真空镀膜检漏仪原理

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  • 刀具镀膜机检漏用氦质谱检漏仪 400-860-5168转0727
    价格电议氦质谱检漏仪镀膜机检漏上海伯东代理德国 Pfeiffer 多功能多用途氦质谱检漏仪 ASM 340 成功应用于刀具镀膜机检漏。目前市场上常见的金黄色、钴铜色、黑色等钻头、铣刀、模具等，这些器具都是经过镀膜技术加工后的涂层工具。经过涂层处理后的硬质合金刀片可以延长刀具寿命并且满足一些特殊的应用，刀具上的颜色不同也就说明涂镀不同的涂层。镀膜机检漏原因：镀膜机需要在高真空环境下工作，真空度的好坏直接影响镀膜的品质。有时候镀膜机的真空度抽不下来或者真空度不好，可能是接头松动或者有焊缝出现虚焊。传统的检漏方法需要镀膜机停机，充氮气，再在怀疑有漏的地方涂上肥皂泡，整个过程耗时费力容易误判，对于细微的泄漏无法检测。上海伯东代理 Pfeiffer 氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体，最小漏率小于 5E-13 Pa m3/s，安全环保，检漏时不需要停机，直接在真空泵的旁路接入检漏仪便可以快速高效的完成检测了。上海伯东刀具镀膜检漏客户案例：某客户引进 Platit 镀膜机加装分子泵 Hipace 1500，旋片泵 Duo 35 用于刀具镀膜，与友厂对比，Pfeiffer 真空泵在更短时间达到更高且稳定的真空度。镀膜机检漏方法：采用真空法检漏，镀膜机不需要停机，直接在真空泵的旁路利用波纹管接入检漏仪，在怀疑有漏的地方喷氦气，即可完成检漏。若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士
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    厂商： 伯东公司德国普发真空pfeiffer
    品牌： 普发真空/pfeiffer vacuum
    型号： ASM340W
    价格： 10万 - 30万元
  • 普发真空氦质谱检漏仪ASM 310 400-816-8909
    便携式检漏仪——ASM 310高性能和便携性的最佳组合泄漏检测新时代自从氦泄漏检测技术问世以来，由于检漏仪单位重量超过40Kg，体积超过70L，检漏装置一直不便于携带。但现在这一情况将彻底改变。突破性进步要设计一款兼顾优越的性能、占地面积小、尺寸紧凑、用户界面友好、维护间隔长、轻便和便携性的检漏仪是一项非常具有挑战性的工作。ASM 310便是这一款产品。任何需要的地方提供高性能，并集成到仅具有一半重量、一半占地面积和一半尺寸的标准台式氦气泄漏探测器中。洁净，无油的泵系统让它成为了对无污染的系统进行泄漏测试的最佳选择。它的高性能和便携性的优势在检漏仪应用中独一无二：泄漏检测灵敏度高用于半导体、真空镀膜和太阳能行业的系统易于在有限空间中使用和测量，例如医疗和研发应用的加速器系统在发电厂和化工厂等工业环境中使用便捷一个可靠的旅行伙伴，理想的泄漏检测服务提供者功能强大ASM 310检漏仪设计紧凑，质量轻便，维护率非常低。全球通用的电压和轻便的质量使得其能够方便的在全球任何地方使用。同时有专用的运输包装及手推车可供选配。性能优越前级泵容量 1.7 m3/h氦气抽速 1.1 I/S进气口压力 15 hPa最小可测漏率 5 10-13 Pa m3 /s 界面友好集成磁铁的控制面板，便于操作者放置于金属基座上。图片说明：可拆卸控制面板(约2m长的连接线)独特的全彩触摸显示屏能进行个性化设定。用户可以根据自己需要来调整所要显示的信息。同时菜单拥有密码保护功能，可以防止未经授权人修改设定参数。兼容性强ASM 310同样也能用无线远程控制器RC 500 WL进行操控。其远程操作距离可达100m。图片说明：远程控制器 RC 500 WL产品优势重量轻，便携性，仅重21Kg灵活伸缩式手柄设计便于移动可拆卸控制面板随需应变的操作界面直观的可定制化的菜单占用空间小可在任意角度操作全彩触屏全彩图表显示密码保护功能集成SD卡记录功能供下载数据和参数设定语音状态信息应用 半导体 分析仪器 工业 发电厂
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    厂商： 普发真空技术（上海）有限公司
    品牌： 普发真空/pfeiffer vacuum
    型号： ASM 310
    价格： 10万 - 30万元
  • 伯东公司德国普发Pfeiffer真空镀膜机 400-860-5168转0727
    伯东公司授权代理德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机（高真空镀膜系统）经过大量实验和技术知识积累研发设计,通过ISO 9001认证, ISO 14001认证,低能耗主要应用领域: 半导体,光学,微电子学,显示屏,光电工程,表面处理等行业.Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(科研,小型研发)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(科研,小规模生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (批量生产)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (生产线大批量生产)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)伯东公司pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500,选用pfeiffer分子泵 Hipace 700,可定制,我司将竭诚为您服务pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500 技术参数:真空腔体容量150 l 内部尺寸500 mm高度575 mmDoor OpeningW x H 500 x 575 mm整机漏率1x10-5 mbar x l /s最终压力5x10-7 mbar高真空泵组(标准型)分子泵Hipace 700隔膜泵MD4旋片泵DUO 20真空测量全量程真空计电源电压3 x 400 V频率50/60 HZ水冷Chamber Usage approx (a)500 l/hPump Set Usage approx (a)15 l/h进气温度25 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/4"Hot WaterChamber Usage approx (a)500 l/h进气温度70 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/8"尺寸占地面积1.4 m2L x W x H1,4 x 1 x 1,9 m重量600 kg最大环境温度40 °C 伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部: 叶女士联系
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    厂商： 伯东公司德国普发真空pfeiffer
    品牌： 普发真空/pfeiffer vacuum
    型号： classic
    价格： 面议
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  • 用真空镀膜方法防止仪器生雾的原理

    [font=微软雅黑]用真空镀膜方法[/font][font=微软雅黑]镀聚全氟乙丙烯，这是一种惰性氟塑料，化学稳定性高，且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性，与玻璃和金属都有较强的结合力，具有较好的防霉防雾性能。不仅能在一般玻璃表面化学镀膜，氟化膜层形成保护膜，而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。[/font]

  • 【原创】真空镀膜在线监测设备---光密度在线检测仪

    真空镀铝膜生产几经波折后如今又在全国迅速发展，主要看重的是真空镀铝膜复合材料不仅在包装上具有很大前途，而且在工农业、通讯、国防和科研领域中得以广泛应用；真空镀膜产品在以后必将形成主流，具有很大的市场空间。 然而，在国内所有的真空镀膜生产厂家中能够生产出品质好的镀铝膜很少，所以才会出现上马快，下马也快的现象。 究其原因主要是真空镀膜行业还是处于一个发展的阶段，目前所有的真空镀膜厂家，都还没有使用一款合适的真空镀膜监测设备---真空镀膜光密度在线检测仪。所以在生产过程中很难控制好镀膜层厚度的均匀性，造成镀膜产品质量不过关，以至于镀膜品质不够好；而且生产效率低，真空镀膜生产厂家往往需要投入较大成本。 真空镀膜质量的影响因素较多，除了跟设备有关，还与操作人员的水平，技术人员的指导和合适的工艺条件有很大关系。 但是不可否认，决定真空镀膜产品品质的最重要因素是镀膜层厚度的均匀性；镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用，因此，镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其镀铝膜性能。镀铝膜的检测主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。 如果对镀铝膜检测方法有所了解的，就一定知道检测镀铝膜品质有一种方法叫光密度测量法，目前市场上深圳市林上科技已经研发生产出一款专门的光密度仪，它是用于直接测量镀铝膜的光密度值来判定镀铝膜产品品质的优劣。 薄膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射，既延长了内容物的保质期，又提高了薄膜的亮度，从一定程度上代替了铝箔，也具有价廉、美观及较好的阻隔性能。目前应用最多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜（VMPET）和CPP镀铝膜（VMCPP）。 由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，通常都是需要使用光密度法来检测。光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为D=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10％－0.1％），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。 但是对于国内众多真空镀膜厂家而言，需要在大批量的生产线上就能控制好镀膜产品的镀膜层厚度均匀性。那就需要使用透光率光密度在线检测仪，在真空镀膜生产线上实行连续监测，才能保证真空镀膜产品的质量，同时提高真空镀膜设备的在线生产效率，减少生产成本。

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  • Agilent 气相色谱电子检漏仪
    气相色谱电子检漏仪用于检测 GC 和 GC/MS 仪器管线和连接处的泄漏。使用昂贵的高纯度或危险气体进行气相色谱仪器操作的实验室日常采用电子检漏仪来防止安全问题、灵敏度和分析效率降低及消耗品寿命缩短。Agilent CrossLab CS 模块系统气相色谱电子检漏仪能够对整个实验室或现场的各种气体类型（包括氢气、氮气、氦气等）的管线和接头进行泄漏检测或验证其是否无泄漏。这款新型安捷伦手持式检漏仪的设计在市场上尤为独特。模块设计将两项关键的气相色谱流路监测任务（包括流速和泄漏检测）结合到一个手持式系统套装中。我们的气相色谱检漏仪也可用于其他分析技术，如 LC/MS 和 ICP-MS。特性：响应时间 2 秒，归零时间不到 1.5 秒。易于更换的模块系统。灵敏度 0.003 mL/min（氦气）方便读数的 OLED 显示屏在检测到泄漏时发出 49.9 dB 蜂鸣声可持续性之选：CrossLab CS 经过独立审计，确认其在整个产品生命周期对环境的影响后，获得了 My Green Lab 的 ACT（归责性、一致性、透明度）标签。工作原理：降低泄漏成本泄漏可能会将水和空气引入气流和管路，还可能对使用气体管路和接头的所有操作造成问题。即使是少量气体泄漏也可能导致安全问题、生产率降低和成本增加。检查并消除从气源到终点的泄漏可以减少安全隐患，减少气体用量也可降低成本。使用检漏仪对气体管线接头和压力表进行定期泄漏检查可以大幅减少泄漏，并使实验室或现场保持理想条件。操作原理空气通过吸枪和隔热管道被真空泵吸入，并进入检测歧管。将吸枪置于环境空气中时，歧管内传感器中的两个电阻同时冷却，电压读数可调零以平衡电桥。而将吸枪置于漏点附近时，目标气体会改变进入传感器的样品气体的导热系数。目标气体与环境空气的导热系数之差和目标气体的泄漏率决定了泄漏信号的强度。检漏仪套装Agilent CrossLab CS 套装结合了电子检漏仪和 ADM 流量计。气相色谱检漏仪的模块设计也可使用 ADM 流量计模块。这将两个最关键的气相色谱流路监测任务（流速和检漏监测）结合在一台手持式系统中。环境影响CrossLab CS 套装的环境影响已经过独立审计，并获得了由 My Green Lab 发布的 ACT（归责性、一致性和透明度）标签。了解如何通过可持续发展驱动的创新来减少实验室的环境影响。
    供应商： 安捷伦科技(中国)有限公司
    品牌： 安捷伦
    价格： 面议
  • Restek电子检漏仪
    Restek电子检漏仪不要再浪费大量的金钱在维修渗漏上了-快使用Restek检漏仪来保护您的色谱柱。特征&优点1、采用手握式设计符合人体工程学。2、仪器两侧抓握的地方使用了耐磨性材料，增加了仪器的耐用性。3、清洁和方便的手持探头存储。4、长效电池可连续使用6小时。5、自动关机。6、便于携带和储藏。7、探针易于清洁。8、一个万能充电器一套（美国，欧洲，英国，包括澳大利亚插头）。凭借1年的保修，Restek检漏仪在性能和购买力上一直是手持式检漏仪的行业标准。描述 qty. 货号# 拥有硬壳携带箱和万能充电器的检漏仪(美国，英国，欧洲和澳大利亚) ea. 22839检漏仪日常维护日志** ea. 22839-R软质手提包 ea. 22657小探头适配器 ea. 22658避免在GC上使用液体检漏仪！液体会进入系统或是检漏仪中。*注意：Restek电子检漏仪是用来检测不可燃环境中的微量氢，它不能用来检测可燃环境中的泄漏。在任何情况下只能用可燃气体检漏仪来检测可燃气体的泄漏。Restek电子检漏仪只能用于GC环境中的微量气体泄漏检测。restek建议当你的检漏仪电池需要更换时，将仪器寄给我们，我们会对仪器进行日常维护以使其能保持一致的灵敏度和可靠性。我们不仅会更换电池，同时还会更换仪器的探头和内部/外部的管。我们同时也会重新校正您的仪器。联系您的客服将您的检漏仪寄回给我们进行维护。(货号 #22839-R).
    供应商： 百道亨仪器设备（北京）有限公司
    品牌： 瑞思泰康
    价格： 面议
  • Restek电子检漏仪22655
    Restek电子检漏仪不要让小泄露变成一个昂贵的修理—使用Restek检漏仪来保护您的分析柱吧。凭借着一年的保修, Restek 检漏仪在手持检漏仪中其性能和性价比是行业标准。描述 数量 货号 配备手提箱和万能充电器的检漏仪套装(美国，英国，欧洲，澳大利亚) 单件 22655检漏仪日常维护** 单件 22839-R软储存箱 单件 22657小探头适配器 单件 22658在气相色谱仪上避免使用液体检漏仪！液体会渗透到系统中。*警告: Restek的电子检漏仪是在不可燃环境下用来检测微量氢的. 在可燃环境中它不能用来检漏. 可燃气体检测器，应可以用于任何条件下的可燃气体泄露. 当用它来检测氢气，Restek的电子检漏仪可能只能用于微量的气相色谱环境。**日常维护包括检查探头简短，内部/外部管路，更换电池。
    供应商： 百道亨仪器设备（北京）有限公司
    品牌： 瑞思泰康
    价格： 面议
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  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw）光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw）光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw）
    时间： 2008-12-28
    作者： 艾泰克
  • 普发真空发布ASM 306 S 氢氦检漏仪 实现全时段简便精准的吸枪作业
    p　　2020 年 6 月 1 日，上海——近日，世界领先的真空和泄漏测试解决方案供应商普发真空推出了突破性产品ASM 306 S氢氦检漏仪，进一步完善了旗下泄漏检测产品系列。ASM 306 S氢氦检漏仪专为生产线上的连续使用而设计，具备极高性能且坚固耐用，其可靠运行能满足各类工业吸枪应用的需要，尤其适合制冷和空调领域。 /pp　　在最终充入制冷剂气体之前，使用吸枪测量法进行泄漏控制是制冷和空调相关产品生产过程中最后且最重要的工艺步骤之一。这一步骤需要高精度、高可靠性的测试设备，以提高生产率，确保产品品质。普发真空ASM 306 S氢氦检漏仪能帮助生产者应对这些挑战。凭借自身在泄漏检测领域 50多年的专有知识，普发真空此次推出的这款新产品集结了灵敏度、准确性和可重复性方面的多种成熟技术优势。无论是采用氦气或氢气作为示踪气体，ASM 306 S氢氦检漏仪均可实现快速且可重复的测量。当发生严重泄漏时，该装置可提供最快速的修复，确保最大程度的正常运行时间。 /pp　　普发真空从用户的角度出发，将吸枪探头的人体工程学作为设计重点之一，确保操作人员能够在整个工作班次中全程握牢吸枪探头进行作业。同时，高气流量探头有助于轻松完成对泄漏的精确定位，确保检测过程中无任何遗漏。此外，探头配有各种不同长度的软管，便于轻松适配任意应用，同时能够独立更换。 /pp　　包括探头和电缆在内的整体坚固性也是普发真空在产品设计中特别关注的重点。ASM 306 S氢氦检漏仪整体坚固性极好，能够在提供全时段吸枪装置的同时降低拥有成本。产品所配备的用于氦气和氢气的标准漏孔，该部件使用寿命长达 2 年，远超市场同类产品的水准。ASM 306 S 同时还拥有 7 英寸的高分辨率可触摸主显示屏，提供清晰易读的界面。探头配备的彩色LED则可根据显示内容实时点亮，将测试信息直接显示在探头上，便于可视化管理，帮助操作员全神贯注测试部件。/pp style="text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202006/uepic/f8c83dde-79de-4129-aa6a-63f7d06118d5.jpg" title="viewfile.jpeg" alt="viewfile.jpeg"//p
    时间： 2020-06-01
    作者： 产研-星羽
  • 普发真空氢氦双检质谱检漏仪新品促销活动
    氢氦双检质谱检漏仪新品促销活动- ASM 340 系列多用途检漏仪+免费标准5m吸枪新款ASM340检漏仪应用广泛，在真空检漏或吸枪法检漏领域是业界表现最卓越的一款产品。这款产品可以用于定位泄漏点也可以用于定量局部或整体测试部件的漏率。应用领域：研发、航天工业、机械工程、仪器测量、冰箱制冷、空调、半导体等我们提供给您: -- 100%原装进口，现货供应-- 买就送，原厂吸枪一把-- 免费上门，安装调试详情请联系: Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd.普发真空技术（上海）有限公司全国免费热线 4006-933-923E-Mail: CN-Customercare@pfeiffer-vacuum.cn活动期限： 2014年9月1日-11月30日。客户范围： 仅限中国大陆地区本活动最终解释权归普发真空技术(上海)有限公司所有。
    时间： 2014-08-29
    作者： 普发真空
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