锇等离子镀膜机

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

UBC实验室专业莱宝镀膜机光纤端面镀膜（低功率）一．关于我们的设备 2008年12月16日加拿大UBC光纤通信实验室的高端真空镀膜设备正式投入试生产使用，满足科研需求的同时，我们也对外承接镀膜的业务。我们专注于光纤端面镀膜，以及中远红外波长晶体镀膜。光纤端面镀膜是我们的擅长，尤其是针对高反膜1550nm光通信光纤镀膜我们的成品率可以达到98%以上，反射率高达99%以上。我们也能够镀一定波段范围内增透膜或者高反膜。目前在国内，我们的典型客户有很多：华为技术有限公司，广州天赋人财有限公司，优脉管业股份有限公司。我们的产品在他们实验的方案系统中性能卓越，得到了客户的广泛认可。我们的镀膜设备分为两种：一种小锅炉：每次镀膜200根左右，另一种镀膜炉为大锅炉单次镀膜在1800根左右。小锅炉适合于两类客户群体：第一是小项目需求量比较少节约成本。第二类是第一次购买，需要验证镀膜质量的客户。大锅炉适合：小锅炉验证通过，但是需求量很大，希望节约成本的客户，镀膜同样的数量的光纤，大锅炉会节约一半的成本。 二.我们镀膜的产品：二.光谱图二.订购信息

产品及型号： 编号 型号 尺寸（mm） 数量 RMB（含税） 1-1957-01 1101-035 &phi 35× 10 10张/袋× 50袋 ¥ 840.00 1-1957-02 1101-060 &phi 60× 15 10张/袋× 50袋 ¥ 1,010.00 1-1957-03 1101-100 &phi 100× 20 10张/袋× 50袋 ¥ 1,310.00 特点： 1. 进行过真空等离子镀层处理，适合贴壁细胞的培养。 2. 无DNase、无RNase、无致热质、细胞无毒性 规格： 1. 材质：PS（聚苯乙烯） 2. 灭菌：伽玛射线灭菌　 3. 表面处理：真空等离子镀膜处理

IBS镀膜激光反射镜&bull IBS 反射镜镀膜具有低损耗、高反射的特点&bull 在设计波长下可保证的激光损伤阈值高达 15 J/cm2@1064nm&bull 超精密磨光的基片可提供百万分之一级别的水平散射性能&bull Additional Sizes Coming Soon通用规格后表面: Commercial Polish镀膜类型:Dielectric基底:Fused Silica (Corning 7980)产品介绍TECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜采用离子束溅射 (IBS) 技术镀膜。这些激光反射镜专为要求极其严苛的激光应用设计，这些应用要求在其激光线波长下获得最高的反射量。离子束溅射镀膜使这些镜面的表面粗糙度低于其他镀膜技术，从而减少散射。密集的镀膜使 TECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜具有较高的环境稳定性，性能受温度、湿度等环境因素影响极小。该反射镜专为常用的 Nd:YAG 波长设计，并经过优化，可在其设计波长下提供高损伤阈值。如果您的应用需要定制尺寸的 IBS 激光反射镜或定制的 IBS 反射镜镀膜，请与我们联系.订购信息波长范围 (nm)DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码355 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.204534-838532 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.2045 34-8421064 6.35 +0.00/-0.104.00 ±0.204512-5251064 12.70 +0.00/-0.106.35 ±0.204534-8431064 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.204534-845 1064 50.80 +0.00/-0.109.53 ±0.204512-550343 - 355 355 25.40 +0.0/-0.15.00 ±0.14589-450515 - 532 532 25.40 +0.0/-0.15.00 ±0.14589-4511030 - 1064 1064 25.40 +0.0/-0.15.00 ±0.1089-4521030 - 1064 1064 25.40 +0.0/-0.15.00 ±0.14589-453

三强低温等离子灭菌器适用于医院手术室、消毒供应中心各类医用手术器械做快速灭菌处理。微电脑控制，触控操作，全自动升降门。　　三强低温等离子灭菌器是在低温、真空状态下，在消毒室中通过高频电场作用产生等离子体，其中活性物质与微生物体内的蛋白质和核酸发生化学反应，摧毁微生物和扰乱微生物的生存功能，再以H2O2为媒质，作用于微生物细胞，进一步对微生物实施灭杀。　　可以灭面的物品和材质　　宫腔镜、腹腔镜、喉镜、探头、硬性内窥镜、软管内窥镜镜片、纤维光缆、颅压传感器、冷疗探子切除器、食管扩张器、电灼器械、除颤电机、激光机头、金属类、玻璃类、硅胶类、橡胶类等　　耗材灭菌剂、等离子生物指标剂、等离子化学指示卡（标签）、等离子指标胶带、无纺布、等离子医用包装袋等。

我公司向广大用户提供OPTOLITA公司生产的品牌为EKSMA的镀膜产品，可提供多种形式的镀膜，包括高反、高透、激光线、波带、多层镀膜等。质量好，精度高。特别适用于研究应用。

美国PE珀金埃尔默等离子负载线圈N8150279 加感线圈LumiCoil™ 等离子负载线圈ICP-MS模型 部件编号NexION 1000/2000 N8150279

未镀膜的凸面激光反射镜&bull 高精度熔融石英镜面反射镜基底&bull 多种尺寸以及焦距可选&bull 自定义镀膜可选通用规格后表面:Commercial Polish基底:Fused Silica (Corning 7980)有效孔径 (%):90有效焦距 EFL (mm):6.00涂层:Uncoated表面质量:20-10边缘厚度 ET (mm):6.00 ±0.2产品介绍TECHSPEC® 未镀膜的凸面激光反射镜可以提供高达 20-10 表面质量的高精度反射面，是用来做激光光束聚焦的绝佳选择。由于采用熔融石英基材这些凸面反射镜可承受热冲击，并且有25mm-500mm范围内焦距可选。TECHSPEC未镀膜凸面激光反射镜非常适合在温度波动较大的环境中使用。可提供定制镀膜选项，包括保护性金属膜镀膜和半导体材料镜面电介质反射镜镀膜。 订购信息标题产品编码12.7mm Dia. x 500mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-62025.4mm Dia. x 50mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-62325.4mm Dia. x 75mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-62625.4mm Dia. x 100mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-62725.4mm Dia. x 150mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-63125.4mm Dia. x 200mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-63225.4mm Dia. x 300mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-634 25.4mm Dia. x 400mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-63525.4mm Dia. x 500mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-63625.4mm Dia. x 1000mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-63725.4mm Dia. x 1500mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-63825.4mm Dia. x 2000mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-63925.4mm Dia. x 3000mm ROC, Uncoated, Convex Laser Mirror27-645

激光诱导等离子体光谱仪配件是一款欧洲进口的高度安全的激光诱导等离子体光谱仪，采用高度模块化设计，专业为样品分析而研发，是实验室科研和现场检测的理想工具。广泛用于材料分析，元素检测，工业检测，安全检测，反恐和国防等领域。孚光精仪还有更多激光仪可供选择，欢迎前来咨询。激光诱导击穿光谱仪配件特点安全型模块化设计具有世界上最为安全的配置，这套仪器对操作人员的危害几乎为零。特别对于样品室使用防激光辐射的高档光学窗口玻璃，不仅可以让您观看样品的测量，同时又保证您的安全。具有高度的使用灵活性，您可以手持着它进行测量，也可以放置到样品室上测量。中国最大的进口精密光学器件和科学仪器供应商！激光诱导等离子体光谱仪配件特色* 高度模块化和多功能设计，适合实验室和现场多种应用；* 高效率的等离子体采集光学，可配备6通道或8通道光谱采集系统；* 具有多种激光器选项，50mJ@1064nm, 355nm, 266nm, 100mJ@1064nm,355nm,266nm, 还有更多激光器供选择 * 可配备样品室(具有I级激光安全标准)或不配备样品室直接测量(IV级激光安全) * 激光头和样品方室可以多向安装工作；* 具有其他清洗功能（与外界气源连接，可供氩，氮，氦，空气等气体）；* 可安装高达8个光谱仪模块覆盖185-1000nm * 激光器电源小型化，非常方便拆卸，搬运；* 软件两年免费升级。孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商，产品技术和性能保持全球领先,拥有包括光谱仪,激光诱导等离子体光谱仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类，世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系，确保每个一产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于激光诱导等离子体光谱仪参数，光谱仪价格等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取！

&bull 600 - 1000nm 之间的反射率大于 99%&bull 群延迟色散低 (0 ±20fs2)&bull 非常适用于 Ti:Sapphire 激光&bull 提供标准英制尺寸&bull 另有 TECHSPEC® 超快增强型银镀膜凹面激光反射镜 可供选择通用规格属性值表面质量10-5后表面Commercial Polish表面平整度 (P-V)λ/10 镀膜类型Ultrafast-Enhanced Silver基底Fused Silica (Corning 7980)产品描述TECHSPEC® 超快增强型银镀膜激光反射镜具有采用介质镀膜增强的银镀膜，能在 600 - 1000nm 范围内提供更高的反射率。这些反射镜在其很宽的波长范围内具有很低的内在群延迟色散 (GDD)，因此非常适用于 Ti:sapphire 激光的基波波长。TECHSPEC 超快增强型银镀膜激光反射镜采用标准英制尺寸，可轻松集成到光学系统中。如需在其他超快激光波长范围内具有很低 GDD 的介质镀膜激光反射镜，请参阅我们的低 GDD 超快反射镜。注意: 可将 TECHSPEC 超快增强型银膜激光反射镜设计为针对诸如 1030nm 等其他超快激光类型具有不同的波长范围。技术数据订购信息波长范围 (nm)Dia. (mm)厚度 (mm) 产品编码600 - 1000 12.70 +0.00/-0.106.35 ±0.2013-059600 - 1000 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.2013-060600 - 1000 50.80 +0.00/-0.109.53 ±0.2013-061600 - 1000 76.20 +0.00/-0.1012.70 ±0.2020-433800 - 1150 12.70 +0.00/-0.106.35 ±0.2017-264800 - 1150 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.2017-265800 - 1150 50.80 +0.00/-0.109.53 ±0.20 17-266800 - 1150 76.20 +0.00/-0.1012.70 ±0.2027-039

美国PE珀金埃尔默等离子负载线圈N8150279 加感线圈LumiCoil™ 等离子负载线圈ICP-MS模型 部件编号NexION 1000/2000 N8150279

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微波等离子体源是具有着高度灵活性微波等离子体发生器，可有效应用在各种精密复杂的科研实验中。微波等离子体源创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气，氦气，确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。微波等离子体源特点对于表面净化、超细清洗和表面活化以及实时样品制备的形态分析方法这些多样化应用，广泛的操作范围内的气体流量和微波功率，以及固有的高等离子体温度是必不可少的先决条件。具有上述性能，成为了工业和研究领域里生产和分析应用的强大工具。等离子体作为一种高新技术，广泛用于科学研究和工业应用，是表面处理中不可或缺的工具。等离子技术运用广泛，主要用于那些质量，生产力，环境的可持续性，精密度和灵活性很重要的应用。微波等离子体源MiniMIP特征 紧凑和移动型 灵活性高 微波等离子体源应用广泛 激活 精洗 净化 形态分析（如有机汞，铅，锡化合物） 化学反应器? 处理 技术和生物材料 复杂的几何形状 很难接近的位置 精确和逐点操作 惰性和分子气体提供能源 多功能加工一体化微波等离子体源规格 用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置 手持装置尺寸 80x 65X 50mm（1.50米电缆接头） 手持装置重量 0.5kg 基本单元尺寸 110x 230x 375mm （高x宽x深） 基本单元重量 6.5公斤 电源 110-230VAC, 50/60 Hz 功耗＜200W 在230 V, 50 Hz 运输和储存条件 温度 - 40°C - 70°C 相对湿度 10% - 100% 工作条件 温度15°C - 40°C 相对湿度 15% - 75% 气压 800 hPa -1060 hPa资源工艺气体氩* *根据要求，提供其他气体和混合物微波频率 2.45GHz正向功率 10 W至60 W（可选）气体流量 0.6- 6升/分钟等离子量 约10mm3电子密度 高达2 x1021m-3气体温度 高达1700°C*取决于工艺气体和功率 交付内容 等离子体源装置 微波发生器 微波连接器电缆线

美国CVI laser optics 设计和生产紫外到近红外波段的高性能光学器件，主要应用在激光的光束调节和传输方面，在业内有很高的知名度。金属镀膜反射镜:通过复合镀膜能实现在紫外波段到中红外波段的反射率和起保护作用的金属膜层。美国CVI laser optics生产的反射镜有超过350种镜片可供选择；设计入射角为0°或45°，覆盖波段从190nm 到 2000nm 提供金、银、铝等金属镀膜，用于提高反射率、起保护作用等；使用BK7或UVFS材料，能够实现λ/10表面质量的镜片；提供具有高反射率的镀膜镜片,如MaxMirror 和MaxBRlte 能在宽波段内实现大于98%的反射率。若是单面镀膜,会在未镀膜面用箭头指向镀膜面,方便使用。

等离子体主动热探头是耐高温的等离子探头,用于高温等离子体过程中流入到目标表面的能量，也可作为离子流探头使用。由于等离子体主动热探头的灵敏度非常高，特别适合用于工业生产过程或研究中的有效质量控制。有一个特殊的版本，该版本有一个更多可选的可调参数，可以用来解决等离子体工艺的研发。等离子体主动热探头特点在生产高品质涂层或研究材料属性过程中，对等离子体工艺的表征，控制和监测是至关重要的。最重要的一个参数是通到基底的实际能量流入和总能量流入—主动热探头是测量这个决定性的量数的唯一工具。增殖的粒子影响基底的表面工艺和反应。这种能量与其他如热辐射能或化学能合成总流入能量。主动热探头连续定向测量流入的能量，保持层和表面性质很好的相关性。等离子体主动热探头产品概述适用于真空 耐温高达450°C 能量流入可多达（2±0，001）W/cm2 可衡量 可变长度和几何图形 包括系统控制和评估的软件包 提供安装服务和流程优化咨询

微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机，采用微波能量生产等离子体，在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时，微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体，这种等离子流经污染表面与之发生反应，污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同，这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能，具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品，可以获得更高的气压，更高的功率和更高的温度，当然，您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高，安全而易于使用，而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾，不排放有毒有害的溶解物或气体，不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器，这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长，第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’，第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度，这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置：1.水循环浴；2.双气真空流动控制器：可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件，它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出，两个流量（0-5SCFM）计，两个压力计(0-60帕)，一个真空压力计（0-30’’Hg）和一个开关；3.离子阱：该离子阱用于保护易损伤材料，如：激光二极管发光面，光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子，从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。

交叉偏振波滤波器（XPW系统）所属类别： ? 专用实验设备 ? 强场激光/等离子体器件与设备 所属品牌：法国SourceLAB公司 产品简介 时域对比度滤波器/交叉偏振波滤波器（XPW） ——可扩展高效激光时域对比滤波器 SourceLAB时域对比滤波器（cross-polarized wave generation –XPW：交叉偏振波产生系统）1000以上的瞬态激光对比增强能力，同时兼具飞秒脉冲后压缩特性，是产生高对比度飞秒脉冲的理想选择。 SL-XPW-1000激光时域对比滤波器系统（cross-polarized wave generation –XPW：交叉偏振波产生系统），初始为Laboratoire d’Optique Appliquée开发，可随时用于mJ以上超短脉冲对比增强的时域滤波。SL-XPW-1000激光时域对比滤波器系统，也可用于除数因子2或更大的飞秒后压缩，可能产生few-cycle脉冲。 关键词：飞秒脉冲对比增强，等离子体镜，飞秒后脉冲压缩，XPW，时域滤波 SL-XPW-1000激光时域对比滤波器系统（cross-polarized wave generation –XPW：交叉偏振波产生系统），初始为Laboratoire d’Optique Appliquée开发，可随时用于mJ以上超短脉冲对比增强的时域滤波。SL-XPW-1000激光时域对比滤波器系统（XPW），也可用于除数因子2或更大的飞秒后压缩，可能产生few-cycle脉冲。这一滤波器是基于正交极化波的产生（XPW）。 产品特点：高效率单晶装置中空光纤滤波卓越的空间轮廓对比增强103光谱质量增强扩展产生更短脉冲兼容载波包络相位易准直和鲁棒性 应用领域：飞秒脉冲对比增强（three orders）飞秒脉冲后压缩（two-fold）高对比度few-cycle脉冲发生 应用文献： Efficient cross polarized wave generation for compact, energy-scalable, ultrashort laser source.pdfEnergy-scalable temporal cleaning device for femtosecond laser pulses based on cross-polarized wave generation.pdfFront-End Light Source for aWaveform-Controlled High-Contrast Few-Cycle Laser System for High-Repetition Rate Relativistic Optics.pdfHigh-fidelity front-end for high-power, high temporal quality few-cycle lasers.pdf 指标参数：PerformancesContrast enhancement103 or higherEnergy transmission15 % or moreMaximum input energy – Contact us if your applications require more5 mJ or oreStrehl ratio0.9MiscellaneousDimensions (L x W x H) – Custom designs available on request200 x 25 x 20 (cm x cm x cm)MassApprox. 4 kg (ex. vacuum pump)Micrometric translation stagesRange25.4 mmHigh-quality, high-straightness single-mode hollow-core fibreLength40 – 50 cmInner diameterWavelength dependentXPW crystal[011]-cristallographic orientation, high-quality polishing, BaF2 crystalThickness2 – 3 mmAR-coated FS vacuum windowsThickness500 μmDry vacuum pumpPumping speed6 m3/hUltimate vacuum 10-1 mbar SourceLab公司交叉偏振波滤波器（XPW） Jullien-apb-102-4-769-2011.pdfRamirez-oe-19-93-98-2011.pdfRicci-applsci-03-00314-2013.pdfRicci-rsi-84-043106-2013.pdf 相关产品 高重频太瓦激光器（500Hz TW Laser） 等离子体喷气靶（等离子体密度可达10^21） 高灵敏度等离子体分析仪 等离子体气体靶室 等离子体固体靶

无镀膜凹面镜特别适合激光对焦应用高精度熔融石英镜坯提供各种定制镀膜选项TECHSPEC® 无镀膜凹面镜提供高精度 20-10 表面质量和 λ/10的不规则度，是激光束对焦应用的理想选择。这些凹面镜采用熔融石英基片，具有抗热震性能，焦距在 25mm 至 500mm 之间。 TECHSPEC® 无镀膜凹面镜非常适合用于温度波动的环境。定制镀膜选项包括保护性金属镀膜和反射镜介质膜. 通用规格基底:Fused Silica涂层:Uncoated表面质量:20-10有效孔径 (%):90Power (P-V) @ 632.8nm:λ产品信息Dia. (mm)EFL (mm)产品编码25.4025.00#39-97325.4050.00#39-97425.4075.00#39-97525.40100.00#39-97725.40200.00#39-97825.40500.00#39-97950.8050.00#11-34750.80100.00#11-34850.80150.00#11-34950.80250.00#11-35050.80500.00#11-352

超快增强型银镀膜凹面激光反射镜&bull 是聚焦Ti:sapphire和Yb:doped激光脉冲的理想选择&bull 在 600 – 1000nm 或 800 – 1150nm 之间反射率 99%&bull 0 ±20fs2的低群延迟色散&bull 有效焦距范围是 25 到 500mm&bull 另有 TECHSPEC® 超快增强型银镀膜激光反射镜 可供选择通用规格基底:Fused Silica (Corning 7980)表面质量:20-10镀膜类型:Ultrafast-Enhanced Silver产品介绍TECHSPEC® 超快增强型银镀膜凹面激光反射镜具有采用介质镀膜增强的银镀膜，能在 600 - 1000nm 或 800 – 1150nm 范围内提供更高的反射率。这些反射镜在其波长范围内具有很低的内在群延迟色散 (GDD)，因此非常适用于对焦或重定向诸如 Ti:sapphire 和 Yb:doped 等飞秒激光器发出的激光。它们凭借很宽的波长范围，可以用于需要的带宽超出介质镀膜低 GDD 反射镜提供能力的应用中。TECHSPEC 超快增强型银镀膜凹面激光反射镜采用标准英制尺寸，有效焦距可达 500mm。请注意: 可将 TECHSPEC® 超快增强型银膜凹面激光反射镜设计为针对其他超快激光类型的不同波长范围。技术数据订购信息Dia. (mm)EFL (mm)涂层产品编码25.40 +0.00/-0.2025.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-06225.40 +0.00/-0.2050.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-06325.40 +0.00/-0.2075.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-06425.40 +0.00/-0.20100.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-06525.40 +0.00/-0.20200.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-06625.40 +0.00/-0.20500.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-06750.80 +0.00/-0.2050.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-06850.80 +0.00/-0.20100.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-06950.80 +0.00/-0.20150.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-07050.80 +0.00/-0.20250.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-071 50.80 +0.00/-0.20500.00 Ultrafast-Enhanced Silver (600-1000nm)13-07225.40 +0.00/-0.225.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-26725.40 +0.00/-0.250.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-26825.40 +0.00/-0.275.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-26925.40 +0.00/-0.2100.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-27025.40 +0.00/-0.2200.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-27125.40 +0.00/-0.2500.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-27250.80 +0.00/-0.250.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-27350.80 +0.00/-0.2100.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-27450.80 +0.00/-0.2150.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-27550.80 +0.00/-0.2250.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)17-27650.80 +0.00/-0.2500.00 Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm) 17-277

PU塑料镀膜适用于&ndash 30° C~+135° C，塑料镀膜可防止瓶体刮伤、碎裂，是运输、储存危险品及珍贵物品的理想选择。紫外线吸收达380nm波长，高透明度，适于微波炉使用。 肖特镀膜蓝盖瓶产品特性，请浏览视频： http://v.youku.com/v_show/id_XNDI4NDY4MjU2.html 货号 容量 瓶盖规格 瓶身直径 瓶身高度 包装数量 GL mm mm 个/箱 1092676 25* 25 36 70 10 1092677 50 32 46 87 10 2180524 100 ** 45 56 100 10 2180529 150 *** 45 62 110 10 2180536 250 ** 45 70 138 10 2180544 500 ** 45 86 176 10 2180551 750 *** 45 95 203 10 2180554 1000 ** 45 101 225 10 2180563 2000 ** 45 136 260 10 2180569 3500 *** 45 160 295 1 2180573 5 000 45 182 330 1 * With specially shaped glass edge for improved pouring out (so that an additional plastic pouring ring is not required). ** Bottles of 100 &ndash 2 000 ml capacity have a shoulder reinforcement ring corresponding to the bottles nominal capacity. *** Acceptance within ISO 4796 standard has been requested.

TECHSPEC® Laser Line Coated Aspheric Lenses&bull 专为 Nd:YAG 激光波长设计和镀膜&bull 激光损伤阈值高&bull 热膨胀系数低通用规格属性值基底Fused Silica (Corning 7980)非球面面形误差，RMS @ 632.8nm1.2λ中心偏（弧分）≤5表面质量60-40倒角Protective bevel as needed后表面形状Plano共轭距离Infinite产品描述TECHSPEC® 激光线镀膜非球面透镜经过精心设计，可在高功率 Nd：YAG 激光应用中发挥最大性能。非球面设计可使球面像差减到最小，以减少激光光斑大小并在单位面积上保持高功率。经优化后，TECHSPEC 激光线镀膜非球面透镜适用于热门的 Nd:YAG 激光波长并具有高损伤阈值，UV 级熔融石英基片可有效抵抗热膨胀。订购信息Dia. (mm)EFL (mm)NA涂层产品编码15.00 +0.0/-0.112.50 @ 587.6nm0.60 Laser V-Coat (355nm) 33-00915.00 +0.0/-0.112.50 @ 587.6nm0.60 Laser V-Coat (532nm) 33-013 15.00 +0.0/-0.112.50 @ 587.6nm0.60 Laser V-Coat (1064nm) 33-01715.00 +0.0/-0.115.00 @ 587.6nm0.50 Laser V-Coat (355nm) 33-01015.00 +0.0/-0.115.00 @ 587.6nm0.50 Laser V-Coat (532nm) 33-01415.00 +0.0/-0.115.00 @ 587.6nm0.50 Laser V-Coat (1064nm) 33-01825.00 +0.0/-0.125.00 @ 587.6nm0.50 Laser V-Coat (355nm) 33-01125.00 +0.0/-0.125.00 @ 587.6nm0.50 Laser V-Coat (532nm) 33-01525.00 +0.0/-0.125.00 @ 587.6nm0.50 Laser V-Coat (1064nm) 33-01925.00 +0.0/-0.130.00 @ 587.6nm0.42 Laser V-Coat (355nm) 33-01225.00 +0.0/-0.130.00 @ 587.6nm0.42 Laser V-Coat (532nm) 33-01625.00 +0.0/-0.130.00 @ 587.6nm 0.42 Laser V-Coat (1064nm) 33-020

镀膜光学基底镀膜光学基底通过降低光楔，最大限度减少发射光束的角度偏差和对准误差。 表面质量高，波前失真小，适用于消色差束采样等。圆形基板的楔形10 arc sec,矩形或矩形基板的楔形 arc min低楔形选项：30±5arc min镀膜光学基底大楔形选项：1°或3。镜片材料：FS和BK-7。传播波前误差：λ/10@633nm，表面质量10-5。通光孔径大于85%，光楔30±5arc min。基底、尺寸和镀膜均支持定制。

PlasmaDecap 等离子开封设备等离子开封设备是为蚀刻模具化合物，聚酰亚胺芯片特别研发的，无需攻击敏感的接线便可将芯片开封。主要原素:优化开封微芯片开封处理程序快速高刻蚀率及低成本符合环保要求 优点:对铜线及银线线无伤害开封处理程序快速 高刻蚀率及低成本符合环保要求

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

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