卷对卷沉积系统

Prep/scale 卷式膜超滤系统应用：对化学，造纸，食品科学，中药有效成份提取，海洋研究，环境保护等水溶性化学小分子或生化分子产物的实验研究，样品分离制备。专门设计的一套可满足实验室及小型制备常规要求的经济型超滤系统。系统配置主要包括：· 泵：可根据具体的样品处理量选配两种不同流量的 Easy－load 蠕动泵230v，型号1-泵最大流量1.6L/min（建议每次样品处理体积小于3L 时选用）。型号2-最大流量13L/min（见图）· 带隔膜压力表的可调节伸缩式卷式膜堆夹具，隔膜阀· 可调伸缩式膜夹具可安装0.1m2，0.23m2，0.54m2等三种不同分子量的超滤卷膜· 系统可以安装1kD，3kD，5kD，8kD，10kD，30kD，50kD，100kD，300kD，等不同分子量级别的超滤卷式膜· 膜材料：聚醚砜，改良纤维素。接口为胶管接口

卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射(US patent #6,258,408B1)（本产品获美国专利#6,258,408B1）

卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射(US patent #6,258,408B1)（本产品获美国专利#6,258,408B1）

1. 产品概述：KaRoll RTR1C 是一种先进的卷对卷薄膜溅射系统，主要用于在柔性基底材料上连续地进行薄膜溅射沉积。它能够将各种金属、合金或化合物材料以精确的厚度和均匀性沉积在卷状的基底上，如聚合物薄膜、金属箔等。该系统通常由放卷装置、收卷装置、真空腔室、溅射源、镀膜控制系统等部分组成。在真空环境下，通过溅射源产生的高能粒子撞击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在移动的基底上，从而形成连续的薄膜。 2. 设备应用： 电子领域：可用于制造柔性电子器件，如柔性显示屏的电极、电路等。例如在可折叠手机的屏幕制造中，通过该系统溅射导电薄膜，实现屏幕的导电和信号传输功能。 太阳能领域：用于制备柔性太阳能电池的薄膜电极或光吸收层等。有助于提高太阳能电池的光电转换效率和柔韧性，使其更适用于不同的应用场景，如便携式太阳能充电设备、太阳能屋顶等。 光学领域：可以生产光学薄膜，如增透膜、反射膜等，应用于柔性光学元件、可穿戴光学设备等。比如在智能眼镜的镜片上镀制特定的光学薄膜，改善其光学性能。 包装领域：为一些特殊的包装材料提供功能性的薄膜涂层，如阻隔膜、防静电膜等，提升包装材料的性能和附加值。例如在食品包装中，使用该系统镀制阻隔膜，提高包装对氧气、水分等的阻隔性能，延长食品的保质期。3. 设备特点： 高精度镀膜：具备精确的镀膜控制技术，能够实现薄膜厚度的高精度控制，保证薄膜性能的一致性和稳定性。例如，可将薄膜厚度的误差控制在极小范围内，满足对薄膜厚度精度要求极高的应用场景。 高生产效率：卷对卷的连续生产方式，大大提高了生产效率，能够实现大规模的快速镀膜生产。与传统的间歇式镀膜方式相比，在相同时间内可以处理更多的基底材料，降低生产成本。 良好的膜层均匀性：通过优化的溅射源设计和先进的镀膜工艺，确保在整个基底宽度和长度方向上都能获得均匀的薄膜沉积。这对于需要大面积均匀薄膜的应用非常重要，如大面积的柔性显示屏或太阳能电池板。 适用于多种材料：可以溅射多种不同的材料，包括常见的金属（如铜、铝、银等）、合金以及一些化合物材料，满足不同应用对薄膜材料的需求。能够根据客户的具体要求，选择合适的靶材进行镀膜，提供多样化的薄膜性能。 灵活的工艺参数调节：允许用户根据不同的产品需求，灵活地调整镀膜工艺参数，如溅射功率、沉积速率、基底移动速度等。这使得设备能够适应不同类型的基底材料和薄膜应用，为研发和生产提供了更大的灵活性。 可靠的真空系统：拥有高性能的真空系统，确保在镀膜过程中维持稳定的高真空环境，减少杂质和气体对薄膜质量的影响。可靠的真空系统有助于提高薄膜的纯度和质量，降低薄膜中的缺陷密度。 4. 产品参数（以部分为例）：以下参数仅供参考，实际参数可能因定制化需求和设备型号而有所不同。 基底宽度：常见的基底宽度可能在 100 毫米到 1000 毫米之间，具体取决于设备型号和应用需求。 最大卷径：例如，最大卷径可能达到 500 毫米或更大，以适应不同规模的卷状基底材料。 溅射源数量和类型：可能配备多个溅射源，如直流溅射源、射频溅射源等，数量可能为 2 - 8 个不等，具体根据镀膜工艺和产能要求确定。 镀膜速度：镀膜速度根据不同的材料和工艺要求有所变化，一般在每分钟几米到几十米的范围内。 真空度：能够达到较高的真空度，如 10^-3 帕或更高，以保证溅射过程的顺利进行和薄膜质量。 设备尺寸：设备的外形尺寸根据其设计和产能有所不同，例如长度可能在 3 - 10 米，宽度在 1.5 - 3 米，高度在 2 - 3 米。 电源要求：通常需要三相交流电，电压如 380V，频率 50Hz，整机额定功率根据设备配置而定，可能在 20 - 100kW 之间。

1. 产品概述：卷对卷薄膜溅射系统是一种在连续卷材上进行薄膜溅射沉积的设备。它通常由放卷装置、收卷装置、真空腔室、溅射源、气体供应系统、加热系统（可选）、冷却系统、控制系统等组成。在真空环境下，通过溅射源产生的高能粒子撞击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在连续移动的卷材表面，形成均匀的薄膜。 2. 设备原理及应用： 电子行业：用于制造柔性电子器件，如柔性显示屏的电极、薄膜晶体管（TFT）、触摸屏的导电层等；还可用于生产柔性电路板（FPC）的金属线路。 太阳能领域：制备太阳能电池的电极、透明导电薄膜等，有助于提高太阳能电池的光电转换效率。 光学领域：制造光学薄膜，如增透膜、反射膜、滤光膜等，可应用于光学镜片、摄像头镜头、显示器件等。 包装行业：在包装材料上沉积阻隔薄膜，提高材料的阻隔性能，如防潮、防氧、防紫外线等，延长产品的保质期。 本设备主要应用于micro phone的生产制造中，通过在其表面沉积一层高质量的金涂层，提升产品的性能和市场竞争力。综上所述，本装置是一款集高精度、高效率和高可靠性于一体的真空溅射设备，为micro phone的4微米金涂层生产而设计3. 设备特点：真空环境工作环境：设备在高度真空的状态下运行，确保涂层过程中不受外界气体分子和杂质的干扰，从而得到纯净且致密的金膜。真空度要求：通常，溅射过程需要较高的真空度来保证溅射原子的自由飞行路径和减少碰撞，从而提高涂层的均匀性和质量。Sputtering技术溅射原理：利用高能粒子（如氩离子）轰击金靶材，使靶材表面的金原子获得足够的能量而逸出，沉积在处于真空室内的micro phone表面，形成所需的金涂层。涂层厚度控制：通过精确控制溅射时间、靶材与产品的距离、溅射功率等参数，可以确保涂层厚度达到精确的4微米。涂层特性金涂层优点：金具有良好的导电性、耐腐蚀性和稳定性，作为micro phone的涂层材料，可以提高其性能和使用寿命。均匀性：由于产品在真空室内进行自转和公转运动，结合精确的溅射控制技术，可以确保金涂层在整个micro phone表面均匀分布。设备功能自动化控制：设备通常配备先进的自动化控制系统，可以精确控制各个工艺参数，实现涂层的自动化生产。高效生产：优化设计的溅射腔体和高效的溅射源，使得设备具有较高的生产效率，能够满足大规模生产的需求。维护方便：设备结构设计合理，易于维护和保养，降低了维护成本和时间。

卷对卷式LB膜分析仪 请通过我们的联系我们！卷对卷式LB膜分析仪仪器用于在较长的柔性基底（如保鲜膜式柔性带状基底）上连续沉积单分子薄膜，也可把大尺寸刚性衬底粘接在皮带上进行镀膜，可进行无限多次LB薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积X,Y,Z多种类型的LB薄膜结构。同时具备垂直镀膜与水平镀膜功能。衬底可以是卷式铝箔、卷式PET塑料薄膜等。设备包含镀膜槽，卷对卷样品传动装置，卷对卷转动滑障与水平移动滑障，表面压探头与镀膜头，自动进样装置：注射泵与蠕动泵，控制器，电脑。卷对卷式LB膜分析仪仪器是一种多功能的LB莫分析仪，具有柔性镀膜，刚性镀膜，垂直镀膜，水平镀膜功能。卷对卷式LB膜分析仪液体界面单分子薄膜镀膜仪器可进行无限多次薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积x、y、z型结构的薄膜。卷对卷式LB膜分析仪技术指标：柔性基底镀膜尺寸范围：长度可达3m，宽度可达16.5cm，柔性基底传送速度范围： 0.4625-117 mm/s，调整步阶0.007725 mm/s。镀膜井尺寸：200x180x200 mm (w-d-h)，侵入液体的zui大基片尺寸不小于170x170x170 mm (w-d-h)，兼容常规片状固体基片。表面压传感器：带2个表面压传感器，分别测量镀膜区域与补样区域的表面压值，表面压传感器灵敏度：0.01 mN/m，测量范围：0-80 mN/m。

卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中，如碳纤维制备、合金及其他材料线材改性处理等应用中。也适合用于石墨烯在卷材上的连续生长。设备含卷对卷收放卷运动模块、1200℃双温区可开启式管式炉模块、PE等离子增强模块、真空系统以及三路质子流量计供气系统五部分，整套体系可在真空/气氛保护环境下工作。收放卷机构转速从1~400mm/min可调,机构采用反馈调节，可自动纠正转速偏差，保证样品的速度稳定不走样，从而保证了实验的精确性 卷对卷式PECVD技术参数：1200℃双温区管式炉供电电压AC220V，50Hz最大功率3KW加热温区双温区 200mm+200mm工作温度≤1200℃控温精度±1℃控温方式AI-PID 30段工艺曲线，可存储多条炉管材质高纯石英炉管尺寸φ80mm I.D x 1400mm L密封方式不锈钢真空法兰真空测量电阻规工作气体氢气、氮气、氩气、氧气等非腐蚀性气体真空泵双极旋片式真空泵极限真空度10^-1Pa三路质量流量计阀门类型不锈钢针阀气路数量三路承压范围0.05~0.3MPa量程1~100 SCCM（Ar）1~200 SCCM（H2）1~500 SCCM (CH4)流量控制范围±1.5%混气罐容积750mL气路材料304不锈钢管道接口6.35mm卡套接头供电电源AC220V 50HzS射频电源输出功率500W输出精度±1%射频频率13.56MHz射频稳定度±0.005%冷却方式风冷

1 产品概述: 卷绕式溅射设备，也称为卷绕磁控溅射镀膜机，是一种在真空环境下，利用磁控溅射技术将金属、合金、化合物或陶瓷等材料沉积到连续卷绕的柔性基材（如塑料薄膜、金属带等）上的先进镀膜设备。该设备主要由溅射室、卷绕系统、磁控靶及电源、样品加热系统、样品退火系统、泵抽系统、真空测量系统、电控系统、气路系统等组成。在溅射过程中，通过高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材上，形成所需的薄膜层。2 设备用途：卷绕式溅射设备具有广泛的应用领域，主要包括但不限于以下几个方面：柔性电子：用于在柔性基材上镀制各种介质膜、导电膜等，如ITO透明导电膜，广泛应用于柔性线路板、柔性显示器件等领域。太阳能电池：在金属带上镀制光学多层膜，用于制作薄膜太阳能电池，提高光电转换效率。包装与防伪：在包装材料上镀制防伪膜层，提高产品的防伪性能和美观度。电容器：在电容器电极上镀制金属薄膜，提高电容器的性能。3 设备特点卷绕式溅射设备具有以下几个显著特点：高效连续生产：设备采用连续卷绕的方式，实现了对柔性基材的连续镀膜处理，大大提高了生产效率。镀膜质量高：磁控溅射技术具有镀膜温度低、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点，能够制备出高质量的薄膜层。镀膜材料范围广：可适用于多种材料的镀膜处理，包括金属、合金、化合物和陶瓷等。 4 技术参数和特点：可根据工艺或生产性选择各种模组。通过任意、追加选择模组，可实现各种用途。在地面高度可以进行设备操作。优秀的氛围分隔性能和成膜工艺的改善，使高速率生产高品位的薄膜成为可能。触摸屏用配线膜、透明导电膜以及透明薄膜等。FPC用电膜

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。

1 产品概述: 卷绕式真空蒸镀设备主要由真空系统、蒸发源、基材传送系统、控制系统等部分组成。在真空环境下，通过加热蒸发源（如电阻加热、感应加热、电子束加热等），使金属或氧化物材料蒸发成气态，随后沉积在连续卷绕的基材表面，形成所需的薄膜层。该设备具有高效、连续、自动化程度高等特点，广泛应用于各种材料的表面镀膜处理。2 设备用途：卷绕式真空蒸镀设备的用途广泛，主要包括以下几个方面：包装材料：在塑料薄膜、纸张等包装材料表面蒸镀金属或氧化物薄膜，提高材料的阻隔性、美观性和附加值。例如，在食品包装材料上蒸镀铝膜，形成金属化包装，提高食品的保鲜效果。电容器：在电容器电极上蒸镀金属薄膜，提高电容器的性能。例如，在铝电解电容器中蒸镀铝膜作为阳极，提高电容器的容量和稳定性。磁带：在磁带基材上蒸镀磁性材料，制备录音或录像磁带。光学膜：在光学材料表面蒸镀增透膜、反射膜等，改善材料的光学性能。3 设备特点卷绕式真空蒸镀设备具有以下特点：高效连续生产：设备采用连续卷绕的方式，实现了对带状材料的连续镀膜处理，大大提高了生产效率。镀膜质量高：在真空环境下进行镀膜处理，避免了外界污染对膜层质量的影响，同时蒸发源的高精度控制也保证了膜层的均匀性和一致性。自动化程度高：设备配备先进的控制系统，实现了对镀膜过程的自动化控制，降低了人工操作难度和劳动强度。 4 技术参数和特点：基板传送采用全新的卷绕控制技术，可根据不同的材料和尺寸实现稳定运行。根据蒸镀的目的，可以选择匹配的蒸发源（感应加热方法，电阻加热方法，EB加热方法）。各种预处理/后处理的机制达到良好的工艺条件。可提供能够在线测量的穿透式膜厚监视仪，涡流式膜厚监视仪，电阻值监视仪等。

主要应用：-适用于半导体用薄膜（Al2O3, HfO2, ZrO2, TiO2, ZnO ……）-CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积-晶硅太阳能电池表面钝化层沉积-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层-Micro-OLED封装层-柔性衬底用阻挡层-OLED封装层-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、钙钛矿LED、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷（R2R)ALD工艺：-可用于 LTPO TFT IGZO薄膜沉积特点：1.ALD高k介质,厚度均匀性好，保形步进覆盖。2.先进的工艺套件和小体积的短周期室3.实现了ALD机构(行波法)4.小脚印全集成工艺模块5.过程控制方便，供气线路长度小。

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柔性材料与器件测试系统--卷对卷卷绕一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。 二、产品特性 连续卷绕式测试（包含正反转）大曲率、大面积、连续性样品高稳定性（百万次） 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、RFID、可穿戴电子、FPC、柔性印刷电路 等柔性材料与器件的卷绕测试。 四、运行方式 五、产品参数项目参数样品厚度 (m m)0-3样品宽度(m m)270缠绕数量 (m m)0-15扭转速度( °/s)0-1080扭转力(N.m)5.0重量(Kg)35 六、产品尺寸

UWITEC Piston Corer深层沉积物采集系统 活塞取样器适用深水，可达140m使用绞车滑轮拉动，安全且省力钻孔机直径36/60/86 mm连续钻探可达20m沉积物深度钳杆捕芯器用于硬质沉积物液压捕芯器用于软质沉积物2-3人可完成操控 所有组件由精炼钢制成 技术参数加长杆m2-5PVC内衬直径mm36/60/86钢管长度m1.2-5适用水深m0-140承重kg40  1通用型采样平台 重量轻，便于运输方便安装（1小时即可）可使用不同的漂浮装置 每侧两个聚酯纤维漂浮筒，筒体外有Hypalon橡胶涂层 浮筒使用带扣固定 &bull 预留有马达安装架 采样平台技术参数尺寸长× 宽× 高（m）4.2× 2.8× 0.76包括漂浮装置总重kg270包括三脚架有效荷载kg26002/3没入水中漂浮装置4个聚酯纤维浮筒金属浮筒直径58cm长400cm直径58cm长90cm4× 13kg每个20kg 活塞取样器三角架用于： 螺丝固定在取样平台上 陆地或冰上支架可伸缩，便于运输可以使用每条支架腿上的手摇绞车来拉动各种设备的绳索传动缆绳在滑轮（在活塞取样器的橇杆的尾部）上运行时有双倍的拉力且更安全三个滑轮中的一个可以装上电子计数装置 三角架技术参数尺寸底部边长× 高（m）2.7× 4 总重kg60 有效荷载kg1000 运输长度m2.7伸缩杆 手摇绞车 特点：3种模型，可达300m绳长有无带闸都可装有手柄使回卷更安全提供各种长度的曲柄线轴容易更换也可提供电动曲柄技术参数：尺寸L× B× H cm50× 40× 30不含曲柄总重 kg17不含绳重牵引力kg120 组装完成的平台和采样器平台可以配备马达在水面移动

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量产型 OPV/钙钛矿 多层膜 卷对卷涂敷系统适用于柔性光伏电池连续生产，可根据客户需要进行定制化制作.• Good for continuous multi-layer module production by Slot Die Coating and Rotary Screen Printing Excellent uniform line width of Slot Die Stripe Pattern by own technology• High accurate alignment with applying image sensor and actuator采用 180 ℃热风干燥模组及UV固化模组.OPV/钙钛矿 卷对卷涂敷系统（量产型）信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于OPV/钙钛矿 卷对卷涂敷系统（量产型）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

卷对卷涂敷设备/镀膜机/涂膜机/涂层机紫外印刻 卷对卷涂敷系统（UV IMPRINTING R2R SYSTEM）适用于Micro Pattern（如MINI LED/Micro LED），OLED Lighting,Quantum Dot .....可根据客户需要进行定制化制作.• Various kinds of application in film such as PET film, PC film and TAC Film, etc with perfect precision tension control• High accurate alignment with applying ultrasonic sensor and actuator• SLot die Coating to make uniform one solution• Precise height control of gap roll using displacement sensor and stepping motor

双面 卷对卷涂敷系统（DOUBLE SIDED R2R COATING SYSTEM）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。 .....可根据客户需要进行定制化制作.• Easy to convert Double-Sided Micro Gravure Process and Slot Die Process• High-speed coating process of thin film for Min.10μm thickness• Various kinds of application in films such as PET Film, PI Film and Copper Film, etc. with perfect precision tension control• 200°C Hot Air Dryer and 300°C IR Ceramic Dryer

量产型 卷对卷 旋转丝印 涂敷系统（ROTARY SCREEN R2R PRINTING SYSTEM） 连续丝印工艺在先进的图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；及其他可根据客户需要进行定制化制作.通过采用旋转丝印技术可实现卷对卷（R2R）连续对OPV电极层进行PatterningPerfect for patterning implementation with R2R continuous process by rotary screenHigh accurate alignment with applying image sensor and actuatorOption selection as per the coating material conditions : Hot Air Dryer, UV curing and IR heater

价格货期电议Europlasma 卷绕式无氟等离子涂层设备 (无卤素涂层) CD 2400上海伯东代理比利时 Europlasma 卷绕式等离子涂层设备(无卤素涂层) CD 2400, 卷尺寸 2400mm x ?1000mm , 接受客户定制, 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 实现 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 无氟纳米涂层设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 其他防护设备等.Europlasma 拥有各种类型的化学原料, 包括氟化学产品( Nanofics 120 含 PFOA, Nanofics 110 不含 PFOA ) 和无卤素化学产品 ( Nanofics 10 以及 PlasmaGuard® 无卤素涂层技术), 提供定制设计. 同时姐妹公司 CPI 是基于薄膜基板的大气条件下, 提供高速等离子体卷绕解决方案的公司.上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 超薄等离子涂层设备, 可在非织造, 薄膜, 网状物或纳米纤维网等材料上沉积超薄涂层, 通过专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard® , 实现产品防水, 亲水, 疏油, 防腐等功能, Europlasma 满足消费电子产品, 锂电池隔膜, 医疗用品, 户外运动装备等产品 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 真空条件下, 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生

设备规格衬底尺寸：标准尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)工艺温度：温度范围：RT~500°C （可定制）前驱体路数：最大支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）压力监测：双薄膜规组合（耐腐蚀)，0.005Torr - 1000Torr本底真空度：5x10-3 Torr真空系统：标准油泵控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展操作系统：Win7 操作系统工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作高温加热模块：独立的源瓶加热模块，可支持RT~200℃预留模块：预留等离子体系统接口，无需更换腔体即可直接升级至等离子体系统（PEALD），实现Thermal-ALD与PEALD的双模式切换 工艺可沉积薄膜种类和应用场景包括：&bull High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta2O5, La2O3) &bull 金属互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In) &bull 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):&bull 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN) &bull 金属(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni &bull 压电层 (ZnO, AIN, ZnS) &bull 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) &bull 光子晶体(ZnO, TiO2, Ta3N5) 机架&bull 框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好&bull 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学&bull 显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停 控制系统&bull 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。&bull 采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能&bull 设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式&bull 设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全&bull 设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示&bull 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能 真空系统 真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障应用领域1.纳米材料：ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。2.太阳能电池：ALD基材料在c-Si太阳能电池中的应用始于Al2O3，Al2O3是一种非常有效的表面钝化层，被发现可以显着提高c-Si太阳能电池的效率并应用于大规模产业化中。此后的研究中，ALD的应用研究从表面钝化层扩展到载流子传输材料[8]。3.催化：ALD技术很容易地控制纳米颗粒的大小、孔隙结构、含量和分散，有效设计出核壳结构、氧化物/金属倒载结构、氧化物限域结构、具有多金属管套结构和多层结构，且独特的自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料而得到广泛研究。利用ALD技术具有饱和自限制的表面反应特性，有效抑制金属有机化合物、配体的空间位置效应，天然的将金属中心原子互相隔离开，抑制金属原子聚集，合成单原子催化剂。利用ALD技术有效调控金属与载体间的相互作用的特性，可获得单金属催化剂，如Ru、Pt、Pd等贵金属。利用ALD技术能调控两种金属元素生长顺序、循环周期数的特性来精准得到双金属纳米催化剂，合成原子级精准的超细金属团簇，如PtPd、PtRu、PdRu等双金属纳米颗粒。利用ALD技术制备金属氧化物，不仅可以制备性能更加优良的多相催化剂，而且可以对负载型催化剂进行改性，达到修饰、保护催化剂的目的。4.锂电池：ALD在锂离子电池中的应用特点：（1）电极材料的制备和改性；（2）阴极材料上的保护镀膜；（3）阳极材料上的人造固体电解质相间（SEI）；（4）锂金属阳极钝化和防止枝晶生长；（5）ALD作用的固态电解质（SSE）；（6）隔离膜上的保护涂层原速科技ALD技术在锂电池领域的应用主要有以下几个方面：a、锂电池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸润性，耐压性，热收缩性能b、锂电池正极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能等c、锂电池负极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能以及安全性能5.光学镀膜：ALD薄膜以饱和吸附的layer-by-layer生长模式，可在结构复杂的几何表面，如大曲面及高纵深比深孔结构，大面积形成高均匀性薄膜，且膜层相较于PVD膜更为致密，在界面处的结合力更强，更适用于未来工业界先进精密光学器件的制造。6.生物医疗：ALD可以通过低温沉积形成非常致密的保护膜，由于是纳米级别的膜厚其本身对医疗设备也不会造成影响，沉积ALD涂层后可以大幅度增加植入设备的寿命以及安全性，也有可能有效的减少更换手术的频率；同时ALD有多种材料都具有生物相容性，这种涂层对人体组织是没有任何细胞毒性的，这使得在再生医学领域中，用于对细胞构建生物相容性底物的制备时，ALD沉积表面涂层能满足对新型生物相容性材料的需求；在药物方面，ALD涂层可以有效的保护颗粒不受周围空气和水分的影响，从而大幅度的延长药物的保质期。7.OLED：几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果，同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、耐腐蚀性及与基底的粘结性等性质；ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚，可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变，这一特性可完美兼容柔性OLED器件封装，真正做到显示屏的可折叠、卷曲；ALD薄膜优异的保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现出色的钝化保护层，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面，可有效降低漏电流，显著提高LED效率。

FOM sigmaR2R是一种紧凑的卷对卷槽模涂布机，集成了适用于特定涂布程序的工业级组件，具有用户友好的界面。选择烤箱模块和其他预涂层和后涂层附加组件的灵活性和便捷性使FOM sigmaR2R适用于用于研发和工业应用的各种功能材料的槽模涂层。关键特性非接触式涂层，精度在µ m以内干膜厚度从nm到µ m均匀涂层宽度从1毫米到100毫米优异的层均匀性和可重复性专为柔性基板设计通过直观的触摸面板半自动喷涂内置加热板烘干无缝通风柜和手套箱集成即插即用安装技术规格重量:19kg基材辊宽:110毫米衬底支架加热:高达160℃电缆间隙建议为100mm外部注射器可逆泵从1毫升至300毫升直观的HMI触摸屏界面手动槽模头高度定位，数字读数+- 10um涂层涂层宽度:1mm ~ 100mm涂层长度:可达500mm涂装速度:0.1 ~ 2.0 m min-1插槽兼容性:FOM SD 25 - FOM SD 100易于使用FOM nanoRC是一种重量轻，成本效益高，易于使用的精密仪器，用于测试柔性基板上可溶液加工材料的槽模涂层。更换旋转涂层虽然旋转镀膜通常用于薄膜的制造，但由于其衬底尺寸限制，批量加工困难以及材料浪费的高比例，它缺乏与工业标准的兼容性。基于多年来对功能性有机材料的研究，以及与世界一流的研究伙伴和客户的密切合作，FOM nanoRC设计用于模拟基于实验室规模的槽模涂层的大型卷对卷机器的涂层过程，从而实现高通量的实验设计。FOM nanoRC使工业界和学术界的研究人员能够开发或转移他们在薄膜方面的知识，并通过入门级投资将其转化为槽模涂层制造协议。有成本效益的无论您是在进行基础研究还是为您的产品开发新工艺，FOM nanoRC都可以在最小的规模上提供直接和相关的可扩展性证明，从而避免了与更大尺寸中试线相关的高材料消耗和麻烦。

XTS 无损卷封检测系统 CMC-KUHNKE无损卷封检测系统，通过X光技术检测卷封结构尺寸和紧密度的设备。实现真正意义上的卷封无损检测。对卷封进行扫描，从而确定内部各个结果的位置，进而测量出各结构的尺寸，清晰了解卷封内部的结构的褶皱情况。无损卷封检测的优势，在于卷封检测的零损耗；检测效率提升50%；360°扫描卷封紧密度；适用于全部食品和饮料罐罐型。无损卷封检测配置实验室版本和全自动版本，能达到 FDA 对二重卷检测的标准。产品亮点与性能• 高效，安全• 不损耗样品• 有全球性保护的专利• 360°紧密度扫描• 系统独立完成检测• 世界级的重复性和再现性（R&R）• 带窥视窗的自动防护门• 自动全卷封紧密度检测• 自动焊缝（三片罐）区域识别• 自动“酒窝”（食品罐底盖）区域识别• 自动拉环识别• 完美的X射线辐射防护（TüV Rheinland检测 0.1 mSv/年）• 简便的校准验证模式技术参数最大尺寸:603 (153 mm), 0.5 in (12mm) Height最小尺寸:109 (40 mm), 9.5in (240mm)Height电源要求:100-240VAC, 50/60 Hz计量单位:Inch, mm, %输出：基于以太网的计算机接口、 ASCII文本、SQL数据库接口语言: 英语，德语，中文，荷兰语，西班牙语，日语规格: 760 mm x 850 mm x 650 mm (30 in x 33 in x 26 in)分辨率: 卷封结构尺寸±: 0.0001 in (0.001 mm) 卷封紧密度: ±1%精度: 卷封结构尺寸±: 0.001 in (0.01 mm)卷封紧密度: 5%

1 产品概述: 原子层沉积（Atomic Layer Deposition, ALD）是一种先进的薄膜沉积技术，它通过化学反应将物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面。这种技术属于化学气相沉积的一种，但其独特之处在于其自限制性和互补性，使得对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力。ALD广泛应用于力学、物理学、材料科学以及纳米技术等领域。2 设备用途：原子层沉积设备主要用于在各种基底上沉积高质量的薄膜，其应用范围包括但不限于：半导体领域：用于晶体管栅极电介质层（如高k材料）、光电元件的涂层、集成电路中的互连种子层、DRAM和MRAM中的电介质层，以及集成电路中嵌入电容器的电介质层等。纳米技术领域：用于制备中空纳米管、隧道势垒层、光电电池性能的提高、纳米孔道尺寸的控制、高宽比纳米图形、纳米晶体、纳米结构、中空纳米碗等复杂纳米结构。此外，还可用于纳米颗粒、纳米线等材料的涂层。其他领域：包括微电子、食品包装、光电、催化剂、储能技术、航天器外壳聚合物涂层等3 设备特点 高度可控性：沉积参数（如厚度、成份和结构）高度可控，能够精确控制薄膜的厚度至纳米级甚至亚纳米级。 优异的均匀性和一致性：所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀，这对于提高器件性能至关重要。 广泛的适应性：设备能够适应不同尺寸和形状的基底，包括平面基底和复杂的三维结构。 高效性：通过优化工艺参数，可以实现高效的薄膜沉积，提高生产效率。 灵活性：可沉积多种类型的材料，包括金属氧化物（如ZnO、TiO2、Al2O3、SnO2）、金属（如Pt、Ir）等，满足不同应用需求。 4 技术参数和特点：卷筒纸宽度：大420mmALD镀膜厚度：大100nm动态沉积速率 （Al2O3）： 10 nm *m/min过程温度：高 250°C

DCN是狭缝涂布Slot Die Coater, 微凹印Micro Gravure 及 旋转丝印Rotary Screen设备的制造商之一，尤其是R2R工艺畅销； 现已推出R&D研发系列，实验室R2R小型试验线，Roll to Roll中试线，和全集成量产线。 DCN的设备畅销日韩及欧美印刷电子市场，并得到行业著名客户长期的全球范围合作，如3M以及附属工厂，Samsung三星电子，三星化学及其合作的供应商，LG显示及LG化学及其相关的供应商和代工厂。涂布工艺介绍：Slot Die:狭缝涂布仪是一种制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（LCD,OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏，电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高效，高均匀，高性能的涂布。 Micro Gravure 微凹印： R&D实验室研发系列：Lab Slot Die Coater：实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围 Table Slot Die Coater：全自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围Lab R2R Coater：实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能Lab R2R Coater：多用途辊式涂布仪；模块包括Gravure Offset,Plater Offset,Gravure,Blade Coating 可调速度及压力进行膜厚改变；优越性能保证了可重复测试 Production & Industry 中试线及量产系列：Multi Layer R2R Coating System 多层卷对卷涂布量产线 连续的多层模块生产包括Slot Die狭缝涂布及Rotary Screen旋转丝印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；One Layer R2R Coating System 单层卷对卷涂布量产线 可选涂布模块包括Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Double Sided R2R Coating System 双面卷对卷涂布量产线 轻松转换和结合Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 高速涂膜工艺且保证优异的均匀一致膜厚； 优良的柔性衬底张力控制；Rotary Screen R2R Printing System 卷对卷旋转丝印涂布系统 连续丝印工艺保证一致均匀图形；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Multi Lamination R2R System 多功能层压卷对卷系统 实时双面Lamination and De-Lamination工艺；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；集成3个层压辊轮以及3个De-Lamination辊轮；Dip Coating R2R System 卷对卷预浸料成套量产线 设计工艺保证了优异的均匀一致膜厚。如今预浸料复合产品的应用正在迅速地增长，这种快速增长的需求促使DCN公司发展了新的涂布技术和高度创新的预浸料生产技术。预浸料作为复合材料的中间材料具有很多优异的性能， 预浸料制品具有高刚度、高拉伸强度、低密度、耐腐蚀、耐振动、抗疲劳性能好等特点，DCN预浸料生产设备具有操作使用方便、维护成本低、集成度高、性能优越等特点。

如果需要在最短的时间内将材料离线分切成短卷，那么配备纸芯库和成卷处理系统的ShortSlit全自动短卷分切卷绕机组系列将是最佳选择，在特殊生产要求中也可配备撒粉机。该机组系列的一个最大特点是在处理不同的材料时，可完成自动换卷时的自动横切和粘帖系统，该系统也可实现自动起卷时无需仁和胶带或粘结剂。另外该机组还可以用于在线生产材料的分切。ShortSlit机组有手动、半自动横切系统可选。技术参数：最大幅宽：3600 mm母卷最大重量：4000 kg材料厚度可达： 2000 μm成卷纸芯直径：1"-6"纸管，塑料管或无卷管分切系统：剪切，切槽分切，压切最小分切宽度：200 mm最大复卷直径：Φ500 mm最大运行速度：400 m/min.运行周期：例如，在25秒内可完成50m材料卷取适用材料：包装用膜，纸张，无纺布层压材料，铝箔复合材料

CMC-KUHNKE无损卷封检测系统，通过X光技术检测卷封结构尺寸和紧密度的设备。实现真正意义上的卷封无损检测。对卷封进行扫描，从而确定内部各个结果的位置，进而测量出各结构的尺寸，清晰了解卷封内部的结构的褶皱情况。无损卷封检测的优势，在于卷封检测的零损耗；检测效率提升50%；360°扫描卷封紧密度；适用于全部食品和饮料罐罐型。无损卷封检测配置实验室版本和全自动版本，能达到 FDA 对二重卷检测的标准。产品亮点与性能• 高效，安全• 不损耗样品• 有全球性保护的专利• 360°紧密度扫描• 系统独立完成检测• 世的重复性和再现性（R&R）• 带窥视窗的自动防护门• 自动全卷封紧密度检测• 自动焊缝（三片罐）区域识别• 自动“酒窝”（食品罐底盖）区域识别• 自动拉环识别• 完美的X射线辐射防护（TüV Rheinland检测 0.1 mSv/年）• 简便的校准验证模式

一、防火卷帘卷门机高低温试验箱简介：防火卷帘卷门机高低温试验箱符合GB14102.2-2024防火卷帘 第2部分防火卷帘用卷门机高低温试验、恒定湿热试验、低温贮存试验。同时适用于检测各种产品、各种材料或电器、仪器、仪表、电子元器件的在高温、低温环境下的可靠性、适应性指标的设备。二、防火卷帘卷门机高低温试验箱符合标准：GB14102.2-2024防火卷帘 第2部分防火卷帘用卷门机高低温试验GB/T2424.1-2015环境试验 GB/T2424.5-2021环境试验 第3部分GB/T2424.6-2021环境试验 第3部分GB/T2424.27-2013环境试验 GB/T2423.1-2008电工电子产品环境试验试验A:低温GB/T 10592-2008&ensp 高低温试验箱技术条件三、防火卷帘卷门机高低温试验箱技术参数：1、规格：100L工作室尺寸：400×500×500mm（宽深高）外形尺寸：660×1300×1800mm（宽深高）2、温度范围 温度范围：-40℃～150℃ 温度波动度：≤±0.5℃温度均匀度：≤2℃温度偏差：≤±2℃升温速率：3℃/min、空载，全程平均降温速率：0.7~1℃/min（+150℃--70℃。空载，全程平均3、控制系统控制仪表：7寸TFT真彩液晶56万色分辨率800*480亮度300cd/m传感器：PT100高精度温度传感器超温保护：韩国/（奥拓尼克斯）加热系统：独立系统，镍铬合金电加热式加热器制冷系统：全封闭，原装法国“泰康”/全封闭风冷复迭压缩制冷方式电源电压：AC220V 50Hz4、测试条件高温试验温度:55 ℃±2 ℃ 时间:16h 工作状态:接通电源,并处于待机状态2 低温试验温度:-25 ℃±2 ℃ 时间:16h 工作状态:接通电源,并处于待机状态3 恒定湿热试验温度:40 ℃±2 ℃ 相对湿度:(93±3)% 时间:4d 工作状态:接通电源,并处于待机状态4 低温贮存试验温度:-40 ℃±2 ℃ 时间:72h 工作状态:非通电状态