金相研磨抛光机

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

详细介绍：耐博检测技术公司研制和生产的金相抛光织物系列，专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的优质织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和很长的使用寿命。如果将该系列抛光织物及本公司生产的金刚石研磨抛光系列产品和金相抛光润滑冷却液配套使用。

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

产品特点：本产品含有经过精选的多晶金刚石和特殊的研磨介质，用于各种金属、陶瓷、符合材料及玻璃、宝石等的研磨和抛光，特别适用于金相研磨和抛光。详细介绍：

UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机载样盘同时可装卡6个镶嵌样品。技术参数1、载样盘直径：Φ150mm2、载样孔直径：Φ22mm、Φ25mm、Φ30mm、Φ45mm

金刚石抛光剂广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、硬质合金及淬火钢材的高光亮度抛光，用于金相试样抛光时，更加凸显其独特的优越性，能够使试样更真实地显示其金相组织。技术参数粒度W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、W28、W40

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

产品简介：磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。 产品型号磁性树脂金刚石研磨抛光盘技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ200mm、Φ300mm、Φ381mm如有特殊要求请与我司销售人员联系！

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。抛光布Akasel的抛光布适用于金属和其他材料的抛光，是我司在丹麦的工厂专门开发和生产的，因此，我们可以保证每块抛光布的均匀性和质量。这也意味着，除了标准尺寸外，我们还可以根据要求提供任何尺寸或直径的Aka抛光布，最大可达1250 mm。Akasel的抛光布（Aka-）具有以下优点：布纤维与一种耐水、乙醇和油的聚合物阻隔层层压在一起，可保护布料免于磨损，并确保金刚石与样品表面保持良好接触，从而以最低的成本完成快速制备。低粘性的胶将抛光布牢牢地保持在盘上，同时易于清除，且不会在制备盘上留下任何残留物用于磁性支持盘的Mag磁性抛光布与上述抛光布相同，但层压在钢盘上。这些钢制圆盘配有3个卡口，便于拆卸。我们的抛光布种类繁多，涵盖金刚石抛光、最终金刚石抛光和氧化物抛光，可为所有材料实现出色的制备效果。Plaran是一种编织尼龙cloth，可用于软质材料的精细研磨和硬质材料的抛光。建议与15-3 μm的金刚石悬浮液一起使用。Paran-S是一种无纺涤纶cloth，可用于软质材料的精细研磨和抛光硬质材料。建议与15 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。丝绸是一种100%编织的丝绸抛光布，可用于黑色金属的精细研磨以及抛光，包括对较硬材料和涂层的最终抛光和氧化物抛光。建议与9 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Ramda是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Daran硬。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Daran是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Ramda柔软，也可用于氧化物抛光。建议与6 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran-U是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光和最终抛光。建议与6 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光。建议与6 – 3 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Plural是一种植绒粘布，可快速地一步抛光钢铁、烧结碳化物和其他硬质材料。它还可以用于抛光未经镶嵌的样品。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Napal是一种植绒粘布，可对所有材料进行最终抛光，包括氧化物抛光。建议与1 – 0.025 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Chemal是一种合成泡沫布，与氧化物悬浮液一起，用于对所有材料进行化学/机械最终抛光。 常见问题解答：如何清除制备盘上抛光布的胶水残留物？我们的Aka-polishing cloths配有低粘性胶水，不会在制备盘上留下任何残留物如果抛光布脏了，可以清洗吗？如果您在抛光后遇到划痕，而这在实际的步骤中并不常见，那么这可能是抛光布被某些外来颗粒或较早之前的步骤中遗留的磨料颗粒污染的迹象。对于非常细的颗粒（1 μm或更细），清洗抛光cloth几乎是不可能的，但是对于较粗的颗粒（3 μm），则应该是可行的。您可以利用指甲刷或类似工具，在流动的温水下仔细刷洗抛光布，将所有碎屑清除掉。清洗后，利用机器旋转甩干抛光cloth。当抛光cloth完全干燥后，您可以再次使用它，将它视为新布，并进行所有的涂底处理。如果污染物来自较早的制备步骤，则必须确保样品在从一个步骤到下一个步骤时是绝对干净的。您还需要确保样品已正确镶嵌（使用冷镶嵌环氧树脂），以免碎屑夹在树脂和样品之间的镶嵌间隙中。

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光膏原装进口美国QMAXIS金刚石抛光膏，含有高浓度的金刚石，与水基、或酒精基、或油基的抛光冷却润滑液配合使用。广泛用于不规则样品的手动研磨抛光，尤其适合易被金刚石颗粒嵌入的和对水敏感的材料的研磨和抛光。PolyPaste 多晶金刚石抛光膏MonoPaste 单晶金刚石抛光膏订货信息：PolyPaste 多晶金刚石抛光膏颜色粒径10g/支白色0.25µmPPP-025-10灰色1µmPPP-1-10黄色3µmPPP-3-10橙色6µmPPP-6-10绿色9µmPPP-9-10蓝色15µmPPP-15-10订货信息：MonoPaste 单晶金刚石抛光膏颜色粒径5g/支20g/支白色0.25µmPMP-025-5PMP-025-20灰色1µmPMP-1-5PMP-1-20黄色3µmPMP-3-5PMP-3-20橙色6µmPMP-6-5PMP-6-20绿色9µmPMP-9-5PMP-9-20蓝色15µmPMP-15-5PMP-15-20

磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ150mm、Φ200mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

金相抛光织物适用于各种金相试样及仪器、仪表等零件的精密抛光。精抛后能达到光洁度▽8-▽12。选对抛光织物与相对应的磨料粒度对称，是抛出理想光洁度的关键。抛光织物由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的优质织物为材料。

氧化铈抛光微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用，主要用于玻璃的抛光。技术参数粒度W0.75

金相抛光布是金相制抛光工序最重要的一步，其金相组织呈现的清晰度与抛光息息相关，抛光质量的好坏与抛光布也有紧密的关系。金相抛光布规格有φ200mm；φ220mm；φ230mm；φ250mm及其它定制规格；带背胶或不带背胶。金相抛光布规格有：帆布、平绒、丝绒、真丝、丝绸、呢绒、法兰绒、精抛绒等。

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光液原装进口美国QMAXIS金刚石抛光液，金刚石浓度高，纯度高，微粉粒径一致，分散均匀，性能稳定，且无害环保。金刚石抛光悬浮液磨削能力强，抛光表面效果好，满足各种材料的金相研磨、抛光需求。PolyDia 水基多晶金刚石抛光液MonoDia 水基单晶金刚石抛光液ComboDia 水基单晶金刚石混合抛光液OilDia 油基单晶金刚石抛光液PolyDia 多晶金刚石抛光液 水基订货信息：颜色粒径8oz [240ml]32oz [950ml]1gal [3.8L]黑色0.05µmPP-005-008PP-005-032-灰色0.25µmPP-025-008PP-025-032-蓝色1µmPP-1-008PP-1-032PP-1-128绿色3µmPP-3-008PP-3-032PP-3-128黄色6µmPP-6-008PP-6-032PP-6-128红色9µmPP-9-008PP-9-032PP-9-128褐色15µmPP-15-008PP-15-032PP-15-128MonoDia 单晶金刚石抛光液 水基订货信息：颜色粒径16oz [470ml]32oz [950ml]1gal [3.8L]木炭色0.1µmPM-01-016PM-01-032-灰色0.25µmPM-025-016PM-025-032-白色1µmPM-1-016PM-1-032PM-1-128黄色3µmPM-3-016PM-3-032PM-3-128红色6µmPM-6-016PM-6-032PM-6-128绿色9µmPM-9-016PM-9-032PM-9-128蓝色15µmPM-15-016PM-15-032PM-15-128ComboDia 单晶金刚石抛光液 + 润滑剂订货信息：颜色粒径32oz [950ml]1gal [3.8L]白色1µmPE-1-032PE-1-128黄色3µmPE-3-032PE-3-128红色6µmPE-6-032PE-6-128绿色9µmPE-9-032PE-9-128OilDia 单晶金刚石抛光液 油基订货信息：颜色粒径16oz [470ml]灰色0.25µmPO-025-016灰色1µmPO-1-016黄色3µmPO-3-016橙色6µmPO-6-016绿色9µmPO-9-016

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

进口抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步， 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步，新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广。

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

红色金丝绒抛光垫适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数直径Φ70mm、Φ203mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。） 产品材质*产品规格*产品价格浸渍增强无纺布抛光布2FC1型,自粘型，200mm 5片/盒7002FC1型,自粘型，250mm 5片/盒9002FC1型,自粘型，300mm 5片/盒1100合成纤维塔夫绸抛光布2TT1型，自粘型，200mm 5片/盒7002TT1型，自粘型，250mm 5片/盒9002TT1型，自粘型，300mm 5片/盒1100超细天然纤维缎编织抛光布2TS3型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS3型,自粘型，230mm 5片/盒7002TS3型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS3型,自粘型，300mm 5片/盒900超细天然纤维绸编织抛光布2TS4型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS4型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS4型,自粘型，300mm 5片/盒900高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）3SE2型，自粘型，200mm 5片/盒6003SE2型，自粘型，250mm 5片/盒8003SE2型，自粘型，300mm 5片/盒900高耐磨羊毛编织抛光布3TL1型,自粘型，200mm 5片/盒 7003TL1型,自粘型，250mm 5片/盒 9003TL1型,自粘型，300mm 5片/盒 1100短植绒抛光布3FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5003FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7003FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800长植绒抛光布4FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5004FV1型,自粘型，230mm 5片/盒6004FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7004FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）4MP1型,自粘型，200mm 5片/盒11004MP1型,自粘型，230mm 5片/盒14004MP1型,自粘型，250mm 5片/盒16004MP1型,自粘型，300mm 5片/盒1900 金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程，初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕，获取平整的样品表面，终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕，达成完美光滑观测面。预抛时底部由硬质磨盘支撑，金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层（深干扰层）预抛时底部由软质织物支撑，金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层（深干扰层）1.抛光布一旦和磨料配伍是很难清洗干净的，如需更换磨料只能向上匹配，如用过3um可使用6um的磨料，但不能在使用1um的磨料.2.抛光布在使用磨料前需要充分润湿，以便磨料颗粒的分散和与纤维空间的结合。a.使用悬浮液的可以用水充分润湿后，甩去浮水开始滴加悬浮液。b.使用抛光膏和抛光喷雾的可以使用具备乳化和悬浮活性的专用润滑稀释液702型（水敏感的使用704型）来润湿，先喷抛光喷雾或者涂抛光膏再喷稀释液润湿。3.抛光布是可以短期内重复使用的，在二次使用前，使用专用润滑稀释液来润湿，可以有效唤醒织物中沉积的磨料重新发挥作用。4.抛光布经过多次使用后会有样品碎屑残留，是需要清洗的，清洗的方法是使用通用复合清洁剂742型或者使用的悬浮液布面用清水，使用抛光膏的用酒精，低转速配合塑料刮片由中心向边缘清洁。

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

1. 金刚石抛光膜DIAMOND LAPPING FILM钻石颗粒，背衬是3mil厚度的涤纶。大小8英寸和12英寸两种可选，粒度大小可选，背衬有粘附（PSA）和不粘附（PB）两种，单张起售。货号产品名称规格50350-01Diamond Lapping Film， P/B, 0.1um8英寸50350-03Diamond Lapping Film， P/B, 0.25um8英寸50350-05Diamond Lapping Film， P/B, 0.5um8英寸50350-10Diamond Lapping Film， P/B, 1um8英寸50350-15Diamond Lapping Film， P/B, 3um8英寸50351-01Diamond Lapping Film， PSA, 0.1um8英寸50351-02Diamond Lapping Film， PSA, 0.25um8英寸50351-03Diamond Lapping Film， PSA, 0.5um8英寸50351-04Diamond Lapping Film， PSA, 1um8英寸50351-05Diamond Lapping Film， PSA, 3um8英寸 2. 研磨纸1um的金刚石抛光膜抛光后紧接着用到的“蓝研磨纸”和“绿研磨纸”。样品最终观察前的最后抛光程序用到。可以呈现一个完美平整无痕的观测平面。只有8英寸一个规格，背衬有粘附(PSA)和不粘附（PB）之分。单张起售。 货号产品名称规格50336-PBTrue Blue Film 蓝研磨纸8英寸（20.3cm）50338-PBFinal Green Film 绿研磨纸8英寸（20.3cm）50336-PSATrue Blue Film8英寸（20.3cm）50338-PSAFinal Green Film8英寸（20.3cm）

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。 技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节 研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨 研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？ 基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

美国QMAXIS研磨抛光片原装进口美国QMAXIS研磨抛光片，是将微米级、纳米级的金刚石、或氧化铝、或碳化硅微粉，用高分子粘合体系均匀地涂布在高强度的Mylar片（麦拉片）表面，具有出色的平整度、边缘保持和共面性。研磨抛光片适用于玻璃、陶瓷、硬质金属、复合材料、光纤、光学元件、半导体、芯片、电路板以及用于SEM和TEM分析的微电子元器件的研磨、减薄和抛光。适合手动研磨抛光，干法、湿法均可。订货信息：DiaFilm 金刚石研磨抛光片 包装规格：5片/包颜色粒径8in [203mm] 带背胶8in [203mm] 不带背胶绿色30µmGFD-08-30GFDX-08-30橙色15µmGFD-08-15GFDX-08-15蓝色9µmGFD-08-9GFDX-08-9棕色6µmGFD-08-6GFDX-08-6粉红色3µmGFD-08-3GFDX-08-3淡紫色1µmGFD-08-1GFDX-08-1灰白色0.5µmGFD-08-05GFDX-08-05浅灰色0.1µmGFD-08-01GFDX-08-01订货信息：AlumiFilm 氧化铝研磨抛光片 包装规格：100片/包颜色粒径4in [102mm] 带背胶8in [203mm] 带背胶绿色30µmGFA-04-30GFA-08-30黄色12µmGFA-04-12GFA-08-12蓝色9µmGFA-04-9GFA-08-9粉红色3µmGFA-04-3GFA-08-3淡绿色1µmGFA-04-1GFA-08-1白色0.3µmGFA-04-03GFA-08-03订货信息：CarbiFilm 碳化硅研磨抛光片 包装规格：100片/包粒径4in [102mm]带背胶5in [127mm]带背胶8in [203mm]带背胶30µmGFC-04-30GFC-05-30GFC-08-3012µmGFC-04-12GFC-05-12GFC-08-129µmGFC-04-9GFC-05-9GFC-08-93µmGFC-04-3GFC-05-3GFC-08-31µmGFC-04-1GFC-05-1GFC-08-1

铸铝抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数Φ203mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

美国QMAXIS金相抛光布原装进口美国QMAXIS抛光布，由各种高品质的抛光织物制成，无绒、短绒和长绒等不同编织属性的金相抛光布，与不同粒度的金刚石或氧化物抛光液配合使用，适用于各种材料的表面抛光。背衬有带背胶和磁性背衬两种，更换更方便——提高制样效率；表面更平整——为高品质的抛光效果奠定基础。粗抛：PlanCloth, PerfoCloth, NylonCloth中抛：DuraCloth, SatinCloth, SilkCloth精抛：MicroMet, VelCloth, FlocCloth, ChemoCloth应用于粗抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] PlanCloth 抛光布 聚酯纤维尼龙紧密编织，无绒 配合6µ m及以上的金刚石抛光 液，应用于铁基、热喷涂金属涂 层和硬的/非常硬的材料的抛光PSA10片/包PCC-01-08PCC-01-10PCC-01-12Magnetic5片/包PCC-01-08MDPCC-01-10MDPCC-01-12MD PerfoCloth 抛光布 带孔的、硬的合成化纤无纺布 配合6µ m及以上的金刚石抛光 液，应用于陶瓷、碳化物、岩 相、硬质合金、玻璃和金属等 材料的抛光PSA5片/包PCC-02-08PCC-02-10PCC-02-12Magnetic5片/包PCC-02-08MDPCC-02-10MDPCC-02-12MD NylonCloth 抛光布 尼龙织物，无绒 配合6μm及以上的金刚石抛光 液，应用于铁基、烧结碳化物和 铸铁等材料的抛光PSA10片/包PCC-03-08PCC-03-10PCC-03-12应用于中等抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] DuraCloth 抛光布 硬的合成压缩无纺布，无绒 配合9µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2 抛光液，应用于 黑色金属、有色金属、电子封 装、印刷电路板、热喷涂涂层、 铸铁、陶瓷、矿物、复合材料 和塑料等材料的抛光PSA10片/包PCI-01-08PCI-01-10PCI-01-12Magnetic5片/包PCI-01-08MDPCI-01-10MDPCI-01-12MD SatinCloth 抛光布 人工合成丝和天然丝紧密编织， 无绒 配合9µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于 黑色金属、有色金属、岩相、 陶瓷和涂层等材料的抛光PSA10片/包PCI-02-08PCI-02-10PCI-02-12Magnetic5片/包PCI-02-08MDPCI-02-10MDPCI-02-12MD SilkCloth 抛光布 纯丝紧密编织，无绒 配合9µ m-1µ m的金刚石抛光 液，特别适合抛光膏及液体抛 光蜡等抛光介质，应用于黑色 金属、有色金属、微电子、涂 层和岩相等材料的抛光PSA10片/包PCI-03-08PCI-03-10PCI-03-12Magnetic5片/包PCI-03-08MDPCI-03-10MDPCI-03-12MD应用于精细抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] MicroMet 抛光布 人造纤维与棉背衬编织，长绒 配合3µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于所 有材料的精细抛光PSA10片/包PCF-01-08PCF-01-10PCF-01-12Magnetic5片/包PCF-01-08MDPCF-01-10MDPCF-01-12MD VelCloth 抛光布 软的人造天鹅绒，短绒 配合1µ m及以下的Al2O3、SiO2 抛光液，应用于软的金属和电子 封装等材料的精细抛光PSA10片/包PCF-02-08PCF-02-10PCF-02-12 FlocCloth 抛光布 软的长绒织物 配合3µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于黑 色金属、有色金属和烧结碳化物 等材料的最终抛光，配合氧化铝 抛光粉则适用于所有材料，特别 适合手动抛光和未镶嵌试样的精 细抛光PSA10片/包PCF-03-08PCF-03-10PCF-03-12Magnetic5片/包PCF-03-08MDPCF-03-10MDPCF-03-12MD ChemoCloth 抛光布 耐化学腐蚀合成织物，无绒 配合1µ m及以下的Al2O3、SiO2 抛光液，应用于钛合金、不锈 钢、铅/锡焊料、电子封装、软 的有色金属和塑料等材料的精细 抛光PSA10片/包PCF-04-08PCF-04-10PCF-04-12Magnetic5片/包PCF-04-08MDPCF-04-10MDPCF-04-12MD