射线能谱仪原理

备受赞誉的Thermo Scientific K-Alpha X射线光电子能谱仪（XPS）集合了卓越的性能、快速分析及杰出的化学灵敏度等优势。K-Alpha将前沿的单色化XPS优异性能与全智能自动化完美结合，尤其适合于多用户环境。K-alpha的易操作性，可同时满足经验丰富的XPS分析人员和初学者的需求。分析选项包括用于角分辨XPS数据采集的倾斜模块和用于空气敏感样品传输的可循环惰性气体手套箱。 强大的性能可选面积能谱深度剖析微聚焦单色器高分辨率化学态能谱快照采集绝缘样品分析定量化化学成像 无可比拟的易用性一键式样品导航和实验设定自动样品传输按需校准全能谱仪设定离子枪设定完全计算机操作 世界一流的软件 仪器控制 数据采集 数据解析 数据处理 报告生成 数据存档管理 审查跟踪日志 系统性能日志如您想了解更多关于K-Alpha X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

表面和界面分析充满了挑战，需要一款仪器能够为后续的研发改进提供可靠的结果。Thermo Scientific Nexsa G2表面分析系统是一款高性能 X 射线光电子能谱仪，在保证数据质量和样品测试通量的同时，集成了其他分析技术。与所有 Thermo Scientific XPS 系统一样，Nexsa G2 系统也使用 Avantage 进行仪器控制、数据处理和报告生成。无论是在专业的研究实验室，还是在多用户环境中工作，Avantage 灵活易用、功能齐全、操作直观的特性，可帮助不同水平的用户实现样品分析。为什么选择 Nexsa G2 系统？高效的科研级能谱仪新型微聚焦单色化X射线源可实现以 5 μm 步长的 10 μm 至 400 μm 的 X 射线光斑大小连续可调，从而确保将分析束斑调节至与目标特征匹配，最大程度地增强信号。利用升级的X 射线源、高效的电子透镜和优化的检测器，可实现卓越的灵敏度和高效的数据采集。绝缘体分析Nexsa G2 系统上的一键式自动电荷补偿系统可轻松实现绝缘样品分析。专利的双束中和源避免绝缘样品发生荷电，因为使用极低能量的电子，大多数情况下将无需进行荷电校正。深度剖析Nexsa G2 系统配备有标准离子源或 MAGCIS（可选的单粒子和气体团簇复合型离子源) 进行深度剖析。自动离子源优化和气路控制可确保卓越的性能和实验重现性。多技术联用使用 Nexsa G2 系统，所有技术将触手可及，一套系统全面分析您的样品。标准配置具备高性能 XPS 所需的所有功能，ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身。升级选项可将系统转换为完整的分析工作站，有助于解决材料分析问题，提高生产效率。特殊样品台可选Nexsa G2增加了多种样品台可选，以满足科研的特殊应用需求。特殊可选样品台有：NX 加热台，用于原位的样品加热分析；多触点偏压样品台，可实现样品在真空系统中的施加电压，偏压或循环电极后的XPS原位分析；惰性气体转移腔，可实现空气敏感样品的真空/惰性气体保护转移；MCA样品台，用于XPS+SEM的关联分析，实现XPS技术和电子显微技术对样品的同一个分析区域采集数据，并进行比对分析。如您想了解更多关于Thermo Scientific Nexsa G2 X 射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

Thermo Scientific ESCALAB QXi X 射线光电子能谱仪（XPS）是ESCALAB 系列的最新产品。作为可扩展的多技术表面分析平台，ESCALAB QXi有着空前的灵活性和完备的专业配置选项。汇聚前沿技术，打造出高效便捷的软件系统和高性能的硬件配置，带来世界一流的测试体验和高效的生产力。强大的Thermo Scientific&trade AvantageTM 软件系统集系统控制、设备状态实时监控与调节、数据采集、数据处理、报告生成等多功能于一身，操作便捷，快速高效。世界领先的分析性能●定量光谱成像 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，所得数据无探测器背底特征，无需背底校正 直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室如您想了解更多关于EscaLab QXi X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

仪器简介：这是目前国际上最新一代的能谱仪。具有在一个工作界面上完成全部能谱分析的各项功能。全自动可介入的定性定量分析，二次图像，背反射图像采集，存储和调用，任意数量的元素面分布，多元素线扫描，自动多点分析。以及最先进的全谱图像和相（化合物）自动提取和分布图技术。可适用于各种扫描电镜和透射电镜。

岛津／Kratos X射线光电子能谱仪AXIS Nova——最新成像自动型，业界领先位于英国曼切斯特的Kratos公司是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱仪的厂家之一，现在是世界上最大的分析仪器制造公司——岛津公司的全资子公司。自1997年以来，岛津/Kratos公司研发了包括专利的磁沉浸透镜和专利的低能电子荷电中和系统等一系列新技术的新型光电子能谱仪——AXIS Ultra，并于2002年底推出了使用二维阵列检测器——延迟线检测器（Delay-Line Detector）的最新自动型AXIS Nova型XPS谱仪。截至2014年1月底，在世界上已经销售了超过100台AXIS Nova型XPS谱仪，在世界上许多著名的大学、科研机构和企业公司中得到了高度的认可，在业界处于绝对领先地位。 技术特点：Axis Nova采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取最高的检测灵敏度，同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器，可以获得最高的XPS谱线能量分辨。在检测器端，Axis Ultra DLD采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代专利的二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。Axis Nova采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器，完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务，尤其是对于表面凸凹不平的样品（典型的是粉末样品和断口样品），可以获得完美的分析结果。Axis Nova使用专利的与采谱能量分析器同心的球面镜能量分析器，可以获得高空间分辨的平行光电子图像，亦即可以获得元素的不同化学状态的二维分布。Axis Nova采用全自动的大样品台设计，最大样品可达4吋，可以利用进样室的光学显微镜确定分析位置，并在样品自动进入分析室以后实现预设位置上的全自动XPS分析。

产品介绍岛津/Kratos公司的AXIS SUPRA+作为高端光电子能谱仪传承了上一代产品高度智能化的优点，将采谱、成像功能与自动化高度相融合，保证了高样品吞吐量和易用性，为用户提供了全新无人值守自动化体验。同时AXIS SUPRA+对产品硬件进行了相应的改进和扩展，一方面能够为用户提供仪器更优异的性能，另一方面也为用户提供了可选的多种拓展技术。AXIS SUPRA+卓越的自动化技术● 无人值守自动进行样品传输和交换● 硬件自动化控制，实时监测谱仪状态和校准AXIS SUPRA+超强的表面分析能力● 具有高性能XPS分析、快速平行化学成像分析、小束斑微区分析● 利用角分辨、高能X射线源、深度剖析可以实现从超薄到超厚的深度分析● 多种功能附件（惰性气体传输器、高温高压催化反应池等）和可拓展多种表面分析技术，如紫外光电子能谱（UPS），离子散射谱（ISS），反射电子能量损失谱（REELS），俄歇电子能谱和扫描俄歇电子显微镜（AES和SAM）等等AXIS SUPRA+高效智能工作流程适合多用户环境● 高吞吐量、快速队列样品分析模式实现连续分析● AXIS SUPRA+采用的通用表面分析ESCApe软件系统使用户与谱仪的交互简单化和智能化，可以进行谱仪的控制、数据的采集和分析

产品简介单次测量能谱可覆盖2到4kev用于在线光束表征的背散射模式研究材料样品的X射线发射谱能量分辨率为0.3eV设备结构紧凑且可移动TXS光谱仪可对HHG光束线，X射线自由电子激光和台式X射线激光进行准确的光诊断。单次测量能谱可覆盖2到4kev。在具有高效率背向散射的von Hamos光路几何中，对于光束的在线表征，可实现对X射线光谱的指纹识别。 透射光束保持 90％的透射率，可使进一步的实验不受透射光强的影响。通过简单地将背散射探针与材料样品交换，hardLIGHT TXS即可用于X射线发射光谱（XES）。 中能X射线波段对许多材料的化学态都非常灵敏，如在电池研究中，2keV附近的硫光谱的精细结构可反映出重要的信息和线索。 TXS光谱仪的定制设计需求是可讨论的。硫的K边X射线吸收谱 (XAS)中能X射线波段对许多材料的化学态都非常灵敏，如在电池研究中，2keV附近的硫光谱的精细结构可反映出重要的信息和线索。 hardLIGHT: 通过高透射率散射探针和发射光谱进行无干扰在线光束诊断规格参数Topology/类型von Hamos能量范围2-4keV光源距离可根据用户实际光路灵活调整探测器类型CCD/MCP/CMOS/或根据需要混搭 真空兼容度10-6mbar (UHV version available)晶体定位闭环电控台滤光片插入单元可选数据接口USB 或 Ethernet软件Windows UI and Labview/VB/C/C++ SDK定制能力可根据需求定制应用 高次谐波光源的光子诊断，x射线自由电子激光，桌面x射线激光原位X射线发射谱测量

仪器简介：BH1324B型微机多道X谱仪，是以BH1224型多道分析器卡为基础而改进 的新产品。它集高压、放大器和多道分析器卡为一体，通过RS-232串口电缆 与计算机连接，多道分析器本身受计算机制约的因素减少，为用户选择各种档 次、不同机型的计算机提供方便。配套的PHA18采集软件，在Win98操作系统 下运行。 　　该谱仪可测量X射线，供从事有关放射元素工作单位进行安全监督检查分 析。被测得的X射线以谱的形式在计算机上显示出来，通过软件进行分析。 　　该产品严格按照ISO9001质量体系进行质量控制。技术参数：1、系统的能量分辨率：＜65%（对239Pu） 2、系统的能量线性：≤±1%（60Kev～2.0Mev） 3、系统稳定性：≤±1%（8h）主要特点：工作环境 1、环境温度：+5℃～+35℃ 2、环境湿度：≤80%（30℃） 3、电源：交流220V±22V，50Hz±1Hz 成套设备 1、一体化多道分析器（含高压、放大器） 2、φ40×1mmX射线探头 3、通用γ谱仿真软件（PHA18） 4、计算机：当前市场的流行配置，标准配置为联想开天4600系列（可按户要求更换） 5、打印机：喷墨打印机Canon S100SP（可按用户要求更换）

K-Alpha X 射线光电子能谱仪Thermo Scientific K-Alpha X射线光电子能谱仪 (XPS)系统为表面分析带来了一种新方法。K-Alpha XPS 系统专注于使用简化的工作流程提供高质量的结果，使 XPS 操作简单直观，而不会牺牲性能或功能。K-Alpha XPS系统是一种完全集成式单色小光斑XPS系统，具备深度剖析能力。 更先进的性能、更低的价格、更容易的使用性和较大的样品测试量，使 K-Alpha XPS 系统成为多用户环境的理想选择。K-Alpha XPS系统使世界各地的研究人员能够进行表面分析。K-Alpha XPS系统性能数据分析仪类型 180°双聚焦半球分析仪， 128通道探测器X 射线源类型单色化、微聚焦、低功率的 Al K-Alpha X 射线源 X 射线光斑尺寸50-400 µ m（以 5µ m 为单位可调）深度剖析EX06 离子源样品最大面积60x60 mm样品最大厚度20 mm真空系统两个涡轮分子泵，配有自动钛升华泵和机械泵 可选配件ADXPS 样品 支架， 工作 功能 样品 支架， 手套 箱

??EDAX, X射线能谱仪,能量仪, EDS,扫描电镜,扫描电子显微镜,SEM,透射电镜, 透射电子显微镜, TEM, TEAM, SDD, 硅漂移探测器,Octane SDD, Octane Pro, Octane Plus,Octane Super, Octane Ultra, Apollo XLT SDDDAX是创新材料表征系统的领先供应商，提供能量仪（EDS），电子背散射衍射仪（EBSD），波谱仪（WDS），集成系统（EDS-EBSD，EDS-WDS，和EDS-EBSD-WDS），和微束X射线荧光能谱仪（Micro-XRF）。X射线能谱仪(EDS)——扫描电镜(SEM)用Octane SDD系列探测器能够以前所未有的速度采集高质量EDS(X射线能谱仪)数据。以前，由于高计数率会带来数据质量的损失，SDD(硅漂移探测器, Silicon Drift Detector)技术的速度优势一直没有得到充分实现。现在，由于Octane系列的面世，用户可以高速采集高质量数据，最大限度地发挥他们的材料分析能力。Octane SDD探测器型号Octane系列包括四个型号以满足显微分析的不同应用需求。 Octane Pro: 最适合氧化物、半导体和B-N-C的分析，这些材料需要优秀的分辨率来定量分析轻元素和识别低能X-射线谱线。 Octane Plus: 为广泛的应用提供卓越的性能和价值，包括材料科学、金属、聚合物，EDS-EBSD同步分析和3-D EDS。 Octane Super: 最适合对空间分辨率具有超高要求的纳米分析和X-射线产生有限的生物材料和其它材料。 Octane Ultra: 用于4-D分析，例如原位检测和反应特性，此类应用需要最大化X射线的收集。特点和好处先进的内置FET谱仪设计 Mn能量分辨率可达121 eV高速采集时仍能保持优秀的能量分辨率 所有计数率下保证数据质量 在面分布图速度高达200,000 cps时仍能进行高分辨率的定量分析最先进的脉冲处理器 最高的输入计数到存储数据转换效率。 以极短时间采集面分布图，提高用户工作效率。 TEAM™ 智能软件最优化用户分析时间，获得最佳的样品数据 智能诊断和智能采集最优化采集和分析条件。 智能脉冲堆积校正最大限度地减少了高计数率采集的影响，使SDD技术得到最大限度的应用。结论Octane系列充分实现了SDD技术的承诺 — 高计数率下的高质量EDS分析。它具有业界最稳定的分辨率，针对不同的应用进行设计，使用户可以有更多的时间探索材料，更好地认知材料。 X射线能谱仪(EDS)——透射电镜(TEM)用TEAM™ 透射电镜能谱仪配备了Apollo XLT SDD系列探测器，为透射电镜(TEM)提供终极的分析方案。Apollo XLT SDD系列探测器包括超薄窗口（SUTW）和无窗口（XLTW）两种型号。由于可以完整地传输低能X射线，Apollo XLTW可以为用户提供最佳的轻元素性能。与SUTW探头相比，其轻元素的测量灵敏度提高了500%，重元素的计数率增加了30%，从而大大提高了元素面分布的采集速度，增强了低含量轻元素的检测。特点和好处 所有电子部件均集成在探测器内，方便安装、服务、校准和远程访问 自动校准程序实现快速、可重复、准确设置，校准数据驻留于探测器上，远程访问时无需重新校准 紧凑型的探测器提供了安装的灵活性，适合于各种TEM(透射电镜) 30 mm2 SDD芯片技术，优化了立体角 超薄窗口型和无窗口型探测器均有优秀的轻元素测试性能，C分辨率均优于59 eV Mn的分辨率优于129 eV 直到100 kcps，分辨率稳定性都小于1 eV 峰位偏移直至250 kcps都小于1 eV 放大器时间常数从120 ns到7.65 s可选，便于获得最佳采集效果 高速以太网通信 当背散射电子过量时由马达控制自动缩回 针对TEM薄样品的定量算法Apollo XLT SDD系列探头将数据采集、电子信号处理集成在探头内，取消了单独的数据采集机箱，简化了设备安装。集成的探测器有简洁的外观设计，提高了性能，方便了远程访问，用户可以通过以太网线接入，消除了由传统电缆长度所导致的信号失真和损失。计算机可设置于探测器之外远达100米之处而不影响仪器的性能。智能化是TEAM™ TEM能谱仪的核心。智能化已经植入探测器，为探测器提供最好的保护，防止探测器在有害的条件下工作。当发现高能电子时，探头能够自动缩回至一个安全的位置，而无需用户人工干预，从而确保了探测器的安全运行。当需要进行维护的时候，通过远程登录的能力可实现优越的远程支持。记录在探测器中的工作历史记录也可以远程访问，以便进行快速、准确的评估。TEAM™ 能谱仪具有许多智能功能和现代化的用户界面，可自动简化分析并快速获得结果。不管操作者的技能如何，每次测试均可高效获得一致且准确的测量结果。TEAM™ 能谱仪也可以自动确定样品所含的元素，监视计数率、放大倍率、采集时间以及许多其它用于优化系统性能的工作参数。而交互式审查允许用户在完成分析之前以独特的方式预览结果。结论Apollo XLT SDD系列探测器完全集成了数据采集和电子信号处理设备，采用了TEAM™ 智能软件，是TEM上最直观、最易用的分析工具。该系列的无窗口型产品，进一步提升了采集效率和轻元素分析性能。TEAM™ 智能软件自动化的工作流程，革命性地改变了能谱仪的分析方式。无论使用者的技能水平如何，TEAM™ 每次都能提供卓越的测试结果。Apollo XLT SDD系列探测器结合TEAM™ 智能软件，为用户提供了最先进的TEM能谱仪系统。

PHIGENESISModel 900 for HAXPES无需溅射刻蚀的深度探索下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs)，结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析，可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用，可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析，从而避免离子束溅射引起的损伤。 深层界面的分析在两种x射线源中，只有 Cr Ka XPs 能探测到 Y0,下方距离表面 14nm 处的 Cr层。拟合后的谱图确定了 Cr 的化学态。另外，通过比较，光电子起飞角90°和30°的 Cr Ka 谱图结果发现在较浅(表面灵敏度更高)的起飞角时，氧化物的强度较高，表明 Cr 氧化物处于 Y,0,和 Cr 层之间的界面。 内核电子的探测Cr Ka 提供了额外的 Al Ka 不能获取的内核电子基于 Cr Ka 的高能光电子，通常有多个额外的跃迁可用于分析。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI，Inc.提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪，具有卓越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能 分析平台在各种研究领域的应用电池 AES/Transfer Vessel“LiPON/LiCoO 2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如 LiPON，对电子束辐照敏感。 PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取 AES 化学成像。有机器件 UPS/LEIPS/GCIB使用 UPS/LEIPS 和 Ar-GCIB 测量能带结构(1)C60薄膜表面(2)C60薄膜表面清洁后(3)C60薄膜 /Au 界面(4)Au 表面通过 UPS/LEIPS 分析和 Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 XPS/HAXPES半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的 GaN，使用 HAXPES 是非常有必要的。微电子 HAXPES 微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于 XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比 XPS 深的特点。

PHIGENESIS Model 900 for HAXPES无需溅射刻蚀的深度探索下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs)，结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析，可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用，可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析，从而避免离子束溅射引起的损伤。 深层界面的分析 在两种x射线源中，只有 Cr Ka XPs 能探测到 Y0,下方距离表面 14nm 处的 Cr层。拟合后的谱图确定了 Cr 的化学态。另外，通过比较，光电子起飞角90°和30°的 Cr Ka 谱图结果发现在较浅(表面灵敏度更高)的起飞角时，氧化物的强度较高，表明 Cr 氧化物处于 Y,0,和 Cr 层之间的界面。 内核电子的探测Cr Ka 提供了额外的 Al Ka 不能获取的内核电子基于 Cr Ka 的高能光电子，通常有多个额外的跃迁可用于分析。应用领域 主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI，Inc.提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪，具有优越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能 分析平台在各种研究领域的应用电池 AES/Transfer Vessel“LiPON/LiCoO 2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如 LiPON，对电子束辐照敏感。 PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取 AES 化学成像。有机器件 UPS/LEIPS/GCIB使用 UPS/LEIPS 和 Ar-GCIB 测量能带结构(1)C60薄膜表面(2)C60薄膜表面清洁后(3)C60薄膜 /Au 界面(4)Au 表面通过 UPS/LEIPS 分析和 Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 XPS/HAXPES半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的 GaN，使用 HAXPES 是非常有必要的。微电子 HAXPES 微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于 XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比 XPS 深的特点。

X 射线光电子能谱（XPS）是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束（一般会使铝阳极或镁阳极）作为入射源，照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能，再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能，从而也就可知道样品表面是何物质。The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱，化学成像，二次电子成像，其最小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定，从而达到最好的空间解释度与最高的灵敏度。VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的深度分析，样品例子如催化剂，金属和电子设备，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和组织等等。VP-II 维持了PHI 5000 Versaprobe的核心能力，包括扫描和聚焦 X 射线，专利的离子与电子双中和系统，以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪；另有可选项配置C60离子枪，提供了许多有机材料独特而强大的溅射深度剖析能力；另外，一个完全自动化的五轴样品操盘促进多个样品的自动分析并提供Zalar旋转“Zalar RotationTM”的能力，可配合氩气离子束或可选项配置的C60来进行溅射深度剖析。最后，全新的操作界面SMARTSOFT-XPS，提供多技术仪器控制一个易于使用的平台。在数据解释和操纵总结中，对VP-II 的性能有着明显的提高。

GR-135 plus 放射性γ能谱仪 产品介绍： GR-135 plus 放射性γ能谱仪用于探测目前已知的任何放射性核素，具有很高的灵敏度，可以探测放射源发出的很微弱的α、β、γ、n射线，并能确定其正确方位，通过γ射线能谱分析辨认出该放射性元素。 GR-135 plus 放射性γ能谱仪是目前世界上使用很广泛的辐射测量仪，集成了NaI、GM管、中子探测器（锂玻璃、He3），具有报警、搜索、剂量率测量和核素识别多种功能。 便携式能谱仪GR-135 plus易于携带和携带。尤其适合于对仪器的简单易用性要求非常高的现场放射源检测。由于GR-135 plus的单键操作、使用非常简单的特点，使得无论利用其在爬升过程中进行测量或在浓烟中进行搜索，以及对集装箱检测，使用起来都非常简单方便。将GR-135 plus置于底座上，系统即开始稳谱和充电。即GR-135 plus始终处于待测量状态。仪器便于携带，握持平衡，单手即可操作。轻便、耐用是仪器的重要特点之一。通过一个摇杆，只需单个拇指进行操作，就可实现仪器的全部功能。 GR-135 plus广泛应用于环境保护、疾控（CDC）与卫生监督机构、科研教学机构、核材料、核电站、海关与出入境检验检疫、公共与核应急、国土、军事、民hang、铁路、公路与航运、核退役及去污等领域。产品特点： 高灵敏度多探测器：NaI，G-M管，中子探测器 大屏幕直观直方图显示，方便缩放显示及精的能谱分析 单手单键操作，自动模式下只需两步操作：巡测、剂量率测量，快速核素识别 核素识别功能，包括核wu级的特殊核素材料（SNM）屏蔽源 可快速、准确地给出分析结果，在多数情况下，从搜索一个可疑包裹或人员到决定扣留或释放之间几乎瞬间完成 主要用于现场人员，对探测特殊核材料的算法进行了专门优化，无需操作人员具有能谱分析或相关核素知识 自动核素识别，对屏蔽放射源和特殊核原料的识别算法进行了优化，识别结果包括核素种类、核素名称和能峰相对显著程度 通过底座RS232可快速充电、自动数字稳谱及IdentiVIEW 软件管理测量数据 内置4个预定义核素库（不需额外设置），可根据需要提供自定义核素库 内置存储器可存储剂量、剂量率（40000组）及能谱数据（200个1024道全能谱），必要时可查找/察看/显示存储的数据和能谱，下载到计算机上作进一步分析，量程自动转换，多种单位可选，可显示正确方位和累积剂量 针对用户的厉害手动模式，可通过更改参数扩展用途 可充电镍镉电池可供8小时持续使用或2 D-Cell 碱性电池（12小时） 带便携包，防风防雨，经久耐用技术参数：显 示 器：大屏幕显示、自动缩放显示、大图谱显示、背景灯探 测 器：NaI探测器、宽量程G-M管、中子探测器 （可选）能谱通道：1024道MCA、自行稳谱、温度影响修正、可定义多个感兴趣区（ROI）灵 敏 度：90cps/1MBq/Cs-137@1m，很大65,000cps谱仪性能：数字稳谱、内置热保护和防震的γ谱仪能量范围：0.02～3.0MeV可选单位：Sv/hr, Gy/hr 或 R/hr剂量率测量范围：10nSv/h～100mSv/h数据存储：可记录测量数据的时间/日期，1024道能谱，40000剂量测量，187个全能谱底座功能：电池充电、过充电保护、RS-232端口传输数据、自动稳谱功能核 素 库： 200种核素谱库，一个预先设置的核素库、支持五个核素库、可自定核素库电 源：可充电镍镉电池供8小时持续使用，2 D-Cell 碱性电池12小时持续使用工作温度：-10~50℃尺寸重量：172×229×102 mm，重量2 kg（包含电池及全部探测器）

PHI Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪（XPS）是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常卓越成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所zui新研发的XPS分析仪器，其超卓技术包括有：一个独创微集中扫描的X射线来源，专利的双光束的电荷中和技术，在极低电压下仍可保持高性能的离子束源以进行XPS的深度分析，一个五轴精密的样品台和负责全自动样品传送的机械手臂，与及一个完全自动化且可支持互联网远程控制的仪器操作平台。Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪（XPS）增加了这些技术性能和生产力，再一次提供了zui高性能的XPS系统，以满足您当前和未来的XPS需要。X射线光电子能谱仪（XPS）优点：容易使用：无论您是在分析一个薄膜样品、有机聚合物、一个大的塑料镜片，不锈钢刀片又或是焊锡球 所有的仪器设置和设定都是完全相同的。用者只需用鼠标点在一个光学图像单击选择一个或多个分析地区，加上双光束中和系统和自动Z-轴高度调整功能，就可以透过仪器软件的自动队列执行所有分析。整个操作流程不需要任何的设定调整，不用因不一样样品成份而有任何顾虑，甚至也不需要有操作员整天待在仪器旁边；一切的操作都可以自动的完成。薄膜分析：Quantera II 不仅提供了无机薄膜样本良好的深度剖面分析性能，而且也可以在利用C60离子枪对有机薄膜得出非常优越的深度分析结果。扫描 ：PHI使用了独创的聚焦扫描X射线源，使XPS微区分析变得更高效。如图4所示，X射线源是经由聚焦电子光栅扫描并撞击在铝阳极上所产生的，而此产生的聚焦铝X射线会再透过椭球形状的单色器反射在样品表面上。当电子束扫描在铝阳极上时，所产生的X射线束在样品上也会作出同步的扫描。X射线束的直径大小可调范围为7.5微米以下到400微米以上。微区光谱：在光学显微镜，在这透明的聚合物薄膜表面上是没有发现任何污染物的。但是如以下图５中所示，使用二次电子影像时就立即显示了在聚合物表面上的化污染物的存在。在短短几分钟内，Quantera II仪器就可以利用一个直径为20微米的X射线束得到确定的氟碳污染物。

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是新研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后，具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过无与伦比的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置，带给用户的是领先的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。入围优秀新品获奖理由：先进的成像探测器设计，用于定量XPI成像： 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成像的需求。空间连续的电阻阳极探测器创新技术，一方面使得XPI成像分辨率达1um，另一方面使得XPI成像得到数据无探测器背底特征，无需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。 可选配的EDS探测器，实现体相分析技术和表面分析技术的结合： 新设计Xi+系统可选配EDS探测器与俄歇电子枪结合，可实现样品纳米尺度的体相微区元素成分分析，EDS可探测微米深度的元素组成，可以用于材料深度剖析前的元素组成预判。体相敏感的EDS技术和XPS表面分析技术的结合可更直观地用于研究合金等的表面偏析行为。 标配的反射电子能量损失谱REELS分析技术，用于弥补UPS能带分析和XPS元素分析： REELS可以探测材料的能级和带隙结果，并可用于材料中H元素含量的定量。与UPS技术结合可了解完整的价带导带信息，并弥补XPS、AES等技术不能检测H元素含量的缺陷 发展的系列基于Xi+的成熟准原位样品处理、制备、反应系统: 基于Xi+，设计的一系列成熟的ALD、MBE样品制备系统，高温高压催化还原反应系统和样品退火系统，满足不同的科研项目需求。配备为提供最佳 XPS 性能而设计的单色化X射线源，确保ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针有最高的样品测试通量。多技术能力、一系列灵活的样品制备室及样品处理设备，使该仪器在解决任何表面分析问题时都能游刃有余。利用先进的 Avantage 数据采集和处理系统，从测试数据中挖掘尽可能多的信息。ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针的特点：高灵敏度能谱小面积 XPS深度剖析能力角分辨 XPS标配离子散射能谱 (ISS)功能标配反射电子能量损失谱 (REELS)功能标配“样品预处理”室多技术分析的多功能性多个样品制备技术可选全自动无人值守式分析多样品分析单色化X射线源双晶体微聚焦单色器配备一个 500 mm 直径的罗兰圆，使用铝阳极靶样品 X 射线光斑尺寸可选择范围为 200 至 900 μm透镜、分析仪和检测器透镜/分析器/检测器一体化使 ESCALAB 250Xi XPS 能谱仪同时具备成像和小面积 XPS 分析能力的独特性两种类型的检测器可以确保为每种分析提供最佳检测——二维检测器用于成像，基于通道电子倍增器的检测器则用于需要检测高计数率的能谱分析透镜配备了两种电脑控制的光阑组件，一套视场光阑用于控制低至 20 μm 的分析区域，适用于小面积分析；另一套光阑则用于控制透镜的接收角，对于高质量角分辨 XPS 至关重要180° 半球型能量分析器深度剖析数控式 EX06 离子枪是一款高性能的离子源，哪怕在使用低能离子源时也有着很好的性能提供方位角样品旋转多技术能力可配备其他分析技术而不降低 XPS 检测性能使用 EX06 离子枪时透镜组和能量分析仪的电源可反向（确保离子散射能谱 (ISS) 可用）电子枪可加压升至 1000 V，为 REELS 提供优异的离子源技术选项非单色化 X 射线光源的XPS分析AES（俄歇电子能谱）UPS（紫外光电子能谱）真空系统5 mm 厚高导磁 金属分析室，最大程度提高磁屏蔽效率与使用内部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳样品制备系统标配一体化的快速进样室和制备室额外的制备室可选Avantage 数据系统集成了测试分析的所有方面，包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成允许远程控制，并且可轻松与第三方软件交互（例如 Microsoft Word）管理从样品载入到报告导出的整个分析过程

简介PHI Genesis 500是最新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱，易操作式多功能选配附件，能够实现全自动样品传送停放，同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析，快速精准深度剖析，为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供全面解决方案。关键技术易操作式多功能选配附件全自动样品传送停放高性能大面积和微区XPS 分析快速精准深度剖析为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供全面解决方案 简单易操作PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和SXI 二次电子影像精准定位等功能。简单友好的用户界面PHI GENESIS 提供了一个简单、直观且易于操作的用户界面，对于操作人员非常友好，操作人员执行简单的设置操作即可完成包括所有选配附件在内的自动化分析。 多功能选配附件原位的多功能自动化分析，涵盖了从LEIPS 测试导带到HAXPES 芯能级激发的全范围技术，相比于传统的XPS 而言，PHI GENESIS 体现了前所未有的性能价值。全面的优良解决方案：高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他选配附件可以满足所有表面分析需求。多数量样品大面积分析把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内可同时使用三个样品托80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品独一无二的可聚焦≤ 5μm 的微区X 射线束斑在PHI GENESIS 中，聚焦扫描X 射线源可以激发二次电子影像（SXI），利用二次电子影像可以进行导航、精准零误差定位、多点多区域同时分析测试以及深度剖析。大幅提升的二次电子影像（SXI）二次电子影像（SXI）精准零误差定位，保证了所见即所得。卓越的5μmX 射线束斑为微区XPS分析应用提供了新的机遇。 快速深度剖析PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子枪和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。 高性能的深度剖析能力( 下图左) 全固态电池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地显示了在2.0 μm 以下富Li 界面的存在。( 下图右) 在LiPON 膜沉积初期，可以看到氧从LiCoO2 层转移到LiPON 层中，使Co 在LoCoO2 层富Li 界面由氧化态还原为金属态。角分辨XPS 分析PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了对样品角分辨分析的卓越性能。另外，样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱仪，具有卓越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。 PHI GENESIS 多功能分析平台在各种研究领域的应用电池 (AES + Transfer Vessel)“LiPON/LiCoO2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如LiPON，对电子束辐照敏感。PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取AES 化学成像。有机器件 (UPS / LEIPS + GCIB)使用UPS/LEIPS 和Ar-GCIB 测量能带结构（1）C60 薄膜表面（2）C60 薄膜表面清洁后（3）C60 薄膜/Au 界面（4）Au 表面通过UPS/LEIPS 分析和Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 (XPS + HAXPES)半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的GaN，使用HAXPES 是非常有必要的。微电子 (HAXPES)微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比XPS 深的特点。

PHI Genesis 500是新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱，易操作式多功能选配附件，能够实现全自动样品传送停放，同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析，快速准确深度剖析，为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面的解决方案。关键技术易操作式多功能选配附件全自动样品传送停放高性能大面积和微区XPS 分析快速准确深度剖析为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面解决方案 简单易操作PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和SXI 二次电子影像准确定位等功能。简单友好的用户界面PHI GENESIS 提供了一个简单、直观且易于操作的用户界面，对于操作人员非常友好，操作人员执行简单的设置操作即可完成包括所有选配附件在内的自动化分析。多功能选配附件原位的多功能自动化分析，涵盖了从LEIPS 测试导带到HAXPES 芯能级激发的全范围技术，相比于传统的XPS 而言，PHI GENESIS 体现了前所未有的性能价值。优良解决方案：高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他选配附件可以满足所有表面分析需求。多数量样品大面积分析把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内可同时使用三个样品托80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品可聚焦≤ 5μm 的微区X 射线束斑在PHI GENESIS 中，聚焦扫描X 射线源可以激发二次电子影像（SXI），利用二次电子影像可以进行导航、准确零误差定位、多点多区域同时分析测试以及深度剖析。大幅提升的二次电子影像（SXI）二次电子影像（SXI）准确零误差定位，保证了所见即所得。优越的5μmX 射线束斑为微区XPS分析应用提供了新的机遇。快速深度剖析PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子设备和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。高性能的深度剖析能力( 下图左) 全固态电池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地显示了在2.0 μm 以下富Li 界面的存在。( 下图右) 在LiPON 膜沉积初期，可以看到氧从LiCoO2 层转移到LiPON 层中，使Co 在LoCoO2 层富Li 界面由氧化态还原为金属态。角分辨XPS 分析PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了对样品角分辨分析的优越性能。另外，样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱仪，具有优越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能分析平台在各种研究领域的应用电池 (AES + Transfer Vessel)“LiPON/LiCoO2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如LiPON，对电子束辐照敏感。PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取AES 化学成像。有机器件 (UPS / LEIPS + GCIB)使用UPS/LEIPS 和Ar-GCIB 测量能带结构（1）C60 薄膜表面（2）C60 薄膜表面清洁后（3）C60 薄膜/Au 界面（4）Au 表面通过UPS/LEIPS 分析和Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 (XPS + HAXPES)半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的GaN，使用HAXPES 是非常有必要的。微电子 (HAXPES)微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比XPS 深的特点。

Thermo Scientific&trade Nexsa&trade X 射线光电子能谱仪 (XPS) 系统能提供全自动、高通量的多技术分析，并可保持研究级结果的高质量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身，用户因此能够进行真正意义上的相关性分析，从而为微电子、超薄膜、纳米技术开发以及许多其他应用进一步取得进展释放潜能。Nexsa 能谱仪具有灵活性，可zui大限度地发挥材料潜能。在使结果保持研究级质量水平的同时，以多重整合技术选项的形式提供灵活性，从而实现真正意义上的相关性数据分析和高通量。标准化功能催生强大性能：绝缘体分析高性能光谱深度剖析多技术整合双模式离子源，使深度剖析功能得到扩展用于 ARXPS 测量的倾斜模块用于仪器控制、数据处理和报告的 Avantage 软件小光斑分析可选的升级：可将任何全自动化集成技术添加到您的分析中。触动按钮即可运行。ISS：在离子散射光谱技术中，一束离子可被某物体表面散射UPS：紫外光电子能谱是指对吸收了紫外光子的分子所发射的光电子动能谱进行测量，以确定化合价区域中的分子轨道能量拉曼：能谱技术在化学领域被用于提供结构指纹REELS：反射电子能量损失谱借助 SnapMap 的光学视图，聚焦于样品特征。光学视图可以帮助您快速定位感兴趣区域，同时生成完全聚焦的 XPS 图像，以进一步定义您的实验。X 射线照射样品上的一个小区域。收集来自这一小区域的光电子并将其聚焦于分析仪随着镜台的移动，不断采集能谱在整个数据采集过程中监测镜台位置，这些位置用来生成 SnapMap

表面和界面分析充满了挑战，需要一款仪器能够为后续的研发改进提供可靠的结果。Thermo Scientific Nexsa G2表面分析系统是一款高性能 X 射线光电子能谱仪，在保证数据质量和样品测试通量的同时，集成了其他分析技术。与所有 Thermo Scientific XPS 系统一样，Nexsa G2 系统也使用 Avantage 进行仪器控制、数据处理和报告生成。无论是在专业的研究实验室，还是在多用户环境中工作，Avantage 灵活易用、功能齐全、操作直观的特性，可帮助不同水平的用户实现样品分析。为什么选择 Nexsa G2 系统？高效的科研级能谱仪新型微聚焦单色化X射线源可实现以 5 μm 步长的 10 μm 至 400 μm 的 X 射线光斑大小连续可调，从而确保将分析束斑调节至与目标特征匹配，最大程度地增强信号。利用升级的X 射线源、高效的电子透镜和优化的检测器，可实现卓越的灵敏度和高效的数据采集。绝缘体分析Nexsa G2 系统上的一键式自动电荷补偿系统可轻松实现绝缘样品分析。专利的双束中和源避免绝缘样品发生荷电，因为使用极低能量的电子，大多数情况下将无需进行荷电校正。深度剖析Nexsa G2 系统配备有标准离子源或 MAGCIS（可选的单粒子和气体团簇复合型离子源) 进行深度剖析。自动离子源优化和气路控制可确保卓越的性能和实验重现性。多技术联用使用 Nexsa G2 系统，所有技术将触手可及，一套系统全面分析您的样品。标准配置具备高性能 XPS 所需的所有功能，ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身。升级选项可将系统转换为完整的分析工作站，有助于解决材料分析问题，提高生产效率。特殊样品台可选Nexsa G2增加了多种样品台可选，以满足科研的特殊应用需求。特殊可选样品台有：NX 加热台，用于原位的样品加热分析；多触点偏压样品台，可实现样品在真空系统中的施加电压，偏压或循环电极后的XPS原位分析；惰性气体转移腔，可实现空气敏感样品的真空/惰性气体保护转移；MCA样品台，用于XPS+SEM的关联分析，实现XPS技术和电子显微技术对样品的同一个分析区域采集数据，并进行比对分析。如您想了解更多关于Thermo Scientific Nexsa G2 X 射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

低能段X射线窗(Low Energy X-ray Windows)AMPTEK“碳系列”X射线窗应用于X射线荧光谱仪领域 AMPTEK公司为X射线荧光测量最新研发了低能段X射线窗。新型“碳”窗由氮化硅（Si3N4 ）制成，外层镀铝膜，将Super SDD系列探测器的低能段响应范围扩展到碳元素。可用于扫描电镜(SEMs)，台式以及手持式分析设备中。 Amptek曾首次在X射线探测器上应用热电冷却技术，这在很大程度上取代了传统的液氮制冷；而新产品“碳系列”X射线窗则成为传统铍(Be)窗之外的首选，是低Z元素测量中不可或缺的组件。Amptek低能段”碳系列”X射线窗的能量透过率（和8和12微米厚的传统铍窗比较）低Z元素的能量透过率元素C1C28 µ m Be12 µ m Be元素C1C28 µ m Be12 µ m BeB0.1%18.5%0%0%Ne60%76%20%9%C4.7%41.9%0%0%Na71%82%40%27%N21.1%59.0%0%0%Mg80%87%59%47%O26%61%0%0%Al86%91%73%64%F45%70%4%1%Si80%91%82%75% 8 µ m = 0.3mil 12 µ m = 0.5mil mil为1/1000英寸。使用C2型窗的硅漂移探测器（25mm 2/500mm）得到的能谱测得的钠谱线对比：C1型窗和0.5mil厚传统铍窗AMPTEK低能段C系列窗和聚合体（Polymer）窗的透过效率

AXIS NOVA X射线光电子能谱仪标准主机包含单色化Al Kα X射线源，可实现大面积XPS分析、小面积XPS分析和ISS分析以及XPS快速平行成像等功能。 可提供高的分析灵敏度。 确保高能量分辨XPS分析和高空间分辨的XPS成像。 荷电中和器，完美解决绝缘体XPS分析。技术特点：Axis Nova采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取极高的检测灵敏度，同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器，可以获得极高的XPS谱线能量分辨。在检测器端，Axis Ultra DLD采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代的二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。Axis Nova采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器，完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务，尤其是对于表面凸凹不平的样品（典型的是粉末样品和断口样品），可以获得完美的分析结果。Axis Nova使用与采谱能量分析器同心的球面镜能量分析器，可以获得高空间分辨的平行光电子图像，亦即可以获得元素的不同化学状态的二维分布。Axis Nova采用全自动的大样品台设计，最大样品可达4吋，可以利用进样室的光学显微镜确定分析位置，并在样品自动进入分析室以后实现预设位置上的全自动XPS分析。

TEAM™ 透射电镜能谱仪配备了Apollo XLT SDD系列探测器，为透射电镜(TEM)提供终极的分析方案。Apollo XLT SDD系列探测器包括超薄窗口（SUTW）和无窗口（XLTW）两种型号。由于可以完整地传输低能X射线，Apollo XLTW可以为用户提供最佳的轻元素性能。与SUTW探头相比，其轻元素的测量灵敏度提高了500%，重元素的计数率增加了30%，从而大大提高了元素面分布的采集速度，增强了低含量轻元素的检测。 特点和好处所有电子部件均集成在探测器内，方便安装、服务、校准和远程访问自动校准程序实现快速、可重复、准确设置，校准数据驻留于探测器上，远程访问时无需重新校准紧凑型的探测器提供了安装的灵活性，适合于各种TEM30 mm2 SDD芯片技术，优化了立体角超薄窗口型和无窗口型探测器均有优秀的轻元素测试性能，C分辨率均优于59 eVMn 的分辨率优于129 eV直到100 kcps，分辨率稳定性都小于1 eV峰位偏移直至250 kcps 都小于1 eV放大器时间常数从120 ns 到7.65 s 可选，便于获得最佳采集效果高速以太网通信当背散射电子过量时由马达控制自动缩回针对TEM薄样品的定量算法 Apollo XLT SDD 系列探头将数据采集、电子信号处理集成在探头内，取消了单独的数据采集机箱，简化了设备安装。集成的探测器有简洁的外观设计，提高了性能，方便了远程访问，用户可以通过以太网线接入，消除了由传统电缆长度所导致的信号失真和损失。计算机可设置于探测器之外远达100米之处而不影响仪器的性能。智能化是TEAM™ TEM 能谱仪的核心。智能化已经植入探测器，为探测器提供最好的保护，防止探测器在有害的条件下工作。当发现高能电子时，探头能够自动缩回至一个安全的位置，而无需用户人工干预，从而确保了探测器的安全运行。当需要进行维护的时候，通过远程登录的能力可实现优越的远程支持。记录在探测器中的工作历史记录也可以远程访问，以便进行快速、准确的评估。 TEAM™ 能谱仪具有许多智能功能和现代化的用户界面，可自动简化分析并快速获得结果。不管操作者的技能如何，每次测试均可高效获得一致且准确的测量结果。TEAM™ 能谱仪也可以自动确定样品所含的元素，监视计数率、放大倍率、采集时间以及许多其它用于优化系统性能的工作参数。而交互式审查允许用户在完成分析之前以独特的方式预览结果。结论Apollo XLT SDD 系列探测器完全集成了数据采集和电子信号处理设备，采用了TEAM™ 智能软件，是 TEM 上最直观、最易用的分析工具。该系列的无窗口型产品，进一步提升了采集效率和轻元素分析性能。TEAM™ 智能软件自动化的工作流程，革命性地改变了能谱仪的分析方式。无论使用者的技能水平如何，TEAM™ 每次都能提供卓越的测试结果。Apollo XLT SDD 系列探测器结合TEAM™ 智能软件，为用户提供了最先进的TEM能谱仪系统。

Thermo Scientific ESCALAB QXi X 射线光电子能谱仪（XPS）是ESCALAB 系列的最新产品。作为可扩展的多技术表面分析平台，ESCALAB QXi有着空前的灵活性和完备的专业配置选项。汇聚前沿技术，打造出高效便捷的软件系统和高性能的硬件配置，带来世界一流的测试体验和高效的生产力。强大的Thermo Scientific&trade AvantageTM 软件系统集系统控制、设备状态实时监控与调节、数据采集、数据处理、报告生成等多功能于一身，操作便捷，快速高效。世界领先的分析性能●定量光谱成像 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，所得数据无探测器背底特征，无需背底校正 直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室如您想了解更多关于EscaLab QXi X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

AXIS SUPRA X射线光电子能谱仪Axis Supra 的设计理念是将样品自动载入、光学显微镜辅助定位样品分析位置和智能的数据采集、处理等易用性集成于高端XPS，并未由于高度自动化而丧失高性能。超高的灵敏度、杰出的能量分辨和快速、高空间分辨的成像满足绝大多数高要求的应用 技术特点大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取高的检测灵敏度。大平均半径的双聚焦半球能量分析器，可以获得高的谱线能量分辨。专利二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。专利的同源中和器，具备无阴影荷电中和能力，且对于表面凸凹不平的样品，可实现精确电荷中和。标配单色化Al阳极，亦可选购单色化的Al/Ag双阳极，并且单色化阳极靶可以更换多个新鲜靶点，极大地延长了阳极靶的使用寿命。标配进样室定位光学显微镜，可以在进样预抽真空时定位多样品的分析位置，然后转入分析室实施自动分析。

Thermo Scientific K-Alpha，一体化结构的X射线光电子能谱仪（XPS）。性能先进、高性价比、操作简便、结构紧凑，是现代实验室和企业的shou选仪器。采用全新的生产技术,在K-Alpha的设计中集合了所有这些优势。K-Alpha X射线光电子能谱仪Thermo Scientific* K-Alpha是一款完全集成的单色化小光斑X射线光电子能谱（XPS）系统。性能卓越，拥有成本降低，易用性提高和尺寸紧凑使得K-Alpha成为许多现有以及新研发的表面分析应用领域理想解决方案。K-Alpha是专为多用户环境推出的di一款XPS工具，从样品进入到报告生成完全实现自动化工作流程。专为生产率而设计，从研究分析到日常测试Thermo Scientific K-Alpha是一款完全集成的X射线光电子能谱。获奖的zui新版K-Alpha平台特征光谱性能显著提高，提供更高计数率和更快分析时间，改善化学探测能力。分析选配件包括一个角分辨XPS倾斜模块和一个循环惰性气体手套箱，用于转移空气敏感样品。K-Alpha带来一系列激动人心的新软件特征，旨在进一步增强用户体验。K-Alpha是专为多用户环境而设计，先进的单色X射线光电子能谱性能与智能自动化及直观控制相结合，同时满足有经验XPS分析人员及新人对此项技术的需求。强大的性能 可选区域光谱 深度剖析刻蚀 微聚集单色器 快照采集 高分辩率化学态光谱 绝缘样品分析 定量化学成像 无与伦比的易用性Avantage，完整XPS软件包具备： 控制——Avantage软件控制所有硬件 界面——点击样品实验导航 定义——自动化样品传送 采集——谱图、成像、剖析和线扫描 诠释——元素和化学态识别 过程——定量、峰拟合和实时剖析显示 光谱——成像处理，PCA，相分析，TFA、 NLLSF、PSF删除，光学/XPS像叠加 报告——自动化报告生成，简易输出至其它软件包 Avantage索引数据档案管理 审计跟踪记录 系统性能记录 校准要求——全谱仪源除气和设置 全遥控操作主要特征分析器——180°双聚集半球分析器-128通道检测器X射线源——铝Ka微聚集单色器-可获取的光斑大小（5微米步长30至400微米）离子枪——能量范围100至4000 eV电荷中和——又束流-超低能量电子束样品安装——四轴样品台-60 x60毫米样品区域-zui大样品厚度20毫米真空系统——2个220 l/s涡轮分子泵用于进样室和分析室–自动开机，3灯丝TSP数据系统——Avantage数据系统–过程许可–计算机选配件——倾斜角分辨XPS模块–惰性气体手套箱用于空气敏感样品安装产品应用领域氧化石墨烯的物理化学变化测控、半导体晶片上的超薄薄膜结构分析、分层太阳能电池、触摸屏复合涂层的检测评估、等离子表面改性、钢铁表面钝化工艺评估、BN玻璃、MEA燃料电池、耐磨镀层石油催化剂成像、食品安全——聚合物包装材料、MAGCIS深度剖析单一头发纤维。

欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息、下载文件！C10800 的相关产品搜索双能X射线线阵相机 C10800-08FCM产品型号：C10800-08FCM，产品名称：双能X射线线阵相机双能X射线线阵相机 C10800-04ECM产品型号：C10800-04ECM，产品名称：双能X射线线阵相机双能X射线线阵相机 C10800-04ECH产品型号：C10800-04ECH，产品名称：双能X射线线阵相机特性--从多能图像数据中提取目标材料--12位数字输出--高分辨率、宽动态范围--良好的能量分离精度，双能图像对准好应用--高准确度的食品检测--复合物质检测及分类--毒品探测，药品质量控制--安防--矿物源分类——稀有金属分类--废品分类回收原理配置

Octane SDD系列探测器能够以前所未有的速度采集高质量EDS数据。以前，由于高计数率会带来数据质量的损失，SDD技术的速度优势一直没有得到充分实现。现在，由于Octane系列的面世，用户可以高速采集高质量数据，最大限度地发挥他们的材料分析能力。????Octane SDD探测器型号Octane系列包括四个型号以满足显微分析的不同应用需求。Octane Pro — 最适合氧化物、半导体和B-N-C的分析，这些材料需要优秀的分辨率来定量分析轻元素和识别低能X-射线谱线。Octane Plus — 为广泛的应用提供卓越的性能和价值，包括材料科学、金属、聚合物，EDS-EBSD同步分析和3-D EDS。Octane Super — 最适合对空间分辨率具有超高要求的纳米分析和X-射线产生有限的生物材料和其它材料。Octane Ultra — 用于4-D分析，例如原位检测和反应特性，此类应用需要最大化X射线的收集。特点和好处先进的内置FET谱仪设计Mn能量分辨率可达121 eV高速采集时仍能保持优秀的能量分辨率所有计数率下保证数据质量在面分布图速度高达200,000 cps时仍能进行高分辨率的定量分析最先进的脉冲处理器最高的输入计数到存储数据转换效率。以极短时间采集面分布图，提高用户工作效率。TEAM™ 智能软件最优化用户分析时间，获得最佳的样品数据 智能诊断和智能采集最优化采集和分析条件。智能脉冲堆积校正最大限度地减少了高计数率采集的影响，使SDD技术得到最大限度的应用。??结论Octane系列充分实现了SDD技术的承诺 — 高计数率下的高质量EDS分析。它具有业界最稳定的分辨率，针对不同的应用进行设计，使用户可以有更多的时间探索材料，更好地认知材料????

仪器简介：这是目前国际上最新一代的能谱仪。具有在一个工作界面上完成全部能谱分析的各项功能。全自动可介入的定性定量分析，二次图像，背反射图像采集，存储和调用，任意数量的元素面分布，多元素线扫描，自动多点分析。以及最先进的全谱图像和相（化合物）自动提取和分布图技术。可适用于各种扫描电镜和透射电镜。

Thermo Scientific&trade Nexsa&trade X 射线光电子能谱仪 (XPS) 系统能提供全自动、高通量的多技术分析，并可保持研究级结果的高质量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身，用户因此能够进行真正意义上的相关性分析，从而为微电子、超薄膜、纳米技术开发以及许多其他应用进一步取得进展释放潜能。Nexsa 能谱仪具有灵活性，可最大限度地发挥材料潜能。在使结果保持研究级质量水平的同时，以多重整合技术选项的形式提供灵活性，从而实现真正意义上的相关性数据分析和高通量。标准化功能催生强大性能：绝缘体分析高性能光谱深度剖析多技术整合双模式离子源，使深度剖析功能得到扩展用于 ARXPS 测量的倾斜模块用于仪器控制、数据处理和报告的 Avantage 软件小光斑分析可选的升级：可将任何全自动化集成技术添加到您的分析中。触动按钮即可运行。ISS：在离子散射光谱技术中，一束离子可被某物体表面散射UPS：紫外光电子能谱是指对吸收了紫外光子的分子所发射的光电子动能谱进行测量，以确定化合价区域中的分子轨道能量拉曼：能谱技术在化学领域被用于提供结构指纹REELS：反射电子能量损失谱借助 SnapMap 的光学视图，聚焦于样品特征。光学视图可以帮助您快速定位感兴趣区域，同时生成完全聚焦的 XPS 图像，以进一步定义您的实验。X 射线照射样品上的一个小区域。收集来自这一小区域的光电子并将其聚焦于分析仪随着镜台的移动，不断采集能谱在整个数据采集过程中监测镜台位置，这些位置用来生成 SnapMap