光学膜厚仪原理

FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable（便携式FR） 是一款独特设备，为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析： FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的，光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且，既可以安装在台面上，又可以转化为手持式的厚度测试仪，轻松实现便携实时操作。 性能分析：1、 USB接口供电，无需电源线。2、 真正的便携，用探头检测样品。3、 采用软塑料头，适合野外应用。4、 占地小，可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件：FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率，透射率和反射率光谱，而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度（10nm到100μm）和光学常数（n&k）的白光反射光谱法（WLRS）运算（ThetaMetrisis TM），支持（在透明或者部分透明或者全反射的衬底上）多层薄膜（10层）的测试。不需要高深的光学知识，只要有基本的电脑技巧、一台电脑，轻松实现膜厚测量！ 用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p

光学膜厚仪干涉仪是利用干涉原理测量光程之差从而测定有关物理量的光学仪器。两束相干光间光程差的任何变化会非常灵敏地导致干涉条纹的移动，而某一束相干光的光程变化是由它所通过的几何路程或介质折射率的变化引起，所以通过干涉条纹的移动变化可测量几何长度或折射率的微小改变量，从而测得与此有关的其他物理量。测量精度决定于测量光程差的精度，干涉条纹每移动一个条纹间距，光程差就改变一个波长(～10-7米)，所以干涉仪是以光波波长为单位测量光程差的，其测量精度之高是任何其他测量方法所无法比拟的。应用领域：1、半导体晶片2、液晶产品（CS,LGP,BIU） 3、微机电系统4、光纤产品5、数据存储盘（HDD,DVD,CD）6、材料研究7、精密加工表面8、生物医学工程FR-pRo是一个模块化和可扩展的测量仪器系列，可根据客户需求量身定制，能够通过标准的吸光度/透射率和反射率测量，在温度和环境受控环境下进行薄膜表征，用于各种不同的应用。FR-pRo 工具经过精心设计，可通过以下方式组装：核心单元和测量配置和附件列表中的模块和套件。通过选择或组合各种核心单元和不同的模块和套件，用户可以根据他们的需要进行最合适的测量和表征设置。核心单元核心单元包含一个小型高性能光谱仪、一个合适的光源和所有必要的电子模块（电源和控制器）。该光源提供高稳定性的发射光谱、软件控制的光强度和非常长的操作时间。核心单元外壳由优质工业阳极氧化铝制成，具有坚固的模块化结构。核心单元的顶盖是一块光学面包板带有预钻孔的 M6（或 ?”）螺纹，尺寸为 340mm x 200mm。顶盖用作样品、测量设备和标准 SMA-905 连接器的支架，用于将来自光源的光传输到光谱仪的光纤。核心单元在 200-2500nm 波长范围内有多种配置可供选择，并且可以进一步调整以满足某些应用需求。产品特点1 、非接触式测量：避免物件受损。2 、三维表面测量：表面高度测量范围为 2nm ---500μm。 3 、多重视野镜片：方便物镜的快速切换。4 、纳米级分辨率：垂直分辨率可以达0.1nm。5、高速数字信号处理器：实现测量仅需几秒钟。6 、扫描仪：闭环控制系统。7、工作台：气动装置、抗震、抗压。8 、测量软件：基于windows 操作系统的用户界面，强大而快速的运算技术参数

无标题文档Filmetrics F20 薄膜厚度测量仪测量厚度从 1nm 到 10mm 的先进膜厚测量系统不论您是想要知道薄膜厚度、光学常数，还是想要知道材料的反射率和透过率，F20都能满足您的需要。仅需花费几分钟完成安装，通过USB连接电脑，设备就可以在数秒内得到测量结果。基于模块化设计的特点，F20适用于各种应用。一：测量厚度、折射率、反射率和穿透率：单层膜或多层膜叠加单一膜层液态膜或空气层二：不同条件下的测量，包括： 在平面或弯曲表面光斑最小可达20微米桌面式、XY坐标自动化膜厚测量，或在线配置所有的这些功能都伴随着直观的软件界面以及我们即时的电话和互联网支持（24小时/每周5工作日）。这就是Filmetrics的优势，欢迎您试一试！ 膜层范例基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。这包括几乎所有的电介质与半导体材料，例如：应用范围SiNXTiO2DLC光刻胶SU-8聚合物有机电致发光器AIQ材料非晶硅ITO硒化铜铟镓CIGS 厚度测量范围测量原理为何？软件功能以使用者为导向 其他的选用配件选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果应用半导体膜层 液晶显示器光刻胶 OLED加工膜层玻璃厚度介电层ITO和TCOs光学镀层生物医学硬涂层 聚对二甲苯抗反射层 医疗器械

光学膜厚仪干涉仪是利用干涉原理测量光程之差从而测定有关物理量的光学仪器。两束相干光间光程差的任何变化会非常灵敏地导致干涉条纹的移动，而某一束相干光的光程变化是由它所通过的几何路程或介质折射率的变化引起，所以通过干涉条纹的移动变化可测量几何长度或折射率的微小改变量，从而测得与此有关的其他物理量。测量精度决定于测量光程差的精度，干涉条纹每移动一个条纹间距，光程差就改变一个波长(～10-7米)，所以干涉仪是以光波波长为单位测量光程差的，其测量精度之高是任何其他测量方法所无法比拟的。应用领域：1、半导体晶片2、液晶产品（CS,LGP,BIU） 3、微机电系统4、光纤产品5、数据存储盘（HDD,DVD,CD）6、材料研究7、精密加工表面8、生物医学工程FR-pRo是一个模块化和可扩展的测量仪器系列，可根据客户需求量身定制，能够通过标准的吸光度/透射率和反射率测量，在温度和环境受控环境下进行薄膜表征，用于各种不同的应用。FR-pRo 工具经过精心设计，可通过以下方式组装：核心单元和测量配置和附件列表中的模块和套件。通过选择或组合各种核心单元和不同的模块和套件，用户可以根据他们的需要进行最合适的测量和表征设置。核心单元核心单元包含一个小型高性能光谱仪、一个合适的光源和所有必要的电子模块（电源和控制器）。该光源提供高稳定性的发射光谱、软件控制的光强度和非常长的操作时间。核心单元外壳由优质工业阳极氧化铝制成，具有坚固的模块化结构。核心单元的顶盖是一块光学面包板带有预钻孔的 M6（或 ?”）螺纹，尺寸为 340mm x 200mm。顶盖用作样品、测量设备和标准 SMA-905 连接器的支架，用于将来自光源的光传输到光谱仪的光纤。核心单元在 200-2500nm 波长范围内有多种配置可供选择，并且可以进一步调整以满足某些应用需求。产品特点1 、非接触式测量：避免物件受损。2 、三维表面测量：表面高度测量范围为 2nm ---500μm。 3 、多重视野镜片：方便物镜的快速切换。4 、纳米级分辨率：垂直分辨率可以达0.1nm。5、高速数字信号处理器：实现测量仅需几秒钟。6 、扫描仪：闭环控制系统。7、工作台：气动装置、抗震、抗压。8 、测量软件：基于windows 操作系统的用户界面，强大而快速的运算技术参数FR -监控软件用于控制的FR -扫描仪、执行数据采集和分析薄膜的厚度。该系统简单易学，对于初学者能很快掌握适用于各种windows系统。典型案例4英寸硅片退火处理后二氧化硅膜厚映射8英寸硅片上沉积多晶硅层的膜厚映射 3英寸硅片SU-8胶薄膜厚度映射

便携式膜厚仪FR-pOrtable是一种独特的 USB 供电解决方案，用于对透明和半透明单层薄膜或薄膜叠层进行准确和精确的无损表征。FR-pOrtable 可以在 370-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量。FR-pOrtable 的紧凑设计保证了测量的高度准确和可重复性。FR-pOrtable，既可以安装在提供的平台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具，放置在被表征的区域上。通过这种方式，FR-pOrtable 是适用于现场应用的光学表征工具。可以测量反射率、透射率、吸收率和颜色参数FR-portable 便携式膜厚仪主要由以下系统组成：Α) 白炽-LED混合集成式光源系统，通过内嵌式微处理器控制，使用寿命超过20000小时。小型光谱仪，光谱范围370nm –1050nm,分辨精度可达3648像素， 16位级 A/D 分辨精度；配有USB通讯接口。Β) FR-Monitor膜厚测试软件系统可精确计算如下参数：1）单一或堆积膜层的厚度； 2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。C) 参考样片：a) 经校准过的反射标准硅片；b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；c) 经校准过的带有Si3N4/SiO2/Si特征区域的样片；D) 反射探针台和样片夹具可处理的样品尺寸达200mm, 包含不规则的尺寸等；手动调节可测量高度可达50mm；可针对更大尺寸订制样片夹具；Ε) 反射率测量的光学探针内嵌系统6组透射光探针200μm, 1组反射光探针200μm；

仪器介绍 TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。 产品特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用领域半导体（SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS，SOI等）LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等）触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等）医学（聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等）技术参数 型号 TF200-VIS TF200-EXR TF200-DUV TF200-XNIR 波长范围 380-1050nm 380-1700nm 190-1100nm 900-1700nm厚度范围 50nm-40um 50nm-300um 1nm-30um 10um-3mm准确度12nm 2nm 1nm 10nm 精度0.2nm 0.2nm 0.2nm 3nm 入射角 90℃ 90℃ 90℃ 90℃ 样品材料 透明或半透明 透明或半透明 透明或半透明 透明或半透明 测量模式 反射/透射 反射/透射 反射/透射 反射/透射 光斑尺寸22mm 2mm 2mm 2mm是否能在线 是 是 是 是 扫描选择 XY可选 XY可选 XY可选 XY可选 注：1.取决于材料0.4%或2nm之间取较大者。 2.可选微光斑附件。

UV3 CMOS 紫外光谱系统， （紫外氙灯+紫外光谱仪+探头）它结合了CMOS紫外光谱仪和氙气光源，以实现经济高效的解决方案。CMOS紫外光谱仪组合氙光源来自JPN的CMOS探测器来自美国/德国的硬件1.集成的紫外光谱系统，它提供了一个完整的解决方案，将CMOS光谱仪与氙灯相结合，方便用户测量2.稳定的紫外线测量，高性能氙气闪烁灯，特别是在紫外线区域，使其测量稳定3.低成本，整个集成系统降低复杂性, 是一个完整的紫外测量方案.UVS3系列亮点CMOS探测器在UV紫外段性能良好高灵敏度在紫外线区域波长范围180-500nm，200-400nm信噪比800:1 *snr=(信号-噪声)/偏差集成氙气光源降低系统复杂度具成本效益的紫外线光谱系统支持扩展SDK，支持二次开发SMA905光接口完整的UVS3系统测量附件，如流通池USB接口用途紫外分光光度计紫外光谱测量紫外光谱仪紫外吸收光谱法紫外吸光度，吸光度测量透射率，透射系数测量水质，总氮测量吸光度计算，浓度计算使用朗伯比尔定律，可以计算液体的浓度或者含量蛋白质浓度测量定量分析测量应用举例一：膜厚测量薄膜干涉测厚是一种非接触式测量薄膜厚度的方法。它利用光的干涉原理，通过测量干涉光的波长变化来确定薄膜的厚度。薄膜干涉色测量法:薄膜受到入射光的照射后，反射光根据薄膜的厚度和折射率的不同而产生干涉色。利用干涉色的变化可以确定薄膜的厚度。测试步骤软件控制氙灯关闭，采集光谱设备电子噪声软件控制氙灯打开，用反射探头采集光谱信号，通过测量反射光的强度变化，并利用干涉公式计算薄膜的厚度薄膜干涉测厚方法具有测量快速、高精度、非接触等优点，广泛应用于半导体制造、光学材料、涂层工艺等领域.

综合概述 SM200是一款利用利用薄膜反射光干涉原理研 制而成的自动薄膜厚度测绘仪。它利用波长范围最宽 为200-1700nm的光垂直入射到薄膜表面，只要薄膜有 一定程度的透射，SM200就能根据反射回来的干涉光 谱拟合计算出薄膜的厚度，以及其他光学常数如反射 率、折射率和消光系数等，其厚度最大测绘范围可以 达到1nm~250um。SM200自动光学薄膜厚度测绘仪由测绘主机、测 绘平台、Y型光纤及上位机软件搭建而成，核心器件 采用高分辨率、高灵敏度光谱仪结合奥谱天成独有的 算法技术，为用户提供的全新一代领先的自动光学薄 膜厚度测量仪。产品特征  非接触式、非破坏性的测试系统； 超长寿命光源，更高的发光效率；  高分辨率、高灵敏度光谱仪，测量结果更准确可靠； 软件界面直观，操作方便省时；  历史数据存储，帮助用户更好掌握结果；  桌面式分布设计，适用场景丰富；  维护成本低，保养方便；应用领域 基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测绘，这几乎包含了所有的电介质和半导体材料，包括： 氧化硅、氮化层、类钻薄膜、多晶硅、光刻胶、高分子、聚亚酰胺、非晶硅等。  半导体镀膜：光刻胶、氧化物、淡化层、绝缘体上硅、晶片背面研磨  液晶显示：间隙厚度、聚酰亚胺、ITO 透明导电膜  光学镀膜：硬涂层、抗反射层；  微电子系统：光刻胶、硅系膜状物、印刷电路板；  生物医学：医疗设备、Parylene产品外观

美国Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪自动化薄膜厚度分布图案系统F60-c 光学膜厚测量仪先进的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及 n&k， 采用 r-θ 极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度， 可随意选择一种或极坐标形、 或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。 针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。 49点的分布图测量只需耗时约 45秒。可测样品膜层基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。例如氧化硅 氮化硅 类金刚石 DLC光刻胶 聚合物 聚亚酰胺多晶硅 非晶硅 硅免费现场演示/支持点几下鼠标就可以在网络上在线看到现场演示！请联系我们，我们的应用工程师会在电脑上为您演示薄膜测量是多么容易Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪

简介薄膜测量系统TF-168是TF-166的改进系统，从顶部更容易进行光束对准。它具有非接触式光学测量功能，可测量各种多层光学薄膜和涂层的厚度，折射率和吸收率。应用光学组件上的介电涂层，涂覆的滤光片，晶圆上的半导体制造，液晶器件，多层聚合物膜。薄膜层的示例： SiO 2，CaF 2，MgF 2，光致抗蚀剂，多晶硅，非晶硅，SiNx，TiO 2，溶胶凝胶，聚酰亚胺，聚合物膜。基材材料示例：硅，锗，GaAs，ZnS，ZnSe，丙烯酸，蓝宝石，玻璃，聚碳酸酯，聚合物，石英。测量范围 20 nm至50 μm（仅厚度），100 nm至10 μm（厚度w / n＆k）可测层 up to 4层现货尺寸 可调0.8毫米至4毫米样本量 从1毫米起厚度精度 ±1 nm或±0.5％中较大者精确 0.2纳米重复性 0.1纳米平台尺寸 7英寸x 7英寸或178毫米x 178毫米系统尺寸 宽度8英寸，深度9 1/2英寸，高度14英寸薄膜厚度测量系统一台薄膜测量主机（110V-240V AC），包括钨卤素灯光源和基于PC的带有USB接口的光学微型光谱仪。光束传输，投射和接收光纤电缆和光学组件新的Span薄膜测量软件5.1版一块硅晶片作为反射率标准配套硬件PC要求：时钟 800 MHz，RAM 1 GB，Windows Vista，7、8或Windows 10。单独使用包含的光源或光谱仪主机包括一个钨卤素灯光源（360-2500 nm）和一个基于PC的USB微型光谱仪（350-1000 nm），每个均具有SMA 905连接器。通过将薄膜测量光纤与内部光源和光谱仪断开连接，可以将单独的光纤连接到光源和光谱仪，以促进其他照明或光谱测量应用。测量功能基材折射率和吸收率评估膜厚测量，均值和标准差膜材料的折射率和吸收率评估保存测量的光谱相关反射率数据加载先前保存的反射率数据测量结果统计用户友好的光标控制显示测量结果灵活选择计算波长范围灵活选择厚度范围以大程度地减少计算时间从随附的数据库中方便地选择薄膜和基材材料用户定义的材料选择和导入。

扫描型光学膜厚仪 FR-ScannerFR-Scanner是一款紧凑型台式工具，适用于通过对大型基材上的薄膜和涂层的反射率测量进行自动表征。FR-Scanner 是在厚度、折射率、均匀性、颜色等方面快速准确地映射薄膜的理想工具。真空吸盘上可以容纳任何直径/形状的晶片。在 625 个点上扫描8 英寸硅晶片的典型时间不到 60 秒. 光学头采用独特的设计，可容纳光谱仪、混合光源和所有其他光学部件。在这种设计中，没有任何弯曲或移动的光纤，因此保证了在精度、再现性和长期稳定性方面的出色性能。此外，光源的特殊设计提供了超长的使用寿命 10000 小时。FR-Monitor 软件，控制 FR-Scanner，执行数据采集和薄膜厚度光学常数计算。包含超过 350 种广泛使用的材料的数据库，用户可以轻松扩展。该系统出厂时已准备好进行测量，任何具有基本计算机技能但无需深入了解光学的人都可以轻松使用它。只需要的附加部件是运行 Windows 的 PC。该软件加载了适用于任何晶圆尺寸的大量扫描配置文件，而用户可以加载其自己的极坐标或笛卡尔坐标的配置文件。FR-Scanner 扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成：A) 光学光源装置小型低功率混合式光源；本系统混合了白炽灯和LED灯，最终形成光谱范围360nm-1100nm；该光源系统通过微处理控制，光源平均寿命逾10000小时；集成小型光谱仪，光谱范围360-1020nm，分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度；集成式反射探针，6组透射光探针（200um），1组反射光探针，探针嵌入光源头，可修整位置，确保探针无弯曲操作；光源功率：3W；B) 超快扫描系统，平面坐标内，可进行625次测量/分钟 (8英寸 wafer) 或500次测量/分钟(300mm wafer). 全速扫描时，扫描仪的功率消耗不超过200W；样品处理台：样品处理尺寸可达300mm. 可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可达25mm；配有USB通讯接口，功率：100 - 230V 115W.C) FR-Monitor膜厚测试软件系统可精确计算如下参数：1）单一或堆积膜层的厚度； 2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。D) 参考样片a) 经校准过的反射标准硅片；b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；E) 附件*可定制适用于半导体工艺的任何尺寸的晶圆片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)

扫描型光学膜厚仪 FR-ScannerFR-Scanner是一款紧凑型台式工具，适用于通过对大型基材上的薄膜和涂层的反射率测量进行自动表征。FR-Scanner 是在厚度、折射率、均匀性、颜色等方面快速准确地映射薄膜的理想工具。真空吸盘上可以容纳任何直径/形状的晶片。在 625 个点上扫描8 英寸硅晶片的典型时间不到 60 秒. 光学头采用独特的设计，可容纳光谱仪、混合光源和所有其他光学部件。在这种设计中，没有任何弯曲或移动的光纤，因此保证了在精度、再现性和长期稳定性方面的出色性能。此外，光源的特殊设计提供了超长的使用寿命 10000 小时。FR-Monitor 软件，控制 FR-Scanner，执行数据采集和薄膜厚度光学常数计算。包含超过 350 种广泛使用的材料的数据库，用户可以轻松扩展。该系统出厂时已准备好进行测量，任何具有基本计算机技能但无需深入了解光学的人都可以轻松使用它。只需要的附加部件是运行 Windows 的 PC。该软件加载了适用于任何晶圆尺寸的大量扫描配置文件，而用户可以加载其自己的极坐标或笛卡尔坐标的配置文件。FR-Scanner 扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成： A) 光学光源装置小型低功率混合式光源；本系统混合了白炽灯和LED灯，最终形成光谱范围360nm-1100nm；该光源系统通过微处理控制，光源平均寿命逾10000小时；集成小型光谱仪，光谱范围360-1020nm，分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度；集成式反射探针，6组透射光探针（200um），1组反射光探针，探针嵌入光源头，可修整位置，确保探针无弯曲操作；光源功率：3W；B) 超快扫描系统，平面坐标内，可进行625次测量/分钟 (8英寸 wafer) 或500次测量/分钟(300mm wafer). 全速扫描时，扫描仪的功率消耗不超过200W；样品处理台：样品处理尺寸可达300mm. 可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可达25mm；配有USB通讯接口，功率：100 - 230V 115W.C) FR-Monitor膜厚测试软件系统可精确计算如下参数： 1）单一或堆积膜层的厚度；2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。D) 参考样片a) 经校准过的反射标准硅片；b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；E) 附件*可定制适用于半导体工艺的任何尺寸的晶圆片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)

Filmetrics F3 薄膜厚度测量仪经济适用的反射率测试系统F3系统是专门为采集反射率光谱曲线设计的，并且可选配至厚度和指数测试功能，基本通用型拥有40000个小时适用寿命的光源及自动波长校准，大大提高了测试准确度。快速厚度测试升级厚度测试软件许可后，厚度值将在测试数据结果中直观的显示。软件中存入了常用的介质材料及半导体层的光学常数。指数测试功能（n 和 k）对于更高级用户来说， 指数测试软件升级能在短时间内提供折射率和消光系数。Filmetrics的优势桌面型薄膜厚度测量专家24小时电话，Email，在线支持直观的分析软件附 加 特 性 嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效的存储，重现与绘制测试结果免费现场演示/支持点几下鼠标就可以在网络上在线看到现场演示！请联系我们，我们的应用工程师会在电脑上为您演示薄膜测量是多么容易 相关应用半导体制造 光刻胶 氧化物 氮化物 光学镀层 硬涂层 抗反射层 滤光器液晶显示器 盒厚 聚酰亚胺 ITO 生物医学 聚对二甲苯 生物膜 消化纤维

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是不错的选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

LensThick ATW/ATS 系列全自动光学测厚仪 设备原理设备基于低相干干涉原理，采用非接触式光学测量，并配备高精度移动平台和视觉校正系统，自动测量产品的厚度及空气间隔。 主要功能非接触式测量透镜厚度非接触式测量微小镜头空气间隔自动上料—自动定位—自动测量—自动下料UPH，单穴测量时间不大于4秒测量精度高达±0.1 μm 设备特点LensThick ATW配备晶圆测试模组，LensThick ATS配备单镜片测试模组；配备非接触式光学测厚仪，测量精度高，速度快，且不会对样品造成损伤；采用大理石组合结构，稳定性高XY平台采用直线电机及高精度光栅尺，重复定位精度±0.001mm,位置精度±0.001mm；采用CCD图像识别定位，运用高精度算法，准确可靠；测量时通过CCD图像校正，保证测量位置准确； 主要配置/设备关键部件非接触式光学测厚仪测量光程： 12mm/ 40mm/80mm 测量精度： ±0.1 μm/±1μm 测量重复性： ±0.02 μm/±0.05 μm 工作波长： 1310 nm 测量速度： 20 Hz/ 7Hz/ 4HzXYR平台参数：平面度：±0.005mm直线度：±0.005mm重复定位精度：±0.001mm位置精度：±0.001mm视觉校正相机：2000万像素低噪声，高精度 工作环境及设备尺寸参数工作电压：220V±10**工作环境：室温-10℃—45℃，湿度≤95**；环境相对湿度：在+40℃时 ≤90** R.H. （无冷凝）外型尺寸：800×1200×1960设备总重量：约500kg尺寸330mm×430mm×685mm（长×宽×高）重量20㎏其他功率90-264 VAC，47-63 Hz，80 VA仪器接口USB2.0及以上接口可支持8通道测量电脑配置 Windows 7/8/10,1GB内存，USB2.0以上接口，显示器，键盘，鼠标质保期1年⑴ 定义为测量不确定度或很大厚度误差，置信度≥99.7**。⑵ 整个运行环境条件的不确定性。⑶ 60分钟测量周期的标准偏差。⑷ 取决于被测材料在1.3μm波长下的反射率。该规格书是在4**反射条件下给出的。 当反射条件较低时，重复性**坏会降低到约±0.15μm。⑸ 折射率为1时。⑹ 折射率为1.5的材料。⑺ 特性性能，但不是一定的。

厂家正式授权代理商：岱美有限公司联系电话：，（贾先生）联系地址：北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址：ThetaMetrisis是一家私有公司，成立于2008年12月，位于希腊雅典，是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱（WLRS），它可以在几埃到几毫米的超宽范围内，准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度，反射率，折射率及消光系数测量仪一、产品简介： FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台，使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量，厚度映射o 使用集成的， USB 连接高品质彩色摄像机（CCD）进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介： FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具，适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度，折射率，均匀性，颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此，在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法，可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据，这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介： FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 ， 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损（非接触式）表征。使用 FR-pOrtable，用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境（如R2R、带式输送机等）中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色)，膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介： FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备，用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的，并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块，核心部件包括光源，光谱仪（适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统）和控制单元，电子通讯模块此外，还有各种各种配件，比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合，最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数

F10-HC薄膜厚度测量仪具有价格优势的先进薄膜测量系统以F20平台为基础所发展的F10-HC薄膜测量系统，能够快速的分析薄膜 的反射光谱资料并提供测量厚度，加上F10-HC软件特有的先进模拟演算法的设计，能够在厚膜中测量单层与多层(例如：底漆或硬涂层等)。简易的操作界面现在，具有新样板模式功能的F10-HC将更容易使用，这个功能允许用户汇入样品的影像(请参考下页)，并直接在影像上定义测量位置。系统会自动通知使用者本次测量结果是否有效，并将测量的结果显示在汇入的影像上让用户分析。不需要手动基准校正F10-HC现在能够执行自动化基准矫正以及设置自己的积分时间这个创新的方法不需要频繁的执行基准矫正就可以让使用者立即的执行样本的测量。背面反射干扰背面反射干扰对厚度测量而言是一个光学技术的挑战，具有F10-HC系统的独特接触式探头能将背面反射干扰的影响最小化，使用者能以较高的精准度来测量涂层厚度。选择Filmetrics的优势 桌面式薄膜厚度测量专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件 附加特性 嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果

LensThick 非接触式光学测厚仪 测量原理： LensThick非接触式光学测厚仪利用低相干光干涉测量方法来测量厚度，以宽谱光源作为相干光源，其相干长度短，只有在测量光和参考光的光程相等时才能产生干涉峰值，因此具有很好的空间定位特性，测厚仪内置光学干涉仪，通过计算透镜前后镜面顶点对应干涉峰之间的距离变化可以得出透镜的厚度。 典型应用:光学元件和透镜组件：测量单个镜片以及镜头组包括空气间隔隐形眼镜和人工晶状体：测量中间厚度、矢高和群折射率医用导管窥镜：可同时测量管壁厚、内径和外径LCD、LED、OLED和AMOLED显示屏：测量总厚度和各层厚度，包括LOCA（液体光学透明粘合剂）层半导体：硅/砷化镓晶片抛光玻璃：测量化学腐蚀前后的厚度或抛光工艺，使玻璃板更薄、更轻。 主要优势：非接触式测量，不会造成元件表面损坏或变形。用于定位测量位置的可见光束。可同时测量31层厚度。精度±0.1微米。测量重复性达±0.02微米。基于内部固有长度标准，实时显示测量数据。测量结果可追溯至NIST标准。测量物理厚度可达16微米（折射率1.5时）。集成装置，操作简便。 设备介绍: LensThick光学测厚仪的操作简单，每次可轻松获得可靠的厚度值。测量数据经过数字信号处理器计算，通过USB传输到PC，再以图形的形式显示在用户界面，可直接读取每层厚度值，操作更简单、更直观。 测量过程： （1）将光学测量头对准被测产品。 （2）激光通过光学测量头照射到材料表面。 （3）光学测量头收集反射光并将其返回到系统的干涉仪进行分析。 （4）测量数据通过USB传输到电脑。 （5）LensThick软件用于显示测量结果、设置参数及输出数据报告。 测量软件： 光学测厚仪使用LensThick软件可实时显示被测试产品的厚度和干涉信号，以便实时优化。 自动峰值模式：使用操作员创建的样品设计文件，可以定义32个反射面（31层）的预期峰值位置，软件可自动识别在指定的阈度内接近预期峰值位置的峰值，从而计算并输出每层的厚度。此外，软件还带有判据功能，即超出设计值的公差范围，数据显示为红色。这些功能对质量控制是非常快速的。 规格参数LensThick 系列型号12-1 UP12-140-1 UP40-1厚度测量方法非接触式光学干涉法光学厚度(折射率为1的空气间隔)12 mm40 mm物理厚度(折射率为1.5的材料)8 mm26 mm**小物理厚度(折射率为1.5的材料)16 μm35 μm20 μm35 μm精度 1,2±0.1 μm±1 μm±0.1 μm±1 μm重复性 3,4±0.02 μm±0.05 μm±0.02 μm±0.05 μm可溯源NIST认证标准单位mm、μm、mils测量频率20 Hz7 Hz仪器接口USB2.0及以上接口电脑配置 Windows 7/8/10,1GB内存，USB2.0以上接口，显示器，键盘，鼠标环境 5热机时间无温度15℃ 到 30℃ （存储 -10℃ 到 +70℃）压力500 — 900 mm Hg湿度在+40℃时 ≤90** R.H. （无冷凝）主机尺寸和重量尺寸600mm×590mm×370mm（长×宽×高）重量42㎏支架尺寸和重量尺寸350mm×350mm×590mm（长×宽×高）重量15㎏功率90-264 VAC，47-63 Hz，80 VA质保期1年⑴ 定义为测量不确定度或很大厚度误差，置信度≥99.7**。⑵ 整个运行环境条件的不确定性。⑶ 60分钟测量周期的标准偏差。 ⑷ 取决于被测材料在1.3μm波长下的反射率。该规格书是在4**反射条件下给出的. 当反射条件较低时，重复性**坏会降低到约±0.15μm。⑸ 特性性能，但不是一定的。

F3-sX 系列薄膜厚度测量仪满足薄膜厚度范围从15nm到3mm的先进厚度测试系统 F3-sX家族利用光谱反射原理，可以测试众多半导体及电解层的厚度，可测最大厚度达3毫米。此类厚膜，相较于较薄膜层表面较粗糙且不均匀，F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。而且仅在几分之一秒内完成。波长选配 F3-sX采用的是近红外光（NIR）来测量膜层厚度，因此可以测试一些肉眼看是不透明的膜层（ 比如半导体膜层） 。980nm波长型号，F3-s980，专门针对低成本预算应用。F3-s1310针对于高参杂硅应用。F3-s1550则针对较厚膜层设计。配件 配件包括自动绘图平台、测量点可视化的摄像机, 和可见光波段选项，使测量厚度能力最小达到15纳米。此外数据采集速率达到1kHz，让F3-sX系列成为许多在线应用的第一选择（比如“roll-to-roll”工艺）。 测量原理为何？FILMeasure分析-薄膜分析的标准部件可选配件 应用&bull Si晶圆厚度测试&bull 保形涂层&bull IC 芯片失效分析&bull 厚光刻胶（比如SU-8光刻胶）选择Filmetrics的优势&bull 桌面式薄膜厚度测量的专家&bull 24小时电话，E-mail和在线支持&bull 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性&bull 嵌入式在线诊断方式&bull 免费离线分析软件&bull 精细的历史数据功能，帮助用户有效地&bull 存储，重现与绘制测试结果

Bristol非接触式光学测厚仪　　Bristol Instruments提供了一系列测厚仪产品，可方便地测量厚度，并具有很高的测量精度以及重复性，以适用于大部分的应用需求。更重要的是，这些产品采用了一种非常有效的技术，即使用非接触式光学探针进行无损检测，同时这种技术还可以同时测量多层膜的厚度。　　产品特点：　　可测量硬材料和软材料，并且不会造成损坏或变形　　用于准确定位测量位置的可见光束　　同时测量多达31层　　测量光程： 12mm/ 40mm/80mm　　测量精度： ±0.1 μm/±1μm　　使用内置的固有长度标准进行连续校准　　测量置信水平≥99.7%　　可追溯至NIST标准　　测量频率高达20赫兹　　使用USB或以太网进行PC通讯　　提供基于Windows的光学测量软件，用于设置测量参数和输出测量数据　　使用LabVIEW、.NET或自定义编程进行自动数据报告，无需专用PC　　软件测量界面：　　应用领域：　　光学元件和透镜组件　　可测量单个镜片以及镜头组包括空气间隔　　隐形眼镜和人工晶状体　　测量中心厚度、矢高和群折射率　　医用导管窥镜　　可同时测量壁厚、内径和外径，管壁厚度、管颈和管锥的壁厚　　LCD, LED, OLED 和AMOLED显示屏　　可测量总厚度和各层厚度，包括LOCA（液体光学透明粘合剂）层　　半导体　　硅/砷化镓晶片　　玻璃抛光　　测量化学腐蚀前后的厚度或抛光工艺，使玻璃板更薄、更轻。　　Optional:　　Lensthick 非接触式光学测厚仪　　产品特点：　　LensThick集成了Bristol非接触式光学测厚仪，系统集成化程度较高，增加了电动升降台和倾斜平移一体调节台，将测厚仪主机和高性能工控机集成在定制机柜里，并配备了高清显示器，此外还开发了全中文人机交互软件，软件可实时显示被测试产品的厚度和干涉信号，以便实时调整。软件支持自动峰值模式，使用操作员创建的样品设计文件，可以定义最多32个反射面（31层）的预期峰值位置，可自动识别在指定的阈度内最接近预期峰值位置的峰值，从而计算并输出每层的厚度。此外，软件还带有判据功能，即超出设计值的公差范围，数据显示为红色。这些功能对质量控制是非常快速有效的。软件还可根据用户材料色散方程系数，自动计算出材料的群折射率并保存。针对同其它设备和产线集成，软件还可通过TCP/IP形式将实时测量结果发送给其它设备。　　LensThick ATW/ATS 系列全自动光学测厚仪　　设备特点：　　LensThick ATW配备晶圆测试模组，LensThick ATS配备单镜片测试模组；　　配备非接触式光学测厚仪，测量精度高，速度快，且不会对样品造成损伤；　　采用大理石组合结构，稳定性高　　XY平台采用直线电机及高精度光栅尺，重复定位精度±0.001mm,位置精度±0.001mm；　　采用CCD图像识别定位，运用高精度算法，准确可靠；　　测量时通过CCD图像校正，保证测量中心位置准确；　　主要配置/设备关键部件：　　非接触式光学测厚仪　　XYR平台参数：　　平面度：±0.005mm　　直线度：±0.005mm　　重复定位精度：±0.001mm　　绝对位置精度：±0.001mm　　视觉校正相机：　　2000万像素　　低噪声，高精度

一、概述 SR-C 紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。■ 光学薄膜测量解决方案；■ 非接触、非破坏测量；■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；■ 是膜厚重复性测量精度：0.02nm■ 配置灵活、支持定制化二、产品特点■ 采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖深紫外到近红外范围；■ 采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便；■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层；■ 配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息；三、产品应用 反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。技术参数

反射光谱膜厚仪SD-SR-100是一款专为薄膜厚度测量而设计的先进仪器。以下是对该产品的详细介绍：1. 测量范围与精度： - 该仪器能够测量从2纳米到3000微米的薄膜厚度，具有高达0.1纳米的测量精度。2. 测量功能： - 在折射率未知的情况下，SD-SR-100不仅可以测量薄膜的厚度，还能同时测量其折射率。 - 可用于测量半导体镀膜、手机触摸屏ITO等镀膜厚度、PET柔性涂布的胶厚、LED镀膜厚度、建筑玻璃镀膜厚度等多种应用场景。3. 测试原理： - 利用薄膜干涉光学原理进行厚度测量及分析。通过从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线，并根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。4.软件支持： - 配备易于安装和操作的基于视窗结构的软件，界面友好，操作简便。 - 软件功能强大，支持多层膜厚的测试，并可对多层膜厚参数进行测量。 - 提供大量的光学常数数据及数据库，支持多种折射率模型，如Cauchy, Cauchy-Urbach, Sellmeier等。5. 特点与优势： - 先进的光学设计和探测器系统，确保系统性能优越和快速测量。 - 光源设计独特，具有较好的光源强度稳定性。 - 提供多种方法来调整光的强度，以满足不同测量需求。 - 配备微电脑控制系统，大液晶显示和PLC操作面板，便于用户进行试验操作和数据查看。 - 支持自动和手动两种测量模式，以及实时显示测量结果的较小值、平均值以及标准偏差等分析数据。6. 应用领域： - 广泛应用于医疗卫生、生物产业、农业、印刷包装、纺织皮革等多个行业，特别是在薄膜分析领域表现出色。综上所述，反射光谱膜厚仪SD-SR-100凭借其高精度、多功能和广泛的应用领域，成为薄膜厚度测量领域的理想选择。

一、概述 SR-Mapping 系列利用反射干涉的原理进行无损测量，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，同时搭配R-Theta位移台，兼容6到12寸样品，可以对整个样品进行快速扫描，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息，并对于膜厚均匀性做出评价。■ 光学薄膜测量解决方案；■ 非接触、非破坏测量；■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；■ 膜厚重复性测量精度：0.02nm■ 全自动测量，测量点数跟位置在Recipe中可根据需要编辑 ■ 采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖紫外可见光到近红外范围；■ 采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便；■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层；■ 配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息；三、产品应用 广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。技术参数

产品简介：SR-C系列紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。 产品型号SR-C系列紧凑型高精度反射膜厚仪主要特点1、光学薄膜测量解决方案2、非接触、非破坏测量3、覆盖单层到多层薄膜4、核心算法覆盖薄膜到厚膜5、配置灵活、支持定制化6、采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖可见光到近红外范围7、采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便8、基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层9、配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息技术参数型号SR-CVSR-CN基本功能获取薄膜厚度值以及R、N/K等光谱光谱波长范围380-800nm650-1100nm测量厚度范围50nm-20um100nm-200um测量时间1s光斑尺寸0.5-3mm重复精度0.1nm（100nmSiO2/Si）绝对精度±1nm or 0.5%入射角方式垂直入射可选配件1温控台2Mapping扩展模块3真空泵

仪器简介：DJH 测厚仪为ASTM D5796-95 指定的ASTM 干膜测试标准。质量及设计上的创新非常适合卷涂行业的需求，提供一种较好的解决方案来测定涂层的厚度，在1991年7月原型被制成成品并在客户处进行测试。该仪器很快就被作为他们生产线上及实验室中的一种标准方法进行实施，在经过多次的外观改进及产品研发后，该膜厚度系统（现叫“弹坑”）被介绍1992年10月在N.C.C.A举行的卷图工业贸易展，引起了巨大反响，DJH Designs 迅速成为干膜测试行业领军人物。1994年，DJH 向ASTM的一个代表提供关于它的一些细节信息及原理。1996年1月，DJH 测厚仪最终成为ASTM D5796-95 指定的ASTM 干膜测试标准。中美合资上海信联创作电子有限公司是加拿大DJH Designs公司的中国授权代理。公司有多年销售技术支持经验的专业工程师，具有完善的售后服务，可以提供及时快捷的产品技术支持，维护，服务等。技术参数：Capacity for test panels approx.试样能力： 2mil钻孔单元的钻孔精度： +/- 0.17 micrometersPower supply电源： 220V/50Hz主要特点：ASTM D 5796指定用测厚仪卷涂行业推荐用测厚仪一种全功能的干膜厚度测量仪适用范围广，可用于实验室或生产现场的质量控制试验结果重复性高环保，不会产生污染环境的溶剂或其它污染物低成本维护测量速度快，测量结果精确同时可以读取底漆、彩色涂层和外部清层的厚度通过使用不同的碳化钻头可以测量厚度较大的干膜厚度（例如大于 2mm ）光学视频系统还可用于不同的目的 (如测量底层表面的缺陷和涂膜缺陷等)

光反射薄膜测厚仪原产国：美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器，近几年，每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度（其中一层为基底材料）。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲，我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜，光学薄膜涂层，在线原位测量，粗糙或弧度表面测量)：□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...)；□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...)；□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层；SOI硅片；□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm)；□ DVD/CD涂层；□ 光学镜头涂层；□ SOI硅片；□ 金属箔；□ 晶片与Mask间气层；□ 减薄的晶片( 120μm)；□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层；□ 薄膜工业的在线过程控制；等等… 软件功能丰富的材料库：操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据，基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能，进行薄膜二维的测试，并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

TFX3000--300mm全自动精密薄膜测量系统是睿励科学仪器（上海）有限公司自主研发和生产的具有完全自主知识产权的集成电路生产线工艺检测设备。本产品的应用范围包括刻蚀（Etch）、化学气相沉积（CVD）、光刻（Photolithography）和化学机械抛光（CMP）等工艺段的测量，能准确的确定半导体制造工艺中的各种薄膜参数和细微变化（如膜厚、折射率、应力等）。

Kurabo RX-350 全自动油膜测厚仪 RX-350是一款利用漫反射光学结构的在线红外测厚仪，测量结果不受静电涂油表面不平整的影响，因为，RX-350所接收的是材料表面的漫反射光，信号强度相对于正反射有显著提升。当被测物接收到红外线照射，会产生特定波长下的红外吸收现象，形成特征吸收峰,这种吸收现象称为吸光度，吸光度的大小和油膜的厚度或克重相对应。 由于RX-350采用非接触的红外光测量油膜厚度，所以不需要对产品进行测量前的预处理。 最小测量时间为50ms，所以不会放过任何的厚度或克重变化。另外，由于采用3波长测量方式，消除周围环境的影响，可确保长期的检测精度。仪器规格：品牌型号： Kurabo RX-350 滤光方式： 回转过滤式（最多6个滤光片）测量原理： 独特的P偏光，三波长，漫反射光学结构测量范围： 0~10 g/m2 测量面积： φ15mm仪器分辨率： 0.01g/ m2 测量距离： 80mm 左右移动速度：1~10m/min 尺寸： 测试头： 126(W)×213(D)×120(H) 5.2Kg 中继器： 250(W)×140(D)×113(H) 3Kg 数据处理器：275(W)×300(D)×165(H) 6Kg其它部分需根据现场情况设计电源： AC100~240V±10%, 50/60Hz 200VA外部输出： 可选模拟 0-10V or 4-20mA环境温度： 5~40℃ （无冷凝）

超快速光谱型椭偏式膜厚仪（Accurion Nanofilm_RSE） 椭偏技术对表界面非常敏感，百年来一直被用于各种薄膜的光学分析测量。它的基本原理是，当一束偏振光经过样品表界面反射之后偏振状态会发生变化。并且，如果样品表面是一层薄膜（或者多层薄膜堆叠），整个薄膜/基底的光学系统信息对反射光束的偏振状态都有影响。因此，通过椭偏方法可以对薄膜的厚度和其他光学性质进行分析。参比椭偏仪Nanofilm_RSE是一种超快速光谱型椭偏仪，它通过将参比样品被和测样品进行比较，测量它们之间的差异从而对被测样品进行椭偏分析。由于参比椭偏仪Nanofilm_RSE光学系统的精巧设计，在测量过程中没有任何需要转动或者调制的光学部件，并且可以在单次测量中获得完整的、高分辨率的光谱椭偏数据。通常每秒钟可以测量获得两百个光谱椭偏数据。通过配备自动样品台可以在数分钟内测量获得大面积样品的薄膜厚度分布图。 仪器特点：该仪器光路设计巧妙、稳定性好、测量精度高。测量速度超快，可快速测量大面积样品厚度分布，适用于质量检测等需要测量大批量样品的领域。参比样品更换简单。简单易用，使用者无需对椭偏技术有深入了解。适用于晶圆检测/太阳能电池组分析、缺陷检测/污染控制，均质石墨烯薄膜测量，薄膜生长过程控制/动态测量等等。 技术参数：仪器类型：光谱型椭偏仪入射角：60°光谱范围：450-900nm，光谱分辨率1.2nm数据速度：每秒200个全光谱椭偏数据，连续光谱光斑尺寸：25x40um，其他光斑尺寸可定制膜厚分辨率：典型值为0.1nm光源：110mW的超连续谱激光探测器：2048 通道光谱仪偏振光学器件： 高品质的格兰-汤普森棱镜两个，自动，分辨率0.001°对准：仪器头两轴对准，样品两轴水平对准XYZ样品台：电动样品台，300mm数据处理：基于LUT的数据处理模拟计算光学参数，如薄膜厚度和色散曲线软件：简便易用的控制软件，控制各种自动部件、光谱仪和所有的参数测量；建模软件