超薄硅层分析仪

如果买薄层色谱分析仪,哪个牌子的好用,瑞士卡玛的怎样,好象有点贵

根据原理分析，我在微米级的铁磁性粉体表面包覆有分子级厚度的碳层，资料介绍用TEM无法表征，而是用EELS测量碳层存在的。但碍于国内都不愿意做磁性材料的HRTEM，我想这样进行：超薄切片，用盐酸去掉铁磁性颗粒，然后做HRTEM-EELS，以求证明超超薄碳层的存在。这样可以吗？其他还有什么方法可以证明碳层存在？请TEM高手指导。谢谢！忘记说了，这碳层是苯环热裂解碳

在2X2cm的铝片上化学作用了超薄的有机化合物层，用什么技术可以对其化学结构进行表征最好？北京哪里可以做分析?什么价位? 谢谢！

在金属表面做了超薄的涂层,想表征这一涂层对金属耐腐蚀的影响,请问用什么方法最好?北京哪里可以测试？如何处理样品？ 我对这个一窍不通，请指点！ 谢谢！

“薄层色谱分析仪”是专为薄层色谱(或类似薄层色谱)试验生产的配套仪器。它运用最新的数码技术,配备先进的薄层色谱图像处理软件，可对薄层斑点图像实现即时观察、即时保存、即时对斑点（条带）标记、测量距离、报告面积、百分含量等各种数据并即时打印，实现薄层色谱的定性定量分析；配备暗箱，使用时不受环境影响；三种光源任选：可见光、紫外光254nm、紫外光365nm。

支持膜、微栅与超薄碳膜的区别： 大多数透射电镜样品在制样时，为了确保样品能搭载在“载网”上，会在“载网”上覆一层有机膜，称为“支持膜”。这种具有支持膜的载网，称为“载网支持膜”。当样品接触载网支持膜时，会很牢固的吸附在支持膜上，不至于从载网的孔洞处滑落，以便在电镜上观察。 当样品放在电镜中观察时，“载网支持膜”在电子束照射下，会产生电荷积累，引起样品放电，从而发生样品漂移、跳动、支持膜破裂等情况。所以，人们考虑在支持膜上喷碳，提高支持膜的导电性，达到良好的观察效果。这种经过“喷碳的载网支持膜”，简称“碳支持膜”，一般膜厚度为7-10nm。 从制作成本和使用效果看，铜网最经济实用，所以被普遍采用。因此，人们经常提到的“铜网支持膜”、“碳支持膜”、“碳膜”、“方华膜”等，甚至被误称的“铜网”，大多是指这种具有“铜网喷碳的支持膜”。通常称“碳支持膜”。 准确的说，微栅是支持膜的一个品种，它是在制作支持膜时，特意在膜上制作的微孔，所以也叫“微栅支持膜”，它也是经过喷碳的支持膜，一般膜厚度为15-20nm。它主要是为了能够使样品搭载在支持膜微孔的边缘，以便使样品“无膜”观察。无膜的目的主要是为了提高图像衬度，所以，观察管状、棒状、纳米团聚物等，常用“微栅”支持膜，效果很好。特别是观察这些样品的高分辨像时，更是最佳的选择。 超薄碳膜，也是支持膜的一种。它是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。

本人的课题是聚合物超薄膜的构筑，在基底上基于层层组装技术在基片上沉积聚电解质，一层聚电解质膜的厚度只有几个纳米，我想用氟化钙做基底，然后再去做红外，我想问的是，由于量比较少，吸收的肯定也比较少，这样的超薄膜能做红外吗，样品的量是不是太少了，峰会不会被噪声干扰而无法识别？谢谢（由于仪器比较老，做不了衰减全发射，只能做最普通的红外测试，哎，真杯具啊）

炉前碳硅快速分析仪准吗？如果不准一般是什么原因

载网支持膜：大多数透射电镜样品在制样时，为了确保样品能搭载在“载网”上，会在“载网”上覆一层有机膜，称为“支持膜”。这种具有支持膜的载网，称为“载网支持膜”。当样品接触载网支持膜时，会很牢固的吸附在支持膜上，不至于从载网的孔洞处滑落，以便在电镜上观察。 碳支持膜：当样品放在电镜中观察时，“载网支持膜”在电子束照射下，会产生电荷积累，引起样品放电，从而发生样品漂移、跳动、支持膜破裂等情况。所以，人们考虑在支持膜上喷碳，提高支持膜的导电性，达到良好的观察效果。这种经过“喷碳的载网支持膜”，简称“碳支持膜”，一般膜厚度为7-10nm。从制作成本和使用效果看，铜网最经济实用，所以被普遍采用。因此，人们经常提到的“铜网支持膜”、“碳支持膜”、“碳膜”、“方华膜”等，甚至被误称的“铜网”，大多是指这种具有“铜网喷碳的支持膜”。通常称“碳支持膜”。微栅：准确的说，微栅是支持膜的一个品种，它是在制作支持膜时，特意在膜上制作的微孔，所以也叫“微栅支持膜”，它也是经过喷碳的支持膜，一般膜厚度为15-20nm。它主要是为了能够使样品搭载在支持膜微孔的边缘，以便使样品“无膜”观察。无膜的目的主要是为了提高图像衬度，所以，观察管状、棒状、纳米团聚物等，常用“微栅”支持膜，效果很好。特别是观察这些样品的高分辨像时，更是最佳的选择。超薄碳膜：也是支持膜的一种。它是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。（转自互联网）

了解冠层分析仪的发展和现状，还有种类的请帮忙介绍一下，谢谢啦

各位大神，小水在SrTiO3衬度上采用PLD(激光脉冲沉积法)生长了超薄PbTiO3薄膜（3-15nm）,现在的问题是，可能有相变（比如，有四方，菱方，单斜相生成）。请问可否能够采用拉曼谱分析出各种相？采用什么样的拉曼分析方法？ 希望各位大神赐教！先谢谢各位了！！！

2 ml 。气相色谱仪能直接分析的样品应是可挥发、且是热稳定的，沸点一般不超过 300℃，不能直接进样的，需经前处理。液相色谱仪样品要干燥，最好能提供要检测组份的结构;对于复杂样品，尽可能提供样品中可能还有其它哪些成分。元素分析仪(1)填写元素分析送样登记表，尽可能提供分子式和元素的理论含量或其它相关信息;(2)样品必须是不含吸附水的均匀固体微粒或液体，并经过提纯。如样品不纯(含吸附水、有机溶剂、无机盐或其它杂质)会影响分析结果，使测试值与计算值不符;(3)样品应有足够的量，以满足方法和仪器的线性和灵敏度。离子色谱仪送检样品可以溶于水，或稀酸、稀碱，所用的酸碱不能含有待测离子。对于样品中含有待测元素，但在水、酸、碱溶液中以非离子状态存在的化合物，需要进行相应的样品前处理。等离子体原子发射光谱仪(1)对送检样品(检测条件)的要求：①请告知样品来源、种类、属性(如矿石、合金、硅酸盐、特种固熔体、高聚物等)。尽可能列出主要成份、杂质成份及其(估计)含量;待检元素中最低(估计)含量是多少?对于溶液，请写明介质成份(溶剂、酸碱的种类及其(估计)含量)、 含氟( F-)与否 ?因为氟(F-)将严重腐蚀雾化器!②固体样品要制成不含任何有机物的溶液，其最终酸度控制为 1 mol ，样品量：5-50 ml 。如含悬浮物或沉淀，务必过滤;另请同时送上试剂空白溶液用作扣除空白，此项不收费!③样品要求处理成溶液以后才送至测试中心。(2)由于条件限制，本室无法分析下列元素和某些物质：① 样品加热、加酸溶解时易挥发损失者(如B,Hg,S-2 ,Se 及用氢氟酸 (HF) 溶样时的Si );② 陶瓷、玻璃类及其它用无机酸不能溶解、只可用碱融熔者;③ 有机硅、硅橡胶、塑料制品、纤维类或任何在 500℃ 以内灰化、及其后的酸消解中：A. 易挥发损失者;B. 无法灰化或无法溶解者(如 B,Bi,Ge,Hg,Os,Ru,Sb,Se,Sn,Tl 及用 氢氟酸(HF) 溶样时的 Si ;特种固熔体、高聚物等。)原子荧光光谱仪(1)样品分析一般要求原子荧光光谱仪分析的对象是以离子态存在的砷(As)、硒(Se)、锗(Ge)、碲(Te)等及汞(Hg)原子，样品必须是水溶液或能溶于酸。(2)固体样品① 无机固体样品 样品经简单溶解后保持适当酸度。检测砷(As)、硒(Se)、碲(Te)、汞(Hg)，介质为盐酸(5% ，v/v);检测锗(Ge)，介质为硫酸(5% ，v/v);检测汞(Hg)，介质也可为硝酸(5% ，v/v)，检测(As)介质也可为硫酸(2%，v/v)。由于铜、银、金、铂等金属对待测元素的干扰较大，因此该几类合金样品中的砷、硒、碲、汞不宜采用本仪器测定。② 有机或生物固体样品样品经硝化处理为溶液并保持适当酸度，其介质酸度与无机样品同。(3)样品中待测元素限量要求由仪器灵敏度及分析方法决定，样品含待测元素上下限为 0.05 μg/g ~ 500 μg/g ，不在此含量范围内的样品使用本仪器检测将无法保证检测结果的准确可靠。(4)样品份量每检测1个元素，要求固体样品量不少于2 g ，液体样品量不少于20 mL ，水样不少于100 mL 。(5)其它送样前请查阅相关文献资料，尽量提供相关信息。差示扫描量热仪固体样品，在所检测的温度范围内不会分解或升华，也无挥发物产生。样品量：单次检测无机或有机材料不少于 20mg ，药物不少于5mg 。送样时请注明检测条件(包括检测温度范围，升、降温速率，恒温时间等)。热重分析仪样品量：不少于30mg 。送样时请注明检测温度范围，实验气氛(空气、 N2 或 Ar )，升温速率，气体流量(如有特殊要求)。X- 射线粉末衍射仪送检样品可为粉末状、块状、薄膜及其它形状。粉末样品需要量约为0.2g(视其密度和衍射能力而定);块状样品要求具有一个面积小于45px x45px 的近似平面;薄膜样品要求有一定的厚度，面积小于45px x 45px ;其它样品可咨询实验室。X- 射单晶末衍射仪送检样品必须为单晶。选择晶体时要注意所选晶体表面光洁、颜色和透明度一致。不附着小晶体，没有缺损重叠、解理破坏、裂缝等缺陷。晶体长、宽、高的尺寸均为 0.1 ~ 0.4 mm ，即晶体对角线长度不超过 0.5 mm (大晶体可用切割方法取样，小晶体则要考虑其衍射能力)。透射电子显微镜由于受电镜高压限制，透射电子束一般只能穿透厚度为几十纳米以下的薄层样品。除微细粒状样品可以通过介质分散法并直接滴样外，其它样品的制备方法主要有物理减薄(离子和双喷减薄等)和超薄切片法。一般情况下，需要采用物理减薄法的样品制备过程，须由用户自己完成(不具备此制样条件的院系，可租用本室的相关设备)。超薄切片样品的制备，需经样品前处理、包埋、切片等复杂工序，周期较长(约一周左右)。由于该仪器是高分辨型电镜，为确保仪器性能和发挥其高分辨象观察特点，目前主要接受材料领域的样品。场发射扫描电子显微镜送检样品必须为干燥固体、块状、片状、纤维状及粉末状均可。应有一定的化学、物理稳定性，在真空中及电子束轰击下不会挥发或变形;无磁性、放射性和腐蚀性。含水分较多的生物软组织的样品制备，要求用户自己进行临界点干燥之前的固定、清洗、脱水及用醋酸(异)戊酯置换等处理，最后由本室进行临界点干燥处理。观察图像样品应预先喷金膜。一般情况下，样品尽量小块些 ( ≤10x10x5mm 较方便 ) 。粉末样品每个需1克左右。纳米样品一般需超声波分散，并喷涂超细微金膜。扫描电子显微镜 -X 射线能谱仪送检样品必须为干燥固体，块状、片状、纤维状

1.碳硅分析仪通过—种经过改进的求值方法进行工作，能自动控制重要冶金参数。它对灰白凝固铸铁自动进行测量，免去了人工操作。可以连接信号及测量数据的外部输出设备（大型远程显示器、信号灯、计算机、打印机）。 　　2.对白口、灰口铸铁进行C%、Si%、CEL、SC、△T、△TM、等测量，同时还附加对非合金铸铁的RM、HB、Z/H、及MEC等参数的计算 　　3.碳硅分析仪很容易操作，即使在昏暗的光线下也能轻易地从LED显示屏卜读出测量数据。 　　4、测量结果数显直读，测量时间为2-3分钟，便于铸造工程师现场配料。 　　5．碳硅分析仪是便携式的，可在炉台上自由移动，多台炉子可同时使用一台仪器。 资料来源于：http://www.nuojin17.com/nuojinyiqi-Article-100777/

[cp]合金分析仪仪器的原理介绍合金分析仪的是一种XRF光谱分析技术，可用于确认物质里的特定元素， 同时将其量化。它可以根据X射线的发射波长（λ）及能量（E）确定具体元素，而通过测量相应射线的密度来确定此元素的量。如此一来，XRF度普术就能测定物质的元素构成。在XRF分析法中，从X光发射管里放射出来的高能初级射线光子会撞击样本元素。这些初级光子含有足够的能量可以将里层即K层或L层的电子撞击脱轨。这时，原子变成了不稳定的离子。由于电子本能会寻求稳定，外层L层或M层的电子会进入弥补内层的空间。在这些电子从外层进入内层的过程中，它们会释放出能量，我们称之为二次X射线光子。而整个过程则称为萤光辐射。每种元素的二次射线都各有特征。而X射线光子萤光辐射产生的能量是由电子转换过程中内层和外层之间的能量差决定的。例如，铁原子Fe的Kα能量大约是6.4千电子伏。特定元素在一定时间内所放射出来的X射线的数量或者密度，能够用来衡量这种元素的数量。典型的XRF能量分布光谱显示了不同能量时光子密度的分布情况。每一个原子都有自己固定数量的电子（负电微粒）运行在核子周围的轨道上。而且其电子的数量等同于核子中的质子（正电微粒）数量。从元素周期表中的原子数我们则可以得知质子的数目。每一个原子数都对应固定的元素名称，例如铁，元素名是Fe，原子数是26。 能量色散X萤光与波长色散X萤光光谱分析技术特别研究与应用了里层三个电子轨道即K，L，M上的活动情况，其中K轨道为接近核子，每个电子轨道则对应某元素一个个特定的能量层。

2 ml 。 气相色谱仪 能直接分析的样品应是可挥发、且是热稳定的，沸点一般不超过 300℃，不能直接进样的，需经前处理。 液相色谱仪 样品要干燥，最好能提供要检测组份的结构;对于复杂样品，尽可能提供样品中可能还有其它哪些成分。 元素分析仪 (1)填写元素分析送样登记表，尽可能提供分子式和元素的理论含量或其它相关信息; (2)样品必须是不含吸附水的均匀固体微粒或液体，并经过提纯。如样品不纯(含吸附水、有机溶剂、无机盐或其它杂质)会影响分析结果，使测试值与计算值不符; (3)样品应有足够的量，以满足方法和仪器的线性和灵敏度。离子色谱仪送检样品可以溶于水，或稀酸、稀碱，所用的酸碱不能含有待测离子。对于样品中含有待测元素，但在水、酸、碱溶液中以非离子状态存在的化合物，需要进行相应的样品前处理。等离子体原子发射光谱仪 (1)对送检样品(检测条件)的要求： ①请告知样品来源、种类、属性(如矿石、合金、硅酸盐、特种固熔体、高聚物等)。 尽可能列出主要成份、杂质成份及其(估计)含量;待检元素中最低(估计)含量是多少?对于溶液，请写明介质成份(溶剂、酸碱的种类及其(估计)含量)、 含氟( F-)与否 ?因为氟(F-)将严重腐蚀雾化器! ②固体样品要制成不含任何有机物的溶液，其最终酸度控制为 1 mol ，样品量：5-50 ml 。 如含悬浮物或沉淀，务必过滤;另请同时送上试剂空白溶液用作扣除空白，此项不收费! ③样品要求处理成溶液以后才送至测试中心。 (2)由于条件限制，本室无法分析下列元素和某些物质： ① 样品加热、加酸溶解时易挥发损失者(如B,Hg,S-2 ,Se 及用氢氟酸 (HF) 溶样时的Si ); ② 陶瓷、玻璃类及其它用无机酸不能溶解、只可用碱融熔者; ③ 有机硅、硅橡胶、塑料制品、纤维类或任何在 500℃ 以内灰化、及其后的酸消解中： A. 易挥发损失者; B. 无法灰化或无法溶解者(如 B,Bi,Ge,Hg,Os,Ru,Sb,Se,Sn,Tl 及用 氢氟酸(HF) 溶样时的 Si ;特种固熔体、高聚物等。) 原子荧光光谱仪 (1)样品分析一般要求 原子荧光光谱仪分析的对象是以离子态存在的砷(As)、硒(Se)、锗(Ge)、碲(Te)等及汞(Hg)原子，样品必须是水溶液或能溶于酸。 (2)固体样品 ① 无机固体样品 样品经简单溶解后保持适当酸度。 检测砷(As)、硒(Se)、碲(Te)、汞(Hg)，介质为盐酸(5% ，v/v); 检测锗(Ge)，介质为硫酸(5% ，v/v); 检测汞(Hg)，介质也可为硝酸(5% ，v/v)，检测(As)介质也可为硫酸(2%，v/v)。 由于铜、银、金、铂等金属对待测元素的干扰较大，因此该几类合金样品中的砷、硒、碲、汞不宜采用本仪器测定。 ② 有机或生物固体样品 样品经硝化处理为溶液并保持适当酸度，其介质酸度与无机样品同。 (3)样品中待测元素限量要求 由仪器灵敏度及分析方法决定，样品含待测元素上下限为 0.05 μg/g ~ 500 μg/g ，不在此含量范围内的样品使用本仪器检测将无法保证检测结果的准确可靠。 (4)样品份量 每检测1 个元素，要求固体样品量不少于 2 g ，液体样品量不少于 20 mL ，水样不少于100 mL 。 (5)其它 送样前请查阅相关文献资料，尽量提供相关信息。 差示扫描量热仪 固体样品，在所检测的温度范围内不会分解或升华，也无挥发物产生。样品量：单次检测无机或有机材料不少于 20mg ，药物不少于 5mg 。送样时请注明检测条件(包括检测温度范围，升、降温速率，恒温时间等)。 热重分析仪 样品量：不少于30mg 。送样时请注明检测温度范围，实验气氛(空气、 N2 或 Ar )，升温速率，气体流量(如有特殊要求)。 X- 射线粉末衍射仪 送检样品可为粉末状、块状、薄膜及其它形状。粉末样品需要量约为 0.2g(视其密度和衍射能力而定);块状样品要求具有一个面积小于45px x45px 的近似平面;薄膜样品要求有一定的厚度，面积小于 45px x 45px ;其它样品可咨询实验室。 X- 射单晶末衍射仪 送检样品必须为单晶。选择晶体时要注意所选晶体表面光洁、颜色和透明度一致。不附着小晶体，没有缺损重叠、解理破坏、裂缝等缺陷。晶体长、宽、高的尺寸均为 0.1 ~ 0.4 mm ，即晶体对角线长度不超过 0.5 mm (大晶体可用切割方法取样，小晶体则要考虑其衍射能力)。 透射电子显微镜 由于受电镜高压限制，透射电子束一般只能穿透厚度为几十纳米以下的薄层样品。除微细粒状样品可以通过介质分散法并直接滴样外，其它样品的制备方法主要有物理减薄(离子和双喷减薄等)和超薄切片法。一般情况下，需要采用物理减薄法的样品制备过程，须由用户自己完成(不具备此制样条件的院系，可租用本室的相关设备)。超薄切片样品的制备，需经样品前处理、包埋、切片等复杂工序，周期较长(约一周左右)。 由于该仪器是高分辨型电镜，为确保仪器性能和发挥其高分辨象观察特点，目前主要接受材料领域的样品。 场发射扫描电子显微镜 送检样品必须为干燥固体、块状、片状、纤维状及粉末状均可。应有一定的化学、物理稳定性，在真空中及电子束轰击下不会挥发或变形

我们主要是进行碳钢，低合金钢，及奥氏体不锈钢等的金属成分分析，欲购碳硫分析仪硅锰磷三元素分析仪电弧燃烧炉等最好是在珠三角有办事外的厂家联系：MSN：x.s.huang@hotmai.com

有个问题请教各位，我有一组样品，由外至内，镀有Au-Ni-Cu的三层镀层，目前我想测试最外层Au层的纯度：1、样品我有两种规格的，主要是Au层厚度的区别，一种样品是2um厚度的金层，另外一种样品的Au层只有20nm。2、Au的纯度相对比较高，应该是99%以上。3、当前，我能想到的方法，2um及以上的Au层纯度，也许可以用SEM-EDS或者EPMA来测。但是对于20nm的Au层纯度，我目前还真的没有合适的方法，因为SEM-EDS或者EPMA的高能电子束有一定的作用深度，势必会激发下面的Ni或者Cu的成分出来。请问各位有什么好的方法？

http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191656_647054_2507958_3.gif【在线讲座194期】超薄薄膜的无损XPS分析主讲人：魏义彬 Thermofisher公司 销售经理 活动时间：2012年6月29日 下午 14:30http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191656_647054_2507958_3.gif1、报名条件：只要您是仪器网注册用户均可报名参加。2、参加及审核人数限制：限制报名人数为120人，审核人数100人。3、报名截止时间：2012年6月29日下午14:304、报名参会：http://simg.instrument.com.cn/meeting/images/20100414/baoming.jpg5、参与互动：本次讲座采取网络讲堂直播模式，欢迎大家积极发言提问。 *参会期间您还可以将有疑问的数据通过上传的形式给老师予以展示，并寻求解答*6、环境配置：只要您有电脑、外加一个耳麦就能参加。建议使用IE浏览器进入会场。7、提问时间：现在就可以在此帖提问啦，截至2012年6月28日8、会议进入：2012年6月29日14:00点就可以进入会议室9、开课时间：2012年6月29日14:3010、特别说明：报名并通过审核将会收到1 封电子邮件通知函(您已注册培训课程)，请注意查收，并按提示进入会议室!为了使您的报名申请顺利通过，请填写完整而正确的信息哦~http://simg.instrument.com.cn/webinar/20110223/images/zb_11.gif注意：由于参会名额有限，如您通过审核，请您珍惜宝贵的学习交流机会，按时参加会议。如您临时有事无法参会，请您进入报名页面请假。无故不参会将会影响您下一次的参会报名。快来参加吧：我要报名》》》快来提问吧：我要提问》》》

本单位寻找在江浙沪地区可以做超薄切片及TEM检测，材料是细胞悬液，要求测试公司有完整质量体系。联系方式站内回复，如违规请版主删除谢谢。

二氧化硅基质微粒（粒径100um），表层为有机聚合物层（厚度20nm），想观察其核壳结构和表层有机层的厚度，请问高手这种复合材料的超薄切片如何做？？感激不尽！

求教各位，我在做生物样品的超薄切片时，切面已经调整好，所有步骤均按标准进行，但切70纳米薄切片时，无法切出连续的切片，一直都是切两三刀空切后，突然切出来一片较厚的切片。根本无法挑出满意的薄切片。在各个方面都做了改善，所用玻璃刀也是新制的，但仍然无效？跪求解决办法？

同一个样品，用el的仪器CHNS和CHN模式作出的结果不一样，H特别突出，能相差1%。聚硅氧烷的样品，可以用el元素分析仪做吗？结果偏差会比较大吗？

电脑多元素分析仪TY-BSY4000测定锰铁中锰、磷、硅一、方法提要：试样用硝酸溶解，以过硫酸铵破坏其中的碳化物，并氧化低价元素为高价，然后制成试样母液，分别测定各成份元素。二、母液制备：试剂：1、硝酸：1+1（V/V）， 2、过硫酸锭铵（固体）。制备：称取50 mg试样于100 ml两用量瓶中，加入20 ml硝酸，约0.5 g 过硫酸铵，低温加热溶解。如有二氧化锰析出，则滴加5%的亚硝酸钠溶液至溶样清亮，继续煮沸约15S，取下流水冷却到室温，用水定容，摇匀备用。三、各待测元素的测定：1、锰的测定：过硫酸铵氧化光度法。试剂：a、定锰液：1g硝酸银溶于500 ml 1+4的硝酸中摇匀备用。b、过硫酸铵溶液：10%。分析步骤：分取5.0 ml母液于100 ml两用量瓶中，加入10 ml定锰液，10 ml过硫酸铵溶液，摇匀。加热至有小气泡产生，取下流水冷却至室温，用水定容于电脑多元素分析仪TY-BSY4000的第一通道测其含量。2、硅的测定：硅钼蓝光度法。试剂：a、钼酸铵：5%， b、草酸：5%c、硫酸亚铁铵：6%（每100 ml中含1+1硫酸2 ml。）分析操作：分取母液20 ml于50 ml

使用超薄碳膜的情况下，加上物镜光阑，有些超薄的纳米颗粒的衬度依很低，无法拍摄清楚。拍摄这类材料有什么技巧吗？加大欠焦程度会使边界明显一点，但图像特别丑，可以作为常用手段吗？仪器型号FEI F20.