磁控溅射镀膜仪

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地：英国品牌：Cressington类型：Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象，而国产靶材由于杂质多（虽然宣称纯度优于4个9），质量次会导致镀膜效果不均匀，污染溅射头等问题，主要区别：1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装，而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装；2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌，而进口靶材有明显的产品信息和编号；

美国 Chroma滤光片Chroma专门从事高精度光学镀膜，致力于生产精确波谱控制，高信噪比，陡斜率的滤光片，波谱范围从紫外到近红外包括带通，多波段带通，长通，短通，陷波，二向色镜等。目前是Nikon, Zeiss, Leica和Olympus的主要供货商，同时也是许多其他生物类仪器，医疗仪器，药物研究，机器视觉，天文和激光类仪器厂家的供货商。滤光片分类1）激发滤光片 (Excitation Filter)2）发射滤光片 (EmissionFilter)3）二向色镜 (DichroicMirror)应用1、荧光应用Chroma磁控溅射镀膜滤光片具有高透过高阻挡，零漂移的特点。能够得到准确真实的图像。磁控溅射镀膜 VS 软镀膜Chroma FISH滤光片根据不同染料谱图进行优化，实现最佳的对比度这度，颜色区分和图像配准。2、激光应用Chroma用于TIRF的UltraFlat™ 向色镜(厚度≥2mm)，结合Chroma专利产品TIRF滤块盒，能够保证产生理想的渐逝场，不会激发渐逝场外之外的荧光分子。Chroma的UltraFlat™ 二向色镜能够最小化激光经反射后产生的波前扭曲。3、拉曼应用 RET532/4x (EX) 、RT532rdc (BS)、RET537lp (EM)● 窄带激发片● 斜率更陡的二向色镜● 斜率更陡的长通发射滤光● 低波数Raman信号检测(110-170 cm~1) UV, 488 nm, 532 nm, 785 nm等激光。4、机器视觉● 磁控溅射镀膜● 高透过(≥95%)● 高阻当(OD6)● 陡斜率● 尺寸：2-200 mm 圆形，方形及不规则尺寸 ● 波谱范围 (200-3500mm)● 接受客户定制

Quorum 耗材，靶材，载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列（S和ES版本）和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope，Emitech，Polaron，Bio-Rad，Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材：碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择，通常用于将碳蒸发到样品上，用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 （TEM）分析。

密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。主要特点1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数安装孔径：19.2mm

产品简介：加热台主要用于VTC-600-2HD双靶、VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪及GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪的样品台的加热。

产品简介：不锈钢弯头共2个接口，两接口为90°垂直且共面分布，主要用于连接真空腔室与相关配件。 产品型号　不锈钢弯头主要特点 1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、接口可根据用户要求改制。技术参数　接口：2个KF40 接口

美国CVI laser optics 设计和生产紫外到近红外波段的高性能光学器件，主要应用在激光的光束调节和传输方面，在业内有很高的知名度。金属镀膜反射镜:通过复合镀膜能实现在紫外波段到中红外波段的反射率和起保护作用的金属膜层。美国CVI laser optics生产的反射镜有超过350种镜片可供选择；设计入射角为0°或45°，覆盖波段从190nm 到 2000nm 提供金、银、铝等金属镀膜，用于提高反射率、起保护作用等；使用BK7或UVFS材料，能够实现λ/10表面质量的镜片；提供具有高反射率的镀膜镜片,如MaxMirror 和MaxBRlte 能在宽波段内实现大于98%的反射率。若是单面镀膜,会在未镀膜面用箭头指向镀膜面,方便使用。

产品简介：密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。 产品型号　密封装置主要特点 1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数　安装孔径：19.2mm

四通阀包含3个接口、1个阀门，呈垂直且共面分布，其中2个KF40接口、1个KF25接口（可根据用户要求改制），主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。主要特点可用于高真空腔室。技术参数 1、接口：2个KF40、1个KF25 2、阀门：1个

产品简介：四通阀包含3个接口、1个阀门，呈垂直且共面分布，其中2个KF40接口、1个KF25接口（可根据用户要求改制），主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。 产品型号　四通阀主要特点　可用于高真空腔室。技术参数 1、接口：2个KF40、1个KF25 2、阀门：1个

这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料，完全在德国生产，拥有世界一流的产品性能，非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg 99.99 Al 99.99 99.999 AlN 99.9 Al2O3 99.99 Al/Cu 99.99 99.999 Al/Si 99.99 99.999 Al/Si/Cu 99.99 99.999 Au 99.99 99.999 BBaFe12O19 99.9 BaF2 99.9 BaMnO3 99.9 (Ba,Sr)TiO3 99.9 BaTa2O6 99.9 BaTiO3 99.9 BaZrO3 99.9 Bi 99.9 99.999 Bi2O3 99.99 Ba4Ti3O12 99.9 BN 99.9 CCa 99 CaF2 99.95 CaTiO3 99.9 CdTe 99.995 Ce 99.9 CeO2 99.9 99.99 Cr 99.9 99.95 99.99 Cr2O3 99.8 CrSiO2 99.5 Co 99.95 CoO 99.5 Cu 99.997 Cu/Ga 70/30 at.% 99.99 CuO 99.9 DDyFeO3 99.9 Dy2O3 99.9 EEr2O3 99.9 FFe 99.95 Fe2O3 99.9 GGd2O3 99.9 GaN 99.99 Ge 99.999 HHfO2 99.95 I-KIn 99.99 99.999 In2O3 99.99 In2O3/SnO2 90/10wt% 99.99 In/Sn 99.99 Ir 99.8 99.9 LLa 99.9 LaAlO3 99.9 LiCoO2 99.9 LiNbO3 99.9 Li3PO4 99.9 MMg 99.98 MgAl2O4 99.9 MgB2 99.5 MgFe2O4 99.9 MgF2 99.9 MgO 99.95 Mn 99.9 Mo 99.9 99.95 MoS2 99 N-ONd 99.9 Nd2O3 99.9 Ni 99.95 99.98 99.99 Ni/Cr 99.95 Ni/Cr/B 99.95 Ni/Cr/Si 99.95 Ni/Fe 99.95 Ni/V 99.9 Nb 99.95 Nb2O5 99.9 P-QPb 99.999 Pb(Zr,Ti)O3 99.9 Pd 99.95 Pt 99.9 99.99 Pr 99.9 Pr2O3 99.9 RRe 99.9 Rh 99.8 Ru 99.9 RuO2 99.9 SSe 99.999 Si 99.999 SiC 99.5 Si3N4 99.9 SiO 99.9 SiO2 99.99 Si/Cr 99.99 Sn 99.99 SrFe12O19 99.9 SrRuO3 99.9 SrTiO3 99.9 99.99 T-UTaC 99.5 Ti 99.95 99.995 TiB2 99.5 TiC 99.5 TiN 99.5 TiO 99.9 TiO2 99.9 TiSi2 99.5 Ti/Al 99.9 TiW 99,95 99,995 VV 99.7 99.9 VC 99.5 VN 99.5 V2O5 99.9 W-XW 99.95 WC 99.5 W/Ti 99.95 YYb2O3 99.9 Y2O3 99.99 ZZn 99.99 ZnO/Al2O3, 98/2 wt.% 99.9 99.99 99.999 ZnO 99.9 99.99 99.999 ZnS 99.99 ZnSn 99.9 Zn/Al 99.99 Zr 99.2 ZrB2 99.9 ZrO2 + 3, 8, or 10 mol.% Y2O3 99.9

不锈钢弯头共2个接口，两接口为90°垂直且共面分布，主要用于连接真空腔室与相关配件。主要特点1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、接口可根据用户要求改制。技术参数接口：2个KF40 接口

镀膜光学基底镀膜光学基底通过降低光楔，最大限度减少发射光束的角度偏差和对准误差。 表面质量高，波前失真小，适用于消色差束采样等。圆形基板的楔形10 arc sec,矩形或矩形基板的楔形 arc min低楔形选项：30±5arc min镀膜光学基底大楔形选项：1°或3。镜片材料：FS和BK-7。传播波前误差：λ/10@633nm，表面质量10-5。通光孔径大于85%，光楔30±5arc min。基底、尺寸和镀膜均支持定制。

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铬靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

真空镀膜陶瓷/氧化铝陶瓷/精密陶瓷垫片/带孔陶瓷垫19.5×10×5孔×5厚3.0氧化铝陶瓷Al203作为应用最广泛的先进陶瓷材料，氧化铝陶瓷具有优异的电绝缘性、耐腐蚀性、耐磨损性和良好的机械性能，被广泛应用于电子医疗行业及机械工业零件等。材料性能表：氧化铝（A-95）氧化铝（A-99）密度：≥3.63 g/cm3≥3.9 g/cm3颜色：白色象牙白导热率：18 W/m..K27 W/m..K抗弯强度：≥280 Mpa≥360 Mpa体电阻率：＞10∧14 Ω.cm＞10∧14 Ω.cm热膨胀系数：7.2 （10-6/℃）8（10-6/℃）最高使用温度：1200℃1200℃0.1：材料解决方案电绝缘，热膨胀，硬度，导热系数等。对于任何其他要求，我们建议将材料与加工各种材料的经验相匹配。0.2：支持产品开发从提供样品到批量生产，我们将为您提供服务，我们还可以提供有关设计，交货日期的建议，以使客户的产品更好。0.3：快速交货我们内部拥有各种各样的材料和工具，这使得我们能够快速加工并交付给您。0.4：质量保证XMCERA的技能是通过严格的质量保证来控制和建立的，基于ISO9001:2015，我们承诺提供满足客户需求的产品。

金靶、铂靶、钯靶、银靶 EMS公司提供多种贵金属溅射靶材，有金靶、铂靶（白金）、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器，Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm，厚度在0.05－6mm之间的厚度靶材，需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材（4-304.8mm之间）。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.0 2.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP) 货号 (Pd)直径 mm货号（ AP60/40）直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：钯靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

UBC实验室专业莱宝镀膜机光纤端面镀膜（低功率）一．关于我们的设备 2008年12月16日加拿大UBC光纤通信实验室的高端真空镀膜设备正式投入试生产使用，满足科研需求的同时，我们也对外承接镀膜的业务。我们专注于光纤端面镀膜，以及中远红外波长晶体镀膜。光纤端面镀膜是我们的擅长，尤其是针对高反膜1550nm光通信光纤镀膜我们的成品率可以达到98%以上，反射率高达99%以上。我们也能够镀一定波段范围内增透膜或者高反膜。目前在国内，我们的典型客户有很多：华为技术有限公司，广州天赋人财有限公司，优脉管业股份有限公司。我们的产品在他们实验的方案系统中性能卓越，得到了客户的广泛认可。我们的镀膜设备分为两种：一种小锅炉：每次镀膜200根左右，另一种镀膜炉为大锅炉单次镀膜在1800根左右。小锅炉适合于两类客户群体：第一是小项目需求量比较少节约成本。第二类是第一次购买，需要验证镀膜质量的客户。大锅炉适合：小锅炉验证通过，但是需求量很大，希望节约成本的客户，镀膜同样的数量的光纤，大锅炉会节约一半的成本。 二.我们镀膜的产品：二.光谱图二.订购信息

金靶、铂靶、钯靶、银靶 EMS公司提供多种贵金属溅射靶材，有金靶、铂靶（白金）、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器，Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm，厚度在0.05－6mm之间的厚度靶材，需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材（4-304.8mm之间）。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.0 2.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP) 货号 (Pd)直径 mm货号（ AP60/40）直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm 厚度直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

Tydex公司专业订制生产THz光学镜片，可以提供太赫兹专用离轴抛物镜、滤波片、偏振片、窗片、透镜、棱镜、波片、分束片、反射镜和菲涅尔透镜等，同时还提供太赫兹衰减器、太赫兹宽带相位变换器。 太赫兹这增透镀膜 THz AR Coatings 众所周知高阻硅的透过率只有54%，石英晶体的透过率在50%左右，他们的反射损失都很大。为了减少反射损失，可以镀一层增透膜。 我们能提供聚乙烯和聚对二甲苯AR膜。聚乙烯膜只能用于窗片。聚对二甲苯适用于窗片，也适用于透镜。 AR膜的波长由客户决定，我们能提供60-1300μm。1. 两面镀膜两面镀膜适用于窗片和月牙透镜。镀膜的波长范围如下：聚乙烯： - 60-80 &mu m, 110-160 &mu m, 160-220 &mu m, 320-430 &mu m, 375-510 &mu m, 480-650 &mu m, 535-725 &mu m, 645-870 &mu m, 695-940 &mu m, and 965-1305 &mu m 聚对二甲苯：99-125 &mu m.聚乙烯和聚对二甲苯都能用于高阻硅，但是石英晶体只能镀聚对二甲苯。下图是高阻硅镀聚乙烯和没镀膜的透过率曲线图Fig. 1.高阻硅镀聚乙烯和没镀膜的透过率曲线图 镀膜波长范围160-220μmFig. 2. 石英窗片双面镀聚对二甲苯和没有镀膜的透过率曲线图 镀膜波长范围99-125μm2. 一面镀膜朝半头透镜只能做一面镀膜。镀膜的波长范围是99-125μm。透过率可以增加30%左右。镀膜是镀在球面上不是平面上。Fig.3. 超半球透镜球面镀膜的模拟传播光路。镀膜波长99-125μm

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金/钯靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

标准产品价格（高标准定制） 为了满足客户的一些定制需求，我们提供德国进口的镀膜产品。如下所列规格中大部分都是有库存的产品，客户可以从中选择适合自己试验要求的产品。用标准产品的价格，购买定制规格的镀膜产品。1.纳秒激光产品 2.连续激光和纳秒激光产品 3.反射膜 4.皮秒激光产品 5.低损耗光学产品 6.激光滤光片 7.飞秒激光产品 8.多用途宽带产品 9.不镀膜产品

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：镍靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

筱晓光子最新研发在光纤头上提供多种涂层，包括全/部分反射膜、长通、短通、带通，以及抗反射设计。应该理解的是，干扰涂层的性能取决于入射角（AOI），纤维呈现AOI到涂层尖端的分布。此外，我们的涂层尖端其硬度足以连接到其他光纤，从而使过滤器浸入玻璃过滤器配置中。所选光纤的数值孔径（NA）以及光纤在应用中的连接方式将影响滤波器性能，因此，我们要求客户填写以下清单，以帮助我们实现相关的镀膜定制服务。 中心波长760nm技术参数镀膜曲线 虽然多模光纤中的角分布必须考虑涂层处的AOI分布，但单模光纤和多模光纤都可以涂覆。涂层可以设计为在与另一根光纤或空气耦合时工作。我们可以提供广泛的滤波器设计，如抗反射、带通、短通、长通和部分反射器。镀膜短可以是接头、裸纤、锥形或透镜光纤都可以。滤波膜特征1 ● (circle one) LP SP BP Reflector (full or partial)● 起始波长 ___±___● 截止波长 ___±___● %T (peak) ________● 衰减波长范围 _________● Attenuation OD ___________● %R (peak) ______ ±_______● %R 波长范围 _________________光纤特征2● 数值孔径 (NA) ______● 纤芯直径 ______________● 包层直径 ______________● 光纤长度________________● 光纤材料(玻璃、塑料、硫系化合物) 工作波长下的单模或多模（圆形）● 模式填充程度（如果知道）______● 套管最大工作温度 ______● 其他 (保偏光纤,微结构光纤 etc)光纤端面特征3● 第一端连接器（FC、SC、LC、SMA、None）● 第二端连接器（FC、SC、LC、SMA、None）● 如果没有连接器（切割、透镜、裸光纤）● 哪一端需要涂层____________ Fiber Configuration4在空气中工作的涂层尖端涂层尖端连接到未涂层尖端需要镀膜的数量_______________光纤供应商________________ 举例说明：BP-0760-037Specifications:CWL: 760 ±7 nmHW: 37 ±7 nmTmin: 60 % Blocking: 1200 nm Measured values:CWL = 759.88 nm...OKHW = 38.5 nm...OKCuton 5 % = 732.43 nm Cutoff 5 % = 788.55 nm Spectrogon:HP1 = 740.63 nmHP2 = 779.12 nmTpeak = 93.14 %...OKTavg = 90.46 %Slope 1 = 1.55 %Slope 2 = 1.7 %

我公司向广大用户提供OPTOLITA公司生产的品牌为EKSMA的镀膜产品，可提供多种形式的镀膜，包括高反、高透、激光线、波带、多层镀膜等。质量好，精度高。特别适用于研究应用。

双线激光反射镜又名双激光谱线反射镜,是英文Dual Laser Line reflecting mirrors 的翻译。双线激光反射镜用于在两个不同的波带上实现进行高反或高透应用，入射角一般为45度。百分之百进口，质优价廉。双激光谱线反射镜采用多层镀膜，当可以在两个激光波长上实现最高的激光反射率。双线激光反射镜采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟，并且采用多层镀膜技术可以保证双线激光反射镜高功率应用。双激光谱线反射镜,Dual Laser Line reflecting mirrors 技术指标基片尺寸公差：+0/-0.1mm基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 40/20SD(曲面）镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A净孔径： 90%镀膜反射率：R99,5% @ 0o Rs99,3% and Rp98,5% @ 45deg激光损伤阈值:3-5J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm进The measured transmission curve for dual wavelength HR coating (HR @ 515+1030 nm)双线激光反射镜,双激光谱线反射镜,Dual Laser Line reflecting mirrors 询问服务：请阁下根据如下格式选择和填写您需要的镜片和镀膜参数，然后复制后直接通过Email发送给我们，您会收到及时的报价回复。Substrate material 基片材料 Shape 基片形状RectangularRound 请选择圆形或方型Dimensions 尺寸mm 如果是圆形就填写直径大小Thickness 厚度mm Type 类型Plano-ConcavePlano-ConvexOtherFlat/Flat如果您选择曲面镜片，请填写曲率半径 eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mmSurface figure L/4 L L/2 L/8Surface quality 20/1040/2060/40Parallelism error10arcsec1arcmin3arcminWedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3degCentral wavelenghs: eg. 1064nm+532nm Angle of incidence (AOI)deg Comments