推荐厂家
暂无
暂无
我用这个BASEpsilonEC落后的不行,上面虽然写了好多方法,但是很多方法都不能用,仪器商说标着DEMO的方法都不能用。我想用溶出伏安法那么我想用上面现有的恒电位催化法,上面需要填写,电位和时间两个参数,我觉得恒电位催化可能就是恒电位吧,例如我填 -1.3 V, 时间 100 s然后恒电位之后,再选用现行扫描法 LSV, 需要填写 起始电位和扫描速度那么我填 -1.1 V. 到 -0.6 V。 扫速只能选0.1 V/S,再大了都是锯齿或者在恒电位后施加方波伏安法, 参数框如下所示。 从来没有听说这样做溶出伏安法的,不知道我这样做是否可行,存在什么问题?http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/08/201108120939_309935_1823838_3.gif
我刚刚接触电化学遇到点问题我用阳极溶出伏安法测定金属镉和铅的过程中出峰电位均比应该出峰电位低0.2伏左右,是不是甘汞电极的问题?请各位指教小弟先谢过了
请问做溶出伏安法的时候,我要做一个标准曲线,那么有一组浓度不同的溶液做标准系列,那么我要用镀汞或镀铋的方法,第一个浓度的溶液,我在-1.3 V沉积300 s, 然后由-1.0 v 扫至0.1 V。那么我测第二个浓度的溶液,电极是否要重新打磨洗净,然后重复上述操作。我现在的方法是先镀汞,然后把镀完汞的电极插入到溶液中。或者可以在每一个溶液中都加入汞,那么每一次同步镀,同步测。请教高见。或者是否把电位放在某V,几百秒清洗后,即把电极插入到下一个溶液?