平板硫化仪

PHI平板硫化机专用,属于设备专用备件。

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硫化仪、门尼和自动进样硫化仪 130mm 宽600mm长 23µ m厚 卷状尼龙薄膜硫化仪、门尼和自动进样硫化仪 130mm 宽600mm长 25µ m厚 卷状尼龙薄膜

硫化仪和门尼聚酯薄膜，125 x 125 mm, 23 µ m，1000张/盒硫化仪和门尼聚酯薄膜，80 x 80 mm, 23 µ m，1000张/盒

分流/不分流进样口中即使发生微小泄漏也会降低系统灵敏度，造成信噪比变差，柱流失提高，甚至缩短色谱柱寿命。我们的新型进样口分流平板使用正在申请专利的制造工艺制造，消除了机械加工中可能对气相色谱性能造成不利影响的微小泄漏源。我们的分流平板采用 金属注模工艺制成，在机械加工过程中形成一致、平滑、不含隆起和凹槽的表面。然后，对密封垫抛光并镀金来获得平滑表面。为便于使用，将分流平板与进样口密封垫圈仔细包装在一起。 为防止样品汽化过程中由于吸附或分解引起的活性分析物损失，采用安捷伦专有的超高惰性化学脱活工艺对镀金层上方进行处理，以得到具有最高惰性的最佳密封表面。为进样口的最佳密封表面增加了惰性。为实现最佳的痕量分析，使用超高惰性分流平板及其他 安捷伦惰性流路组件以在进样到检测之间保持惰性。 改进的生产工艺可获得更平滑的表面，实现更好的密封效果 采用久经验证专利镀金工艺的惰性镀金表面 新套件内包含垫圈 — 无需额外付费 采用更好的包装来包装产品的清洁度 新型分流平板 (5188-5367) 对原分流平板 (18740-20885) 做了改进

美国ACT PCI标准 流平板产地：美国供应商：瑞贝贸易有限公司PCI Standards— Powder Smoothness PCI标准 粉末平滑性 流平板Developed by ‘The Powder Coating Institute’ and produced by ACT, these panels represent the degrees of smoothness achievable with powder coatings and are considered the benchmark for smoothness within the powder coating industry.由PCI粉末涂料研究会研究，由ACT生产，这些面板评估粉末涂料的平滑程度，被看作是粉末涂料行业平滑性能的标准。ACT Test Panels– Premium Grade 优等品面板 ACT TRU Panels– Utility Grade通用品面板 美国ACT克莱斯勒桔皮板 美国ACT福特桔皮板 美国ACT GM桔皮板 美国ACT PCI标准 粉末平滑性 美国ACT 福特汽车公司色卡 美国ACT GM腐蚀片 质量损失片 美国ACT GM腐蚀片支架 质量损失片支架 美国ACT Grit Trough Solution Mix 沙砾混合粉尘 美国ACT Ford Cross Hatch Panel 福特划格板 美国ACT Scribe Tool 划格刀盐雾箱腐蚀测试片、盐雾箱标准测试片、盐雾箱校准片、盐雾试验校准板、盐雾箱校准板、GMW14872腐蚀片、GMW14872测试片、GMW1487校准板、GMW1487校准片、GMW14872标准腐蚀片、ISO9227腐蚀片、ISO9227测试片、ISO9227校准板、ISO9227校准片、ISO9227标准腐蚀片、GM9540P腐蚀片、GM9540P测试片、GM9540P校准板、GM9540P校准片、GM9540P标准腐蚀片、SAEJ2334腐蚀片、SAEJ2334测试片、SAEJ2334校准板、SAEJ2334校准片、SAEJ2334标准腐蚀片、ASTM B368腐蚀片、ASTM B368测试片、ASTM B368校准板、ASTM B368校准片、ASTM B368标准腐蚀片硬质合金手持式划线器 标准测试板支架,PTI粉尘、JIS粉尘、DMT粉尘、ISO粉尘 ACT测试面板 ACT经济面板

安徽硫化物测定装置硫化物测定装置

分流/不分流进样口中即使发生微小泄漏也会降低系统灵敏度，造成信噪比变差，柱流失提高，甚至缩短色谱柱寿命。我们的新型进样口分流平板使用正在申请专利的制造工艺制造，消除了机械加工中可能对气相色谱性能造成不利影响的微小泄漏源。我们的分流平板采用 金属注模工艺制成，在机械加工过程中形成一致、平滑、不含隆起和凹槽的表面。然后，对密封垫抛光并镀金来获得平滑表面。为便于使用，将分流平板与进样口密封垫圈仔细包装在一起。 为防止样品汽化过程中由于吸附或分解引起的活性分析物损失，采用安捷伦专有的超高惰性化学脱活工艺对镀金层上方进行处理，以得到具有最高惰性的最佳密封表面。为进样口的最佳密封表面增加了惰性。为实现最佳的痕量分析，使用超高惰性分流平板及其他 安捷伦惰性流路组件以在进样到检测之间保持惰性。 改进的生产工艺可获得更平滑的表面，实现更好的密封效果 采用久经验证专利镀金工艺的惰性镀金表面 新套件内包含垫圈 — 无需额外付费 采用更好的包装来包装产品的清洁度 新型分流平板 (5188-5367) 对原分流平板 (18740-20885) 做了改进

分流/不分流进样口中即使发生微小泄漏也会降低系统灵敏度，造成信噪比变差，柱流失提高，甚至缩短色谱柱寿命。我们的新型进样口分流平板使用正在申请专利的制造工艺制造，消除了机械加工中可能对气相色谱性能造成不利影响的微小泄漏源。我们的分流平板采用 金属注模工艺制成，在机械加工过程中形成一致、平滑、不含隆起和凹槽的表面。然后，对密封垫抛光并镀金来获得平滑表面。为便于使用，将分流平板与进样口密封垫圈仔细包装在一起。 为防止样品汽化过程中由于吸附或分解引起的活性分析物损失，采用安捷伦专有的超高惰性化学脱活工艺对镀金层上方进行处理，以得到具有最高惰性的最佳密封表面。为进样口的最佳密封表面增加了惰性。为实现最佳的痕量分析，使用超高惰性分流平板及其他 安捷伦惰性流路组件以在进样到检测之间保持惰性。 改进的生产工艺可获得更平滑的表面，实现更好的密封效果 采用久经验证专利镀金工艺的惰性镀金表面 新套件内包含垫圈 — 无需额外付费 采用更好的包装来包装产品的清洁度 新型分流平板 (5188-5367) 对原分流平板 (18740-20885) 做了改进

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。硫化砷As?S?

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。硫化锗GeS

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。硫化镓Gallium Sulfide (GaS)

硫化物检测管可自动完成采样和显色反应，与ZZW测试仪配套使用，可在5分钟内完成对水样中硫化物的定量测定。无须标样校准仪器，非专业技术人员即可轻松操作。测定范围：低量程 0.2-1.0mg/L 高量程 1.0-16mg/L

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化铪HfS?

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化钛Titanium Disulfide (TiS?)

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化铼Rhenium Disulfide (ReS?)

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化锆Zirconium Disulfide (ZrS?)

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化钨Tungsten Disulfide (WS?)

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化钨钼Molybdenum Tungsten Disulfide (MoWS?)

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化铌Niobium Disulfide (NbS?)

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化钽Tantalum Disulfide (TaS?)

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。二硫化锡Tin Disulfide (SnS?)

参数：制备方法：锂基插层法组成：单层二硫化钨外观：黑色粉末或分散体直径：0.1-4um厚度：1纳米单分子层比例：95%Parameter:Preparation Method：Lithium-based Intercalation MethodComposition: Monolayer Tungsten disulfideAppearance: Black Powder or dispersionDiameter: 0.1-4 μmThickness: ～1 nmMonolayer ratio: =95%

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。合成二硫化钼Synthetic Molybdenum Disulfide (MoS?)