光学膜厚仪测试原理

FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable（便携式FR） 是一款独特设备，为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析： FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的，光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且，既可以安装在台面上，又可以转化为手持式的厚度测试仪，轻松实现便携实时操作。 性能分析：1、 USB接口供电，无需电源线。2、 真正的便携，用探头检测样品。3、 采用软塑料头，适合野外应用。4、 占地小，可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件：FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率，透射率和反射率光谱，而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度（10nm到100μm）和光学常数（n&k）的白光反射光谱法（WLRS）运算（ThetaMetrisis TM），支持（在透明或者部分透明或者全反射的衬底上）多层薄膜（10层）的测试。不需要高深的光学知识，只要有基本的电脑技巧、一台电脑，轻松实现膜厚测量！ 用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p

无标题文档Filmetrics F20 薄膜厚度测量仪测量厚度从 1nm 到 10mm 的先进膜厚测量系统不论您是想要知道薄膜厚度、光学常数，还是想要知道材料的反射率和透过率，F20都能满足您的需要。仅需花费几分钟完成安装，通过USB连接电脑，设备就可以在数秒内得到测量结果。基于模块化设计的特点，F20适用于各种应用。一：测量厚度、折射率、反射率和穿透率：单层膜或多层膜叠加单一膜层液态膜或空气层二：不同条件下的测量，包括： 在平面或弯曲表面光斑最小可达20微米桌面式、XY坐标自动化膜厚测量，或在线配置所有的这些功能都伴随着直观的软件界面以及我们即时的电话和互联网支持（24小时/每周5工作日）。这就是Filmetrics的优势，欢迎您试一试！ 膜层范例基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。这包括几乎所有的电介质与半导体材料，例如：应用范围SiNXTiO2DLC光刻胶SU-8聚合物有机电致发光器AIQ材料非晶硅ITO硒化铜铟镓CIGS 厚度测量范围测量原理为何？软件功能以使用者为导向 其他的选用配件选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果应用半导体膜层 液晶显示器光刻胶 OLED加工膜层玻璃厚度介电层ITO和TCOs光学镀层生物医学硬涂层 聚对二甲苯抗反射层 医疗器械

便携式膜厚仪FR-pOrtable是一种独特的 USB 供电解决方案，用于对透明和半透明单层薄膜或薄膜叠层进行准确和精确的无损表征。FR-pOrtable 可以在 370-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量。FR-pOrtable 的紧凑设计保证了测量的高度准确和可重复性。FR-pOrtable，既可以安装在提供的平台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具，放置在被表征的区域上。通过这种方式，FR-pOrtable 是适用于现场应用的光学表征工具。可以测量反射率、透射率、吸收率和颜色参数FR-portable 便携式膜厚仪主要由以下系统组成：Α) 白炽-LED混合集成式光源系统，通过内嵌式微处理器控制，使用寿命超过20000小时。小型光谱仪，光谱范围370nm –1050nm,分辨精度可达3648像素， 16位级 A/D 分辨精度；配有USB通讯接口。Β) FR-Monitor膜厚测试软件系统可精确计算如下参数：1）单一或堆积膜层的厚度； 2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。C) 参考样片：a) 经校准过的反射标准硅片；b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；c) 经校准过的带有Si3N4/SiO2/Si特征区域的样片；D) 反射探针台和样片夹具可处理的样品尺寸达200mm, 包含不规则的尺寸等；手动调节可测量高度可达50mm；可针对更大尺寸订制样片夹具；Ε) 反射率测量的光学探针内嵌系统6组透射光探针200μm, 1组反射光探针200μm；

光学膜厚仪干涉仪是利用干涉原理测量光程之差从而测定有关物理量的光学仪器。两束相干光间光程差的任何变化会非常灵敏地导致干涉条纹的移动，而某一束相干光的光程变化是由它所通过的几何路程或介质折射率的变化引起，所以通过干涉条纹的移动变化可测量几何长度或折射率的微小改变量，从而测得与此有关的其他物理量。测量精度决定于测量光程差的精度，干涉条纹每移动一个条纹间距，光程差就改变一个波长(～10-7米)，所以干涉仪是以光波波长为单位测量光程差的，其测量精度之高是任何其他测量方法所无法比拟的。应用领域：1、半导体晶片2、液晶产品（CS,LGP,BIU） 3、微机电系统4、光纤产品5、数据存储盘（HDD,DVD,CD）6、材料研究7、精密加工表面8、生物医学工程FR-pRo是一个模块化和可扩展的测量仪器系列，可根据客户需求量身定制，能够通过标准的吸光度/透射率和反射率测量，在温度和环境受控环境下进行薄膜表征，用于各种不同的应用。FR-pRo 工具经过精心设计，可通过以下方式组装：核心单元和测量配置和附件列表中的模块和套件。通过选择或组合各种核心单元和不同的模块和套件，用户可以根据他们的需要进行最合适的测量和表征设置。核心单元核心单元包含一个小型高性能光谱仪、一个合适的光源和所有必要的电子模块（电源和控制器）。该光源提供高稳定性的发射光谱、软件控制的光强度和非常长的操作时间。核心单元外壳由优质工业阳极氧化铝制成，具有坚固的模块化结构。核心单元的顶盖是一块光学面包板带有预钻孔的 M6（或 ?”）螺纹，尺寸为 340mm x 200mm。顶盖用作样品、测量设备和标准 SMA-905 连接器的支架，用于将来自光源的光传输到光谱仪的光纤。核心单元在 200-2500nm 波长范围内有多种配置可供选择，并且可以进一步调整以满足某些应用需求。产品特点1 、非接触式测量：避免物件受损。2 、三维表面测量：表面高度测量范围为 2nm ---500μm。 3 、多重视野镜片：方便物镜的快速切换。4 、纳米级分辨率：垂直分辨率可以达0.1nm。5、高速数字信号处理器：实现测量仅需几秒钟。6 、扫描仪：闭环控制系统。7、工作台：气动装置、抗震、抗压。8 、测量软件：基于windows 操作系统的用户界面，强大而快速的运算技术参数

仪器介绍 TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。 产品特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用领域半导体（SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS，SOI等）LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等）触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等）医学（聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等）技术参数 型号 TF200-VIS TF200-EXR TF200-DUV TF200-XNIR 波长范围 380-1050nm 380-1700nm 190-1100nm 900-1700nm厚度范围 50nm-40um 50nm-300um 1nm-30um 10um-3mm准确度12nm 2nm 1nm 10nm 精度0.2nm 0.2nm 0.2nm 3nm 入射角 90℃ 90℃ 90℃ 90℃ 样品材料 透明或半透明 透明或半透明 透明或半透明 透明或半透明 测量模式 反射/透射 反射/透射 反射/透射 反射/透射 光斑尺寸22mm 2mm 2mm 2mm是否能在线 是 是 是 是 扫描选择 XY可选 XY可选 XY可选 XY可选 注：1.取决于材料0.4%或2nm之间取较大者。 2.可选微光斑附件。

美国Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪自动化薄膜厚度分布图案系统F60-c 光学膜厚测量仪先进的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及 n&k， 采用 r-θ 极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度， 可随意选择一种或极坐标形、 或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。 针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。 49点的分布图测量只需耗时约 45秒。可测样品膜层基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。例如氧化硅 氮化硅 类金刚石 DLC光刻胶 聚合物 聚亚酰胺多晶硅 非晶硅 硅免费现场演示/支持点几下鼠标就可以在网络上在线看到现场演示！请联系我们，我们的应用工程师会在电脑上为您演示薄膜测量是多么容易Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪

光学膜厚仪干涉仪是利用干涉原理测量光程之差从而测定有关物理量的光学仪器。两束相干光间光程差的任何变化会非常灵敏地导致干涉条纹的移动，而某一束相干光的光程变化是由它所通过的几何路程或介质折射率的变化引起，所以通过干涉条纹的移动变化可测量几何长度或折射率的微小改变量，从而测得与此有关的其他物理量。测量精度决定于测量光程差的精度，干涉条纹每移动一个条纹间距，光程差就改变一个波长(～10-7米)，所以干涉仪是以光波波长为单位测量光程差的，其测量精度之高是任何其他测量方法所无法比拟的。应用领域：1、半导体晶片2、液晶产品（CS,LGP,BIU） 3、微机电系统4、光纤产品5、数据存储盘（HDD,DVD,CD）6、材料研究7、精密加工表面8、生物医学工程FR-pRo是一个模块化和可扩展的测量仪器系列，可根据客户需求量身定制，能够通过标准的吸光度/透射率和反射率测量，在温度和环境受控环境下进行薄膜表征，用于各种不同的应用。FR-pRo 工具经过精心设计，可通过以下方式组装：核心单元和测量配置和附件列表中的模块和套件。通过选择或组合各种核心单元和不同的模块和套件，用户可以根据他们的需要进行最合适的测量和表征设置。核心单元核心单元包含一个小型高性能光谱仪、一个合适的光源和所有必要的电子模块（电源和控制器）。该光源提供高稳定性的发射光谱、软件控制的光强度和非常长的操作时间。核心单元外壳由优质工业阳极氧化铝制成，具有坚固的模块化结构。核心单元的顶盖是一块光学面包板带有预钻孔的 M6（或 ?”）螺纹，尺寸为 340mm x 200mm。顶盖用作样品、测量设备和标准 SMA-905 连接器的支架，用于将来自光源的光传输到光谱仪的光纤。核心单元在 200-2500nm 波长范围内有多种配置可供选择，并且可以进一步调整以满足某些应用需求。产品特点1 、非接触式测量：避免物件受损。2 、三维表面测量：表面高度测量范围为 2nm ---500μm。 3 、多重视野镜片：方便物镜的快速切换。4 、纳米级分辨率：垂直分辨率可以达0.1nm。5、高速数字信号处理器：实现测量仅需几秒钟。6 、扫描仪：闭环控制系统。7、工作台：气动装置、抗震、抗压。8 、测量软件：基于windows 操作系统的用户界面，强大而快速的运算技术参数FR -监控软件用于控制的FR -扫描仪、执行数据采集和分析薄膜的厚度。该系统简单易学，对于初学者能很快掌握适用于各种windows系统。典型案例4英寸硅片退火处理后二氧化硅膜厚映射8英寸硅片上沉积多晶硅层的膜厚映射 3英寸硅片SU-8胶薄膜厚度映射

UV3 CMOS 紫外光谱系统， （紫外氙灯+紫外光谱仪+探头）它结合了CMOS紫外光谱仪和氙气光源，以实现经济高效的解决方案。CMOS紫外光谱仪组合氙光源来自JPN的CMOS探测器来自美国/德国的硬件1.集成的紫外光谱系统，它提供了一个完整的解决方案，将CMOS光谱仪与氙灯相结合，方便用户测量2.稳定的紫外线测量，高性能氙气闪烁灯，特别是在紫外线区域，使其测量稳定3.低成本，整个集成系统降低复杂性, 是一个完整的紫外测量方案.UVS3系列亮点CMOS探测器在UV紫外段性能良好高灵敏度在紫外线区域波长范围180-500nm，200-400nm信噪比800:1 *snr=(信号-噪声)/偏差集成氙气光源降低系统复杂度具成本效益的紫外线光谱系统支持扩展SDK，支持二次开发SMA905光接口完整的UVS3系统测量附件，如流通池USB接口用途紫外分光光度计紫外光谱测量紫外光谱仪紫外吸收光谱法紫外吸光度，吸光度测量透射率，透射系数测量水质，总氮测量吸光度计算，浓度计算使用朗伯比尔定律，可以计算液体的浓度或者含量蛋白质浓度测量定量分析测量应用举例一：膜厚测量薄膜干涉测厚是一种非接触式测量薄膜厚度的方法。它利用光的干涉原理，通过测量干涉光的波长变化来确定薄膜的厚度。薄膜干涉色测量法:薄膜受到入射光的照射后，反射光根据薄膜的厚度和折射率的不同而产生干涉色。利用干涉色的变化可以确定薄膜的厚度。测试步骤软件控制氙灯关闭，采集光谱设备电子噪声软件控制氙灯打开，用反射探头采集光谱信号，通过测量反射光的强度变化，并利用干涉公式计算薄膜的厚度薄膜干涉测厚方法具有测量快速、高精度、非接触等优点，广泛应用于半导体制造、光学材料、涂层工艺等领域.

综合概述 SM200是一款利用利用薄膜反射光干涉原理研 制而成的自动薄膜厚度测绘仪。它利用波长范围最宽 为200-1700nm的光垂直入射到薄膜表面，只要薄膜有 一定程度的透射，SM200就能根据反射回来的干涉光 谱拟合计算出薄膜的厚度，以及其他光学常数如反射 率、折射率和消光系数等，其厚度最大测绘范围可以 达到1nm~250um。SM200自动光学薄膜厚度测绘仪由测绘主机、测 绘平台、Y型光纤及上位机软件搭建而成，核心器件 采用高分辨率、高灵敏度光谱仪结合奥谱天成独有的 算法技术，为用户提供的全新一代领先的自动光学薄 膜厚度测量仪。产品特征  非接触式、非破坏性的测试系统； 超长寿命光源，更高的发光效率；  高分辨率、高灵敏度光谱仪，测量结果更准确可靠； 软件界面直观，操作方便省时；  历史数据存储，帮助用户更好掌握结果；  桌面式分布设计，适用场景丰富；  维护成本低，保养方便；应用领域 基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测绘，这几乎包含了所有的电介质和半导体材料，包括： 氧化硅、氮化层、类钻薄膜、多晶硅、光刻胶、高分子、聚亚酰胺、非晶硅等。  半导体镀膜：光刻胶、氧化物、淡化层、绝缘体上硅、晶片背面研磨  液晶显示：间隙厚度、聚酰亚胺、ITO 透明导电膜  光学镀膜：硬涂层、抗反射层；  微电子系统：光刻胶、硅系膜状物、印刷电路板；  生物医学：医疗设备、Parylene产品外观

扫描型光学膜厚仪 FR-ScannerFR-Scanner是一款紧凑型台式工具，适用于通过对大型基材上的薄膜和涂层的反射率测量进行自动表征。FR-Scanner 是在厚度、折射率、均匀性、颜色等方面快速准确地映射薄膜的理想工具。真空吸盘上可以容纳任何直径/形状的晶片。在 625 个点上扫描8 英寸硅晶片的典型时间不到 60 秒. 光学头采用独特的设计，可容纳光谱仪、混合光源和所有其他光学部件。在这种设计中，没有任何弯曲或移动的光纤，因此保证了在精度、再现性和长期稳定性方面的出色性能。此外，光源的特殊设计提供了超长的使用寿命 10000 小时。FR-Monitor 软件，控制 FR-Scanner，执行数据采集和薄膜厚度光学常数计算。包含超过 350 种广泛使用的材料的数据库，用户可以轻松扩展。该系统出厂时已准备好进行测量，任何具有基本计算机技能但无需深入了解光学的人都可以轻松使用它。只需要的附加部件是运行 Windows 的 PC。该软件加载了适用于任何晶圆尺寸的大量扫描配置文件，而用户可以加载其自己的极坐标或笛卡尔坐标的配置文件。FR-Scanner 扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成：A) 光学光源装置小型低功率混合式光源；本系统混合了白炽灯和LED灯，最终形成光谱范围360nm-1100nm；该光源系统通过微处理控制，光源平均寿命逾10000小时；集成小型光谱仪，光谱范围360-1020nm，分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度；集成式反射探针，6组透射光探针（200um），1组反射光探针，探针嵌入光源头，可修整位置，确保探针无弯曲操作；光源功率：3W；B) 超快扫描系统，平面坐标内，可进行625次测量/分钟 (8英寸 wafer) 或500次测量/分钟(300mm wafer). 全速扫描时，扫描仪的功率消耗不超过200W；样品处理台：样品处理尺寸可达300mm. 可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可达25mm；配有USB通讯接口，功率：100 - 230V 115W.C) FR-Monitor膜厚测试软件系统可精确计算如下参数：1）单一或堆积膜层的厚度； 2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。D) 参考样片a) 经校准过的反射标准硅片；b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；E) 附件*可定制适用于半导体工艺的任何尺寸的晶圆片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)

扫描型光学膜厚仪 FR-ScannerFR-Scanner是一款紧凑型台式工具，适用于通过对大型基材上的薄膜和涂层的反射率测量进行自动表征。FR-Scanner 是在厚度、折射率、均匀性、颜色等方面快速准确地映射薄膜的理想工具。真空吸盘上可以容纳任何直径/形状的晶片。在 625 个点上扫描8 英寸硅晶片的典型时间不到 60 秒. 光学头采用独特的设计，可容纳光谱仪、混合光源和所有其他光学部件。在这种设计中，没有任何弯曲或移动的光纤，因此保证了在精度、再现性和长期稳定性方面的出色性能。此外，光源的特殊设计提供了超长的使用寿命 10000 小时。FR-Monitor 软件，控制 FR-Scanner，执行数据采集和薄膜厚度光学常数计算。包含超过 350 种广泛使用的材料的数据库，用户可以轻松扩展。该系统出厂时已准备好进行测量，任何具有基本计算机技能但无需深入了解光学的人都可以轻松使用它。只需要的附加部件是运行 Windows 的 PC。该软件加载了适用于任何晶圆尺寸的大量扫描配置文件，而用户可以加载其自己的极坐标或笛卡尔坐标的配置文件。FR-Scanner 扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成： A) 光学光源装置小型低功率混合式光源；本系统混合了白炽灯和LED灯，最终形成光谱范围360nm-1100nm；该光源系统通过微处理控制，光源平均寿命逾10000小时；集成小型光谱仪，光谱范围360-1020nm，分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度；集成式反射探针，6组透射光探针（200um），1组反射光探针，探针嵌入光源头，可修整位置，确保探针无弯曲操作；光源功率：3W；B) 超快扫描系统，平面坐标内，可进行625次测量/分钟 (8英寸 wafer) 或500次测量/分钟(300mm wafer). 全速扫描时，扫描仪的功率消耗不超过200W；样品处理台：样品处理尺寸可达300mm. 可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可达25mm；配有USB通讯接口，功率：100 - 230V 115W.C) FR-Monitor膜厚测试软件系统可精确计算如下参数： 1）单一或堆积膜层的厚度；2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。D) 参考样片a) 经校准过的反射标准硅片；b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；E) 附件*可定制适用于半导体工艺的任何尺寸的晶圆片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)

Filmetrics F3 薄膜厚度测量仪经济适用的反射率测试系统F3系统是专门为采集反射率光谱曲线设计的，并且可选配至厚度和指数测试功能，基本通用型拥有40000个小时适用寿命的光源及自动波长校准，大大提高了测试准确度。快速厚度测试升级厚度测试软件许可后，厚度值将在测试数据结果中直观的显示。软件中存入了常用的介质材料及半导体层的光学常数。指数测试功能（n 和 k）对于更高级用户来说， 指数测试软件升级能在短时间内提供折射率和消光系数。Filmetrics的优势桌面型薄膜厚度测量专家24小时电话，Email，在线支持直观的分析软件附 加 特 性 嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效的存储，重现与绘制测试结果免费现场演示/支持点几下鼠标就可以在网络上在线看到现场演示！请联系我们，我们的应用工程师会在电脑上为您演示薄膜测量是多么容易 相关应用半导体制造 光刻胶 氧化物 氮化物 光学镀层 硬涂层 抗反射层 滤光器液晶显示器 盒厚 聚酰亚胺 ITO 生物医学 聚对二甲苯 生物膜 消化纤维

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是不错的选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

LensThick ATW/ATS 系列全自动光学测厚仪 设备原理设备基于低相干干涉原理，采用非接触式光学测量，并配备高精度移动平台和视觉校正系统，自动测量产品的厚度及空气间隔。 主要功能非接触式测量透镜厚度非接触式测量微小镜头空气间隔自动上料—自动定位—自动测量—自动下料UPH，单穴测量时间不大于4秒测量精度高达±0.1 μm 设备特点LensThick ATW配备晶圆测试模组，LensThick ATS配备单镜片测试模组；配备非接触式光学测厚仪，测量精度高，速度快，且不会对样品造成损伤；采用大理石组合结构，稳定性高XY平台采用直线电机及高精度光栅尺，重复定位精度±0.001mm,位置精度±0.001mm；采用CCD图像识别定位，运用高精度算法，准确可靠；测量时通过CCD图像校正，保证测量位置准确； 主要配置/设备关键部件非接触式光学测厚仪测量光程： 12mm/ 40mm/80mm 测量精度： ±0.1 μm/±1μm 测量重复性： ±0.02 μm/±0.05 μm 工作波长： 1310 nm 测量速度： 20 Hz/ 7Hz/ 4HzXYR平台参数：平面度：±0.005mm直线度：±0.005mm重复定位精度：±0.001mm位置精度：±0.001mm视觉校正相机：2000万像素低噪声，高精度 工作环境及设备尺寸参数工作电压：220V±10**工作环境：室温-10℃—45℃，湿度≤95**；环境相对湿度：在+40℃时 ≤90** R.H. （无冷凝）外型尺寸：800×1200×1960设备总重量：约500kg尺寸330mm×430mm×685mm（长×宽×高）重量20㎏其他功率90-264 VAC，47-63 Hz，80 VA仪器接口USB2.0及以上接口可支持8通道测量电脑配置 Windows 7/8/10,1GB内存，USB2.0以上接口，显示器，键盘，鼠标质保期1年⑴ 定义为测量不确定度或很大厚度误差，置信度≥99.7**。⑵ 整个运行环境条件的不确定性。⑶ 60分钟测量周期的标准偏差。⑷ 取决于被测材料在1.3μm波长下的反射率。该规格书是在4**反射条件下给出的。 当反射条件较低时，重复性**坏会降低到约±0.15μm。⑸ 折射率为1时。⑹ 折射率为1.5的材料。⑺ 特性性能，但不是一定的。

美国Filmetrics光学膜厚测量仪，测量膜层厚度从15nm到450um。利用反射干涉的原理进行无接触测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是一款高性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。Filmetrics光学膜厚测量仪：其可测量薄膜厚度在15nm到450um之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。 通过Filmetrics膜厚测量仪反射式光谱测量技术,可以测试4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 : 半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。 LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。 光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，在此基础之上，我们推出了操作极其简单的入门型号F20单点膜厚测试仪，可以实现反射、膜厚、n、k值测量。F20 系列膜厚测试仪——一款畅销的台式薄膜厚度测量系统只需按下一个按钮，您在几秒钟同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows&trade 系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上，我们每天从我们的客户学习更多的应用.选择您的F20，主要取决于您需要测量的薄膜的厚度（确定所需的波长范围），下图是不同型号的膜厚测试仪测试的厚度范围以及对应选择的波长范围。图被和谐，请私信或查看纳腾官网F20 的测试原理：一束光入射到薄膜表面时，在薄膜上下表面都会发生反射，而两束反射光之间会产生干涉，干涉条纹的产生又是与薄膜的厚度，折射率等有关的，因此可以依据此来测量薄膜的厚度。F20系列膜厚测试仪的具体的应用实例：1.非晶态多晶硅硅元素以非晶和晶体两种形式存在, 在两级之间是部分结晶硅。部分结晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光学常数(n和k)对不同沉积条件是独特的，必须有精确的厚度测量。 测量厚度时还必须考虑粗糙度和硅薄膜结晶可能的风化。Filmetrics 设备提供的复杂的测量程序同时测量和输出每个要求的硅薄膜参数， 并且“一键”出结果。测量范例多晶硅被广泛用于以硅为基础的电子设备中。这些设备的效率取决于薄膜的光学和结构特性。随着沉积和退火条件的改变，这些特性随之改变，所以准确地测量这些参数非常重要。监控晶圆硅基底和多晶硅之间，加入二氧化硅层，以增加光学对比，其薄膜厚度和光学特性均可测得。F20可以很容易地测量多晶硅薄膜的厚度和光学常数，以及二氧化硅夹层厚度。Bruggeman光学模型被用来测量多晶硅薄膜光学特性。2.电介质 电解质薄膜测量成千上万的电解质薄膜被用于光学，半导体，以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。常见的电介质有:二氧化硅 —— 最简单的材料之一, 主要是因为它在大部分光谱上的无吸收性 (k=0)， 而且非常接近化学计量 (就是说，硅：氧非常接近 1:2)。 受热生长的二氧化硅对光谱反应规范，通常被用来做厚度和折射率标准。 Filmetrics能测量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 ——对此薄膜的测量比很多电介质困难，因为硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要与薄膜厚度同时测量。 更麻烦的是，氧常常渗入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大测量难度。 但是幸运的是，我们的系统能在几秒钟内 “一键” 测量氮化硅薄膜完整特征!测量范例氮化硅薄膜作为电介质，钝化层，或掩膜材料被广泛应用于半导体产业。这个案例中，我们用F20-UVX成功地测量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系数。有趣的事，氮化硅薄膜的光学性质与薄膜的分子当量紧密相关。使用Filmetrics专有的氮化硅扩散模型，F20-UVX可以很容易地测量氮化硅薄膜的厚度和光学性质，不管他们是富硅，贫硅，还是分子当量。3.铟锡氧化物与透明导电氧化物液晶显示器，有机发光二极管变异体，以及绝大多数平面显示器技术都依靠透明导电氧化物 (TCO) 来传输电流，并作每个发光元素的阳极。 和任何薄膜工艺一样，了解组成显示器各层物质的厚度至关重要。 对于液晶显示器而言，就需要有测量聚酰亚胺和液晶层厚度的方法，对有机发光二极管而言，则需要测量发光、电注入和封装层的厚度。在测量任何多个层次的时候，诸如光谱反射率和椭偏仪之类的光学技术需要测量或建模估算每一个层次的厚度和光学常数 (反射率和 k 值)。不幸的是，使得氧化铟锡和其他透明导电氧化物在显示器有用的特性，同样使这些薄膜层难以测量和建模，从而使测量在它们之上的任何物质变得困难。Filmetrics 的氧化铟锡解决方案Filmetrics 已经开发出简便易行而经济有效的方法，利用光谱反射率精确测量氧化铟锡。 将新型的氧化铟锡模式和 F20-EXR, 很宽的 400-1700nm 波长相结合，从而实现氧化铟锡可靠的“一键”分析。 氧化铟锡层的特性一旦得到确定，剩余显示层分析的关键就解决了。不管您参与对显示器的基础研究还是制造，Filmetrics 都能够提供您所需要的...测量液晶层-聚酰亚胺、硬涂层、液晶、间隙测量有机发光二极管层发光、电注入、缓冲垫、封装对于空白样品，我们建议使用 F20 系列仪器。 对于图案片，Filmetrics的F40用于测量薄膜厚度已经找到了显示器应用广泛使用。测量范例此案例中，我们成功地测量了蓝宝石和硼硅玻璃基底上铟锡氧化物薄膜厚度。与Filmetrics专有的ITO扩散模型结合的F10-RTA-EXR仪器，可以很容易地在380纳米到1700纳米内同时测量透射率和反射率以确定厚度，折射率，消光系数。由于ITO薄膜在各种基底上不同寻常的的扩散，这个扩展的波长范围是必要的。4.光刻胶成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战， 而 Filmetrics 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。测量SU-8 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂 SU-8 的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太精确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行精确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。Filmetrics 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 所有的 Filmetrics 型号都能通过精确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 独家的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。测量范例测量光刻胶涂层厚度的能力对开发和制造各种半导体器件如MEMS至关重要。Filmetrics提供测量SU-8和其它光刻胶厚度的广泛的解决方案。此案例中，我们演示如何用F20快速有效地测量硅胶上SU-8 涂层单光斑和多点厚度.5.硅晶圆薄膜Filmetrics 提供台式系统, 测绘, 和生产测量 1nm 到 2mm 硅晶片和膜厚仪器系统。6.太阳光伏应用薄膜光伏薄膜光伏 (TFPV) 作为硅基晶圆的较廉价的替代品正在得到开发。 薄膜光伏共有三大类，按照其有效层组成命名: 硅薄膜、II-VI (主要是锑化镉) 和 CIGS (铜铟硒化镓)。 每种有效层薄膜都是用在一层透明导电氧化膜上面，而基板可用玻璃或金属。测量有效层准确了解有效层的厚度和组成是非常重要的。 太薄会影响功效和耐用性，而太厚又会提高成本。 错误的组成会大大降低产品的功效和制造产量。Filmetrics F20型号为几十家薄膜光伏制造商所使用，用于测量三类有效层的厚度和光学常数。 为了测量透明导电氧化膜上面的有效层薄膜, Filmetrics 已获得了丰富的经验来检测用户自行生产的或专业玻璃生产商提供的单层及多层导电玻璃。其他制程薄膜除了有效层和透明导电氧化物堆以外，还有其他薄膜用于光伏类产品的制造。 这些例子包括用于刻蚀电池和电极的聚酰亚胺和光刻胶，以及减反涂层。 在这些情况下，Filmetrics 有现有的台式, 测绘, 或在线解决方案。测量范例快速可靠地测量多层薄膜是开发制造薄膜太阳能电池的关键。在这个案例中，我们需要测量薄膜光伏上缓冲层（硫化镉）和吸收层（碲化镉）的厚度。F20-NIR 结合准直光束平台，使我们能够从反射光谱测量TEC玻璃上太阳能电池碲化镉和硫化镉层的厚度。7.半导体实践教学已经有五十多台 Filmetrics 的 F20 用于大学半导体制造教学实验室。 这不仅仅是因为它们快速、可靠和价格合理， 还因为它们简明易懂的设计，使它们成为光谱反射原理教学的理想平台。 (如果您想了解如何在教学实验室使用 F20，用关键字 Filmetrics 大学在 Google 内进行搜索）。 同时，由于全世界有几千台 F20 在运行，接受培训的学生们觉得培训对将来就业很有用。Filmetrics 对用于实验室课程的仪器提供特别优惠。8.卷式薄膜涂层Filmetrics 系统在测量聚合物薄膜和涂层厚度领域有广泛应用，我们还有专门为卷式薄膜设计的产品卷式薄膜应用在塑料薄膜的制造中有很多点，它们的厚度对薄膜质量至关重要。 这些点包括: 薄膜的总厚度 (高达400um)、混合挤压分层厚度和涂层在薄膜卷筒上的厚度。 对于特定 PET 上涂层，我们的F20-UV 能测量非常薄的层(~10 nm)， 甚至是高能等离子表面薄膜。 我们标准的 F20 能够测量市面上常见的涂层，例如 0.05 到 50 um 范围内的硬涂层。我们有一个庞大的聚合物薄膜折射率数据库，其中包括 PET、聚碳酸酯、醋酸纤维素和聚烯烃，以及更奇特的材料，诸如导电聚合物。这些应用中的每一项都是独特的挑战，而 Filmetrics 已经开发出软件、硬件和应用知识以便为用户提供合适的解决方案。测量范例用配有200微米小光斑光纤的F20测量厚度。在线实时和台式测量聚氯乙烯（PVC）挤压塑料薄膜。台式测量时SS-3标准平台用于单点连续测量。在线测量时镜头和RKM在卷式薄膜移动时进行测量。利用我们庞大的折射率数据库，PVC厚度很容易测得。F20还可以测量共挤薄膜厚度，以及各种材料，如PET涂层厚度。9.多孔硅近年来， 多孔硅的研发工作大量进行。 众多兴趣的原因是多孔硅在光学器件、气体传感器和生物医疗设备应用中极具发展前途。和大多数新的材料技术一样，多孔硅开发的部分挑战就是要找到确定各种材料参数的工具。 对于多孔硅而言，最基本参数就是薄膜层的厚度和孔隙度。其它参数关系到加工后的薄膜层，例如浸渍材料的比例或传感器内吸收分子的数量。 根据Filmetrics 已经开发出算法，只要单击鼠标就能揭示多孔硅的厚度、折射率和孔隙度。 这一算法在F20, F40, 和 F50 仪器内都是免费提供的。测量范例多孔硅的特点可由许多参数决定，但厚度和孔隙度是最主要的。一般来讲，非破坏性的方法，如重力方法被用来测量孔隙度，但这种方法的准确度非常低。Filmetrics F20, 用非破坏性的方法，测量多孔硅的厚度和光学特性。Filmetrics专有的算法，一键点击，可精确计算薄膜的孔隙率。10.制程薄膜Filmetrics 提供测量非金属半导体制程薄膜的全系列产品。F20是单点测量厚度和折射率的最经济有效的仪器。对于小光斑厚度测量 (1 微米或更小)，可以将F40固定到您的显微镜上。对于空白晶圆薄膜厚度测绘，可选用经济有效的F50。而F80则能测绘产品晶圆上的薄膜厚度。我们专利的厚度成像技术使我们的仪器易于设定、较少配方，并且提供更为可靠的模式识别和比传统薄膜计量工具更低的价格。 有独立或组合到其它设备的机型可供选择。

CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，严格按照标准方法进行测量，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度测量。产品特点◎ 微电脑控制系统，大液晶显示、PVC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看。◎ 严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制。◎ 测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差。◎ 支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择。◎ 系统自动进样，进样步距、测量点数和进样速度等相关参数均可由用户自行设定。◎ 实时显示测量结果的Z大值、Z小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断。◎ 配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性。◎ 系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果。◎ 标准的USB接口，便于系统与电脑的外部连接和数据。 测试原理CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，截取一定尺寸的式样；通过控制面板按钮，调节测量头降落于式样之上；依靠两个接触面产生的压力和两接触面积通过传感器测得的数值测量材料的厚度。 应用领域薄膜、薄片、隔膜：适用于薄膜、薄片、隔膜的厚度测试纸张、纸板：适用于纸张、纸板的厚度测试箔片、硅片：适用于箔片、硅片的厚度测试金属片：适用于金属片的厚度测试纺织材料：适用于纺织材料的厚度测试固体电绝缘体：适用于固体电绝缘体的厚度测试无纺布材料：适用于无纺布材料的厚度测试，如尿不湿、卫生巾片材的厚度测试量程扩展至5mm， 10mm：适用于无纺布材料的厚度测试，如尿不湿、卫生巾片材的厚度测试曲面测量头：满足特殊要求的厚度测试测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672 、GB/T 451.3、 GB/T 6547、 ASTM D374、ASTM D1777TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

F3-sX 系列薄膜厚度测量仪满足薄膜厚度范围从15nm到3mm的先进厚度测试系统 F3-sX家族利用光谱反射原理，可以测试众多半导体及电解层的厚度，可测最大厚度达3毫米。此类厚膜，相较于较薄膜层表面较粗糙且不均匀，F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。而且仅在几分之一秒内完成。波长选配 F3-sX采用的是近红外光（NIR）来测量膜层厚度，因此可以测试一些肉眼看是不透明的膜层（ 比如半导体膜层） 。980nm波长型号，F3-s980，专门针对低成本预算应用。F3-s1310针对于高参杂硅应用。F3-s1550则针对较厚膜层设计。配件 配件包括自动绘图平台、测量点可视化的摄像机, 和可见光波段选项，使测量厚度能力最小达到15纳米。此外数据采集速率达到1kHz，让F3-sX系列成为许多在线应用的第一选择（比如“roll-to-roll”工艺）。 测量原理为何？FILMeasure分析-薄膜分析的标准部件可选配件 应用&bull Si晶圆厚度测试&bull 保形涂层&bull IC 芯片失效分析&bull 厚光刻胶（比如SU-8光刻胶）选择Filmetrics的优势&bull 桌面式薄膜厚度测量的专家&bull 24小时电话，E-mail和在线支持&bull 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性&bull 嵌入式在线诊断方式&bull 免费离线分析软件&bull 精细的历史数据功能，帮助用户有效地&bull 存储，重现与绘制测试结果

薄膜测厚仪 CHY-CA 纸张厚度测试仪 膜厚仪 厚度仪CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，严格按照标准方法进行测量，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度测量。产品特点◎ 微电脑控制系统，大液晶显示、PVC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看。◎ 严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制。◎ 测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差。◎ 支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择。◎ 系统自动进样，进样步距、测量点数和进样速度等相关参数均可由用户自行设定。◎ 实时显示测量结果的Z大值、Z小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断。◎ 配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性。◎ 系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果。◎ 标准的USB接口，便于系统与电脑的外部连接和数据。薄膜测厚仪 CHY-CA 纸张厚度测试仪 膜厚仪 厚度仪测试原理CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，截取一定尺寸的式样；通过控制面板按钮，调节测量头降落于式样之上；依靠两个接触面产生的压力和两接触面积通过传感器测得的数值测量材料的厚度。 应用领域薄膜、薄片、隔膜：适用于薄膜、薄片、隔膜的厚度测试纸张、纸板：适用于纸张、纸板的厚度测试箔片、硅片：适用于箔片、硅片的厚度测试金属片：适用于金属片的厚度测试纺织材料：适用于纺织材料的厚度测试固体电绝缘体：适用于固体电绝缘体的厚度测试无纺布材料：适用于无纺布材料的厚度测试，如尿不湿、卫生巾片材的厚度测试量程扩展至5mm， 10mm：适用于无纺布材料的厚度测试，如尿不湿、卫生巾片材的厚度测试曲面测量头：满足特殊要求的厚度测试薄膜测厚仪 CHY-CA 纸张厚度测试仪 膜厚仪 厚度仪技术参数测试范围：0 ～ 2 mm（常规）、0 ～ 6 mm、10 mm（可选）分辨率：0.1 μm测量速度：10 次/min （可调）测量压力：17.5±1 KPa（薄膜）；50±1 KPa（纸张）接触面积：50 mm2（薄膜）；200 mm2（纸张）注：薄膜、纸张任选一种；非标可定制进样步距：0 ～ 1000 mm进样速度：0.1 ～ 99.9 mm/s电源：AC 220V 50Hz外形尺寸：400mm (L)×310 mm (W)×460mm (H)净重：32 kg测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672 、GB/T 451.3、 GB/T 6547、 ASTM D374、ASTM D1777TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

F10-HC薄膜厚度测量仪具有价格优势的先进薄膜测量系统以F20平台为基础所发展的F10-HC薄膜测量系统，能够快速的分析薄膜 的反射光谱资料并提供测量厚度，加上F10-HC软件特有的先进模拟演算法的设计，能够在厚膜中测量单层与多层(例如：底漆或硬涂层等)。简易的操作界面现在，具有新样板模式功能的F10-HC将更容易使用，这个功能允许用户汇入样品的影像(请参考下页)，并直接在影像上定义测量位置。系统会自动通知使用者本次测量结果是否有效，并将测量的结果显示在汇入的影像上让用户分析。不需要手动基准校正F10-HC现在能够执行自动化基准矫正以及设置自己的积分时间这个创新的方法不需要频繁的执行基准矫正就可以让使用者立即的执行样本的测量。背面反射干扰背面反射干扰对厚度测量而言是一个光学技术的挑战，具有F10-HC系统的独特接触式探头能将背面反射干扰的影响最小化，使用者能以较高的精准度来测量涂层厚度。选择Filmetrics的优势 桌面式薄膜厚度测量专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件 附加特性 嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果

简介薄膜测量系统TF-168是TF-166的改进系统，从顶部更容易进行光束对准。它具有非接触式光学测量功能，可测量各种多层光学薄膜和涂层的厚度，折射率和吸收率。应用光学组件上的介电涂层，涂覆的滤光片，晶圆上的半导体制造，液晶器件，多层聚合物膜。薄膜层的示例： SiO 2，CaF 2，MgF 2，光致抗蚀剂，多晶硅，非晶硅，SiNx，TiO 2，溶胶凝胶，聚酰亚胺，聚合物膜。基材材料示例：硅，锗，GaAs，ZnS，ZnSe，丙烯酸，蓝宝石，玻璃，聚碳酸酯，聚合物，石英。测量范围 20 nm至50 μm（仅厚度），100 nm至10 μm（厚度w / n＆k）可测层 up to 4层现货尺寸 可调0.8毫米至4毫米样本量 从1毫米起厚度精度 ±1 nm或±0.5％中较大者精确 0.2纳米重复性 0.1纳米平台尺寸 7英寸x 7英寸或178毫米x 178毫米系统尺寸 宽度8英寸，深度9 1/2英寸，高度14英寸薄膜厚度测量系统一台薄膜测量主机（110V-240V AC），包括钨卤素灯光源和基于PC的带有USB接口的光学微型光谱仪。光束传输，投射和接收光纤电缆和光学组件新的Span薄膜测量软件5.1版一块硅晶片作为反射率标准配套硬件PC要求：时钟 800 MHz，RAM 1 GB，Windows Vista，7、8或Windows 10。单独使用包含的光源或光谱仪主机包括一个钨卤素灯光源（360-2500 nm）和一个基于PC的USB微型光谱仪（350-1000 nm），每个均具有SMA 905连接器。通过将薄膜测量光纤与内部光源和光谱仪断开连接，可以将单独的光纤连接到光源和光谱仪，以促进其他照明或光谱测量应用。测量功能基材折射率和吸收率评估膜厚测量，均值和标准差膜材料的折射率和吸收率评估保存测量的光谱相关反射率数据加载先前保存的反射率数据测量结果统计用户友好的光标控制显示测量结果灵活选择计算波长范围灵活选择厚度范围以大程度地减少计算时间从随附的数据库中方便地选择薄膜和基材材料用户定义的材料选择和导入。

为了保证功能涂层在任何工作环境中都能发挥其作用，油漆涂装技术正在朝着精细化控制优化生产工艺和确保经济可持续发展方向努力。例如：家电行业希望油漆涂层更加耐用，能够适应各种各样家用电器和厨房器具的要求；而建筑行业则期望粉末涂层能够耐用且适应不同环境，特别是防腐涂料，期望能够经受得住太阳暴晒和风雨冲刷。过薄涂层无法保证涂料充分发挥功能作用；过厚涂层则会造成表面不平整，导致光泽度不同；对于机械阻力而言，越厚涂层硬度越大，则越容易断裂，因此生产厂家必须严格控制涂装工艺质量，令产品膜厚快速精准控制在合格范围内，从而满足不同的使用需求。目前市场上普遍使用的是几十年前开发的接触式磁性测厚仪和涡流测厚仪，或者是超声波测厚仪，这些测厚仪器虽然是非破坏式测厚，但是只能等待涂层固化后才能测量膜厚，无法在湿膜状态下测出固化后干膜厚度。为了更好实现测湿膜直接显示干膜厚度功能，瑞士涂魔师非接触无损测厚仪应运而生。涂魔师膜厚测量仪是一款非接触无损涂层测厚仪，不管漆膜是烘干后还是未烘干，粉末涂料是固化前还是固化后，涂魔师都可以轻松测出其干膜厚度。涂魔师膜厚测量仪工作原理涂魔师膜厚测量仪采用ATO光热法原理和数字信息处理技术(DSP），通过计算机控制光源以脉冲方式加热待测涂层，其中内置的高速红外探测器从远处记录涂层表面温度分布并生成温度衰减曲线。表面温度的衰减时间取决于涂层厚度及其导热性能。最后利用专门研发的算法分析表面动态温度曲线计算测量待测的涂层厚度。涂魔师膜厚测量仪优势---精准协助厂家提高产线的喷涂效率及产品合格率湿膜状态下测出干膜厚度涂魔师膜厚测试仪能在涂层烘干前测出干膜的真实厚度，并实时直接传入ERP/MES系统，可全程数据化监控，也便于下次调用生产或回溯分析。自动监控，减少次品率全程数据化追溯涂装工艺，有效协助涂装部门在生产过程中及时发现喷涂厚度问题，马上调整设备参数，优化工艺过程和消耗品的更换频率。快速研发，提高质量研发中心不必等待涂层干透，快速确保样品干膜厚度达标而做出测试样品，大幅缩短研发周期，助力制定新的质量标准、生产工艺，使产品更加有竞争力。喷涂厂家使用涂魔师膜厚测量仪测量未固化涂层即时得出固化后涂层厚度，并且全程能实现生产工艺的统计及不间断追溯，高效监控膜厚真实情况，进行数据的不间断监控记录和智能统一管理。翁开尔是涂魔师中国总代理，欢迎致电【400-6808-138】咨询关于涂魔师全自动涂层测厚仪更多产品信息、技术应用和客户案例。

包装袋厚度测试仪_薄膜测厚仪CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，严格按照标准方法进行测量，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度测量。产品特点◎ 微电脑控制系统，大液晶显示、PVC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看。◎ 严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制。◎ 测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差。◎ 支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择。◎ 系统自动进样，进样步距、测量点数和进样速度等相关参数均可由用户自行设定。◎ 实时显示测量结果的Z大值、Z小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断。◎ 配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性。◎ 系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果。◎ 标准的USB接口，便于系统与电脑的外部连接和数据。包装袋厚度测试仪_薄膜测厚仪测试原理CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，截取一定尺寸的式样；通过控制面板按钮，调节测量头降落于式样之上；依靠两个接触面产生的压力和两接触面积通过传感器测得的数值测量材料的厚度。测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672 、GB/T 451.3、 GB/T 6547、 ASTM D374、ASTM D1777TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

LensThick 非接触式光学测厚仪 测量原理： LensThick非接触式光学测厚仪利用低相干光干涉测量方法来测量厚度，以宽谱光源作为相干光源，其相干长度短，只有在测量光和参考光的光程相等时才能产生干涉峰值，因此具有很好的空间定位特性，测厚仪内置光学干涉仪，通过计算透镜前后镜面顶点对应干涉峰之间的距离变化可以得出透镜的厚度。 典型应用:光学元件和透镜组件：测量单个镜片以及镜头组包括空气间隔隐形眼镜和人工晶状体：测量中间厚度、矢高和群折射率医用导管窥镜：可同时测量管壁厚、内径和外径LCD、LED、OLED和AMOLED显示屏：测量总厚度和各层厚度，包括LOCA（液体光学透明粘合剂）层半导体：硅/砷化镓晶片抛光玻璃：测量化学腐蚀前后的厚度或抛光工艺，使玻璃板更薄、更轻。 主要优势：非接触式测量，不会造成元件表面损坏或变形。用于定位测量位置的可见光束。可同时测量31层厚度。精度±0.1微米。测量重复性达±0.02微米。基于内部固有长度标准，实时显示测量数据。测量结果可追溯至NIST标准。测量物理厚度可达16微米（折射率1.5时）。集成装置，操作简便。 设备介绍: LensThick光学测厚仪的操作简单，每次可轻松获得可靠的厚度值。测量数据经过数字信号处理器计算，通过USB传输到PC，再以图形的形式显示在用户界面，可直接读取每层厚度值，操作更简单、更直观。 测量过程： （1）将光学测量头对准被测产品。 （2）激光通过光学测量头照射到材料表面。 （3）光学测量头收集反射光并将其返回到系统的干涉仪进行分析。 （4）测量数据通过USB传输到电脑。 （5）LensThick软件用于显示测量结果、设置参数及输出数据报告。 测量软件： 光学测厚仪使用LensThick软件可实时显示被测试产品的厚度和干涉信号，以便实时优化。 自动峰值模式：使用操作员创建的样品设计文件，可以定义32个反射面（31层）的预期峰值位置，软件可自动识别在指定的阈度内接近预期峰值位置的峰值，从而计算并输出每层的厚度。此外，软件还带有判据功能，即超出设计值的公差范围，数据显示为红色。这些功能对质量控制是非常快速的。 规格参数LensThick 系列型号12-1 UP12-140-1 UP40-1厚度测量方法非接触式光学干涉法光学厚度(折射率为1的空气间隔)12 mm40 mm物理厚度(折射率为1.5的材料)8 mm26 mm**小物理厚度(折射率为1.5的材料)16 μm35 μm20 μm35 μm精度 1,2±0.1 μm±1 μm±0.1 μm±1 μm重复性 3,4±0.02 μm±0.05 μm±0.02 μm±0.05 μm可溯源NIST认证标准单位mm、μm、mils测量频率20 Hz7 Hz仪器接口USB2.0及以上接口电脑配置 Windows 7/8/10,1GB内存，USB2.0以上接口，显示器，键盘，鼠标环境 5热机时间无温度15℃ 到 30℃ （存储 -10℃ 到 +70℃）压力500 — 900 mm Hg湿度在+40℃时 ≤90** R.H. （无冷凝）主机尺寸和重量尺寸600mm×590mm×370mm（长×宽×高）重量42㎏支架尺寸和重量尺寸350mm×350mm×590mm（长×宽×高）重量15㎏功率90-264 VAC，47-63 Hz，80 VA质保期1年⑴ 定义为测量不确定度或很大厚度误差，置信度≥99.7**。⑵ 整个运行环境条件的不确定性。⑶ 60分钟测量周期的标准偏差。 ⑷ 取决于被测材料在1.3μm波长下的反射率。该规格书是在4**反射条件下给出的. 当反射条件较低时，重复性**坏会降低到约±0.15μm。⑸ 特性性能，但不是一定的。

NS系列台阶仪测试薄膜厚度，可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。其采用LVDC电容传感器，具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点使得其在ITO导电薄膜厚度的测量上具有很强的优势。工作原理当触针沿被测表面轻轻滑过时，由于表面有微小的峰谷使触针在滑行的同时还沿峰谷作上下运动。触针的运动情况就反映了表面轮廓的情况。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，CP200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；NS系列台阶仪测试薄膜厚度对测量工件的表面反光特性、材料种类、材料硬度都没有特别要求，样品适应面广，数据复现性高、测量稳定、便捷、高效，是微观表面测量中使用非常广泛的微纳样品测量手段。典型应用 产品特性1.出色的重复性和再现性，满足被测件测量精度要求线性可变差动电容传感器（LVDC），具有亚埃级分辨率，13um量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能够扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。2.超微力恒力传感器：（1-50）mg可调测力恒定可调，以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的精准接触式测量。3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，提高扫描精度，真实反映工件微小形貌。4.顶视光学导航系统，5MP超高分辨率彩色相机5.全自动XY载物台， Z轴自动升降、360°全自动θ转台6.强大的数据采集和分析系统NS系列台阶仪测试薄膜厚度软件包含多个模块，为对不同被测件的高度测量及分析评价提供充分支持。部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB 空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

美国 Filmetrics 美国Filmetrics公司出品的F20 膜厚测量仪,可快速简便的测量透光薄膜的光学参数(n,k值),可在几秒内测量并分析薄膜的表层和底层的反射光谱得到膜厚,折射率参数。软件以及USB接口可轻易的将仪器与Window系统的电脑连接。软件的数据库预存100种以上材料的基本信息，利用这些已存信息可以测量多层结构，用户还可以通过拟合测量将新材料的光学系数存入系统以备今后应用。测量条件：薄膜：平整，半透明，吸光薄膜。例如：SiO2 SiNX DLC、光刻胶、多晶硅无定形硅，硅片；基底层：平整，反射基底。如需测量光学系数，则需要平整镜面反射基底，如果基片是透光的，基片背面需要做反光处理。可用基底例如：硅片 玻璃 铝、GaAs 钢 聚碳酸脂、聚合物薄膜

Bristol非接触式光学测厚仪　　Bristol Instruments提供了一系列测厚仪产品，可方便地测量厚度，并具有很高的测量精度以及重复性，以适用于大部分的应用需求。更重要的是，这些产品采用了一种非常有效的技术，即使用非接触式光学探针进行无损检测，同时这种技术还可以同时测量多层膜的厚度。　　产品特点：　　可测量硬材料和软材料，并且不会造成损坏或变形　　用于准确定位测量位置的可见光束　　同时测量多达31层　　测量光程： 12mm/ 40mm/80mm　　测量精度： ±0.1 μm/±1μm　　使用内置的固有长度标准进行连续校准　　测量置信水平≥99.7%　　可追溯至NIST标准　　测量频率高达20赫兹　　使用USB或以太网进行PC通讯　　提供基于Windows的光学测量软件，用于设置测量参数和输出测量数据　　使用LabVIEW、.NET或自定义编程进行自动数据报告，无需专用PC　　软件测量界面：　　应用领域：　　光学元件和透镜组件　　可测量单个镜片以及镜头组包括空气间隔　　隐形眼镜和人工晶状体　　测量中心厚度、矢高和群折射率　　医用导管窥镜　　可同时测量壁厚、内径和外径，管壁厚度、管颈和管锥的壁厚　　LCD, LED, OLED 和AMOLED显示屏　　可测量总厚度和各层厚度，包括LOCA（液体光学透明粘合剂）层　　半导体　　硅/砷化镓晶片　　玻璃抛光　　测量化学腐蚀前后的厚度或抛光工艺，使玻璃板更薄、更轻。　　Optional:　　Lensthick 非接触式光学测厚仪　　产品特点：　　LensThick集成了Bristol非接触式光学测厚仪，系统集成化程度较高，增加了电动升降台和倾斜平移一体调节台，将测厚仪主机和高性能工控机集成在定制机柜里，并配备了高清显示器，此外还开发了全中文人机交互软件，软件可实时显示被测试产品的厚度和干涉信号，以便实时调整。软件支持自动峰值模式，使用操作员创建的样品设计文件，可以定义最多32个反射面（31层）的预期峰值位置，可自动识别在指定的阈度内最接近预期峰值位置的峰值，从而计算并输出每层的厚度。此外，软件还带有判据功能，即超出设计值的公差范围，数据显示为红色。这些功能对质量控制是非常快速有效的。软件还可根据用户材料色散方程系数，自动计算出材料的群折射率并保存。针对同其它设备和产线集成，软件还可通过TCP/IP形式将实时测量结果发送给其它设备。　　LensThick ATW/ATS 系列全自动光学测厚仪　　设备特点：　　LensThick ATW配备晶圆测试模组，LensThick ATS配备单镜片测试模组；　　配备非接触式光学测厚仪，测量精度高，速度快，且不会对样品造成损伤；　　采用大理石组合结构，稳定性高　　XY平台采用直线电机及高精度光栅尺，重复定位精度±0.001mm,位置精度±0.001mm；　　采用CCD图像识别定位，运用高精度算法，准确可靠；　　测量时通过CCD图像校正，保证测量中心位置准确；　　主要配置/设备关键部件：　　非接触式光学测厚仪　　XYR平台参数：　　平面度：±0.005mm　　直线度：±0.005mm　　重复定位精度：±0.001mm　　绝对位置精度：±0.001mm　　视觉校正相机：　　2000万像素　　低噪声，高精度

CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，严格按照标准方法进行测量，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度测量。产品特点◎ 微电脑控制系统，大液晶显示、PVC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看。◎ 严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制。◎ 测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差。◎ 支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择。◎ 系统自动进样，进样步距、测量点数和进样速度等相关参数均可由用户自行设定。◎ 实时显示测量结果的Z大值、Z小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断。◎ 配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性。◎ 系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果。◎ 标准的USB接口，便于系统与电脑的外部连接和数据。 测试原理CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，截取一定尺寸的式样；通过控制面板按钮，调节测量头降落于式样之上；依靠两个接触面产生的压力和两接触面积通过传感器测得的数值测量材料的厚度。测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672 、GB/T 451.3、 GB/T 6547、 ASTM D374、ASTM D1777TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

仪器介绍 Delta薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。Delta根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。产品特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用案例应用领域半导体（SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS，SOI等）LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等）触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等）医学（聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等）技术参数型号Delta-VISDelta-DUVDelta-NIR波长范围380-1050nm190-1100nm900-1700nm厚度范围50nm-40um1nm-30um10um-3mm准确度12nm1nm10nm精度0.2nm0.2nm3nm入射角90°90°90°样品材料透明或半透明透明或半透明透明或半透明测量模式反射/透射反射/透射反射/透射光斑尺寸22mm2mm2mm是否能在线是是是扫描选择XY可选XY可选XY可选注：1.取决于材料0.4%或2nm之间取较大者。 2.可选微光斑附件。

CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，严格按照标准方法进行测量，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度测量。产品特点◎ 微电脑控制系统，大液晶显示、PVC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看。◎ 严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制。◎ 测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差。◎ 支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择。◎ 系统自动进样，进样步距、测量点数和进样速度等相关参数均可由用户自行设定。◎ 实时显示测量结果的Z大值、Z小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断。◎ 配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性。◎ 系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果。◎ 标准的USB接口，便于系统与电脑的外部连接和数据。 测试原理CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，截取一定尺寸的式样；通过控制面板按钮，调节测量头降落于式样之上；依靠两个接触面产生的压力和两接触面积通过传感器测得的数值测量材料的厚度。测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672 、GB/T 451.3、 GB/T 6547、 ASTM D374、ASTM D1777TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。