因建设高性能铝合金材料试验检测中心，需购买扫描电镜和金相显微镜，望专家能给予指导意见，仪器厂家可直接和我联系。邮箱：nscjg@163.com, 电话05358609816
我们的扫描电镜性能不是很好，放大倍数不是很高，样品好的话5000倍吧。现在领导想赔个能谱，想了解一下电镜的性能对能谱影响大吗？配个好一些的能谱的话，能不能发挥出能谱的性能？谢谢！！
[color=red]资料包括：[/color]1 扫描电子显微镜： 介绍了采用半导体检测器、YA；检测器和鲁宾逊检测器等反射电子检测器，于，以低真空方式进行观察的低真空扫描电子显微镜及其在耐火材料上的应用例。2 扫描电子显微镜的应用3 扫描隧道显微镜在生物医学中的应用4 国内外扫描电镜发展的特点5 高性能多用途的扫描电子显微镜JSM—58006 常规扫描电子显微镜的特点和发展[url=http://www.instrument.com.cn/download/shtml/014678.shtml]下载资料[/url]这是《湖南冶金》杂志上的一篇文章，对我们搞电镜的很有用，等全文转载于此，希望对大家有用！并向作者张益谨、杨迈莉表示感谢！[color=red][b]扫描电子显微镜的安装与验收[/b][/color][提要]本文对如何安装调试与验收扫描电子显微镜作了简单介绍，并以日立S—570型号为例，对验收技术指标、方法及误差计算进行了具体说图。随着我国科学技术与教育事业的发展，电子显微分析技术已在各个领域得到广泛的应用。现已有各种类型及规格近千台，其中半数以上为扫描电子显微镜。由于它具有制样简单，图象直观，且易掌握及理解等优点，因此，将有更多科研单位，高等院校及工厂实验宝购置这种先进仪器。这样，如何进行安装、调试及验收就成为很多人关心及要求了解的问题。一． 安装调试程序安装调试工作包括下述五个环节。1．安装前的准备 (1)安装条件：主要捡查水电供应，接地电阻，防震，防电磁干扰等条件是否满足仪器说明书的要求。可参阅《实验技术与管理》 (2)1986。(2)翻译说明书及操作人员的预先培训。 (3)安装调试除准备一套开箱、运输工具外，还要求准备下列仪器材料如示波器、数字万用表、电离真空计、超声波清洗器、恒温干燥箱、放大冲洗设备、化学药品(如酒精、丙酮)等等。
领导要求调查一下扫描探针（原子力）显微镜，打算购买一个，我看了一下，国内外的很多家单位都有产品，这下不知道怎么搞了，也不知道性能上怎么区分啊。我们的要求是首先满足最低要求，能观测三维形貌，测量厚度，其次再考虑其他的功能模块。也就是说满足首先条件，预留其他功能窗口，大家帮忙推荐一下。也可以直接发我的信箱guigxms@163.com，宋。谢谢
最近看到扫描电镜的减震方法非常多，其中最常见的大家说的是机械减震和气垫减震，还有主动减震，请教一下，这几种减震方法主要原理是什么呢？各种减震方法的优缺点在哪里？听说气垫减震时间长了以后，橡胶会老化，若是气压太大，则会损坏气垫，若是气压小，则又起不到减震的效果，请问会不会存在这样的问题呢？
扫描电镜技术原理及方法： 原理：从电子枪阴极发出的直径20(m～30(m的电子束，受到阴阳极之间加速电压的作用，射向镜筒，经过聚光镜及物镜的会聚作用，缩小成直径约几毫微米的电子探针。在物镜上部的扫描线圈的作用下，电子探针在样品表面作光栅状扫描并且激发出多种电子信号。这些电子信号被相应的检测器检测，经过放大、转换，变成电压信号，最后被送到显像管的栅极上并且调制显像管的亮度。显像管中的电子束在荧光屏上也作光栅状扫描，并且这种扫描运动与样品表面的电子束的扫描运动严格同步，这样即获得衬度与所接收信号强度相对应的扫描电子像，这种图象反映了样品表面的形貌特征。第二节扫描电镜生物样品制备技术大多数生物样品都含有水分，而且比较柔软，因此，在进行扫描电镜观察前，要对样品作相应的处理。扫描电镜样品制备的主要要求是：尽可能使样品的表面结构保存好，没有变形和污染，样品干燥并且有良好导电性能。一．样品的初步处理(一) 取材取材的基本要求和透射电镜样品制备相同。但是，对扫描电镜来说，样品可以稍大些，面积可达8mm×8mm，厚度可达5mm。对于易卷曲的样品如血管、胃肠道粘膜等，可固定在滤纸或卡片纸上，以充分暴露待观察的组织表面。(二) 样品的清洗用扫描电镜观察的部位常常是样品的表面，即组织的游离面。由于样品取自活体组织，其表面常有血液、组织液或粘液附着，这会遮盖样品的表面结构，影响观察。因此，在样品固定之前，要将这些附着物清洗干净。(三) 固定固定所用的试剂和透射电镜样品制备相同，常用戊二醛及锇酸双固定。由于样品体积较大，固定时间应适当延长。也可用快速冷冻固定。(四) 脱水样品经漂洗后用逐级增高浓度的酒精或丙酮脱水，然后进入中间液，一般用醋酸异戊酯作中间液。二．样品的干燥扫描电镜观察样品要求在高真空中进行。无论是水或脱水溶液，在高真空中都会产生剧烈地汽化，不仅影响真空度、污染样品，还会破坏样品的微细结构。三．样品的导电处理生物样品经过脱水、干燥处理后，其表面不带电，导电性能也差。用扫描电镜观察时，当入射电子束打到样品上，会在样品表面产生电荷的积累，形成充电和放电效应，影响对图象的观察和拍照记录。
超声波扫描显微镜的主要用途：（1）材料的密度及晶格组织分布（2）材料内部的裂纹（3）材料内部分层缺陷，夹杂物等（4）材料的杂质颗粒，夹杂物，沉淀物等（5）材料的空洞，气泡，间隙等超声波扫描显微镜的应用领域：（1）在半导体及太阳能晶锭材料上的应用：分析晶锭内部缺陷等。（2）在半导体Wafer和太阳能晶圆上的应用：涂覆后和印刷后晶圆片上的分层缺陷等。（3）在半导体封装检测上的应用：塑封层、芯片顶部、 芯片粘接层、导线框、BGA 样品以及Flip Chip Underfill 上的分层缺陷等。 （4）在SMT贴装电路器件上的应用贴装后的MLF器件检测的重点是金线周围、基底和引出线之间的的分层缺陷，检测SMD贴片电容的内部缺陷等。（5）在MEMS器件上的应用：晶圆键合的超声检测。（6）在其他工业产品上的应用：钻头材料焊接面的结合情况，电池密封性的超声检测。（7）在材料科学领域的应用：镀层界面、铬合金镀层界面、镀膜层界面、多碳合金的超声金相分析、材料的硬度分析、材料内部的裂纹分析、高性能陶瓷内部的裂纹分析等。 （8）在生物医疗研究领域的应用：活体细胞组织裂变过程，不同活体细胞组织裂变过程，骨骼切片的超声图像等。
刚引进的一台扫描电镜据说有防震功能，但是在使用时发现，每次使用都需要打气重新找平衡，否则电镜主腔体部分左右发生倾斜，请问这属于正常现象吗？
冷热场扫描电镜性能比较一．电子发射源 热场在总发射电流（Total emissioncurrent）、最大探针电流（Maximum probecurrent）、电子束噪声（Beam noise）、发射电流漂移（Emissioncurrent drift）、工作真（Operatingvacuum）、阴极还原（Cathoderegeneration）、对外部影响的敏感性（Sensitivity to externalinfluence）等方面都具有绝对的优势。这些参数直接影响电镜的性能，这也是冷场发射所望尘莫及。 在阴极半径（Cathode radius）、有效电子源半径（Effective sourceradius）、发射电流密度（Emission currentdensity）、标准亮度（Normalisedbrightness）等方面，冷场发射略胜一筹。这几个参数总起来说就是冷场发射阴极的面积较小、能量集中，便于将电子束聚焦于一个很小的点，以提高分辨率。但是在现代的电镜技术条件下，热场发射电镜通过采取各种有效措施，也能够将电子束汇聚于一个理想的点，达到冷场发射电镜的分辨率水平。二．电镜性能1.稳定性 冷场发射电镜灯丝会吸附电子枪内的残留气体，随着时间的增长，发射电流越来越不稳定，需要定时（大约8小时一次）进行加热还原（flash，约需半小时），给使用维护带来不便。而热场发射电镜无此烦恼。 热场发射电镜的发射电流稳定度较好，漂移小于0.5%/h（ZEISS电镜可达到0.2%/h），而冷场发射则比这要大一个数量级。2.最大探针电流 热场发射电镜探针电流一般可达10nA，而冷场电镜却要低约1个数量级。3.工作真空度 热场发射电镜电子枪所需的工作真空度较低（≤1x10-8hPa），比较容易达到，一般只用一级离子泵就可以了。而冷场电镜的工作真空度要高2个数量级，一般要用两级离子泵，对真空密封等要求苛刻，娇气，难以维护。冷场发射电镜样品室的真空度要求也较高，这对于不太清洁、含水、含油、有气体析出的样品，抽真空就很困难。有多种型号的热场发射电镜具有低真空方式，而冷场电镜难以达到。
我想问下大伙，有没有知道上海卓伦的扫描探针显微镜好用还是中科奥纳的扫描探针显微镜好用呢？另大家还有没有人知道国内有没有做得比较成熟的显微镜厂商呢？希望大家踊跃发言。
有个大学测试中心的同学问道：核磁共振/扫描电镜/透射电镜/XRD/XPS能谱仪，这些设备是否能申请CMA和CNAS.他们其他的设备如气相色谱仪/液相色谱仪/液质联用仪/分光度计等，都有国家标准，确定可以申请CMA和CNAS。但核磁共振/扫描电镜/透射电镜/XRD/XPS能谱仪，找不到相应的标准方法，以前教育部有通则方法，但CNAS不认同，说不是检测方法标准，不予认同。请教各位高人，核磁共振/扫描电镜/透射电镜/XRD/XPS能谱仪是否可以申请CMA和CNAS，常用的标准号是多少？
扫描电镜高质量应用，意味着高分辨高信噪比，在一定扫描电镜时间内，追求小束斑大电流，对于钨灯丝和六硼化X阴极材料的热发射枪扫描电镜，束斑尺寸增加，束斑电流增大，图像信噪比提高，但分辨率降低。束斑尺寸和束斑电流关系如下图LaB6和W，二者呈线性关系，很好理解。但场发射枪扫描电镜，高分辨范围内，在束斑尺寸也就是分辨率变化很小情况下，束斑电流变化两个数量级，接近100倍，这是什么原因呢？ 见下图 Feild Emssion Gun 曲线小驰请有操作经验的兄弟姐妹解惑，谢谢!http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/03/201703161732_01_3123849_3.jpg
请问，电子探针与扫描电镜的区别是什么？
厂商总是宣传自己的仪器是什么什么高性能仪器，那应该怎样去理解所谓的高性能呢？什么是仪器的高性能？
超声波扫描显微镜特点及原理介绍超声波仪器的分类 声纳频率范围： 》500KHz分辨率范围： m－cm应用领域：航海测绘等B-超 频率范围： 1 MHz分辨率范围：cm－mm应用领域：医疗诊断等超声波探伤 频率范围: 100 KHz–15MHz分辨率范围： 0.01- 5 mm应用领域：工业探伤等超声波显微镜 频率范围: 5–2000MHz分辨率范围: 0.3-100μm应用领域：电子工业等超声波的传播方式 超声波与电磁波不同，是一种机械波，其传播的方式是通过介质中分子的振动进行的，因此超声波的传播情况和介质具有非常大的关系，通常来说，介质的密度越大超声波传播的速度越快，衰减也越低，在稀薄的空气中，超声波无法传播。超声波根据其介质分子的振动方向和传播方向的不同，分为纵波和横波二种。超声波检测的特点l 无损检测可做非破坏性的缺陷检测，是目前最常用的无损检测手段之一；l 纵向(Z)方向具有高检测分辨本领对于Z 方向的缺陷分辨率可以达到nm级水平(指缺陷厚度)；l 材料的力学性能检测由于材料密度决定了声阻抗，因此可以通过高频超声检测得到材料密度的分布，从而推导出应力场，裂纹变化趋势等材料的力学性能； 主要用途l 材料的密度及晶格组织分布l 材料内部的裂纹l 材料内部分层缺陷，夹杂物等l 材料的杂质颗粒，夹杂物，沉淀物等l 材料的空洞，气泡，间隙等超声波显微镜和X-光检测技术的比较X-光检测适用于检测内部的结构性情况，比如 IC 集成电路内部的金线分布等，但并不能检测芯片与基底之间粘接层的缺陷，超声波扫描显微镜主要适用与检测这些粘接层或其他界面之前的缺陷。
大家好！不知道有谁知道深圳哪里有做扫描电镜的？
1.功能扫描隧道显微镜STM 原子力显微镜AFM自动进针功能 真三维图形处理功能深度和宽度定标功能自动保存扫描参数WINDOWS 9X操作系统的控制软件2.特点整机自动化自动记录参数图象数据定标配图象处理软件3.技术指标分辨率 横向：≥0.1nm 纵向：≥0.01nm；扫描范围 3μm×3μm；18μm×18μm；扫描频率 1Hz~100Hz步进电机及丝杠控制 10nm精度光栅扫描旋转角度 0~360º样品台大小 10x10x10mmD/A精度：16bit,32通道；A/D精度：16bit,10通道偏置电压 0~10V隧道电流预置 0.5nA~10nA图像分辨率 512×512灰度等级 256计算机 优于P42.0G/256M/40G4.整套仪器的其他附件、连接电缆、软件确保仪器正常操作和日常维护，满足基本功能和以上技术参数。
是不是有些电子探针就有扫描电镜的功能呢？做矿物（比如锆石）的阴极发光图像是用的什么仪器阿？有人知道吗？谢谢！
单位最近要安装一台电子探针，我想找点资料看一下，请问电子探针是扫描电镜吗？在仪器信息网上能找到电子探针的资料吗？如果能的话，告诉我在哪个版块？知道的请说一下，谢谢了！
【英文篇名】 The introduction of Scanning Probe Microscope and its application in optical disc R&D 【作者】 李伟权 【作者单位】 光盘及其应用国家工程研究中心 【刊名】 记录媒体技术 , China Mediatech, 编辑部邮箱 2004年 04期 期刊荣誉：ASPT来源刊 CJFD收录刊 【摘要】 本文简要介绍了扫描探针显微镜的原理和技术特点,并详细地阐述了它在光盘研究与开发中的应用。一、扫描探针显微镜扫描探针显微镜(ScanningProbeMicroscope),简称SPM。SPM技术是80年代发展起来的一种突破性的 【英文摘要】 The principle and technical features of Scanning Probe Microscope are introduced. Its application in R&D of optical disc is also illustrated in detail. 【DOI】 cnki:ISSN:1672-1268.0.2004-04-013 [img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=98699]扫描探针显微镜及其在光盘开发中的应用[/url]
山东大学从美国维柯公司DI分部购进扫描探针显微镜一套,该设备是属于多功能配套设备。它包含如下功能:①原子力显微镜;②隧道力显微镜;③电力显微镜;④磁力显微镜;⑤摩擦力显微镜。工作模式可分为:接触式,非接触式,敲打式,力调制等。功能之全是国际上一流的。为此,山东大学于2001年9月9日派遣任可、刘宜华、孙大亮三人赴美国圣巴巴拉市维柯公司DI分部接受培训(扫描探针显微镜生产厂家为美国、、、、、、、
如题，不知哪位老师有扫描探针显微镜的讲学课件？可否给我学习一下？不甚感激！
[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=124996]扫描探针电子显微镜综述[/url]++++分享:扫描探针电子显微镜综述
[size=15px]来源 半导体工程师[/size] 作者：孙千[font=&][font=宋体]扫描电子显微镜（[/font]SEM[font=宋体]）广泛用于纳米制造表征、计量和过程控制。本文讨论了由振动和漂移引起的测量不确定度，以及一些可能的解决方案。[/font][/font][font=&][font=宋体]在[/font]SEM[font=宋体]图像采集过程中，设备可能会受到周围环境的不利影响。环境的机械和噪声会明显的影响电镜性能。[/font]SEM[font=宋体]的镜筒直接耦合到样品台上，因此，通过框架和隔离系统传递到镜筒的任何外部振动最终都可以传递到样品上。传输的振动会在记录的图像中产生有害的假像。[/font][/font][font=&][font=宋体]此外，[/font][/font][b][font=宋体]样品台移动及其组件中的摩擦会导致漂移、不受控制的运动[/font][/b][font=宋体]。[/font][font=宋体][color=#0000ff]温度升高和电子束与电磁场的相互作用也是漂移的原因[/color][/font][font=&][font=宋体]。所有这些都可能破坏[/font]SEM[font=宋体]图像质量，因为漂移可能表现为一定程度的严重图像失真，[/font][/font][b][font=宋体]拉长[/font][font=宋体]和振动通常表现为成像物体边缘的锯齿状[/font][/b][font=宋体]。[/font][font=&]1 [/font][b][font=宋体]振动[/font][/b][font=&]SEM[font=宋体]通常使用单通道的电子探测器，这种探测器要求电子束以逐点的方式扫描整个感兴趣的区域。因此，如果[/font][/font][font=&][font=宋体]电子束在扫描过程中抖动，或者如果样品[/font]/[font=宋体]载物台相对于入射电子束移动[/font][/font][font=&][font=宋体]，就会导致振动或漂移，那么正在记录的数据可能会受到损害。振动会对[/font]SEM[font=宋体]的成像和测量产生明显的不利影响，振动明显时，在观察屏幕上很容易看到，这种情况通常是一些环境参数发生了改变，比如真空泵电机已经打开，或者样品松动。[/font][/font][font=&][font=宋体]仪器操作员或服务工程师通常很容易观察和诊断这种大的振动。[/font][/font][font=宋体][color=#0000ff]调整隔振系统或拧紧样品可能是有效的弥补措施[/color][/font][font=宋体]。在无人值守的全自动仪器中，这个问题可能不容易观察和诊断，最终会导致错误的数据或产品损失。[/font][font=宋体]更细微的[/font][b][font=宋体]纳米级振动[/font][/b][font=&][font=宋体]在图像中更难看到，因此经常无法诊断。在之前的一篇论文中，仅由涡轮分子泵的小型风扇电机在[/font]SEM[font=宋体]图像中引起的振动效应[/font]([font=宋体]以及测量结果[/font])[font=宋体]，被证明是该仪器测量误差的重要组成部分[/font]([font=宋体]图[/font]1)[font=宋体]。[/font]25nm[font=宋体]的误差加宽了所示的半导体线[/font]([font=宋体]图[/font]1b[font=宋体]和[/font]c ),[font=宋体]这是由冷却风扇直接造成的。这很容易通过在慢扫描图像采集期间[/font][/font][font=宋体]打开和关闭风扇来演示[/font][font=宋体]。[/font][font=&][font=宋体]这一误差量虽然令人不安，但当半导体微处理器结构的宽度约为[/font]500-750nm[font=宋体]时，这还不是一个问题，但今天，仅由风扇电机引起的误差范围就比许多当代半导体微处理器门或许多纳米尺寸大得多。因此，[/font][/font][b][font=宋体]这个[/font][font=宋体]振动[/font][font=宋体]范围对于更小纳米尺度的精确测量，是不可接受[/font][/b][font=宋体]。[/font][img=,621,288]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/11/202311172209322828_1450_3233403_3.png!w621x288.jpg[/img][font=&] [/font][font=&][font=宋体]图[/font] 1. [font=宋体]刻意引起的振动对成像和结构宽度测量的影响。[/font](a) SEM[font=宋体]照片，显示小型冷却风扇对图像的影响，光源关闭（上）和开启（下）；[/font](b) [font=宋体]在[/font]SEM[font=宋体]正常运行的典型环境振动水平下，采用任意[/font]40%[font=宋体]正阈值交叉算法进行的线宽测量。[/font](c) [font=宋体]使用相同的测量条件，在引起振动后的相同样品位置进行测量。[/font](HFW = 1050 nm[font=宋体]，[/font]30 keV[font=宋体]）。[/font][/font][font=宋体][/font][font=&][font=宋体]同样如图[/font]1[font=宋体]所示，振动会导致边缘锐度和细节的损失，同时导致纳米和亚纳米结构和颗粒的边缘增宽和测量误差。图[/font]2[font=宋体]显示了轻轻敲击[/font]SEM[font=宋体]镜筒的效果以及振动对图像造成的破坏，以及局部噪声的影响。图[/font]3[font=宋体]显示了通过仪器的物镜的冷却水的泵送动作所引起的振动效果。所有这些都是在典型的计量实验室场景中遇到的常见问题。[/font][/font][b][font=宋体]随着纳米技术[/font][font=宋体]的发展以及＜[/font][font=&]100[font=宋体]纳米成像和测量的[/font][/font][font=宋体]需要[/font][font=宋体]，诊断和消除所有类型的振动是非常必要的[/font][/b][font=宋体]。但这并能轻易实现的，因此应该采用一些新的方法。[/font][img=,607,254]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/11/202311172209493942_1268_3233403_3.png!w607x254.jpg[/img][font=&][font=宋体]图[/font] 2. [font=宋体]对 [/font]SEM [font=宋体]镜筒（[/font]HFV= 25nm[font=宋体]）的短时机械冲击（轻轻敲击）的效果（左）。（右）中等响度的电脑扬声器声音打开（上）和关闭（从中间向下）（[/font]HFW= 75nm[font=宋体]）。[/font][/font][img=,690,230]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/11/202311172210009014_8679_3233403_3.png!w690x230.jpg[/img][font=&][font=宋体]图[/font]3 [font=宋体]物镜和扩散泵的冷却循环对振动的影响：旧泵、新泵（左、中）和自来水（右）（[/font]HFW=75 nm[font=宋体]）。[/font][/font][b][font=&]2 [/font][font=宋体]机械漂移[/font][/b][font=&][font=宋体]除了振动之外，仪器载物台的不稳定性也会导致机械漂移，这通常是由于工作台运动控制中的残余滞后。部件中的载物台弹性和摩擦也会导致样品出现漂移，从而导致不受控制的运动或载物台[/font]“[font=宋体]爬行[/font]”[font=宋体]。当使用长的图像采集时间时，这通常会特别麻烦。在预期的运动停止并找到感兴趣的区域后，蠕动导致载物台继续在一个或多个方向上移动。[/font][/font][b][font=宋体]这通常导致在慢扫描应用中结构在蠕变方向上伸长，并且在数字帧存储采集中锐度损失[/font][/b][font=宋体]。[/font][font=宋体][color=#0000ff]机械漂移通常可以通过现代仪器和载物台的设计来解决[/color][/font][font=&][font=宋体]。大气压力的变化、物镜冷却系统的微小温度变化或任何其他不稳定性[/font]([font=宋体]如电磁干扰[/font])[font=宋体]也可能导致漂移。因此，这可能是一个非常复杂的问题。同样，下面描述的新方法可以用来补偿和诊断这些问题。[/font][/font][b][font=&]3 [/font][font=宋体]数字帧存储的两面性[/font][/b][font=&][font=宋体]应该注意的是，现代[/font]SEM[font=宋体]中常用的组件会加剧本文讨论的[/font][/font][font=宋体]振动和漂移[/font][font=宋体]；这就是[/font][b][font=宋体]数字帧存储[/font][/b][font=&][font=宋体]。[/font]SEM[font=宋体]是非常有效的工具。取决于信号收集的模式，组成图像的[/font]“[font=宋体]信号电子[/font]”[font=宋体]的量可能非常小。此外，无论何时获得信号，电子噪声总是叠加在其上。[/font][/font][b][font=&]SEM[font=宋体]图像中的噪声是信号和不同噪声成分的混合物[/font][/font][/b][font=宋体]。其他噪声源包括[/font][font=宋体]电子源、信号处理电子设备、放大器[/font][font=&][font=宋体]等。通过采用数字帧存储[/font](DFS)[font=宋体]技术，这一总体问题得到了极大的改善。[/font][/font][font=&][font=宋体]自[/font]20[font=宋体]世纪[/font]80[font=宋体]年代末以来，[/font]DFS[font=宋体]一直被用于中小企业。[/font]DFS[font=宋体]的引入要求计算机变得足够小和足够快，以适合粒子束仪器的控制台。此外，计算机存储器[/font]([font=宋体]磁盘存储器和随机存取存储器[/font])[font=宋体]的成本必须降低到可以经济地将许多兆字节的存储容量整合到仪器中的程度。[/font][/font][font=&][color=#0000ff]DFS[font=宋体]是[/font]SEM[font=宋体]技术的一大优势，因为它能够在超低或低信噪比的情况下提高信噪比[/font](S/N)[/color][/font][font=&][font=宋体]。这一改进有助于[/font]SEM[font=宋体]的所有成像模式，尤其是对低着陆能量应用有价值。[/font][/font][font=&]DFS[font=宋体]技术还促进了实时电视扫描速率、可靠的自动亮度和对比度以及自动聚焦和像散控制的开发和实施[/font][/font][font=&][font=宋体]。因此，[/font]DFS[font=宋体]技术的应用带来了许多非常积极的成果。[/font][/font][font=&][font=宋体]然而，像大多数与[/font]SEM[font=宋体]相关的成像技术一样，并非所有[/font]DFS[font=宋体]技术的结果都是有利的，因为存在[/font]“[font=宋体]平衡的优化[/font]”[font=宋体]。[/font][/font][font=宋体][color=#0000ff]帧平均图像不总是等同于同等积分的慢扫描图像[/color][/font][font=宋体]。[/font][b][font=宋体]慢速扫描图像是逐行构建的。任何存在的振动或漂移都会随着线的产生而被记录下来，并显示为对该线上的结构边缘的破坏[/font][/b][font=宋体]。当仔细观察时，多条线显示出锯齿状边缘。[/font][font=&][font=宋体]另一方面，帧平均图像逐帧对齐[/font]512×512[font=宋体]、[/font]1024×1024[font=宋体]等。系统的像素彼此直接重叠，类似于图[/font]6a[font=宋体]所示。所获得的图像像素的强度不受影响，但是导致它们的位置被错误地分配。由于振动或漂移引起的任何未对准将被平均，从而从图像中消除。[/font][/font][font=宋体]总振动仍会显示为锯齿，但一般来说，这会导致图像变宽，结构变得更加微妙和不清晰，并可能危及数据[/font][font=宋体]。[/font][font=&]4 [/font][b][font=宋体]漂移范围[/font][font=宋体]评估[/font][/b][font=&][font=宋体]对于大范围的视场[/font]([/font][font=宋体]低[/font][font=&][font=宋体]放大率[/font])[font=宋体]，非预期运动的[/font][/font][font=宋体]漂移[/font][font=宋体]幅度可能[/font][font=宋体]影响不大[/font][font=宋体]，但是它们对图像[/font][font=宋体]的影响[/font][font=宋体]在[/font][font=宋体]越来越小的视场中变得越来越明显[/font][font=&][font=宋体]。操作员的任务是为[/font]SEM[font=宋体]找到最佳、优化的成像条件[/font][/font][font=宋体]，[/font][font=宋体]例如，采集速度、帧时间、图像像素数和停留时间等，这也可能影响这些失真的效果。[/font][b][font=宋体]有定性和定量评估[/font][font=宋体]方法[/font][font=宋体]可用于评估非预期运动。[/font][/b][font=宋体]建议进行定性评估，以证明非预期运动不会导致成像质量问题或测量中的重大误差。[/font][font=宋体]如果误差高得不可接受，那么定量评估是必要的[/font][font=宋体]，并且补偿措施是必要的，以实现所需的成像和测量质量。[/font][font=&][font=宋体]图[/font]4[font=宋体]显示了一种定性评估漂移相关失真的方法示例，该方法使用抛光碳基板上的蒸发金颗粒标准样品。[/font]256[font=宋体]纳米水平视场[/font](HFV)[font=宋体]图像显示了低频[/font]([font=宋体]漂移[/font])[font=宋体]和高频[/font]([font=宋体]振动[/font])[font=宋体]相关的问题。[/font][/font][img=,459,396]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/11/202311172210417836_4509_3233403_3.png!w459x396.jpg[/img][font=&][font=宋体]图[/font] 4. [font=宋体]连续拍摄的四幅慢速扫描图像，展示了对漂移进行定性评估的一种方法。[/font](HFW = 256 [font=宋体]纳米）。更详细的说明见（[/font]Cizmar[font=宋体]，[/font]2011[font=宋体]）。[img=,579,248]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/11/202311172210577476_3778_3233403_3.png!w579x248.jpg[/img][/font][/font][font=&][font=宋体]图[/font]5[font=宋体]中的漂移最初可能并不明显，但更彻底的观察揭示了图像之间[/font][/font][b][font=宋体]缺乏良好的位置可重复性[/font][/b][font=宋体]。如果使用[/font][font=宋体]标准的图像编辑程序将四幅图像叠加起来[/font][font=&][font=宋体]，可以很好地观察到这种漂移。如果[/font]SEM[font=宋体]完美工作，所有这四个图像将显示完全相同的样品细节，四个图像帧将完全对齐，并且不会有模糊、扭曲或缺失的区域。[/font][/font][font=&][font=宋体]图[/font]6a[font=宋体]显示了一个简单的帧间叠加图，显示确实存在漂移相关问题。[/font][/font][font=宋体][color=#0000ff]这种程度是否可以忽略，取决于图像的预期用途[/color][/font][font=宋体]。数据完整性应该是最重要的，不应该容忍任何失真。例如，对于生物细胞样品，各种细胞器的实际形状可能并不重要，因为它们本身存在较大的差异。另一方面，对于纳米尺度的粒子测量，这种失真可能是完全不可接受的。[/font][font=&][font=宋体]总的来说，任何误差都会随着显微照片一起出现。今天看似不重要的事情，将来可能会成为一个关键问题。图[/font]6b[font=宋体]示出了通过将图像与共同的结构对齐，实际的可重复性问题不太严重，因为四个重复图像的许多共享区域重叠并且失真较小。但是，以这种方式将图像分层以实现结构可重复性，则是以丢失图像外围区域的数据为代价。[/font][/font][font=宋体][color=#0000ff]显然，如果可能的话，最好选择失真更小的成像方法[/color][/font][font=宋体]。[/font][align=center][img=,557,475]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/11/202311172211145923_513_3233403_3.png!w557x475.jpg[/img][/align][font=&][font=宋体]图[/font] 6[font=宋体]：（左）图 [/font]5[font=宋体]中的四幅图像的简单帧对帧叠加。[/font] [font=宋体]右）图[/font] 5[font=宋体]中的四幅图像的图像叠加（[/font]HFW = 256 nm[font=宋体]）。[/font][/font][font=&][font=宋体]在用[/font]SEM[font=宋体]进行任何重要的定量工作之前，应该了解上述两种扰动中的一种或两种的存在。[/font]NIST[font=宋体]的工作人员对此进行了研究，并开发了一系列与实验验证相结合的计算机模型，其中包括[/font][/font][b][font=宋体]振动和漂移的测试和诊断[/font][/b][size=12px][sup][font=&][sup]1-2[/sup][/font][/sup][/size][font=&][font=宋体]。此外，还开发了基于计算机的[/font]SEM[font=宋体]测量方法，所有这些都有助于实现更高性能的仪器和更精确的[/font][/font][font=&][color=#0000ff]3-D SEM[font=宋体]计量[/font][/color][/font][font=宋体]。这些计算机模型包括精确的蒙特卡罗电子束相互作用建模程序，以便理解信号产生和图像形成[/font][size=12px][sup][font=&][sup]3[/sup][/font][/sup][/size][font=宋体]。[/font][font=&]1 [/font][font=&]Cizmar, P, Vladár, A. V., Ming, B. and Postek, M. T. “Simulated SEM Images for Resolution Measurement,” SCANNING 30:381-391, (2008)[/font][font=&]2 [/font][font=&]Cizmar, P., Vladar, A. E., and Postek, M. T. “Optimization of Accurate SEM imaging by use of artificial images,”SCANNING/SPIE Proceedings 7378:737815-1 – 737815-6, (2009)[/font][font=宋体][font=&]3 Postek, M. T., and Vladar, A., [/font]“[font=&]Modeling for Accurate Dimensional Scanning Electron Microscope Metrology: Then and Now,[/font]” [font=&]SCANNING 33: 111-125 (2011)[/font][/font][font=&][font=宋体]此外，使用蒙特卡洛建模方法，[/font]NIST[font=宋体]的工人开发了制造[/font][/font][font=宋体]二维人工图像（[/font][font=&]artificial images[/font][font=宋体]）[/font][font=宋体]的程序，以测试仪器和测量算法[/font][size=12px][sup][font=&][sup]4[/sup][/font][/sup][/size][font=宋体]。此外，为了加速建模过程，最近的工作涉及一种更快的图像建模方法，这种方法可以生成可信的图像来测试上述失真[/font][size=12px][sup][font=&][sup]5-6[/sup][/font][/sup][/size][font=宋体]。[/font][b][font=&][font=宋体]因此，多年来，[/font]NIST[font=宋体]对仪器改进进行了大量研究，以消除粒子束仪器中测量不确定性的来源[/font][/font][/b][font=宋体]。[/font][font=&]4[/font][size=12px][font=宋体] [font=&]Postek, M. T., Vladar, A. E. Lowney, J., Larrabee, R. D. and Keery, W. J., Two-Dimensional Simulation and Modeling in Scanning Electron Microscope Imaging and Metrology Research,[/font]” [font=&]SCANNING 24:179-185, (2002).[/font][/font][/size][size=12px][font=&]5 [/font][font=&]Postek, M. T., “Critical Issues in Scanning Electron Microscope Metrology,” NIST J. Res. 99(5): (1994).[/font][/size][size=12px][font=&]6 [/font][font=&]Cizmar, P., Vladar, A. E. and Postek, M. T. “Advances in modeling of scanning charged particle microscopy images,”SPIE Proceedings 7729 77290Z -1 – 9, (2010).[/font][/size][b][font=&]5 [/font][font=宋体]其他[/font][font=宋体]漂移失真[/font][font=宋体]校正方法[/font][/b][font=宋体]已经开发了几种校正方法来补偿上述的一些影响。在类似于扫描粒子束显微镜的领域中，例如原子力显微镜[/font][size=12px][sup][font=&][sup]7-8[/sup][/font][/sup][/size][font=宋体]，已经进行了校正时间相关漂移失真的工作。此外，[/font][b][font=&]Sutton[font=宋体]等人已经发表了关于[/font]SEM[font=宋体]中漂移失真评估和校正的研究[/font][/font][/b][size=12px][sup][font=&][sup]9-11[/sup][/font][/sup][/size][font=&][font=宋体]。这些文章中描述的技术涵盖了具有缓慢漂移的图像中的校正，并且通常在宽水平视场下，总成像时间很长，达到几十分钟，放大倍数不超过[/font]10[font=宋体]，[/font]000[font=宋体]倍。在信噪比（[/font]SNR[font=宋体]）可能降至[/font]5 x 10[/font][size=12px][sup][font=&][sup]-1[/sup][/font][/sup][font=&] [/font][/size][font=&][font=宋体]以下的情况下，仍然需要用于高度缩小的水平视场、非常快速的[/font]SEM[font=宋体]图像扫描或其他粒子束仪器[/font]([font=宋体]扫描氦离子束显微镜或聚焦离子束显微镜[/font])[font=宋体]的技术。下面描述了一种解决方案。[/font][/font][font=宋体][font=&]7 Mantooth, B. A., Donhauser, Z. J., Kelly, K. F., and Weiss, P. S., [/font]“[font=&]Cross-correlation image tracking for drift correctionand adsorbate analysis,[/font]” [font=&]Review of Scientific Instruments, 73(2, Part 1):313[/font]–[font=&]317 (2002).[/font][/font][font=&]8 [/font][font=&]“Drift and spatial distortion elimination in atomic force microscopyimages by the digital image correlation technique,” J. Strain Analysis for Eng Design, (2008).[/font][font=&]9 [/font][font=&]Sutton, M. A. Metrology in[/font][font=宋体] [/font][font=&]a scanning electron microscope: theoretical developments and experimental validation. MEASUREMENT SCIENCE &TECHNOLOGY, 17(10):2613–2622 (2006).[/font][font=&]10 [/font][font=&]Sutton, M. A.“Scanning electron microscopy for quantitative small and large deformation measurements – Part II: Experimental validation for magnifi cations from 200 to 10,000,” Exp. Mech. (2007).[/font][font=&]11 [/font][font=&]Sutton, M.A. “Scanning electron microscopy for quantitative small andlarge deformation measurements Part I: SEM imaging at magnifications from 200 to 10,000,” Exp. Mech. 47(6):775–787(2007).[/font][b][font=&]6 [/font][font=宋体]漂移校正[/font][font=宋体]方法：[/font][/b][font=&]ACCORD[font=宋体]软件[/font][/font][font=&][font=宋体]如上所述，对振动和漂移问题的解决方案的需求发展成了被称为漂移校正图像合成[/font](DCIC)[font=宋体]的校正方法[/font][/font][font=宋体]，[/font][font=&][font=宋体]这是在被称为[/font]ACCORD[font=宋体]的免费软件程序中实现的。该[/font][/font][font=&][color=#0000ff][font=宋体]计算机程序能够从[/font]SEM[font=宋体]图像中消除振动和漂移失真[/font][/color][/font][font=宋体]。[/font][font=宋体]该技术使用互相关进行二维位移探测[/font][font=宋体]，[/font][font=宋体]它不仅提供更精确的成像，还[/font][font=宋体]提供样品漂移位置信息[/font][font=宋体]。样品位置信息可成功用于诊断应用，以绘制仪器及其载物台的漂移。利用这种方法，解决方案是快速的、多平台的、多处理器能力的，[/font][b][font=&][font=宋体]而且可以容易地集成到大多数[/font]SEM[font=宋体]仪器及其软件中[/font][/font][/b][font=宋体]。[/font][b][font=&]ACCORD[font=宋体]中涉及的基本方法和数学严密性[/font][/font][/b][font=宋体]已在文献中进行了描述[/font][size=12px][sup][font=&][sup]12-13[/sup][/font][/sup][/size][font=宋体]。[/font][font=&]12 [/font][font=&]Cizmar, P., Vladar, A., and Postek, M. T. “Real-time scanning charged particle microscope image composition with[/font][font=宋体] [/font][font=&]correction of drift,” Microsc. Microanal. 17:302-308, (2011).[/font][font=&]13[/font][font=&] Cizmar, P., Vladar, A., and Postek, M. T. “Advanced Image composition intra-frame drift correction” Proc. SPIE 8036:803680360D-1–80360D-5 (2011).[/font][font=&]ACCORD[font=宋体]是一个利用[/font]DFS[font=宋体]技术优势并将其与交叉方法相结合的程序，可以输出比其他传统显微镜成像技术更精确的图像。由于上述原因，[/font][/font][b][font=&][font=宋体]传统的[/font]“[font=宋体]慢扫描[/font]”[font=宋体]和[/font]“[font=宋体]快扫描[/font]”[font=宋体]技术提供的图像经常失真或模糊，因此[/font]ACCORD[font=宋体]对于亚纳米计量是必要的[/font][/font][/b][font=宋体]。[/font][font=&]ACCORD[font=宋体]程序处理单个捕获的帧，这些帧是在仪器能力允许的情况下以最快的速度拍摄的。然后，这些图像中的每一个都提供了一个窄的、时间上的快照，其中运动量是最小的[/font]([font=宋体]类似于高速帧捕捉[/font])[font=宋体]。[/font][/font][font=宋体]由于物理漂移导致每对帧之间的位移取决于漂移的时间常数，然后用互相关软件搜索该位移，以使适当的像素彼此对准[/font][font=&][font=宋体]。快速获取的帧通常非常嘈杂[/font]([font=宋体]但是在空间上对齐良好[/font])[font=宋体]。[/font][/font][font=&][color=#0000ff][font=宋体]对几个对齐的帧进行平均可以消除大部分噪声，但降噪算法也是[/font]ACCORD[font=宋体]技术的一部分，用于降低任何额外的噪声[/font][/color][/font][font=宋体]。[/font][font=&]ACCORD[font=宋体]属于[/font][/font][font=宋体]免费软件[/font][font=&][font=宋体]，可以从[/font]http://wiki.accord.cizmar.org/doku.php[font=宋体]下载[/font][/font][font=宋体]。[/font][font=&]ACCORD[font=宋体]方法在[/font][/font][font=宋体]金标样[/font][font=&][font=宋体]上进行了实验测试，如图[/font] 8 [font=宋体]所示。像素停留时间设定为 [/font]100 [font=宋体]毫微秒。[/font]([font=宋体]帧频为每秒 [/font]1 [font=宋体]帧，这也是所使用仪器的最快设置）。采集到的单帧图像（图 [/font]8a[font=宋体]）噪声很大；只能看到最突出的特征（直径约 [/font]200 nm[font=宋体]）。对 [/font]10 [font=宋体]幅图像进行整合后（图 [/font]8b[font=宋体]），背景（直径约为 [/font]20 [font=宋体]纳米）中已经开始出现更多可见特征；晶粒的一些内部结构（大小约为 [/font]5-10 [font=宋体]纳米）也变得清晰可见。[/font]38 [font=宋体]个图框的组合（图 [/font]8c[font=宋体]）展示了传统图框叠加的结果。图 [/font]8 d [font=宋体]显示了同样 [/font]38 [font=宋体]幅图像的 [/font]ACCORD [font=宋体]校正组合，显示了更多细节[/font][/font][font=宋体]，[/font][font=宋体]晶粒的内部结构以及所有背景特征现在都清晰可见。[/font][font=&]8. ACCORD [font=宋体]在[/font][/font][font=宋体]金标样上[/font][font=&][font=宋体]的真实[/font] SEM [font=宋体]图像演示。所有图像的水平视场角均为 [/font]298 nm[font=宋体]：[/font]a[font=宋体]和[/font]b [font=宋体]是以[/font]100 ns[font=宋体]像素停留时间拍摄的典型单帧图像；[/font]c[font=宋体]是[/font]38[font=宋体]幅图像的传统叠加合成结果（[/font]d[font=宋体]）同样[/font]38[font=宋体]幅图像的[/font]ACCORD [font=宋体]校正合成结果。[/font][/font][font=&][font=宋体]与使用[/font] ACCORD [font=宋体]方法合成的图像相比，传统的平均图像由于残余振动或漂移的影响，清晰度明显降低（更加模糊），图像也更加失真。两幅图像的信噪比相似。最终图像在保留形状和尺寸的同时，噪点更低，细节更丰富。[/font][/font][b][font=宋体]漂移跟踪[/font][/b][font=&][font=宋体]。使用[/font] ACCORD [font=宋体]技术的一个积极结果是可以识别和记录帧间的位移量及其矢量。获得的位移矢量序列用于跟踪样品的位置。这些信息对于研究漂移的原因和解决方法非常有用。[/font][/font][font=&][font=宋体]在图[/font] 8 [font=宋体]所示的样品中，出现了大约 [/font]27 [font=宋体]纳米长的直线启动漂移，随后是周期性的圆形漂移[/font][/font][font=宋体]。这可能是由[/font][b][font=宋体]镜筒[/font][font=宋体]内部的温度变化引起的[/font][/b][font=宋体]。通常情况下，与控制良好的仪器的[/font][font=&][color=#0000ff][font=宋体]典型漂移相关的位移矢量序列小于[/font] 0.5 nm[font=宋体]，相当于约[/font]0.5[font=宋体]个像素[/font][/color][/font][font=宋体]。[/font][b][font=宋体][font=&]7 [/font]总结[/font][/b][font=&]ACCORD[font=宋体]技术可以成功补偿粒子束仪器的漂移和振动。[/font]ACCORD [font=宋体]属于[/font][/font][font=宋体]免费软件[/font][font=&][font=宋体]，是用[/font] C [font=宋体]语言编写的计算机程序。由于大多数现代粒子束仪器的硬件都足以支持 [/font]ACCORD[font=宋体]，因此[/font]C[font=宋体]语言具有快速融入[/font]SEM[font=宋体]管理软件。使用速度相当快的计算机，该程序能够进行实时处理。该算法可随时发布，因此适合在计算机集群、多核或多处理器环境（包括图形处理单元）中运行。该方法已在[/font]SEM[/font][font=宋体]图[/font][font=宋体]像上进行了验证，[/font][b][font=宋体]证明了其在真实形状成像和漂移[/font][font=宋体]研究[/font][font=宋体]应用中的可用性[/font][/b][font=宋体]。[/font][font=宋体]参考资料： [font=&]Postek M T ,András E. Vladár, Cizmar P .Does your SEM really tell the truth? How would you know? part 3: vibration and drift[C]//SPIE Scanning Microscopies.International Society for Optics and Photonics, 2014.DOI:10.1117/12.2195344.[/font][/font][font=宋体][font=&][size=14px]来源于[/size][size=14px]老千和他的朋友们[/size][size=14px]，作者[/size][size=14px]孙千[/size][/font][/font][img]http://mmbiz.qpic.cn/mmbiz_png/yv3RxdFmqa0ICfzo9wWpQclUcWLI1d6CqTncSay8t4pLPNDLubAUrJqIA5O3QvPWow1DAjJ8M0nrzKpBKCPx2Q/300?wx_fmt=png&wxfrom=19[/img][size=17px][color=var(--weui-FG-0)]半导体工程师[/color][/size]半导体经验分享，半导体成果交流，半导体信息发布。半导体行业动态，半导体从业者职业规划，芯片工程师成长历程。181篇原创内容
新型电化学测量仪器——电化学扫描探针显微镜（EC-SPM） 材料2106 李昊哲新型电化学测量仪器——电化学扫描探针显微镜（EC-SPM）是一种具有创新性的技术，它在电化学领域的研究和应用中起到了重要的作用。EC-SPM采用了先进的技术和方法，可以对电化学反应进行精确的测量和分析，为科学家们提供了更为准确和可靠的数据。EC-SPM的创新之处在于其结合了扫描探针显微镜（SPM）和电化学技术，实现了对电化学反应的原位观察和测量。传统的电化学测量仪器往往只能提供宏观的电化学数据，而EC-SPM通过在电极表面放置微小的探针，可以实现对电化学反应的纳米级别的测量。这种纳米级别的测量能够更加准确地了解电化学反应的动态变化，提供了更为详细和全面的信息。EC-SPM在前处理合计数方面也进行了改进和优化。传统的电化学测量仪器在前处理过程中往往需要复杂的操作和多个步骤，容易出现误差和不确定性。而EC-SPM通过引入自动化和智能化的前处理系统，可以实现对样品的快速处理和准确计数。这不仅提高了测量的效率，还减少了人为因素对结果的影响，提高了测量的精确度和可靠性。我有幸在实验室使用了电化学扫描探针显微镜（EC-SPM），并且对其性能和使用体验有了一些真实的心得体会。我认为EC-SPM的性能非常出色。它采用了先进的扫描探针显微镜技术，可以实现纳米级的高分辨率测量。在我的实验中，我使用EC-SPM对一种新型材料进行了表面形貌和电化学性质的同时测量，结果非常令人满意。EC-SPM能够清晰地显示出样品的表面形貌，并且能够通过电流-电压曲线来研究材料的电化学行为。这对于我研究材料的结构与性能之间的关系非常有帮助，其次，EC-SPM的操作非常简便。它采用了直观的用户界面，使得操作人员能够快速上手。在我使用的过程中，我只需要按照仪器的操作指南进行操作，就能够轻松地完成测量。而且，EC-SPM还具有自动化的功能，能够实现自动扫描和测量，省去了繁琐的手动调整步骤，提高了实验效率。最后，EC-SPM的数据处理和分析功能也非常强大。它可以对测量得到的数据进行实时处理和分析，并且能够生成高质量的图像和曲线。在我的实验中，我使用EC-SPM获得了一系列的电流-电压曲线，并且通过对这些曲线进行分析，我能够得到材料的电化学性质，比如电荷转移速率和电化学反应动力学参数。这对于我研究材料的电化学性能非常有帮助。EC-SPM在电化学领域的研究和应用中取得了重要的成果。例如，在电池研究中，EC-SPM可以帮助科学家们更好地了解电池中的界面反应和电化学性能，从而提高电池的效率和稳定性。在催化剂研究中，EC-SPM可以实时观察催化剂表面的电化学反应，揭示催化剂的活性和稳定性等关键性质。此外，EC-SPM还可以应用于材料科学、生物医学等领域，实现对材料表面性质和生物分子相互作用的研究。EC-SPM作为一种新型电化学测量仪器，具有创新性的技术和方法。它通过纳米级别的测量，实现了对电化学反应的精确观察和分析。在前处理合计数方面的改进，使得测量结果更加准确和可靠。研究成果在电化学领域的应用广泛，为科学家们的研究和实践提供了重要的支持。它的高分辨率测量能力、简便的操作和强大的数据处理功能使得我能够更好地研究材料的电化学性质。我相信，随着电化学扫描探针显微镜技术的不断发展，EC-SPM将会在材料科学、电化学等领域发挥更加重要的作用。
普通空心阴极灯（2电极）作为[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱[/color][/url]分析的光源，虽优于其他光源，但存在发射强度较弱和存在“自吸变宽”的缺点，国际上曾有一些试图改善空心阴极灯性能的尝试。 1.高强度空心阴极灯（Walsh) 辅助电流用电子管采用的：“氧化物热阴极”由交流低电压产生热，同时施加较高电压，所产生的电子流激发主阴极口外[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]中的原子，增加发射强度，也提高灵敏度，邻近的离子线减弱或消失，工作曲线线性范围扩大。 典型元素Ni灯 由于供电复杂（空心阴极，灯丝，辅助电流三组），灯壳结构也较难加工，在商品仪器中几乎从未采用过。 2.ΦOTO（澳大利亚）高强度灯 主阴极为管状（无底），辅助电流仍由“热阴极”供给，加适当屏蔽使辅电流从主阴极中穿过，使溅射产生的原子受到二次激发。曾有20多种这种灯投入市场，但已多年不见。缺点：灯壳发热大（温度较高也不利于主阴极发射） 3.高性能空心阴极灯（三电极）。 （第一发明人吴廷照，职务发明，中国、美国专利）不同于ΦOtO灯。辅助电流由“冷阴极”供给（另一只空心阴极），阳极公用，共有三电极加适当屏蔽， 使辅阴极电流只经过主阴极腔内到达阳极。特点（与普通灯相比）： ① 发射强度大； ②测定灵敏度高； 检出限较低； ③稳定性较好； ④邻近线光谱干扰消失，可以使用较大光谱通带（进一步提高能量）； ⑤使用寿命长。 ⑥铅和锡可以使用较弱的灵敏线217.00nm（普通灯只宜使用发射较强的次灵敏线） ⑦工作曲线线性范围扩大。 基本特点是：自吸小；激发能量较低，主要激发原子线，不是以激发离子线，其他特点都是由此衍生。 不是所有元素都有高性能灯，碱金属和高温元素，稀土金属没有，强度提高愈大，高性能特点愈强。（主要是前三项）。现有20余种元素高性能灯。 应用户要求，试制一些未列入高性能灯的元素灯，也有特点，列如铁灯，强度只提高一倍多，但稳定性改善，普通铜灯发射已经很强，但用高性能铜灯稳定性更好，钙灯也改善稳定性（强度只提高一倍）。 典型元素 1.砷—强度提高约5倍（不算光谱通带增加提高的强度，可以使用2nm通带而灵敏度下降很小）2.硒—为了得到足够能量，普通灯不得不加大电流，而大电流产生的热可使硒升华，此时稳定性变坏，高性能灯无此缺点，可以用较小电流。砷与硒，PE公司使用费用很高的高频灯，都可用高性能灯代替。3.镍—高性能灯没有与测定线232.0nm邻近的231.6线所产生的光谱干扰，可以使用较大通常宽度，线性范围扩大。对AAS测定，只要有高性能灯的元素就不宜用普通灯。特殊的汞“普通”二电极灯（发明人吴廷照） 它不是普通二电极灯，也不是高性能灯，但发射强度却是所有元素灯中最强的，它是从灯中心的阳极采光（阴极在侧位）而且这个阳极靠近光窗（减小“自吸”），这是利用汞在室温下已有一定的蒸汽压，在阳极附近[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]中已有足够的汞原子，这是能从阳极采光的唯一元素，这也是原子荧光法测汞有远强于其他元素的荧光强度，可使测定达到PPT级。高性能灯的供电 仍由主机供电，但占用2个灯位，高性能灯的灯头与普通灯相同，也使用“大8脚”管头。主阴极接1号脚，阳极接3号脚，不同的是灯的辅助阴极的接线从灯头开孔引出接另一个灯头（只有插头，没有灯）的5号脚，高性能灯直接插主机A灯灯座，外接的灯头插B灯灯座。这种接线方法对主机旋转式或水平拉动的灯架都适用。 PE公司的灯使用小9脚插头插座，也是将辅阴极接线引出接另一插头，连在灯上的小9脚插头插A灯插座，外接插头插B灯插座。瀚时制作所生产CAAM-2001型多功能[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱仪[/color][/url]，带有3电极高性能灯插座，不但使用方便也改善一些元素的分析性能。 使用方法 先选定高性能灯主阴极的灯电流（如砷灯用5-7mA，铅灯用4-6mA，暂不开辅阴极，此时已有发射强度（但较弱），可用来寻找波长位置，有能量显示后再开辅阴极，逐渐增加辅阴极电流到最大能量（T），为止（超过此电流能量反而下降），辅阴极电流约为主阴极电流的1/2至2倍，随元素不同而不同。
单位准备购买冷场发射扫描电镜，让我调研，我一个新手，只好跑这里来求助各位大侠了。我的问题是：1、现在国际上都有哪几种冷场发射扫描电镜的牌子？2、哪种性能好（不考虑价格）？3、哪种售后好？4、如何接合自己的实际情况选择扫描电镜？5、在哪里可以了解这方面的信息？谢谢各位了！
扫描探针显微镜操作规程一、 接触模式：Contact mode1. 开启设备1.1 依次打开电脑、变压器电源、SPM 控制器电源。1.2 双击SPM 快捷方式，出现SPM manager 窗口，单击setting 的data path，预设数据的存储目录，待SPM 控制器电源显示栏底部显示ready 后点击online。2．固定样品，安装到检测台2.1 检查AFM 头部，确保探针与样品台之间有足够的空间放样，如果距离不够，点击工具栏中release 按钮，直至距离足够时，点击stop。2.2 用双面胶将样品固定于铁片中心上，随后将其置于样品台的中心位置。样品的最大尺寸不超过24mm（直径），8mm（高度）。3. 选择扫描模式在setting 下拉菜单中选择mode and scanner，选中扫描模式（contact mode）和扫描器的大小，点击ok。4. 光路调节4.1 打开setting 下拉菜单中scanner condition，将其operating 值设为0。4.2 打开setting 下拉菜单中panel display，选中vertical deflection，调节激光控制旋钮（样品台右边的前后旋钮），使激光打在悬臂尖端，至少保证信号显示面板上一半的LED 指示灯发亮。4.3 若显示面板上的数值在-5-5 之间，直接调节检测器控制旋钮（垂直方向，即样品台左边的后面旋钮）至显示面板上的数值为0；若显示面板上数值的绝对值大于5，需先调节反光镜使其在-5-5 之间（保持信号显示面板上至少一半的LED 指示灯发亮），再用同样方法将数值调零。4.4 选中panel display 中的horizontal deflection，调节检测器控制旋钮（水平方向，即样品台左边的前面旋钮）至显示面板上的数值为[
自1976年成立，30多年来，美国国家仪器公司(NI)帮助测试、控制、设计领域的工程师与科学家解决了从设计、原型到发布过程中所遇到的种种挑战。通过现成可用的软件，如LabVIEW, 以及高性价比的模块化硬件，NI帮助各领域的工程师不断创新，在缩短产品问世时间的同时有效降低开发成本。如今，NI为遍布全球各地的30,000家不同的客户提供多种应用选择。NI总部设于美国德克萨斯州的奥斯汀市，在40个国家中设有分支机构，共拥有5,200多名员工。在过去连续十二年里，《财富》杂志评选NI为全美最适合工作的100家公司之一。作为最大的海外分支机构之一，NI中国拥有完善的产品销售、技术支持、售后服务和强大的研发团队。 近日，由NI研发的高性能嵌入式控制器NIPXIe-8115已成功上市，该产品配备了最新的Intel?第二代Core?i5双核处理器，能够缩短测试时间，是多核应用程序的理想选择。 为了提高PXI系统的稳定性，NIPXIe-8115控制器配备了In-ROM和硬盘驱动诊断功能，确保实现PXI嵌入式控制器的操作性能。除了高性能的CPU以外，NIPXIe-8115控制器还配备了6个USB2.0端口、2个可连接多台显示器的显示端口、双千兆以太网、GPIB、串行和并行端口。全新的NIPXIe-8115将诊断分析功能与NI备用硬盘驱动和内存相结合，提高了操作性能，从而减少了停工时间，并确保给应用程序带来最小的影响。 NIPXIe-8115控制器采用IntelCorei5-2510E处理器，添加了2.5GHz的基本时钟频率功能。并且还采用IntelTurboBoost技术，基于应用类型自动增加时钟频率。举例来说，当运行只生成单处理线程的应用程序时，CPU会将一个未使用的内核置于空闲状态，并将活动内核的时钟频率从2.5GHz提高至3.1GHz。这样，无需多线程的软件应用程序，就能采用最新的CPU。它既可在双核、也可在高性能的单核模式下操作，这种灵活性使得控制器可适用于各种应用，包括高性能的自动化测试和工业控制。 该产品具有多种外设I/O端口以及6个行业领先的USB2.0端口。该产品In-ROM和硬盘驱动诊断功能能够判定控制器的健康状况，从而提高操作性能，并最大限度地减少系统停工时间。将控制器与NILabVIEW系统设计软件结合，工程师可在各类测试、测量和控制应用中提升开发效率。
第一台场发射扫描电镜是那一年哪个公司造的啊？参数性能怎么样啊？貌似场发射枪上个世纪80年代就用在扫描电镜了。怎么场发射扫描还是近代应用的。。糊涂了有点。
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