超薄硅层分析仪

梅特勒托利多 Thornton 2800Si 硅分析仪是一种可靠的在线仪器，专门用于纯水处理与电厂循环化学。该分析仪为水的纯度提供保障，从而优化纯水生产的离子交换，最大限度减少硅在涡轮机内的沉积。在尽量减少操作人员巡检工作量的同时，及早地发现痕量级污染。应用在 ppb 级硅的超纯水监测。可在 ppb 级非常低时检测到抛光阴离子树脂的漏硅，受污染的水可在到达重点区域前引走转移。监测纯水处理中的阴离子交换过程，可以第一时间发现硅离子的泄漏，从而在污染物到达下级处理单元之前启动再生操作过程。电力蒸汽质量监测避免硅沉积在涡轮机中和引发的不平衡，以及功能和效率的损失。补给水被大量污染前，电厂凝结水精处理监测就能够在低 ppb 级检测到再生操作需求。产品特性 &mdash 优势自动化、无人值守自动校准 - 提供出色的重复性并节省操作人员时间每次测量时自动零点校正 - 确保测量稳定性便捷的样离线去样测量功能 &mdash 可以对工厂的其它区域进行额外的样品和质量控制检查同步显示硅含量和测量时间 - 提供一目了然的方便分析状态，节省操作时间提供反应室温度测量，确保可靠操作全部封闭 - 安全保护试剂容器和工厂环境中的组件，无需面板开大试剂容器可实现长时间服务间隔 &mdash 减少维护时间规格 - 2800Si硅分析仪（又名硅离子分析仪、在线硅表、全自动硅表）Range0-5000ppbDetection limit0.8ppbТочность读数的 ± 5%，± 1 ppbMeasurement parameter周期时间可调，通常为 20 分钟Pressure range (bar/psi) 7 bar (100 psig)如需了解更多信息，请访问或拨打梅特勒托利多官方客服热线

仪器简介：典型应用：电厂化水补给水、锅炉水、蒸汽和冷凝水中在线监测。检测方法：国际通用标准的杂鉬蓝分析法；与实验室方法的数据对比重现性好。技术参数：测量范围：0-5000 ppb；以SiO2 表示；检 出 限：小于0.5 ppb；精 确 度：± 0.5 ppb 或读数的± 1.0% ,取较大值。响应时间：8.8 分钟，当样品温度是30 to 50℃时，15 分钟，当样品温度是 5- 40℃,环境温度: 10 - 45℃,（一般室内安装）样品要求：5± 3 psig (34.5 ± 20.7 kPa).样品流量：100 to 300 mL/分钟模拟输出：几种模拟输出可选：0-0.01V, 0-0.1V, 0-1V or 4-20mA.，量程可设置电源要求：115/230 Vac， 50～60Hz，可选择.报警信号：2个样品浓度警报，1个分析仪系统警告和1个分析仪系统停机报警。防护等级：ABS塑料，NEMA 4X/IP65安装方式：台式安装或面板式安装主要特点：● 先进的自诊断、报警系统，当样品流突然中断时，有报警信号；● 每个样品分析都进行自动调整零点；扣除干扰。● 具有灵活、实用的抓样分析方法；● 专利的压力法试剂传输系统，试剂消耗量低；维护量小● 可编程的自动校准，有三种校准方式可供选择。● 先进的分析门开关保护系统。● 预制的、即开即用的试剂节省时间；试剂的成批制备，保证了试剂质量的均匀、和稳定。● 可配置为8通道硅分析仪

DM1230X荧光铝硅分析仪与钙铁分析仪同时使用、实现生料配料的率值控制以不到一半的投资实现X荧光多元素分析仪的功能采用能量色散X射线荧光(EDXRF)分析技术本公司专有的分谱技术、次级滤光片、超薄铍窗正比计数管、特殊的光路系统符合标准GB/T176JB/T11145JC/T1085概述DM1230 X荧光铝硅分析仪是本公司集数十年X荧光分析仪的研究经验，在公司原有的DM系列钙铁分析仪、X荧光多元素分析仪等的基础上研制推出的分析仪器。它采用能量色散X射线荧光(EDXRF)分析技术，薄铍窗充气正比计数管、次级滤光片、特殊的光路系统、硬质样品比例法和本公司专有的分谱技术，从而使小型仪器也能准确测量相邻的轻元素(如水泥生料中的Al、Si)，其测量准确度达到进口同类仪器的水平。其符合国家标准GB/T 176—2017《水泥化学分析方法》的相关要求，符合行业标准JC/T1085—2008《水泥用X射线荧光分析仪》，符合行业标准JB/T11145—2011《X射线荧光光谱仪》。只要压个片就能在5分钟内测出生料、熟料或水泥中Al2O3、SiO2的浓度。图0 EDXRF分析技术原理图目前国内大多数水泥企业已使用X荧光钙铁分析仪来测量生料等物料中CaO、Fe2O3的含量，但Al2O3、SiO2含量的测量却很少是用X荧光分析仪的，而Al2O3、SiO2含量的即时准确得到与CaO、Fe2O3对水泥生产的质量控制同样重要，只有同时即时准确得到这四个氧化物的含量才能真正实现生料的率值控制。当本仪器与本公司的钙铁分析仪一起使用时可用同一个样品，且由于按本仪器要求制备出的样品比按钙铁分析仪要求的好，所以还能提高CaO、Fe2O3的含量测量准确度，与DM2100型X荧光多元素分析仪相比，虽然使用麻烦了一点，但价格不到一半，且由于结构简单可靠性更高了。DM1230 X荧光铝硅分析仪的2021款除保持了原有DM1230的优点外，还进行了以下重大改进：(1) 大屏幕彩色触摸式液晶屏代替原黑白液晶屏和键盘，改善了用户的操控体验。(2) 新的大规模集成电路CPU代替原老的如80C31等CPU，没有数据总线与外部设备或外部芯片直接连接，极大地提高了系统的可靠性，基本消灭了死机现象。(3) 用贴片电路代替原立式电路，减少了电路板的面积，并能大规模机械化生产，极大地提高了硬件的可靠性，使仪器的返修率降到最底。(4) 用热敏打印机代替了原来的针打印机。(5) 用最新设计的采用CPLD，FPGA，DSP等技术的多道脉冲幅度分析器及可变增益放大器代替原单道脉冲幅度分析器及固定增益放大器，极大地提高了仪器的长期稳定性。DM1230 X荧光铝硅分析仪的2021款的推出是本公司实现自我超越的成果，必将使本公司在X荧光分析仪领域保持长久的国内领先地位。适用范围主要用于水泥生料、熟料、水泥和原料等物料中Al2O3、SiO2的浓度测量。可单机使用，也可联机使用为生料配料自动控制系统提供检测讯号，形成“分析仪---微机---皮带秤”自动控制系统。除水泥工业外，也可用于发电厂、砖瓦厂、冶金、石油、地质矿山等部门的固体、液体和粉末样品中Al2O3、SiO2的浓度测量。特点快速同时––所需测量元素同时快速分析，一般几分钟给出浓度结果。高准确度––采用EDXRF技术，低本底薄铍窗正比计数管，次级滤光片。极大地提高了仪器的灵敏度和峰背比，具出色的重复性和再现性，极高的准确度。向下照射––采用X射线向下照射系统，杜绝了样品粉末污染损坏探测系统的可能，特别适合水泥生熟料等粉末样品。长期稳定––采用可变增益数字多道，有增益调整、比率校正、偏差修正等功能，具极好的长期稳定性。环保节能––射线防护达豁免要求。分析时不接触不破坏样品，无污染，无需化学试剂，也不需要燃烧。使用方便––触摸屏操作。样品粉碎压片放入仪器后只需按[启动]键即可，真正实现一键操作。高可靠性––一体化设计，集成化程度高，环境适应能力强，抗干扰能力强，可靠性高。数据传存––可存储海量数据，支持掉电后保持数据，并可随时查看。并可将存储数据传输到PC机。高性价比––无需气体、真空、稀释，运行维护成本极低。价格为国外同类产品的一半，适应我国国情。校准X荧光分析方法是一种参考方法，校准是为得到定量的结果所必须的。XRF光谱仪通过比较已知标样与未知样的光谱强度来得到定量分析的结果。其某元素的浓度计算式（即校准曲线）为：C＝D＋EIC＋FIC 2 （1）式中，IC =f(I0)，I0为原始强度，IC为处理后强度，D、E、F是由校准确定的系数。校准的方法是：用光谱仪测量一系列校准标准样品或有证标准样品的每种元素强度，利用回归分析，例如最小二乘法，确定（1）式的系数。用已知浓度的11个水泥生料标准样品对光谱仪进行校准，得到的数据如表1。表1.水泥生料标准样品校准结果数据成分Al2O3SiO2系数D-2.89-3.46系数E57.1432.41系数F00相关系数γ0.99120.9980这些校准曲线的相关系数γ均大于0.99，表示DM1230 X荧光铝硅分析仪的线性误差极小。重复性对同一水泥生料样品，进行11次测量，得到各元素的重复性数据如表2。表2.生料标准样品重复性测量数据分析（%）成分Al2O3SiO2标准值1.4610.75平均示值1.1.3510.64最大示值1.4710.72最小示值1.2410.56极差0.230.16示值标准偏差0.06500.04613倍示值标准偏差0.1950.138GB/T176的重复性限0.200.20DM1240与国标的符合性优优按国家标准GB/T 176—2017《水泥化学分析方法》的重复性要求，光谱仪的重复性必须满足：其示值标准偏差的3倍不大于GB/T176的重复性限。从表2可以看出DM1230 X荧光铝硅分析仪可以实现优异的重复性。主要技术指标X射线管电压：≤10keV，电流：≤0.5mA，功率：≤5W探测器超薄铍窗正比计数管测量范围Al2O3、SiO2分析范围均可调节，通过校准选定测量范围宽度Al2O3max—Al2O3min≤5%，SiO2 max—SiO2 min≤7%测量精度S Al2O3≤0.07%，SSiO2≤0.07%符合标准GB/T 176—2017，JC/T1085—2008，JB/T11145—2011等系统测量时间100s、200s、300s，可选，推荐值：300s使用条件环境温度：5～40℃，相对湿度：≤85%(30℃)，供电电源：220V±20V，50Hz，≤50W尺寸及重量470mm（W）× 365mm（D）× 130mm（H），15kg

DM8000多元素分析仪（波散） 多道同时测量，快速、可靠、准确度高尤其适合工矿企业对多元素测量的要求采用波长色散X射线荧光(WDXRF)分析技术美国进口Varian公司薄铍端窗X射线管Moxtek公司0.6μm超薄聚酯探测器窗符合标准GB/T176JB/T11145JC/T1085概述DM8000多元素分析仪（波散）是由本公司集数十年X荧光分析仪的研究经验，在公司原有的DM系列X荧光钙铁分析仪、测硫仪、铝硅分析仪、多元素分析仪等的基础上研制推出的一种达到国际先进水平的分析仪器。它采用同时式(或称多道式)波长色散X射线荧光(WDXRF)分析技术，所有道同时测量从Na到U的任意十种元素。对大多数元素，其测量范围可低至ppm高至100%。具有分析速度快、精度高、人为误差小、操作人员劳动强度低、只需一次性投资、无污染等特点，故广泛应用于建材、冶金、石油、化工、地质、矿山等各行各业。DM8000多元素分析仪（波散）关键部件采用进口产品，如X射线管采用Varian公司生产的400W薄铍端窗X射线管，Na、Mg等轻元素道探测器窗采用Moxtek公司生产的0.6μm超薄聚酯窗，恒温室温度控制精度小于0.1℃，流气系统采用高精度流气密度稳定装置，压力稳定度小于3Pa，还具有样品自旋装置以消除样品不均匀所产生的测量误差。由此使本分析仪具有极高的精度和准确度，达到国际先进水平。本分析仪屏蔽防护的良好设计保证无任何射线泄漏，满足辐射豁免要求。DM8000多元素分析仪（波散）应用于我国水泥行业尤其显示出其优越性。这是由于该款仪器最初是为水泥行业专门开发的，其符合国家标准GB/T 176—2017《水泥化学分析方法》的相关要求，符合行业标准JC/T1085—2008《水泥用X射线荧光分析仪》，符合行业标准JB/T11145—2011《X射线荧光光谱仪》。其性能对水泥行业来说比进口同类产品更好，而价格仅为进口同类产品的一半，具有无可比拟的价格性能比。另外国内企业售后服务的方便程度是国外企业所无法相比的。适用范围主要用于水泥生料、熟料、水泥和原料等物料中Na2O，MgO，Al2O3，SiO2，SO3，TiO2，K2O，CaO，Fe2O3等的浓度测量。可单机使用，也可联机使用为生料配料自动控制系统提供检测讯号，形成“分析仪---微机---皮带秤”自动控制系统。除水泥工业外，也可用于发电厂、砖瓦厂、冶金、石油、地质矿山等工矿部门的固体、液体和粉末样品中Na2O，MgO，Al2O3，SiO2，SO3，TiO2，K2O，CaO，Fe2O3等的浓度分析。特点快速同时––同时式(或称多道式)，所需测量元素同时快速分析，一般几分钟给出浓度结果。高准确度––波长色散XRF分析技术，具有能量色散无法企及的极高分辨率，从而准确测量相邻轻元素。使用方便––样品粉碎压片或熔融，放入仪器后只需按[启动]键即可，真正实现一键操作。长期稳定––有恒温室、流气密度稳定、样品自旋等装置，还有可变增益数字多道，具极好的长期稳定性。高可靠性––固定道使仪器基本没有移动部件，且集成化程度高，环境适应能力强，从而可靠性高。软件强大––有比率或基体效应校正、偏差修正、合格率等统计、率值计算、出错提示等多种功能，还可免费 更新最新版本，根据用户要求增加软件功能。环保节能––射线防护达豁免要求。分析时不接触不破坏样品，无污染，无需化学试剂，也不需要燃烧。高性价比––无需水冷，运行维护成本极低。价格为国外同类产品的一半，适应我国国情。原理其原理如图2所示。X射线管垂直放置，直接向上照射样品，这样可使它们之间的距离尽可能的近，从而达到最大激发效率。样品接受X射线管所发出X射线的照射将产生X射线荧光，其将进入分光室进行分光。一种元素对应一个分光室。X射线荧光经狭缝（如果分光晶体用的是弯晶）或索拉狭缝（如果分光晶体用的是平晶）射向分光晶体，经晶体分光后满足衍射条件布拉格方程的对应该元素的特征X射线荧光再经狭缝或索拉狭缝射向探测器。经探测器探测并经后面的电子线路计数后将得到该元素特征X射线荧光的强度，再经校准方程计算得到元素的浓度。图2 多道 WDXRF分析技术原理图由于其X射线荧光是经晶体按波长来区分的，所以称之为波长色散。其分辨率与探测器无关只与晶体有关，所以有很高的分辨率，相比于能量色散的要高1个数量级。关键部件进口美国Varian公司生产的薄铍端窗X射线管采用美国Varian公司生产的EG-60薄铍端窗X射线管。该X射线管是端窗的，X射线束垂直于靶，焦斑到样品距离极短，从而提高激发效率。其窗用薄铍，靶材用的是铑，所以能高效地探测轻元素。其阴极接地，消除了对高度绝缘的灯丝变压器的需要，也消除了铍窗口的电子轰击和由此产生的加热。其功率为400W，只需用风冷而不需用水冷，由于是多道同时测量，其效果相当于扫描式(或称单道式)的4000W大型X射线管。其外形图见图3。图3 EG-60薄铍端窗X射线管进口美国Moxtek公司生产的0.6μm超薄聚酯窗对于轻元素的测量，比如Na、Mg，探测器的窗是很重要的，其必须足够薄并且足够牢。本仪器采用美国Moxtek公司生产的0.6μm厚的ProLINE系列20窗，其由超薄层聚合物和涂有200埃的铝的电荷耗散层连接到坚固的金属六边形支撑框架上，从而达到低能量x射线的高透射。B（Kα）的分析都是可能的。图4为其外形图。图5是其能量与透射率关系图。图4 Moxtek的超薄聚酯窗图5 ProLINE系列能量与透射率恒温室温度控制精度小于0.1℃波长色散分析仪是个精细的仪器，特别是晶体对机械尺寸的要求极高，当温度有一定的变化而造成尺寸那怕是微小的变化时会造成强度的变化，所以分光室必须恒温。本仪器的恒温室温度控制精度小于0.1℃，并且除分光室外，其他如探测部分及其电子线路等均在恒温室内，从而使仪器不受外界温度的影响。流气系统采用高精度流气密度稳定装置，压力稳定度小于3Pa本仪器所用探测器为本公司自己开发生产的流气正比计数管，其所流过的气体的密度必须恒定才能保证探测器的稳定，本仪器流气系统采用高精度流气密度稳定装置，压力稳定度小于3Pa。具有样品自旋装置以消除样品不均匀所产生的测量误差。样品若用粉末压片的方法制备的话，如含SiO2，由于其硬度很高，磨得的颗粒大小不一，从而使样片的表面不均匀。所以本仪器设计安装了样品自旋装置以最大程度的消除样品不均匀所产生的测量误差。校准X荧光分析方法是一种参考方法，校准是为得到定量的结果所必须的。XRF光谱仪通过比较已知标样与未知样的光谱强度来得到定量分析的结果。其某元素的浓度计算式（即校准曲线）为：C＝D＋EIC＋FIC 2 （1）式中，IC =f(I0)，I0为原始强度，IC 为处理后强度，D、E、F是由校准确定的系数。校准的方法是：用光谱仪测量一系列校准标准样品或有证标准样品的每种元素强度，利用回归分析，例如最小二乘法，确定（1）式的系数。用已知浓度的11个国家水泥生料标准样品对光谱仪进行校准，得到的数据如表1。表1. 水泥生料标准样品校准结果数据成分系数D系数E系数F相关系数γNa2O-0.12816.7578×10-600.8296MgO-0.22926.0429×10-500.9968Al2O3-0.10961.2584×10-400.9945SiO2-5.11162.1326×10-500.9727SO3-0.22071.1990×10-500.9687K2O0.02677.0202×10-600.9952CaO11.48801.1060×10-500.9980Fe2O3-1.71809.9915×10-600.9967这些校准曲线的相关系数γ大部分都大于0.99，表示DM8000多元素分析仪（波散）的线性误差极小。重复性对同一水泥生料样品，进行11次测量，得到各元素的重复性数据如表2。表2. 生料标准样品重复性测量数据分析（%）XS1标样Na2OMgOAl2O3SiO2SO3K2OCaOFe2O3标准值0.092.594.2714.430.240.3039.841.96平均示值0.072.514.3114.340.260.2939.951.95最大示值0.072.544.3614.390.270.2939.981.96最小示值0.072.504.2914.290.260.2939.921.94极差00.040.070.10.0100.060.02示值标准偏差0.0010.010.020.020.0020.00140.020.0053倍示值标准偏差0.0030.030.060.060.0060.00420.060.015GB/T176的重复性限0.050.150.200.200.150.100.250.15DM8000与国标的符合性远优远优优优远优远优优远优GB/T 176—2017《水泥化学分析方法》的重复性要求，光谱仪的重复性必须满足：其示值标准偏差的3倍不大于GB/T176的重复性限。从表2可以看出DM8000多元素分析仪（波散）可以实现优异的重复性。主要技术指标X射线管电压：≤50keV，电流：≤8.0mA，功率：≤400W探测器超薄窗流气正比计数管可测元素或其氧化物种类从Na到U的任意十种元素或其氧化物，以水泥为例（下同）具体是：Na2O，MgO，Al2O3，SiO2，SO3，TiO2，K2O，CaO，Fe2O3等。测量范围Na2O，MgO，Al2O3，SiO2，SO3，TiO2，K2O，CaO，Fe2O3等分析范围均可调节，通过校准选定测量范围宽度Na2O max—Na2O min≤5%，MgO max—MgO min≤5%，Al2O3max—Al2O3min≤5%，SiO2 max—SiO2 min7≤%，SO3 max—SO3 min≤5%，TiO2 max—TiO2 min≤5%，K2O max—K2O min≤5%，CaOmax—CaOmin≤7%， Fe2O3 max—Fe2O3 min ≤5%。测量精度SNa2O≤0.01%，SMgO≤0.03%，SAl2O3≤0.04%，SSiO2≤0.04%，SSO3≤0.01%，STiO2≤0.01%，SK2O≤0.01%，SCaO≤0.03%，SFe2O3≤0.02%。符合标准GB/T 176—2017，JC/T1085—2008，JB/T11145—2011等系统测量时间1～999s，推荐值：180s恒温室温度36℃±0.1℃使用条件环境温度：15～28℃，相对湿度：≤75%(25℃)，供电电源：220V±20V，50Hz，≤1.0kW尺寸及重量790mm（W）× 760mm（D）× 1200mm（H），195kg

X 射线荧光镀层测厚及材料分析仪，配有可编程运行的 X/Y 轴工作台和 Z 轴升降台，用于自动测量超薄镀层厚度或进行痕量分析。FISCHERSCOPE X-RAY XDV-SDD是一款应用广泛的能量色散型 X 射线荧光镀层测厚及材料分析仪。它特别适用于测量和分析超薄镀层以及经行痕量分析。其配备了高精度、可编程运行的 X/Y 轴工作台，是全自动测量样品的理想设备。XDV-SDD设计为界面友好的台式测量仪器。它配备了高精度、可编程运行的X/Y轴工作台和马达驱动的Z轴升降台。当具有防护功能的测量门开启时，样品台能自动移出到放置样品的位置。通过激光点，可以快速对准需要测量的位置。仪器内置带有图像放大及十字线功能的视频系统，简化了样品放置的过程，并可对测量点位置进行精确微调。所有的仪器操作，以及测量数据的计算和测量数据报表的清晰显示，都可以通过功能强大而界面友好的WinFTM软件在电脑上完成。XDV-SDD最多可同时测定从铝（13）到铀（92）中的24 种元素测量门向上开启的台式仪器，侧面开槽设计马达驱动、可编程运行的 X/Y 轴工作和 Z 轴升降台 马达驱动、可切换的准直器和基本滤片。仪器配备带铍窗口的微聚焦钨管，三挡可调节高压，6个可切换的基本滤片。可按要求，提供额外的XDV 型产品更改和XDV 仪器技术咨询

PHI 4700薄膜分析仪产品介绍产品名称：薄膜分析仪产品型号：PHI 4700品 牌：日本ULVAC-PHI产 地：日本前言在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决制程上的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配高感度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，成本效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。优点量化薄膜的成分 层的厚度测量检测相互扩散层 微米范围多点分析基本规格全自动多样品纵深分析: PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有绝佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。高感度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入镜头可提供最高的灵敏度和大幅缩短样品侦测时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与制程管理上之数据搜集可进行个别分析。10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的最小尺寸可保证小于80纳米。浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG- 5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会停止高能量的中性原子，从而改善了接口定义和减少对邻近地区的溅射。五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有摩打及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，透过减少构件与溅射在一个固定样本的位置，以优化纵深分析。PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和最理想样品的定位是由一个强大的&ldquo 自动Z轴定位&rdquo 功能所提供。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设立测量及其模板。可选用配备热/冷样品座样品真空传送付仪（Sample Transfer vessel）应用领域半导体薄膜产业微电子封装产业无机光电产业微摩擦学

Everix OD 4.0 超薄陷波滤光片 #23-672其它通用分析最大厚度 300 和 400µ m柔性结构、抗划伤具有鲜明光谱特征的挤压型薄膜通用规格直径 (mm):12.50光密度 OD（平均）:4 透射率 (%) :85 (average)尺寸容差 (mm):±0.15有效孔径 (%):90中心波长公差 (%):±2 12.50光密度 OD（平均）:4中心波长 CWL (nm):405.00透射率 (%) :85 (average)传输波长 (nm):375-1200类型:Notch Filter尺寸容差 (mm):±0.15有效孔径 (%):90中心波长公差 (%):±2Maximum Thickness (μm):300Everix OD 4.0 超薄陷波滤光片兼具高性能和低成本，是一类新型对划痕不敏感的、柔性薄膜干涉滤光片。由于波长覆盖可见光和近红外区域，所以这些滤光片的抑制水平能满足光学密度为 4 的要求。Everix OD 4.0 超薄陷波滤光片具有与大多数硬氧化物滤光片类似的传输和抑制水平，而不牺牲阻带的轮廓。这些滤光片适合集成到手持或便携式医疗、测量和光学设备上使用，其总重量和光程长度是关键的设计元素。Everix OD 4.0 超薄陷波滤光片请注意:如有定制需求，可直接联系我们获取更多信息。

市场对通信电子、航空航天、计算机、汽车和其他行业对电子产品的日益依赖，正推动电子行业的快速增长，在电子行业不断推陈出新以满足更高期望的同时，对产品的质量控制也越来越严格。镀层作为保证电子行业产品质量可靠性和稳定性的主要工艺，其厚度是产品质量的最重要保证因素，因此，对镀层厚度的质量控制/保证至关重要，X射线荧光（XRF）因为其非破坏性、测量快速、易于使用，已成为一种广泛使用的镀层厚度和成分测量技术。INSIGHT旨在为镀层分析应用提供精准高效的分析方法。晓INSIGHT易于操作，配置灵活，可轻松超薄镀层的挑战，提供快速、准确和可重复的结果，帮助诸多的PCB、半导体等电子相关行业有效提高生产力，确保符合规范，以避免出现性能低下的风险以及与废料或返工相关的成本。使用优势多准直器组件可选配多准直器组合自动切换，使得INSIGHT的多功能性得以显著提升，以灵活应对不同尺寸的零件。上照式设计仪器采用上照式设计，可轻松实现对超大型、不规则、微小件、甚至液体形态样品的快、准、稳高效测量。高强度X射线管晓INSIGHT可选配高强度毛细管光学系统，可为仪器带来更高的计数率、 更小的点位测量，更薄的镀层测量，有助于将仪器的分析效率翻倍。可编程自动位移样品台选配自动平台，轻松实现自动测量，可以更快的准备和测量样品，从而提高分析量。一键式测量配备直观而智能的分析软件，操作简单，任何人无需培训都可以测试样品，仅仅需要点击“开始测试”，数十秒即可获得检测结果啦。提高生产力INSIGHT自动化功能帮助您可以更快地测量样品，从而提高您的分析量。超大测量室仪器壳体的开槽设计（C型槽）使得测量空间宽大，样品放置便捷，可以测量如印刷线路板类大而平整的物品，也可以放置形状复杂的大样品。高灵敏度的检测器对于复杂的镀层结构，SDD系列检测器更易分析具有类似XRF特征的元素，具有更佳分辨率、更低的背景噪声（最高 S/N 比），并且可以更精确地测量较薄镀层。自动对焦无论样品厚薄或大小如何，都可在几秒钟内自动对样品进行对焦。可从远至80毫米的距离测量样品，非常适合测量具有凹陷区域的零件，或者适用于测量不同高度的多个样品。应用场景印刷电路板Au/Ni/Cu/ PCB；Sn/Cu/PCB；Au/NiP/Cu/PCB；Ag/Cu/PCB；Sn/Cu/PCB；SnPd/Cu/PCB；Au/Pd/NiP/Cu/PCB连接器镀层电子和电气工业中，电接触用保护和耐磨镀层的应用正在不断增多。接触件作为电连接器的核心零部件，通过表处理能提高接触件的耐蚀、耐磨功能，也能在很大程度上优化接触件的传输功能。电连接器接触件基材一般为铜合金，常用的镀层有：镀锡、镀金、镀银、镀镍、镀钯等。晶圆制造（半导体）晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片。在生产过程中，需要对晶圆进行电镀工序，即在晶圆上电镀一层导电金属，后续还将对导电金属层进行加工以制成导电线路。晶圆作为芯片的基本材料，其对于电镀镀层的要求严格，故而工艺的要求也较高。晶圆电镀时必须保证镀层的均匀性和厚度，方能保证晶圆的质量。引线框架引线框架是连接半导体集成块内部芯片的接触点和外部导线的薄板金属框架，是半导体封装的一种主要结构材料。为了保证封装工艺中的装片／键合性能，需要对引线框架进行特殊的表面处理，常见的引线框架镀层元素有金、银、钯、镍等。规格参数特点自上而下的测量结构，XYZ测量平台，Muti-FP多层算法元素范围Na(钠)—Fm(镄) 分析层数5层（4层+基材）每层可分析10种元素，成分分析最多可分析25种元素X射线管微聚焦X射线管、毛细管X射线管（可选配）探测器高灵敏度大面积SDD探测器、SDD 50mm2超大面积探测器（可选配）准直器多准可选,多准可组合相机高分辨率CMOS彩色摄像头，500万像素手动样品XY平台移动范围：100 x 150 mm可编程XY平台(可选配)Z轴移动范围150 mm样品仓尺寸564×540×150mm（L×W×H）外形尺寸664×761×757mm（L×W×H）重量120KG电源AC 220V±5V 50Hz(各地区配置稍有不同) 额定功率150W

应用TP306 硅酸根分析仪用于发电厂除盐水、蒸汽冷凝水、炉水及化工、制药、化纤、半导体行业水中可溶性二氧化硅和硅酸盐含量的分析、检测。原理在pH为1.1～1.3条件下，水中的可溶硅与钼酸铵生成黄色硅钼络合物，用1-氨基-2萘酚-4-磺酸（简称1-2-4酸）还原剂把硅钼络合物还原成硅钼蓝，用硅酸根分析仪测定其硅含量。仪器利用光电比色原理进行测量。根据朗伯－比耳定律：当一束单色平行光通过有色的溶液时，一部分光能被溶液吸收，若液层厚度不变，光能被吸收的程度（吸光度A）与溶液中有色物质的浓度成正比。功能特点* 先进贴片工艺及一体化设计，高集成度电路设计稳定耐用。* 先进单片机技术,高性能,低功耗。* 光源采用进口单色冷光源，性能优良，信号稳定，功耗低，寿命长。* 本底补偿功能,减少微量硅测量误差。* 自动计时提醒功能，方便操作者使用，提高工作效率 。* 空白校准，消除零点漂移和电气漂移，提高测量精确度。* 数据循环存储功能(最大256条)，自动清除溢出数据，操作简单，查询方便。技术指标显 示: 5.0寸触摸彩色液晶，中文显示测量范围: (0.0～200.0)μg/L或(0.0～2000)μg/L精 确 度: ±2%F.S分 辨 率: 0.1μg/L重 复 性: ≤1%稳 定 性: ±1% F.S/4h环境温度: (5～45)℃环境湿度: ≤90%RH(无冷凝)外形尺寸: 260mm×200mm×180mm供电电源: AC (85～265)V 频率 (45～65)Hz功 率: ≤30W重 量：3.2kg订购指南* 硅酸根标液* 排污管* 电源线* 进样杯注意事项1.配制溶液的Ⅱ级试剂水必须是纯度很高的高纯水，最好是高性能混床离子交换装置产生的去离子水。2.所有试剂应保存在专门标识的聚乙烯塑料瓶中。所有试剂的质量等级都必须是分析纯或分析纯以上，且未过保质期。3.每天应对仪器做一次空白校准，每隔两周应对仪器进行一次曲线校准，以消除电气漂移、光学漂移和温度漂移对仪器的影响。

X荧光硅铝分析仪,X荧光硅铝分析仪厂家【鹤壁创新仪器】供应的X荧光硅铝分析仪可广泛用于冶金、采矿、建材等工业中。用于水泥厂中，主要测量生料、熟料中的SiO2、Al2O3的百分含量。由于它的分析速度快（1分钟），因此可实时监控生产过程中SiO2、Al2O3变化情况，便于及时调整原料的配比，为生产高合格率熟料打下坚实的基础。X荧光硅铝分析仪 性能特点：1 、微机化集成为一体，结构紧凑，外形美观。2、大屏幕液晶显示，全中文菜单提示操作，使用极为方便。3、分析时间短，1分钟能测出SiO2%、Al2O3%。4、仪器检测时不破坏样品，样品可重复使用。5、不用任何化学试剂、无三废排放，不含放射源、低耗电，符合环保节能要求。　　　6、数据存储量大，含量结果、仪器自检数据都可查询，避免了打印耗材。7、仪器执行GB/T19140《水泥X射线荧光分析通则》。8、可与配料系统联网，实现自动控制。 X荧光硅铝分析仪 技术指标：1、分析范围: SiO2、Al2O3 0.01%～100 % 2、分析精度：标准偏差SSiO2≤0.10%、SAl2O3≤0.08%3、分析宽度: SiO2(Al2O3) max—SiO2(Al2O3)min≤5%,例如生料中SiO2:10%～15%，通过标定工作曲线选定。4、分析时间: n*60秒（n为1～5自然数）。5、使用条件: 供电AC200V～240V；环境温度0～40℃；相对湿度85%（30℃）。6、整机功耗: 30W 7、整机尺寸：468mm*368mm*136mm 8、整机重量：13.8kg尊敬的用户： 感谢您选用鹤壁市创新仪器有限公司的产品，我公司将为您提供完善、优质的技术支持与售后服务，为此，我们特做出以下承诺： 1、安装调试及现场培训： 根据用户要求的时间和地点为用户免费安装调试仪器。公司及公司授权技术人员在为用户安装调试仪器及日常维护时，对用户操作人员提供免费现场培训服务，使用户能熟练掌握仪器性能、操作使用及一般维护保养。 2、保修规定：按国家标准供货，整机保修一年（易损件除外）产品终身维护。 3、维修规定： 在正常使用情况下，仪器若出现故障，维修站保证在接到通知后24小时内响应，如需进行现场维修的，我们承诺尽快派人到达现场并在短时间内排除故障。更换配件费及维修工时费按公司规定的统一价格收取。 4、其它承诺： 我们承诺保证各型号仪器的配件供应充足，并提供产品优惠价格。鹤壁创新为您提供优质的X荧光硅铝分析仪,X荧光硅铝分析仪厂家，如果您有兴趣，请与我联系【联系人是常华,我的手机】获得更多的【仪器、仪表分析仪器】相关信息。砖厂砖坯钙含量分析仪煤矸石砖坯含钙量分析仪煤矸石土坯钙铁分析仪电厂石灰石钙铁分析仪电厂石灰石硫钙铁分析仪荧光钙铁分析仪荧光硫钙铁分析仪钙铁煤分析仪钙硫分析仪钙铁硫分析仪水泥生料硫钙铁分析仪水泥生料钙铁硫分析仪水泥硫钙铁分析仪水泥钙铁硫分析仪水泥熟料钙硫分析仪水泥熟料硫钙铁分析仪水泥氧化钙分析仪石灰石膏硫钙铁分析仪砖厂粉煤灰钙铁分析仪砖厂煤矸石钙铁分析仪

国内数百个石化企业、质检部门经过反复论证并强烈推荐使用。样品检测范围：汽油、柴油、石脑油、航空煤油、航空汽油、原油、渣油、水、聚丙烯、石油焦、催化剂等液体及固体样品。波长X荧光分析标准： 硫S：GB/T111140， 氯Cl+硅Si：SH/T6083， 铅Pb：ASTM D5059 检测下限: 硫S：0.15ppm；氯Cl：0.1ppm； 硅Si：0.5ppm；铅Pb：0.2ppm； 检测范围：0-99.99%X射线光管：靶材：Pd；50KV – 4mA；200W；分光晶体：多块晶体自动转换。 分析仪特点:1. 检测汽油、柴油、石脑油、原油、水(包括污水)等样品，也可测量催化剂等粉末和固体样品。灵敏度高，重复性好。2. 相比传统单波长检测单元素分析仪功率只有75W，四合一分析仪光源的功率为200W，检测下限更低、重复性更加优异。3. 划时代的将四组单波长X荧光技术集合到一台分析仪，运用到石油产品多元素检测中， 且采用特殊晶体RX4和RX9，分辨率更高。尤其检测高硫低氯的样品，分别率更加清晰。4. 外形小巧，可放置于任何实验室，即插即用。 5. 仪器标配12位自动进样器，真正提高分析效率。6. 全中文软件，操作简便。7. 可快速进行定性分析、定量分析、无标样近似定量分析。8. 具有光路校正、薄膜校正、匹配数据库等功能。

应用 TP306 硅酸根分析仪用于发电厂除盐水、蒸汽冷凝水、炉水及化工、制药、化纤、半导体行业水中可溶性二氧化硅和硅酸盐含量的分析、检测。 原理 TP306 硅酸根分析仪在pH为1.1～1.3条件下，水中的可溶硅与钼酸铵生成黄色硅钼络合物，用1-氨基-2萘酚-4-磺酸（简称1-2-4酸）还原剂把硅钼络合物还原成硅钼蓝，用硅酸根分析仪测定其硅含量。仪器利用光电比色原理进行测量。根据朗伯－比耳定律：当一束单色平行光通过有色的溶液时，一部分光能被溶液吸收，若液层厚度不变，光能被吸收的程度（吸光度A）与溶液中有色物质的浓度成正比。 功能特点 * 先进贴片工艺及一体化设计，高集成度电路设计稳定耐用。 * 先进单片机技术,高性能,低功耗。 * 光源采用进口单色冷光源，性能优良，信号稳定，功耗低，寿命长。 * 本底补偿功能,减少微量硅测量误差。 * 自动计时提醒功能，方便操作者使用，提高工作效率 。 * 空白校准，消除零点漂移和电气漂移，提高测量精确度。 * 数据循环存储功能(最大256条)，自动清除溢出数据，操作简单，查询方便。 技术指标 显 示: 5.0寸触摸彩色液晶，中文显示 测量范围: (0.0～200.0)μg/L或(0.0～2000)μg/L 精 确 度: ±2%F.S 分 辨 率: 0.1μg/L 重 复 性: ≤1% 稳 定 性: ±1% F.S/4h 环境温度: (5～45)℃ 环境湿度: ≤90%RH(无冷凝) 外形尺寸: 260mm×200mm×180mm 供电电源: AC (85～265)V 频率 (45～65)Hz 功 率: ≤30W 重 量：3.2kg 订购指南 * 硅酸根标液 * 排污管 * 电源线 * 进样杯 注意事项 1.配制溶液的Ⅱ级试剂水必须是纯度很高的高纯水，最 好 是高性能混床离子交换装置产生的去离子水。 2.所有试剂应保存在专门标识的聚乙烯塑料瓶中。所有试剂的质量等级都必须是分析纯或分析纯以上，且未过保质期。 3.每天应对仪器做一次空白校准，每隔两周应对仪器进行一次曲线校准，以消除电气漂移、光学漂移和温度漂移对仪器的影响。

&bull 三用紫外分析仪技术参数&bull 紫外线灯:ZF-A 254nm 1 支 日光灯 1支　 365nm 1支　　　 透紫外滤光片 50 × 200mm 1 片 透光率 　　　254nm ≮68% 　　365nm ≮86% 电源： 220V ± 10 ％ 功率：50-60HZ \ 12W&bull 三用紫外分析仪主要特点&bull 具有功率小，热量低，采用高效节能电子整流器，一开即亮，使用方便。主材料的选择上，我们选用质优的紫外灯管和滤光片。尤其我们选用了优质高效的透紫滤光片， 在 254nm 处的透光率达 68% ，在 365nm 处透光率达 86% （国内其它厂家同类产品 滤光片的透光滤仅达 30%-50% ）。使本产品的透光效率提高 1-2 倍。&bull 仪器介绍&bull 三用紫外分析仪主要为薄层分析用途而设计。在工作状态下，紫外线灯管发出的光， 经过滤光片，滤除可见光，从而为荧光分析提供了强烈的254nm和 365nm 紫外光，特 别适应于药物薄层分析，纸层分析生化凝胶分析荧光斑点和检测。灯台上还配有日光 灯，点样使用。

超薄磁力搅拌器一、产品概述超薄磁力搅拌器，是在原磁力搅拌器的基础上更新换代的新产品，灵敏度高，使化学实验搅拌向自动化迈进了一步，也是配套各种分析仪器搅拌溶液的理想工具，适用于粘稠度不是很大的液体或者固液混合物。利用了磁场和漩涡的原理将液体放入容器中后，将搅拌子同时放入液体，当底座产生磁场后，带动搅拌子成圆周循环运动从而达到搅拌液体的目的。可以根据具体的实验要求帮助实验者设定实验条件，极大的提高了实验重复性的可能。二、特点：1超薄搅拌器超薄不锈钢外壳，易清洗；采用进出EMP元件机芯；速度无极连续可调，不受负载和电压波动影响。2利用磁性物质同性相斥的特性，通过不断变换基座的两端的极性来推动磁性搅拌子转动，通过磁性搅拌子的转动带动样本旋转，使样本均匀混合；3通过电磁感应产生旋转的磁场后，搅拌子会随磁场一同旋转，外部电位器可控制旋转的速度。与传统的电机式磁力搅拌相比，旋转磁场运行平稳、功耗低、无机械磨损、无噪音、无需保养、体积小、重量轻、可靠性较高，是传统电机式磁力搅拌器的理想替代品。参数要求型号NKSJ-1NKSJ-2(T)NKSJ-4(T)NKSJ-6(T)电源110V-240V±10% 50HZ 60HZ转速10—2000rpm拌功率25W25W x225W x425Wx6搅拌工位1246重量1.5KG3.0KG5.0KG7.0KG注 “ T”型为多工位同步搅拌。四、使用方法1、检查随整机配件是否齐全。2、把所需搅拌的烧杯放在不锈钢盘正中。3、加入溶液把搅拌子放在所需的烧杯溶液中，找正搅拌工位中小位置。4、仪器搅拌调试逆时针调至最低（最右）位置。5、插上仪器电源插头，接通电源再手动匀速调节搅拌旋钮，并调至所需使用速度。6、仪器使用结束后，将搅拌速度调至最低，移出容器拔下电源插头，并用毛巾擦拭干净搅拌工作台面。

贵州超薄型防火漆/贵阳超薄型防火涂料/直供工厂（刘经理：023^68696660）本产品施涂于建筑物钢结构表面，平时起装饰作用，火灾时能形成耐火隔热屏障，大大提高了钢结构的耐火时间。 本产品以液态为主，涂层厚度小于或等于3mm，其功能是防火，具有性能优良、使用时间长、适用范围广泛等特点。 防火涂料按照其防火原理，可分为膨胀型和非膨胀型两大类。非膨胀型防火涂料是通过下述作用来防火的：其一是涂层自身的难燃性或非燃性；其二是在火焰或高温的作用下能释放出灭火性气体，并形成非燃性的无机层隔绝空气。非膨胀型防火涂料按照成膜物质的特点，可分为无机和有ji两种类型。膨胀型防火涂料成膜后，在常温下是普通的漆膜。在火焰或高温作用下，涂层发生膨胀炭化，形成一个比原来厚度大几十倍、上百倍的非易燃的海绵状的碳质层，它可以隔断外界火源对基材的加热，从而起到阻燃作用。 重庆科冠涂料微信公众号搜索：科冠油漆涂料。以上部分内容来源于网络，仅作为展示之用，版权归原作者所有；如有不适，请告知，我们会尽快删除。

美国博曼（Bowman）Bowman BA-100 Optics 台式X射线荧光（XRF）镀层测厚仪Bowman BA-100 Optics 机型采用业界领先的多孔毛细管光学聚焦装置，有效缩小测量点斑点的同时，可数倍乃至数十倍提高X射线激发强度。Bowman BA-100 Optics 机型配备大面积的SDD（硅漂移探测器），有效拓展元素分析范围，适应严格的微区、超薄镀层，以及痕量元素分析需求。优质的测试性能、突出的微区测量能力，Bowman BA-100 Optics机型是研究开发、质量管控的XRF镀层厚度及元素成分分析仪器。 稳定的X射线管 ● 微聚焦50瓦Mo靶射线管（其它靶材可选） 小于100um的测量斑点 ● 射线出射点预置于射线管Be窗正中央 ● 长寿命的射线管灯丝 ● 独有的预热和ISO温度适应程序 多毛细管聚焦光学结构 ● 显著提高X射线信号强度 ● 获得较准直器机型数倍乃至数十倍的信号强度 ● 小于100um直径的测量斑点 ● 经过验证，接近完美的测量精度 应用领域：常见的镀层应用: PCB行业 Au/Pd/Ni/Cu/PCB 引线框架 Ag/Cu Au/Pd/Ni/CuFe 半导体行业 Pd/Ni/Cu/Ti/Si-晶元基材 Au/Pd/Ni/Cu/Si晶元基材 线材 Sn/Cu 珠宝、贵金属 10,14,18Kt 元素分析、合金分类、杂质分析、溶液分析、电镀液分析等 美国博曼高性能XRF镀层测厚仪三十余年深耕镀层测厚事业经历不断创新、获得广泛好评具备广泛的镀层厚度测量范围（可对13号铝元素到92号铀元素进行高精度测量分析） 成为越来越多行业的满意选择 可为您提供高精度，快速简便的测量和分析

应用TP306 硅酸根分析仪用于发电厂除盐水、蒸汽冷凝水、炉水及化工、制药、化纤、半导体行业水中可溶性二氧化硅和硅酸盐含量的分析、检测。原理在pH为1.1～1.3条件下，水中的可溶硅与钼酸铵生成黄色硅钼络合物，用1-氨基-2萘酚-4-磺酸（简称1-2-4酸）还原剂把硅钼络合物还原成硅钼蓝，用硅酸根分析仪测定其硅含量。仪器利用光电比色原理进行测量。根据朗伯－比耳定律：当一束单色平行光通过有色的溶液时，一部分光能被溶液吸收，若液层厚度不变，光能被吸收的程度（吸光度A）与溶液中有色物质的浓度成正比。功能特点* 先进贴片工艺及一体化设计，高集成度电路设计稳定耐用。* 先进单片机技术,高性能,低功耗。* 光源采用进口单色冷光源，性能优良，信号稳定，功耗低，寿命长。* 本底补偿功能,减少微量硅测量误差。* 自动计时提醒功能，方便操作者使用，提高工作效率 。* 空白校准，消除零点漂移和电气漂移，提高测量精确度。* 数据循环存储功能(最大256条)，自动清除溢出数据，操作简单，查询方便。技术指标显 示: 5.0寸触摸彩色液晶，中文显示测量范围: (0.0～200.0)μg/L或(0.0～2000)μg/L精 确 度: ±2%F.S分 辨 率: 0.1μg/L重 复 性: ≤1%稳 定 性: ±1% F.S/4h环境温度: (5～45)℃环境湿度: ≤90%RH(无冷凝)外形尺寸: 260mm×200mm×180mm供电电源: AC (85～265)V 频率 (45～65)Hz功 率: ≤30W重 量：3.2kg订购指南* 硅酸根标液* 排污管* 电源线* 进样杯注意事项1.配制溶液的Ⅱ级试剂水必须是纯度很高的高纯水，最好是高性能混床离子交换装置产生的去离子水。2.所有试剂应保存在专门标识的聚乙烯塑料瓶中。所有试剂的质量等级都必须是分析纯或分析纯以上，且未过保质期。3.每天应对仪器做一次空白校准，每隔两周应对仪器进行一次曲线校准，以消除电气漂移、光学漂移和温度漂移对仪器的影响。

XRF工作原理是用X射线轰击样品，样品 受激发后产生X射线荧光。X射线通常把元素原子K层和L层的内层电子打出原子，产生的空穴被高能量的外层电子填补。补充到低能量轨道上的高能量电子把多余的能量以X射线荧光辐射出来。这些辐射出来的谱线中含有各种元素的特征。像指纹一样，并且独立于原子的化学价态。辐射的强度与样品中该元素的浓度成正比。ScopeX桌面式XRF分析仪采用了先进的工业设计及人工工程学理念，精致美观。仪器整体拥有更小的机身体积和更大的样品仓，节约空间的同时，带来了更高的样品兼容性。不论是不同形态（固、液、气、薄膜等）还是不同形状（块状、片状、线状）的样品，均可被准确分析。适用于大规模连续分析、过程控制、产品质量检验等环节，是石油、镀层、贵金属、水泥、矿物、金属材料和塑料等多种行业的理想工具。使用优势高性能配置低能X射线搭配智能真空系统，可对Si、P、S、Al、Mg等轻元素具有良好的激发效果，利用XRF技术可对高含量的Cr、Ni、Mo等重点元素进行分析。多种准直器、滤光片自动切换5mm，3mm，1mm，0.5mm四种准直器，准直器和滤光片均可由软件自动切换，省时省力，通过合适的准直器和滤光片或无滤光片组合可提升检测准确度及灵敏度。无损检测在不损害或不影响被检测对象使用性能,不伤害被检测对象内部组织，整个测试过程无任何损伤。Peltier制冷先进Peltier电制冷方式，无需液氮，降低设备使用复杂度，节约人力和设备维护成本。数据传输USB、WIFI、无线蓝牙等多种方式进行数据传输。用户自定义文件可采用EXCEL，PDF等格式，用户可自定义创建测试报告：包括公司标志、光谱谱图及其他样品信息。安全性全封闭式金属机箱及防泄漏保护开关，设计更科学，软硬件配合，机电联动，辐射安全符合国标GB18871-2002、GBZ115-2002要求。规格参数元素范围Na(钠)—U(铀)样品室尺寸ScopeX 980CS/ScopeX 980CSR：304×368×78mm（L×W×H）ScopeX 980/ScopeX 980S：365×300×78mm（L×W×H） 样品重量范围0-2.5KG开盖方式自动控制主机尺寸570×400×400mm（L×W×H）主机重量ScopeX 980CS/ScopeX 980CSR：64KGScopeX 980/ScopeX 980S：47KGX射线发生器大功率侧窗X射线管，50W，管压管流可自由调节，W/Ag/Rh靶材(可选配)电压上限50kV电流上限1mA冷却方式空冷探测器大面积SDD探测器测定环境空气模式、氦气模式、真空模式进样方式手动进样、自动进样样品观察500万像素高清工业摄像头PC处理器(CPU)i3-7100同等主频或以上内存（RAM）DDR4 4G内存或以上硬盘容量(ROM)1TB HDD或256GB SSD或以上温度条件10°C~35°C相对湿度40~70%(不结露)电源220VAC额定功率ScopeX 980/ScopeX 980S：100WScopeX 980CS/ScopeX 980CSR：600W

冠层分析仪_来因科技冠层分析仪介绍植物冠层图像分析仪用于各种高度植物冠层的研究，利用鱼眼镜头和CCD图像传感器获取植物冠层图像，通过专用分析软件，获得植物冠层的相关指标和参数。利用鱼眼镜头成像测量植物冠层数据，只操作一次即可，简化了传统测量方法要一天定点多次测量的繁复工作，而且利用图像法测量冠层可以主动避开不符合计算该冠 层结构参数的冠层空隙部分，也可以躲开不符合测量计算的障碍物。冠层分析仪_来因科技冠层分析仪测试原理与方法植物冠层图象分析仪采用了冠层孔隙率与冠层结构相关的原理。它是根据光线穿过介质减弱的比尔定律，在对植物冠层定义了一系列假设前提的条件下，采用半理论半经验的公式，通过冠层孔隙率的测定，计算出冠层结构参数。这是目前世界上各种冠层仪一致采用的原理。在上述原理下，植物冠层图象分析仪采用的是对冠层下天穹半球图像分析测量冠层孔隙率的方法，该方法是各类方法中最精确和最省力、省时、快捷方便的方法。冠层分析仪_来因科技冠层分析仪结构组成植物冠层图像分析仪由鱼眼图像捕捉探头（由鱼眼镜头及CCD图像传感器组成）、内置25个PAR传感器的测量杆（摇臂）、笔记本电脑、图像采集软件及图像 分析软件组成。鱼眼探头安装在一个很轻的摇臂的顶端，它可以获取150°视角的鱼眼图像。图像的显示和存贮由配置的笔记本计算机完 成。冠层分析仪_来因科技冠层分析仪功能特点鱼眼镜头可自动保持水平状态：专门为植物冠层结构测量设计的小型鱼眼摄像镜头安装在手持式万向平衡接头上，可自动保持镜头处于水平状态，无需三角架；鱼眼镜头可以伸入至冠层中：镜头安装在摇臂一端，由于小巧和带有测量杆，可以方便地水平向前或垂直向上伸入到冠层不同高度处，快速地进行分层测量，测出群体内光透过率和叶面积指数垂直分布图；图像分析软件：图像分析软件可以任意定义图像分析区域（天顶角可分10区，方位角可分10区）。可屏蔽不合理冠层部分：对不同方向的冠层进行区域性分析时，可以任意屏蔽地物景象和不合理的冠层部分（如缺株、边行问题等）。对不同天顶角起始角和终止角的选择，可以避开不符合计算该冠层结构参数的冠层孔隙条件，通过手动调节阈值，可以更精准的测量出叶面积指数等参数；冠层分析仪_来因科技冠层分析仪可测量指标：叶面积指数叶片平均倾角天空散射光透过率不同太阳高度角下的植物冠层直射辐射透过率不同太阳高度角下冠层的消光系数叶面积密度的方位分布仪器主要技术参数镜头角度：150°分辨率：768×494测量范围：天顶角由0°～75°(150°鱼眼镜头)可分割成十个区域，方位角360°亦可分割成十个区域PAR感应范围：感应光谱400nm～700nm冠层分析仪_来因科技冠层分析仪测量范围0～2000μmol/㎡?S实时显示GPS卫星定位经纬度，明确当前检测位置检测结果可直接传至专属云农业数据中心，配备专属云农业数据中心账户分析软件：植物冠层分析系统探头尺寸：直径6cm，高10cm总 重 量：500克(不含笔记本电脑)传输接口：USB工作温度：0～55℃

QL-TS-3型炉前碳硅分析仪炉前铸造分析仪是用户铸造行业中铁水在线的快速分析设备，替代常规分析仪器不能满足炉前快速分析的时间要求，对铸造生产的质量控制作用。该产品的优点是快速分析，使用简单、方便、快捷，可在炉前控制铸铁的质量，节约时间，节省人力。炉前碳硅分析仪测量范围： 碳当量CE测量范围3.2%～4.8% 精度±0.1% 碳含量C测量范围2.8%～4.2% 精度±0.05% 硅含量Si测量范围0.9%～3.0% 精度±0.08%2、主要用于生产铸铁,球铁材料中碳、硅含量的检测；3、方便、快捷，所有操作均在炉前执行，测量时间240秒；4、测量精度高，测量结果数显直读；5、满足较恶劣的工作环境需求。◇ 应用功能：对白口、灰口铸铁进行C%、Si%、CEL、SC、△T等定性或定量估测。◇ 显示数字高度：50mm◇ 温度补偿范围：0-40℃◇ 配套样杯类型：S、R、B、K型◇ 测含量范围： 碳当量CE测量范围3.2%～4.8% 精度±0.1% 碳含量C测量范围2.8%～4.2% 精度±0.05% 硅含量Si测量范围0.9%～3.0% 精度±0.08%◇ 显示温度单位：华氏温度或摄氏温度可设置◇ 测量时间：240秒（4分钟）◇ EMC标准执行EN50081-2及EN50082-2抗干扰性标准◇ 测量状态显示：仪表上“准备”绿灯、“测量”黄灯、“完成”红灯循环显示◇ 铁水在线、快速、直接读取含量

仪器简介：本紫外线分析仪主要为薄层分析用途而设计。具有功率小，热量低，可长时间使用，一开即亮， 使用方便。 BA portable UV lamp is designed primarily for the TLC laboratory .The lamp has low power consumption and low thermal effect. In addition it can work continually for a long time. It is very convenient to be used. 主材料的选择上，我们选用质优的紫外灯管和滤光片。尤其我们选用了优质高效的透紫滤光片，在 254nm 处的透光率达 68% ，在 365nm 处透光率达 86% 。 As for the choice of the main materials, the UV tube and filter have excellent quality. Particularly we use the high-quality filter transmitting rate of UV is up to 68% at 254nm and 86% at 365 nm. 在工作状态下，紫外线灯管发出的光经过滤光片，滤除可见光，从而为荧光分析提供了强烈的 254nm 和 365nm 紫外光。 Under the working condition, the light emitted by the UV tube can penetrate throughthe light filter which cut out the visible light. Thus it has provided intense 254nm and the 365nm UV light for the fluorescence analysis. 由于采用便携式设计，灯盒和灯座可以分离，灯盒正常放在灯座上时，可方便地观测 20x20cm 样板。它能屏蔽三面的杂散光。 5mm 厚的样板能够推过后屏板。 The lamp and the stand can be separated thanks to the portable design. The stand holds the lamp in a position optimized for viewing 20x 20cm objects. It shields off extraneous light on three sides.Objects up to 5mm thickness can be pushed through under the back screen. 当灯盒反放在基座上时，可用于核酸（ DNA,RNA ）凝胶电泳和蛋白质及同功酶凝胶电泳区带的检测 和照像。灯盒可拿在手中，可作为薄层扫描前荧光检查等用途，因此称此仪器为便携反透射紫分仪。 When the lamp is anti-to put on the stand ,it can be used in the examination and photography of(DNA RNA),protein and enzyme field .The lamp can be taken in hand for examining materials, hence it is called the portable UV lamp. 技术参数：紫外线灯 /the UV lampModel: BA-A 254nm 1 支 365nm 1 支　　　 BA-B 312mm 2 支　　　 BA-C 254mm 2 支　　　 BA-D 365mm 2 支透紫外滤光片 　50 × 200mm 1 片透光率 the transmitting rate of the filter 　　　 At 365nm up to 86%　电源： 220V ± 10 ％　　功率：50-60HZ / 12W尺寸： 340（长）×130( 宽） ×190 （高） mm主要特点：具有功率小,热量低,采用高效节能 电子整流器,一开即亮,使用方便.主材料的选择上,我们选用质优的紫外灯管和滤光片,尤其我们选用了优质高效的透紫滤光片.在254NM处的透光率达68%.在365处 的透光率达86%. 在工作状态下,紫外线灯管发出的光经过的滤光片,滤除可见光,从而为荧光分析提供了强烈的254 NM和365NM紫外光.

EDX9000B能量色散荧光光谱仪-硅铁粉分析专家作为一款高性能的台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新款EDX9000B配置了最先进的基于Windows基本参数算法的FP（Fundamental parameter）软件，同时配备了最优的高性能硬件，来满足客户对于复杂矿石样品的元素分析需求。无论客户的样品是是固体，合金，粉末，液体或者浆液，EDX9000B都可以轻松实现从钠（Na）到铀（U）元素的无损定性和定量分析。更快的分析速度，更精确的测试结果，更稳定的仪器性能， 使得EDX9000B成为了客户进行元素分析的最佳工具之一。产品特点&bull 无需或者很少的样品制备，全程无损分析，一到三分钟即可出结果&bull 强大的基于Windows的FP（基本参数算法）软件降低了基体效应的影响&bull 50 kV 光管管和电制冷的SDD硅漂移检测器不仅具有出色的短期重复性和长期重现性，而且具有出色的元素峰分辨率&bull 能同时进行元素和氧化物成分分析&bull 多重仪器硬件保护系统，并可通过软件进行全程实时监控, 让仪器工作更稳定、更安全&bull 特别设计的光路和真空系统大大提高了轻元素(Na, Mg, Al, Si, P）的测试灵敏度和准确性，同时在测试Cd,Pb,Cr,Hg,Br,Cl等其他元素的灵敏度和稳定性都有了明显的提高&bull 友好的用户界面，可定制的分析报告，可一键打印测试报告，包括分析结果，样品信息，光谱信息和样品图像&bull 八种光路准直系统，根据不同样品大小自动切换，亦可测试样品不同位置再求平均值，降低样品不均匀性造成的误差&bull 高清内置摄像头，清晰地显示仪器所检测的样品部位

国内数百个石化企业、质检部门经过反复论证并强烈推荐使用。样品检测范围：汽油、柴油、石脑油、航空煤油、航空汽油、原油、渣油、水、聚丙烯、催化剂等液体及固体样品。单波长X荧光分析标准： 硫 S：SH/T0842 氯Cl：SH/T0977 硅Si：SH/T0993 检测下限: 硫S：0.1ppm；氯Cl：0.1ppm； 硅Si：0.5ppm；砷As：0.2ppm 检测范围：0-99.99% X射线光管：靶材：Pd；50KV – 4mA；200W； 分光晶体：多块晶体自动转换。 分析仪特点:1. 检测汽油、柴油、石脑油、原油、水(包括污水)等样品，也可测量催化剂等粉末和固体样品。灵敏度高，重复性好。2. 相比传统单波长检测单元素分析仪功率只有70W，四合一分析仪光源的功率为200W，检测下限更低、重复性更加优异。3. 划时代的将四组单波长X荧光技术集合到一台分析仪，运用到石油产品多元素检测中， 且采用特殊晶体分光，分辨率更高。尤其检测高硫低氯的样品，分别率更加清晰。4. 外形小巧，可放置于任何实验室，即插即用。5. 仪器标配12位自动进样器，真正提高分析效率。6. 全中文软件，操作简便。7. 可快速进行定性分析、定量分析、无标样近似定量分析。 8. 具有光路校正、薄膜校正、匹配数据库等功能。

硅酸根监测仪,硅酸根分析仪,硅表,在线硅酸根分析仪,硅酸根分析仪价格型号：TP106TP106 硅酸根监测仪是一款高精度监测仪器.符合GB/T 12149-2017《工业循环冷却水和锅炉用水中硅的测定》，采用全新的设计理念及先进的技术，广泛应用于火电、化工、化肥、冶金、环保、制药、生化、食品和自来水等行业的溶液中硅酸根的连续监测。生产厂家北京时代新维测控设备有限公司主要特点1～6通道可选择，节省费用。采用高精度电磁阀，动作可靠，使用寿命长， 进样及加药准确，测量精度高。彩色液晶显示，同一屏幕上可以同时显示硅酸根浓度值、温度、时间和状态；多路高精度可编程隔离电流信号输出，便于后续连接自动加药或DCS系统。集定量、混合、控温、比色于一体，流程简化，缩短检测时间。仪器自动存储测量界面下的硅酸根浓度值和时间,并且可存储运行，校准记录，可存储6000条数据。仪器可自动检测各路通道是否运行；该仪器正常运行时，除添加试剂、标样外，无任何工作量；单色冷光源，使用寿命长，稳定性好。技术指标测量原理： 硅钼蓝光电比色法显 示： 7.0寸彩色液晶触摸屏，中文显示测量范围：（0.0～200.0）μg/L、（0.0～2000）μg/L 可选测量精度： ±2% F.S 重 现 性： ±1% F.S测量周期： 约12分钟/通道测量模式： 连续测量和间隔测量可选水样流量： 10～40 L/h 水样温度：（5～45） ℃杂 质： 固态物小于5微米，且无胶状物出现环境温度：（5～45） ℃环境湿度： ≤90% RH（无凝结）试剂消耗： 约2升/月/种 (共4种试剂) 数字信号: RS232或RS485模拟信号： 隔离的直流电流信号，0～20mA、4～20mA、0～10mA三种模式可任意设置报警信号： 各通道独立报警，断样报警、上下限报警电 源： AC 220V±10%，频率 50Hz±10% 功 耗： ≤100 W外形尺寸： 460mm×281mm×720mm开孔尺寸： 670mm×410mm 重 量： 约20kg

作物冠层分析仪 冠层图像分析仪 植物冠层测量仪器介绍植物冠层图像分析仪用于各种高度植物冠层的研究，利用鱼眼镜头和CCD图像传感器获取植物冠层图像，通过专用分析软件，获得植物冠层的相关指标和参数。利用鱼眼镜头成像测量植物冠层数据，只操作一次即可，简化了传统测量方法要一天定点多次测量的繁复工作，而且利用图像法测量冠层可以主动避开不符合计算该冠 层结构参数的冠层空隙部分，也可以躲开不符合测量计算的障碍物。作物冠层分析仪 冠层图像分析仪 植物冠层测量仪测试原理与方法植物冠层图象分析仪采用了冠层孔隙率与冠层结构相关的原理。它是根据光线穿过介质减弱的比尔定律，在对植物冠层定义了一系列假设前提的条件下，采用半理论半经验的公式，通过冠层孔隙率的测定，计算出冠层结构参数。这是目前世界上各种冠层仪一致采用的原理。在上述原理下，植物冠层图象分析仪采用的是对冠层下天穹半球图像分析测量冠层孔隙率的方法，该方法是各类方法中最精确和最省力、省时、快捷方便的方法。作物冠层分析仪 冠层图像分析仪 植物冠层测量仪结构组成植物冠层图像分析仪由鱼眼图像捕捉探头（由鱼眼镜头及CCD图像传感器组成）、内置25个PAR传感器的测量杆（摇臂）、笔记本电脑、图像采集软件及图像 分析软件组成。鱼眼探头安装在一个很轻的摇臂的顶端，它可以获取150°视角的鱼眼图像。图像的显示和存贮由配置的笔记本计算机完 成。作物冠层分析仪 冠层图像分析仪 植物冠层测量仪功能特点鱼眼镜头可自动保持水平状态：专门为植物冠层结构测量设计的小型鱼眼摄像镜头安装在手持式万向平衡接头上，可自动保持镜头处于水平状态，无需三角架；鱼眼镜头可以伸入至冠层中：镜头安装在摇臂一端，由于小巧和带有测量杆，可以方便地水平向前或垂直向上伸入到冠层不同高度处，快速地进行分层测量，测出群体内光透过率和叶面积指数垂直分布图；图像分析软件：图像分析软件可以任意定义图像分析区域（天顶角可分10区，方位角可分10区）。可屏蔽不合理冠层部分：对不同方向的冠层进行区域性分析时，可以任意屏蔽地物景象和不合理的冠层部分（如缺株、边行问题等）。对不同天顶角起始角和终止角的选择，可以避开不符合计算该冠层结构参数的冠层孔隙条件，通过手动调节阈值，可以更精准的测量出叶面积指数等参数；作物冠层分析仪 冠层图像分析仪 植物冠层测量仪可测量指标：叶面积指数叶片平均倾角天空散射光透过率不同太阳高度角下的植物冠层直射辐射透过率不同太阳高度角下冠层的消光系数叶面积密度的方位分布仪器主要技术参数镜头角度：150°分辨率：768×494测量范围：天顶角由0°～75°(150°鱼眼镜头)可分割成十个区域，方位角360°亦可分割成十个区域PAR感应范围：感应光谱400nm～700nm作物冠层分析仪 冠层图像分析仪 植物冠层测量仪测量范围0～2000μmol/㎡?S实时显示GPS卫星定位经纬度，明确当前检测位置检测结果可直接传至专属云农业数据中心，配备专属云农业数据中心账户分析软件：植物冠层分析系统探头尺寸：直径6cm，高10cm总 重 量：500克(不含笔记本电脑)传输接口：USB工作温度：0～55℃

一、产品简介实验室硅酸根分析仪适用于检测样水中常量硅酸根离子的含量。广泛应用于发电厂、化工化肥、冶金、环保、制药、化纤、半导体等行业，适用于除盐水、蒸汽冷凝水、炉水等水中可溶性硅酸根含量的检测分析；参考《GB/T12149-2017工业循环冷却水和锅炉用水中硅的测定》标准设计制造。二、工作原理硅酸根分析仪利用光电比色原理进行测量。在pH为1.1～1.3条件下，水中的可溶硅与钼酸铵生成黄色硅钼络合物，用硫酸亚铁铵溶液把硅钼络合物还原成硅钼蓝，用硅酸根分析仪测定其硅含量，根据朗伯－比耳定律：当一束单色平行光通过有色的溶液时，一部分光能被溶液吸收，若液层厚度不变，光能被吸收的程度（吸光度A）与溶液中有色物质的浓度成正比。三、产品特点1、7英寸彩色触摸屏，Android7.1.1智能操作系统，操作交互性体验更好，使用更流畅；2、采用蠕动泵连续自动进样，流式检测不受样品数限制，可连续多样品测试，并且节省试剂耗材；3、具有wifi联网功能，可将检测数据快速无线上传；4、定制波长高稳定性LED冷光源，检测数据更稳定，功耗低，寿命长；5、专业的防尘盖设计，有效的保护了蠕动泵及软管工作；6、智能恒流稳压，光强自动调节与校准，长时间连续工作光源无温漂现象；7、内置高速热敏打印机，检测完成可自动打印检测报告；8、高容量16G存储容量，检测结果存储容量500万条。9、配置数据云平台，检测结果可长期存储，进行长短期查看分析，辅助管理。10、同时支持U盘直接拷贝数据，标准USB接口，免驱动插拔。11、具有自清洗功能，检测完成可自动清洗管路。四、技术指标1．测量范围：0.05～10mg/L；2．分辨率：0.01mg/L；4．显示方式：7寸彩色触摸屏；5．基本误差：±2%F.S；6．重复性误差：±1%F.S；7．稳定性：±1%F.S/24h；8．被测水样：20～35℃；9．数据储存：500万条；10．打印功能：内置热敏打印机；11．进样方式：蠕动泵，自动进样（非手动加样）；12．输出方式：WIFI无线上传、USB；13．工作电源：AC220V@50Hz；14．功耗：≤7W；15．外形尺寸：315*180*250mm(长*宽*高)；16．工作条件：环境温度：(5～45)℃，相对湿度：≤85%RH（无冷凝）；17．重量：3.8KG；

仪器简介：典型应用：电厂化水补给水、锅炉水、蒸汽和冷凝水中在线监测。检测方法：国际通用标准的杂鉬蓝分析法；与实验室方法的数据对比重现性好。技术参数：测量范围：0-5000 ppb；以SiO2 表示；检 出 限：小于0.5 ppb；精 确 度：± 0.5 ppb 或读数的± 1.0% ,取较大值。响应时间：8.8 分钟，当样品温度是30 to 50℃时，15 分钟，当样品温度是 5- 40℃,环境温度: 10 - 45℃,（一般室内安装）样品要求：5± 3 psig (34.5 ± 20.7 kPa).样品流量：100 to 300 mL/分钟模拟输出：几种模拟输出可选：0-0.01V, 0-0.1V, 0-1V or 4-20mA.，量程可设置电源要求：115/230 Vac， 50～60Hz，可选择.报警信号：2个样品浓度警报，1个分析仪系统警告和1个分析仪系统停机报警。防护等级：ABS塑料，NEMA 4X/IP65安装方式：台式安装或面板式安装主要特点：● 先进的自诊断、报警系统，当样品流突然中断时，有报警信号；● 每个样品分析都进行自动调整零点；扣除干扰。● 具有灵活、实用的抓样分析方法；● 专利的压力法试剂传输系统，试剂消耗量低；维护量小● 可编程的自动校准，有三种校准方式可供选择。● 先进的分析门开关保护系统。● 预制的、即开即用的试剂节省时间；试剂的成批制备，保证了试剂质量的均匀、和稳定。● 可配置为8通道硅分析仪

EDX9000B能量色散荧光光谱仪-粘土分析专家作为一款高性能的台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新款EDX9000B配置了最先进的基于Windows基本参数算法的FP（Fundamental parameter）软件，同时配备了最优的高性能硬件，来满足客户对于复杂矿石样品的元素分析需求。无论客户的样品是是固体，合金，粉末，液体或者浆液，EDX9000B都可以轻松实现从钠（Na）到铀（U）元素的无损定性和定量分析。更快的分析速度，更精确的测试结果，更稳定的仪器性能， 使得EDX9000B成为了客户进行元素分析的最佳工具之一。产品特点&bull 无需或者很少的样品制备，全程无损分析，一到三分钟即可出结果&bull 强大的基于Windows的FP（基本参数算法）软件降低了基体效应的影响&bull 50 kV 光管管和电制冷的SDD硅漂移检测器不仅具有出色的短期重复性和长期重现性，而且具有出色的元素峰分辨率&bull 能同时进行元素和氧化物成分分析&bull 多重仪器硬件保护系统，并可通过软件进行全程实时监控, 让仪器工作更稳定、更安全&bull 特别设计的光路和真空系统大大提高了轻元素(Na, Mg, Al, Si, P）的测试灵敏度和准确性，同时在测试Cd,Pb,Cr,Hg,Br,Cl等其他元素的灵敏度和稳定性都有了明显的提高&bull 友好的用户界面，可定制的分析报告，可一键打印测试报告，包括分析结果，样品信息，光谱信息和样品图像&bull 八种光路准直系统，根据不同样品大小自动切换，亦可测试样品不同位置再求平均值，降低样品不均匀性造成的误差&bull 高清内置摄像头，清晰地显示仪器所检测的样品部位

植物冠层分析仪器可广泛应用于农业生产和农业科研，为进行冠层光能资源调查，测量植物冠层中光线的拦截，研究作物的生长发育、产量品质与光能利用间的关系，本仪器用于400nm－700nm波段内的光合有效辐射（PAR）测量、记录,测量值的单位是平方米秒上的微摩尔（μmol㎡/秒）。植物冠层分析仪器功能特点植物冠层测量仪为一体化设计，包括液晶显示屏、操作按键、存储SD卡及测量探杆等。仪器菜单操作简单，体积小，携带方便。存储介质为市场上通用的SD卡，存储容量大，数据管理方便！在功耗上有合理的电源管理方案，测试过程中仪器根据实际情况自动进入待机状态，需要时按唤醒键即可唤醒屏幕，观察实际数据。测量方式分为自动和手动两种。自动测量时间间隔较小1分钟，自动测量次数较大99次，手动测量根据实际需要手动采集即可。植物冠层分析仪技术参数测量范围：0-2700μmol ㎡/秒 分辨率：1μmol ㎡/秒响应时间：10μs自动采集间隔：1-99分钟自动采集次数：1-99次冠层分析仪数据存储容量：2GB（标配SD卡） 仪器总长度：75 cm 探杆长度：50 cm传感器数量：25个（标配）电源：2节5号电池植物冠层分析仪工作环境：0°C-60°C；100%相对湿度冠层分析仪是一种专门用于测量和分析植物冠层特性的仪器。它可以用来评估植物冠层对光的吸收和利用情况，这对于理解植物的生长状态、健康状况以及它们如何响应环境变化非常重要。以下是冠层分析仪的一些主要功能和用途：一、植物冠层分析仪主要功能1、光穿透测量：通过测量冠层下方不同高度处的光强度，分析冠层对太阳辐射的吸收和透射情况。2、叶面积指数（LAI）估计：叶面积指数是指单位地表面积上的单面叶面积总和，是衡量植被覆盖度的关键指标之一。3、冠层结构分析：可以评估叶片的空间分布情况，如叶子的角度分布等。4、冠层间隙分析：通过分析冠层中空隙的比例，了解冠层的遮蔽程度。二、植物冠层图像分析仪用途1、测量植物冠层中的光穿透情况，这包括直射光和散射光透过冠层的情况，对于研究光合作用效率至关重要。2、计算叶面积指数（LAI），即叶片总面积与土地面积的比例，这是评估植物冠层密度的一个重要参数。3、确定叶片的平均倾斜角度，这有助于了解植物冠层的结构及其对光照的捕获效率。4、分析冠层截留水分的能力，这对于理解土壤水分动态和作物蒸腾作用非常重要。5、研究冠层生产力以及其对土壤水分蒸发损失的影响。6、用于农业生产中的作物管理，帮助农民了解作物的生长状态，并据此做出科学的种植决策。7、收集的数据可用于农业科研，比如作物生长趋势与光合作用速率之间的关系研究。三、植物冠层分析仪应用领域1、农业：优化农作物管理措施，如灌溉、施肥、修剪等，提高作物产量和品质。2、生态学：研究自然生态系统中植物群落的结构和功能，评估生物多样性和生态系统服务。3、气候研究：冠层特性与气候变化之间存在密切联系，因此冠层分析仪也用于研究碳循环、水循环等。冠层分析仪通常采用先进的光学传感器来测量冠层上下方的光强度，并使用软件算法来计算上述参数。这些仪器设计便携，适合在野外环境中使用，并且可以手动或自动模式操作，允许用户设定特定的时间间隔进行连续测量。

免疫层定量分析仪、胶体金免疫层定量分析仪、荧光免疫层定量分析仪深圳市芬析仪器制造有限公司生产的免疫层定量分析仪、胶体金免疫层定量分析仪、荧光免疫层定量分析仪适用于干式法、荧光、胶体金制成不同宽度的免疫层分析条检测项目。检测项目：1、真菌毒素残留类（食用油、粮食及饲料中黄曲霉毒素B1、液态奶中黄曲霉毒素M1、食品中呕吐毒素、玉米赤霉烯酮、赭曲霉毒素A等）2、激素残留类（莱克多巴胺、克伦特罗、沙丁胺醇、己烯雌酚等）3、水产品安全类（呋喃妥因代谢、呋喃西林代谢、呋喃它酮代谢、呋喃唑酮代谢、孔雀石绿、氯霉素）4、抗生素残留类（磺胺、喹诺酮、喹乙醇等）5、干式法试纸条食品有毒有害物质、非法添加剂类、残留类6、临床疾病测试条宽度：2-6mm（支持定制）屏幕：真彩触摸屏检测结果：半定量、定量检测结果可排除无效检测结果，能对数据结果、原始扫描曲线进行保存和打印浓度结果和浓度单位检测项目参数：用户可以从仪器功能选项中读取仪器的配置参数检测结果报告：可准确报告出被测物质的浓度，可在触摸屏上显示，可通过仪器内置打印机输出连接方式：USB接口，串口，网口（支持定制）附属功能：内置WIFI模块测量原理：光电测量反射衰减信号强度（扫描）检测速度：240次/小时重复性：DR值不大于1%(标准卡)仪器批间差：3%以内(标准卡)数据传输：USB 以及网口屏幕显示：7英寸、10英寸（支持定制）LED光源波长：450nm～475nm产品特点：1、支持所有金标项目定性、定量及半定量检测；2、ID卡独立加密与授权，内置浓度曲线及批号，保护试剂厂家信息；3、CT线位置可自定义识别，支持线宽及线间距设定，支持实时显示检测曲线；4、内置大容量存储数据库，可随时分类查询已测项目；5、支持医院通用数据库接口，支持LIS系统，内置USB接口，支持可扩展外设；6、可内置条形码识别模块，可加装二维码识别模块（定制）7、自动精准识别CT线位置，纠错范围可达 ±3mm；8、12V低压电源供电，支持使用车载电源，定制机型可内置充电电池；9、整机支持按客户要求定制（ODM加工及OEM项目合作）。