。

德国Coatema公司自1974年创建以来一直带领着全球高精度涂布的技术发展和产业化应用， Coatema也是欧洲OEA 非常重要的成员，拥有超过40年各类专业涂布和层压贴合设备生产经验拥有上百名专业技术人员及全球研发中心在欧洲、美国和亚洲设有技术服务中心以专注和创新为己任。Coatema公司专长于：纺织/纤维涂布、预浸料生产、薄膜涂布、柔性太阳能/电池功能薄膜纳米材料、生物医疗功能涂布、纸张涂布、玻璃表面涂布等。位于Dormagen的欧洲Coatema研发中心是涂布实验中心100~2000mm不同宽度的涂布线，多达40余种的涂布方式。Slot Die狭缝涂布仪是一种高端先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示(OLED,QLED),柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏，电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，生物医学，半导体封装及其他功能薄膜等领域，均能实现不同功能材料高效，高均匀，高性能的涂布。

一、特点：采用大理石模组，保证运行的平稳和精；工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对于纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：运行平稳、控制精度高；适用小批量试制和中式放大过程。四、技术参数：【外形尺寸】：815*545*520mm【涂布宽度】：10-200mm （根据选用涂布头而定）【涂布长度】：200mm【涂布控制精度】：3μm【最大运行速度】：0-60mm/s【平台加热温差】：室温-150℃【加热温度偏差】：±2℃【供墨流量】：0-6ml/min【溶剂体系】：水性、油性、有机溶剂等溶剂型涂料【适用基材】：玻璃、PET、CPI、金属箔等柔性基材【基材固定方式】：真空吸附【驱动方式】：伺服电机+进口研磨丝杆+步进电机【控制方式】：触控屏控制【涂布工艺】：狭缝涂布、高精密刮刀刮涂 （选配）【涂布厚度】：0.1-10μm（干膜厚度） （视涂布工艺和溶剂而定）【狭缝头唇口线度】：≤3μm【溶液粘度】：≤1500cps

产品简介 主要包括桌面级超声喷涂系统、桌面级狭缝涂布系统、桌面级卷对卷涂布系统、高精密涂布系统，以及中小型印刷电子涂布装备。针对实验室、高校机构和企业研发中心的各种纳米及亚微米级功能性涂层薄膜的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。 涉及行业包括质子交换膜燃料电池膜电极、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、透明导电薄膜、生物传感器涂层、微电子及半导体领域的晶圆硅片光刻胶、电路板助焊剂，玻璃的AR增透减反射膜、亲水涂层、疏水涂层、隔热膜、透明导电薄膜、超疏水涂层、抗菌涂层，以及柔性透明电池薄膜、有机发光二极管、触控屏幕的薄膜、固体电容器、柔性穿戴、柔性拉弹、化学气体传感器、抗静电涂层、导电油墨、导电粘合剂等的印刷制备。产品特性 1、模块化设计，快速实现不同涂布功能的切换，一台主机，可实现多功能，集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂于一体，方便后期功能扩展；2、按需供墨，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；3、可置于手套箱、通风橱等进行操作；4、按印刷电子工艺特征编制的人机交互界面，大尺寸触控屏控制，操作简便；5、自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究6、专业的技术队伍，可以实现产品的不断改进和完善；7、主机系统采用高技术，关键部件（狭缝涂布头、PLC控制部分、伺服电机、研磨级丝杆等）均采用国外进口，严格的供货方管理流程，所有零部件供货方经过严格审核与控制，保证系统精度及设备可靠性；8、可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等等，已为各种特殊要求的客户提供产品，积累了丰富的设计及制造经验；9、设计美观，结构紧凑，做工精细，运行维护成本低；内部设计储物架、自动排风系统；10、各类桌面级设备已应用于国内高校、科研机构及各类研发中心；11、提供售后培训及工艺指导，完善的售后服务体系及丰富的售后服务经验，可以实现快捷、周到的售后服务；应用领域 针对实验室和企业的薄膜涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样等。涉及行业包括柔性透明电池薄膜、有机发光二极管、触控屏幕的柔性透明导电薄膜、固体电容器、柔性穿戴、柔性拉弹、化学气体传感器、抗静电涂层、导电油墨、导电粘合剂。包含功能 狭缝涂布 注射泵 超声喷涂 刮刀刮涂 加热模块 真空吸附模块 产品参数项目参数备注外形尺寸619*606*680 mm选配工作台范围X:300 Y:300 Z:100 mm选配平台平面精度±5μm (100 mm)间隙控制精度2 μm速度范围0-60(X轴) 0-70 (Y轴) 0-40(Z轴) mm/s基底加热温度0-180 ℃温度偏差±2 ℃供墨流量0.001-1 ml/s溶剂体系水性、油性、有机溶剂等溶剂型涂料适用基材玻璃，PET、CPI、铝箔等柔性基材基材固定方式真空吸附驱动方式步进电机+伺服电机+进口研磨级丝杆控制方式触控屏控制涂布工艺狭缝涂布、超声喷涂、刮刀刮涂、线棒辊涂选配涂布厚度0.05-20μm（干膜厚度）视涂布工艺和油墨而定涂布宽度10-200 mm根据选用涂布头而定涂布条数1-10可自由设定涂布条数狭缝头内表面线度≤ 1.5 μm超声喷涂雾化粒径15-40 μm喷涂宽度2-20 mm液体粘度≤30 cps产品尺寸

一、特点：采用大理石模组，保证运行的平稳与精度；工作台面具备真空吸附功能，支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少污染和浪费；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：运行平稳、控制精度高；适用于小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电源】：电压单相AC220V±10%（可定制110VAC），频率50Hz/60Hz，功率≤5KW【气源】：0.5-0.8MPa压缩空气【有效涂布区域】：＜400*400m【涂布平台尺寸】：500*500mm【基材固定方式】：真空吸附【涂布湿膜厚度】：5-200μm（视溶液性质和工艺参数而定）【涂布干膜厚度】：0.05-20μm【均匀性】：≤6%【溶液粘度】：0-1000cps【平台材质】：不锈钢板【涂布速度】：0.01-200mm/s【涂布定位精度】：0.03mm【狭缝涂布头、唇口直线度】：4μm【供料系统】：注射泵【供墨速度】：0.01-10ml/s【平台驱动方式】：直线电机驱动

DCN是狭缝涂布Slot Die Coater, 微凹印Micro Gravure 及 旋转丝印Rotary Screen设备的制造商之一，尤其是R2R工艺畅销； 现已推出R&D研发系列，实验室R2R小型试验线，Roll to Roll中试线，和全集成量产线。 DCN的设备畅销日韩及欧美印刷电子市场，并得到行业著名客户长期的全球范围合作，如3M以及附属工厂，Samsung三星电子，三星化学及其合作的供应商，LG显示及LG化学及其相关的供应商和代工厂。涂布工艺介绍：Slot Die:狭缝涂布仪是一种制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（LCD,OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏，电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高效，高均匀，高性能的涂布。 Micro Gravure 微凹印： R&D实验室研发系列：Lab Slot Die Coater：实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围 Table Slot Die Coater： 全自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围Lab R2R Coater：实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能Lab R2R Coater： 多用途辊式涂布仪；模块包括Gravure Offset,Plater Offset,Gravure,Blade Coating 可调速度及压力进行膜厚改变；优越性能保证了可重复测试 Production & Industry 中试线及量产系列：Multi Layer R2R Coating System 多层卷对卷涂布量产线 连续的多层模块生产包括Slot Die狭缝涂布及Rotary Screen旋转丝印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；One Layer R2R Coating System 单层卷对卷涂布量产线 可选涂布模块包括Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Double Sided R2R Coating System 双面卷对卷涂布量产线 轻松转换和结合Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 高速涂膜工艺且保证优异的均匀一致膜厚； 优良的柔性衬底张力控制；Rotary Screen R2R Printing System 卷对卷旋转丝印涂布系统 连续丝印工艺保证一致均匀图形；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Multi Lamination R2R System 多功能层压卷对卷系统 实时双面Lamination and De-Lamination工艺；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；集成3个层压辊轮以及3个De-Lamination辊轮；Dip Coating R2R System 卷对卷预浸料成套量产线 设计工艺保证了优异的均匀一致膜厚。如今预浸料复合产品的应用正在迅速地增长，这种快速增长的需求促使DCN公司发展了新的涂布技术和高度创新的预浸料生产技术。预浸料作为复合材料的中间材料具有很多优异的性能， 预浸料制品具有高刚度、高拉伸强度、低密度、耐腐蚀、耐振动、抗疲劳性能好等特点，DCN预浸料生产设备具有操作使用方便、维护成本低、集成度高、性能优越等特点。

一、特点：模块化设计，前处理单元（电晕、等离子处理）、涂布单位（狭缝涂布、刮刀涂布、凹版涂布）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换；助力实验室走向产业化，涂布速度可达5m/min，宽度可达300mm；匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：模块化设计；适用小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电 源】：电压AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.6-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤250mm【基材幅宽】：≤180mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：150mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：0.76m【温 度】：室温-150℃ ±5℃【功 率】：2KW【张力控制】：伺服电机+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm

一、特点：模块化设计，前处理单元（超声清洗）、涂布单位（狭缝涂布、凹版印刷）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换；助力实验室走向产业化，涂布速度可达5m/min，基材宽度可达150mm；匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：模块化设计；适用小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电 源】：电压AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.6-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤200mm【基材幅宽】：≤150mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：100mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：0.4m【温 度】：室温-150℃ ±5℃【功 率】：1.5KW【张力控制】：伺服电机+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm

狭缝挤出式涂布机，钙钛矿太阳能电池涂布机，薄膜喷涂机,全自动喷涂机产品简介涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。适用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等基材的涂布，非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED涂布等。多种规格尺寸可选可定制，多种人性化配置可选：加热台、特殊气体吹淋系统、多尺寸刀头，多规格垫片等，满足客户多种需求，为客户量身定制高精密专业设备。 性能特点• 设备整体采用两级调整确保大面积平台水平度，涂布平台有单独的调平机构，平台是否平整作为工艺门槛的第.一步相当于地基。• 涂布刀头采用专用合金，特殊表面热处理的进口大尺寸刀头（自有专利设计技术），防有机溶剂，防形变。• Z轴采用伺服电机配合编码器加光栅尺双闭环，确保刀头的位置精度，和刀头的水平度。• 集成化注射泵，可联动控制溶液流速，自动进液，自动除气，自动管路清洗（需要配备清洗液，刀头需拆卸清洗）。• 涂布平台运行机构采用直线伺服电机提高平台稳定性，将工艺中影响的因素减到极.致。• 废液回收系统，可配合管路清洗进行废液回收，方便废液处理。• 涂布平台带有多区域真空吸附功能，基底定位功能，方便基底定位以及涂布过程的固定。• 多段式涂布工艺，更好的保证基底首尾膜厚的控制。 应用领域 - 有机光伏太阳能电池OPV；- 钙钛矿太阳能电池PerovskitePV；- 平板显示(FPD),OLED；- 石墨烯，碳纳米管；- 超级电容；- 及其他光伏应用； 技术参数涂布面积100*100mm(可定制)涂布平台尺寸120*120mm(可定制)涂层干膜厚度0.5-0.8um固含量10-50%液膜均匀性≤±5%~±10%固态膜均匀性 ≤±5%~±10%粘度1-2000cps涂布速度0-1000mm/s出液速度0.01-500ul/s刀头高度0-100mm刀头水平度±2um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm刀头有效宽度100mm(可定制) 应用案例上海交大

DCN是狭缝涂布Slot Die Coater, 微凹印Micro Gravure 及 旋转丝印Rotary Screen设备的制造商之一，尤其是R2R工艺畅销； 现已推出R&D研发系列，实验室R2R小型试验线，Roll to Roll中试线，和全集成量产线。 DCN的设备畅销日韩及欧美印刷电子市场，并得到行业著名客户长期的全球范围合作，如3M以及附属工厂，Samsung三星电子，三星化学及其合作的供应商，LG显示及LG化学及其相关的供应商和代工厂。涂布工艺介绍：Slot Die:狭缝涂布仪是一种制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（LCD,OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏，电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高效，高均匀，高性能的涂布。 Micro Gravure 微凹印： R&D实验室研发系列：Lab Slot Die Coater：实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围 Table Slot Die Coater：全自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围Lab R2R Coater：实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能Lab R2R Coater：多用途辊式涂布仪；模块包括Gravure Offset,Plater Offset,Gravure,Blade Coating 可调速度及压力进行膜厚改变；优越性能保证了可重复测试 Production & Industry 中试线及量产系列：Multi Layer R2R Coating System 多层卷对卷涂布量产线 连续的多层模块生产包括Slot Die狭缝涂布及Rotary Screen旋转丝印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；One Layer R2R Coating System 单层卷对卷涂布量产线 可选涂布模块包括Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Double Sided R2R Coating System 双面卷对卷涂布量产线 轻松转换和结合Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 高速涂膜工艺且保证优异的均匀一致膜厚； 优良的柔性衬底张力控制；Rotary Screen R2R Printing System 卷对卷旋转丝印涂布系统 连续丝印工艺保证一致均匀图形；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Multi Lamination R2R System 多功能层压卷对卷系统 实时双面Lamination and De-Lamination工艺；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；集成3个层压辊轮以及3个De-Lamination辊轮；Dip Coating R2R System 卷对卷预浸料成套量产线 设计工艺保证了优异的均匀一致膜厚。如今预浸料复合产品的应用正在迅速地增长，这种快速增长的需求促使DCN公司发展了新的涂布技术和高度创新的预浸料生产技术。预浸料作为复合材料的中间材料具有很多优异的性能， 预浸料制品具有高刚度、高拉伸强度、低密度、耐腐蚀、耐振动、抗疲劳性能好等特点，DCN预浸料生产设备具有操作使用方便、维护成本低、集成度高、性能优越等特点。

狭缝式涂布机是一种用于在表面上涂布薄膜、涂料或液体材料的设备。它通常由一个具有狭缝形状的喷嘴或涂布头部组成，通过控制狭缝的宽度和涂布材料的流量来实现精确的涂布过程。这种涂布机在工业生产中广泛应用，特别是在印刷、涂装、电子制造和其他需要精密涂布的领域。狭缝式涂布机的工作原理是将涂布材料通过泵送或喷射系统输送至狭缝喷嘴，然后通过调节狭缝的宽度和涂布速度来控制涂布厚度。这种精确的控制使得狭缝式涂布机非常适合需要高质量、均匀涂布的应用。这种涂布技术常用于制造平板显示器、光伏电池、柔性电子设备等高科技产品的生产过程中。狭缝式涂布机的优势包括高精度、高效率、节省材料和可在各种基材上实现均匀涂布。总的来说，狭缝式涂布机在现代工业中扮演着重要的角色，为许多领域提供了精确、可控的涂布解决方案。 在半导体制造领域，狭缝式涂布技术有着重要的应用，特别是在制备薄膜和涂覆材料的过程中。以下是一些狭缝式涂布在半导体行业中的主要应用：光刻胶涂覆： 在半导体制造中，光刻是一项关键的工艺，用于定义芯片上的图形和结构。狭缝式涂布机常用于涂覆光刻胶在硅片表面，确保光刻胶均匀覆盖并形成一致的薄膜。这是为了保证后续曝光、显影等步骤能够准确地传递芯片设计的图案。化学机械抛光（CMP）涂覆： CMP是半导体工艺中用于平坦化硅片表面的关键步骤。在CMP涂覆中，狭缝式涂布机可用于将腐蚀液体（slurry）均匀涂布在硅片表面，以便在抛光过程中实现材料的均匀去除，从而获得平整的表面。薄膜涂布： 制造半导体器件通常涉及在硅片上涂覆不同的薄膜层，例如氧化物、金属薄膜等。狭缝式涂布机可确保这些薄膜在硅片表面均匀分布，从而提高器件的性能和可靠性。电介质涂布： 在半导体器件中，电介质层通常用于隔离不同电路元件或作为绝缘材料。狭缝式涂布机可以精确地涂布这些电介质材料，确保其厚度和均匀性，从而维持器件的电学性能。 总的来说，狭缝式涂布技术在半导体制造中扮演着关键的角色，为各种工艺步骤提供了高精度和均匀性的涂覆解决方案，从而确保半导体器件的质量和性能。一、产品使用范围：&bull 弯月牙涂胶基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm)；&bull 液体胶刀的有效尺寸为：420mm：二、设备概述：此胶狭缝系统包括供胶系统、精密胶刀、平面度调节机构、胶盒移动等部件组成。&bull 供胶系统：伺服电机带动磁力泵供给胶刀，回流过滤循环供给，胶泵采购进口压力流量可调的磁力泵。&bull 精密胶刀：胶刀出液狭缝可调，可适应100CP-200CP的光阻药液。同时出液的高度（0.15-0.25mm）通过调整泵的供压力及狭缝配合来调&bull 面度调节机构：胶刀与胶盒的平行度可通过胶盒内的螺钉进行调平，胶刀与连接平面也可调整，胶刀与基板的平面通过机械方式也可调整。&bull 利用电磁阀及气缸来实现胶盒盖的上下、左右方向的移动。 三、设备控制设计：&bull 供泵系统胶泵为伺服电机，胶泵的压力、流速通过调节电机的转速控制。&bull 胶盒盖通过气缸控制+电磁阀（气缸都装有上下，左右位置检测传感器）。&bull 基板移动加有接近开关（主要用于检测基板是否移过）。

一、产品特点：1、为氢燃料电池、电解水制氢工艺研究及中试放大而开发的连续制备设备；2、助力产业化，涂因速度可达5m/min,宽度可达300mm 3、适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布实验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：1、针对纳米及亚微米级功能性图层的涂布实验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；2、针对氢燃料电池、电解水制氢的制备设备；三、亮点：氢燃料电池和电解水制氢专用设备；四、技术参数：【电 源】：电压单相AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.5-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤250mm【基材幅宽】：≤180mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：150mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：单节0.75m，共2节总长1.5m【功 率】：单节≤3KW【张力控制】：张力辊+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm

高精度狭缝挤出式涂布机（适配手套箱） 涂布间隙控制：高精准，动态控制涂布头高度(z轴)；模具运动控制：在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数)；模具设计：针对高一致性、化学兼容性、低充填容量和条状涂布进行模具设计制造；涂布控制：涂布速率(稳态涂布)和涂布轮廓(前后边缘)的高精度数字化控制；控制软件：所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。 应用领域：1. 平板显示 2. LCD/OLED3. 触摸屏4. 太阳能光伏5. CIGS,CdTe,OPV和C-Si6. 高附加值玻璃7. 可调光智能玻璃，博物馆用玻璃8. 半导体，微机电系统，无线射频识别，聚合物电池9. 各种有机及打印电子器件 设备参数：基底：玻璃，多孔质基材，金箔，硅片基底厚度： 2-10mm基材长宽：MAX120X120mm涂层用度(温厚)：2-1000um固含量：10-50%粘度：1-2000cps涂布方式：狭缝挤出式涂布涂布宽度：外宽MAX120mm（实际工作100mm）涂布平台速度：1-30mm/S平台平整度：±1.5um电源：220V X 50Hz出胶速度：1-500uL/s 狭缝式涂布技术狭缝涂布( SlotDie Coating)技术利用精密机械加工所制作的模块，由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体,将液体化学材料挤出涂布于移动的基板(玻璃、不锈钢和塑料等)上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料黏度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。

产品简介：狭缝涂布仪(Slot Die coater)是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。产品特点：- 在二次电池、FCCL、光学、显示器、PSV、钙钛矿、OPV和移动装饰膜等多个工业领域取得了丰硕的研发成果- 各种涂层，包括低粘度薄膜涂层和高粘度薄膜涂层，通过CFD流动分析制造槽架本身。- 采用精密板材运动驱动和涂布控制技术实现高精度涂布功能- 适用于涂布液体的计量泵解决方案可供选择- 基台面积：370*470mm- 选项：计量泵，紫外光固化，电热板- 根据用户需求可定制.狭缝涂布设备（桌面型）信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于狭缝涂布设备（桌面型）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

产品详情：夹缝式挤压型涂布机/狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精度涂布方式，涂布胶液由存储器通过供给管路压送到喷嘴处，并使胶液由喷嘴处喷出，从而转移到涂布的基材上。涂布基材可以是柔软的卷材，也可以是玻璃、塑料等非连续基材。 狭缝涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。 适用于有机太阳能电池 OPV 和钙钛矿太阳能电池 PVK 等基材的涂布，非连续基材如LCD 玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED 涂布等。 多种规格尺寸可选可定制，多种人性化配置可选：加热台、特殊气体吹淋系统、多尺寸刀头，多规格垫片等，满足客户多种需求，为客户量身定制高精密专业设备。 设备整体采用两级调整确保大面积平台水平度，涂布平台有单独的调平机构，平台是否平整作为工艺门槛的第一步相当于地基。 整个涂布平台底部采用高精度大理石平台，大理石受热胀冷缩影响少，水平稳定性高。 若配有原位加热功能，涂布系统的样品台将采用高精度不锈钢设计。若无原位加热功能，涂布系统的样品台采用高精度大理石平台，同时具备带有样品定位，样品台水平微调功能，保证平整度。 涂布刀头采用 SUS630 马氏体沉淀硬化不锈钢，特殊表面热处理的进口大尺寸刀头（自有专利设计技术），防有机溶剂，防形变。 刀头内置 316 级别不锈钢材质垫片，以此调整涂布上下唇口间缝隙来决定出液量。 Z 轴采用伺服电机配合编码器加光栅尺双闭环，确保刀头的位置精度，和刀头的水平度。 集成化注射泵，可联动控制溶液流速，自动进液，自动除气，自动管路清洗（需要配备清洗液，刀头需拆卸清洗）。 涂布平台运行机构采用直线伺服电机提高平台稳定性，将工艺中影响的因素减到极致。 废液回收系统，可配合管路清洗进行废液回收，方便废液处理。涂布平台带有多区域真空吸附功能，基底定位功能，方便基底定位以及涂布过程的固定。多段式涂布工艺，更好的保证基底首尾膜厚的控制。 软件功能 系统参数可视化，直接显示平台位置，刀头高度，狭缝厚度，涂布速度，注液速度，注液量等参数，配合配方存储功能实现良好的工艺重复性。可配备定制化涂布工艺控制，如加热台温控，特殊气体吹淋开关等功能。 带有配方存储功能，可保存 8 组以上成熟的工艺参数，实现良好工艺重复性。设有自动安全保护功能，利用自身配备的多个传感器的反馈，自动识别危险区间，确保在工作状态下涂布模具安全不撞刀。

狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精密的涂布方式，不仅用于光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)、OLED涂布等，还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。狭缝涂布技术适用于各种涂布液，可广泛应用于不同基材表面的涂布，如玻璃，不锈钢和塑料基片涂布模具相对于基片高精度地运动，并高精度检测控制工艺流体及其涂布速度。桌面式狭缝涂布机 （CS-18）特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积100mm*100mm/200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

Slotdie狭缝式涂布机 钙钛矿太阳能电池薄膜制备 薄膜涂布机　　产品简介　　狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精密的涂布方式，涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。　　适用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等基材的涂布，非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED涂布等。　　多种规格尺寸可选可定制，多种人性化配置可选：加热台、特殊气体吹淋系统、多尺寸刀头，多规格垫片等，满足客户多种需求，为客户量身定制高精密业设备。 　　特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。　过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量 10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度 0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV ａnd C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

瑞士TSE Toller专注于研发制造业内高精度的狭缝涂布仪已经超过20年，其技术及制造工艺都得到欧洲知名客户的一致认可，如TSE为德国KIT研究中心定做的R-T-R狭缝涂布仪产线。 凭借优异制造工艺, TSE产品均为高精度预计量型, 在1 – 600 m/min可控高速印刷同时可得到10nm到300um的可控厚度, 在CD和MD都优于1%-5%的均匀度, 0.5到30000mPas可适用粘度范围, 4A质量标准的制造工艺, 以及自定义无限制多层涂布系统。

狭缝涂布仪(Slot Die coater)是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。可提供大尺寸，量产型，In Line 或 Off Line 设备，全自动多功能集成系统； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围狭缝涂布设备（大尺寸量产型）信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于 狭缝涂布设备（大尺寸量产型）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

Slotdie狭缝式涂布机采用的是一种高精密的预计量涂布方式不仅用于机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，还可以用于实验室研发聚酰亚胺浆料配方的涂布、OLED涂布、光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)等涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。Slotdie狭缝式涂布由涂布模头相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺 流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑 料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均 匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、涂布系统封闭，在涂布过程中能防止 污染物进入以及可制作大面积的涂膜等。桌面式狭缝涂布机 （CS-18） 特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积100mm*100mm/200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度 ±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏 PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精密的涂布方式，不仅用于光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)、OLED涂布等，还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。狭缝涂布技术适用于各种涂布液，可广泛应用于不同基材表面的涂布，如玻璃，不锈钢和塑料基片涂布模具相对于基片高精度地运动，并高精度检测控制工艺流体及其涂布速度。桌面式slotdie狭缝涂布机 （CS-18） 特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。 过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。 有效涂布面积100mm*100mm/200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50% 粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离 精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件 狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机狭缝涂布机slotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdieslotdie

狭缝涂布机涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的 上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置 等组成。系统由涂布模头相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺 流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑 料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均 匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、涂布系统封闭，在涂布过程中能防止 污染物进入以及可制作大面积的涂膜等。 ?适用于PI浆料的涂布，有机太阳能电池 OPV 和钙钛矿太阳能电池 PVK 等基材的涂布， 非连续基材如LCD 玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、 扩散膜等）、OLED 涂布等。落地式狭缝涂布机 （DT-3747） 特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积370mm*370mm涂布平台面积 370mm*470mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-200000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：锂电池隔膜光刻胶燃料电池交换膜LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

丹麦InfinityPV公司是科学家Frederik C.Krebs教授创办的高科技创新公司, 主要业务是面向未来绿色产业的印刷电子产品, 尤其是全印刷有机太阳能电池和化学燃料电池. 其产品覆盖从特性化印刷材料, 研究级到产业级硬件和软件, 其相关技术确保印刷电池技术成为全球未来能源一部分 其技术获得业内广泛的商业和学术认可, 并获得了EliteForsk奖、DFF研究人员奖和Grundfos奖 该涂层技术可广泛应用于生物医学可穿戴、有机钙钛矿太阳能、OLED/QLED显示器、场效应管、燃料电池、锂电池、生物医学、微流体、各种功能薄膜、传感器、印刷电子、导电薄膜、智能玻璃等领域的前沿研究 经过长久考察InfinityPV公司设立溢鑫科创为中国地区官方指定代理商, 负责整个市场运营维护及技术服务等。现阶段其产品已涉及客户包括麻省理工，斯坦福大学，曼彻斯特大学，东京大学，中科院苏州纳米所，中国科学技术大学, 浙江大学, 美国伯克利国家实验室，剑桥大学，香港科技大学，新加坡国立大学，欧洲Fraunhofer研究中心，以及涂布同行德国Coatema公司等等科研及产业客户。