样品的制备 微观结构研究
为了揭示样品的真实微观结构,通 常必须经过费时费力的表面处理步 骤。通常样品应嵌入、研磨并仔细 抛光。研磨和抛光程序会在样品表 面形成划痕和塑性变形层(高达 20µ m),这可能导致对微观结构的 错误解释。 在抛光状态下,可以在光学显微镜 或扫描电子显微镜(SEM)中观察 到材料的微观结构,其成分在反射 率或硬度上有很大差异(e.g. PbSb-Sn or Bi-Mn alloys).然而,对于许多材料,微观结构 只能通过使用危险化学品的蚀刻 来揭示。我们提出了一种利用辉光放电 Grimm型溅射源进行表面预处理 的新技术。与常规方法相比,该 方法简单、快速。而且它不需要 使用化学药品̷̷