电杆耦合等离子体的原理

LabICP 1000电感耦合等离子体发射光谱仪，具有非常高的分辨率，即使谱线非常复杂的稀土元素也可以实现分离，避免光谱干扰，非常适合稀土元素合稀土永磁材料的分析。同时也可广泛应用于食品、环境、地矿、有色金属冶炼等各种应用领域。非常高的分辨率，即使谱线非常复杂的稀土元素也可以实现分离，避免光谱干扰，确保分析数据的准确性闭环控制的射频发生器高压供电回路，与传统的升压变压器和高频阻流圈的高压系统相比，功率控制精度提升到优于0.1%高精度分光系统： 反射式分光系统设计，避免引入额外色差； 机械控制精度，确保光谱定位准确； 高分辨率长焦光路设计，实现了优良的信噪比和极低的基体效应；恒温控制光室，提升测量稳定性，光室冲入氩气后可高精度测量 S（180nm）和Sn（190nm）5-6个数量级的动态线性范围，可满足痕量到常量的元素分析优秀的测量精度和元素检出限，ppb量级全面安全保护系统：具有冷却水保护、氩气保护、过压保护、过流保护、灭弧保护等

珀金埃尔默全新Avio® 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

电感耦合等离子体发射光谱仪，是指以电感耦合等离子体作为激发光源，根据处于激发态的待测元素原子回到基态时发射的特征谱线对待测元素进行分析的仪器。待测元素原子的能级结构不同，因此发射谱线的特征不同，据此可对样品进行定性分析 而待测元素原子的浓度不同，因此发射强度不同，可实现元素的定量测定。ICP-OES可同时测定周期表中多数元素(金属元素及磷、硅、砷、硼等非金属元素)，且均有较好的检出限。　　全国第三次土壤普查工作即将开展，土壤中的金属离子是其中重要的检测项目。总铅、总铬、总铜、总镍、总锌、总钴、总钒、总锑、总铊、总锰、总铍等项目均可采用ICP-OES法进行检测，方法依据《HJ 781-2016 固体废物22种金属元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法》、《HJ 776-2015 水质32种元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法》等相关检测标准。　　SH-ICP1100 电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)　　SH-ICP1100型电感耦合等离子体发射光谱仪采用自动点火方式，操作简便，蠕动泵进样方式，检测时间更短，检出限更低，抗干扰能力强，工作站性能全面，操作简便，可用于检测溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等的常量、微量和痕量无机元素含量。　　仪器亮点　　＜可测元素70多种 　　＜分析速度快，一分钟可测10-15个元素 　　＜多元素同时分析，客户可以自由选择元素数量与安排测量顺序 　　＜检出限低，达到ppb量级，Ba，Cu等甚至达到0.7ppb 　　＜线性动态范围宽，高达6个数量级，高低含量可以同时测量 　　＜分析成本低，一瓶氩气(瓶压10Mpa)可以用8个小时 　　相关标准　　HJ 776-2015 水质32种元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法　　HJ 781-2016 固体废物22种金属元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法　　HJ 804-2016土壤8种有效态元素的测定 二乙烯三胺五乙烯浸提-电感耦合等离子体发射光谱法　　HJ 974-2018 碱熔ICP-OES测试土壤和沉积物中的11种元素含量　　GB/T 36690-2018 工业废液处理污泥中铜、镍、铅、锌、镉、铬等26种元素含量测定方法　　应用领域　　材料与安全领域 环境领域 医药食品领域 地质矿产领域 石油化工领域

产品概述谱育科技面对食品药品/环境/第三方检测等领域日益增长的检测需求，在“国家重大科学仪器设备开发专项”支持下研制了SUPEC 7000系列电感耦合等离子体质谱仪，攻克了高温气体流场控制、多级梯度真空、高灵敏的离子接口、分布式碰撞反应池、耐温湿变化的四极杆质量分析器等质谱核心技术难点，拥有卓越的灵敏度、更低的检出限、优异的稳定性和更宽的动态线性范围，满足各类样品中痕量元素分析需求。性能优势出色的灵敏度根据热等离子体和真空交界处的空气动力学仿真设计，优化离子接口，提升了ICP-MS的灵敏度3~5 倍，可轻松应对环境、食品、制药、材料等各种常见样品的定量分析。优异的耐基体性能通过流体仿真的离子接口、两次离轴设计、创新的碰撞反应池、强有力的自激式全固态ICP 离子源和氩气在线稀释等关键技术确保 SUPEC 7000 具有较佳的耐基体能力，可轻松应对各类复杂基质样品的分析。创新的可靠性设计，提升稳定性SUPEC 7000 可车载运行，产品经过专门的减震和全固态化设计，通过针对车载路况的综合路谱测试和长达上万公里的实战演练，具有优秀的可靠性。定制化ICP-MS解决特殊应用难题结合石墨消解/微波消解的全自动重金属分析系统（SUPEC 7020型），提供标准化的样品前处理方法和仪器分析方法，针对不同行业样品可定制开发各种专用应用，性能稳定，数据可靠，较大限度消除人为测量不确定性。丰富的附件系统解决特殊应用难题可搭配全自动石墨/微波、全自动离子交换、高效液相色谱、固体直接进样、大气颗粒物在线进样、快速进样、有机进样、自动进样器等丰富的附件系统，满足各个应用场景的分析需求。

电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）应用领域各级疾控中心理化所/科,职业卫生技术服务机构理化分析；职业病监测理化分析；职业病诊断-职业医学检验疾控中心理化分析。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 高效进样系统：分体式炬管，自准直装配，直观简单。◇ 稳定的ICP离子源：自激式全固态射频电源，采用频率匹配调谐，调谐速率高，可直接分析有机样品，无运动部件，稳定可靠；平衡驱动，无需屏蔽炬即可获得离子动能平衡。◇ 可靠的双锥接口设计：高效率传输待分析离子，保持分析物组份的代表性，专门离子接口设计大幅度提升灵敏度；提手是换锥接口，稳固可靠，操作便利。◇ 复合离子传输系统：前后两次离轴，良好消除中性粒子干扰；采用复合电场多极杆导引技术、复合透镜偏轴离子传输技术，在消除光子和中性粒子干扰之外大幅度的提升离子传输效率。◇ 高速动态碰撞反应池：分布式碰撞/反应气扩散方式，大大提高碰撞效率，提升灵敏度；采用离子动能歧视技术，结合喷碰撞和动态反应两种模式的优点；高效碰撞模式，可直接稀释到测试血液样品。◇ 四极杆质量分析器：纯钼四极杆，超高稳定性；抗温湿度变化的RF电源，确保在普通实验室条件下也有良好的稳定性。◇ 高灵敏电子倍增器：专有的数字/模拟双模式检测器，具有9~10个数量级的动态范围。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 自主研发的国产ICP-MS替代进口产品，完全满足疾控客户水、食品、土壤、环境等检测需求，成为各级疾控中心理化采购热点；◇ 满足ICP-OES替代方法，检出限可到ppq，四级杆质量分析器，全数字频率调谐射频发生器。

ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪产品介绍： ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪是公司经多年技术积累而开发的电感耦合等离子体发射光谱仪，用于测定各种物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量金属元素或非金属元素的含量，自动化程度高、操作简便、稳定可靠。 ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。工作环境：内容 适应范围贮存运输温度 15℃-25℃贮存运输相对湿度 ≤70％大气压 86-106 kPa电源适应能力 220±10v 50-60MHz工作湿度 ≤70％工作温度 15℃-30℃ 技术指标：固态电源技术指标电路类型：电感反馈式自激振荡电路，同轴电缆输出，匹配调谐，功率反馈闭环自动控制工作频率：27.12MHz±0.05%频率稳定性：＜0.1%输出功率：800W—1200W输出功率稳定性：＜0.3%电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜2V/m 进样系统技术指标输出工作线圈内径25mm矩管，三同心型，外径20mm的石英矩管同轴型喷雾器外径6mm双筒形雾室外径34mm 氩气流量计规格和载气压力表规格1.等离子气流量计（100-1000）L/h (1.6-16L/min)2.辅助气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)3.载气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)4.载气稳压阀（0-0.4MPa）5.冷却循环水：水温20-25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa 单色器技术指标光路：Czerny-Turner焦距：1000mm光栅规格：离子刻蚀全息光栅，刻线密度3600线/mm(可选用刻线密度2400线/mm)线色散率倒数：0.26nm/mm分辨率：≤0.007nm(3600刻线）. ≤0.015nm(2400刻线）扫描波长范围：3600线/mm扫描波长范围：190—500nm 2400线/mm扫描波长范围：190—800nm步进电机驱动最小步距:0.0006 nm出射狭缝：12μm入射狭缝：10μm 光电转换器技术指标光电倍增管规格：R293或R298光电倍增管负高压：0-1000V稳定性＜0.05% 整机技术指标：扫描波长范围：195nm～500nm（3600L/mm光栅）195nm～800nm（2400L/mm 光栅）重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD≤1.5％稳定性：相对标准偏差RSD≤2％

1. 产品概述PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系统利用高密度电感耦合等离子体实现快速刻蚀速率。该工艺模块可提供出色的均匀性、高吞吐量、高精度和低损伤工艺，适用于大尺寸为200毫米的晶圆，支持包括GaAs和InP激光光电子、SiC和GaN电力电子/射频以及MEMS和传感器在内的多个市场域。高刻蚀速率和高选择性低损伤刻蚀和高可重复性加工单晶圆装载锁定或可与多达5个工艺模块集群He背面冷却，以实现佳温度控制宽温度范围电，-150°C至400°C与所有大尺寸为200毫米的晶圆兼容晶圆尺寸之间的快速转换原位腔室清洁和终点控制功能2. 特色参数PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系统利用高密度电感耦合等离子体实现快速刻蚀速率。该工艺模块可提供出色的均匀性、高吞吐量、高精度和低损伤工艺，适用于大尺寸为200毫米的晶圆，支持包括GaAs和InP激光光电子、SiC和GaN电力电子/射频以及MEMS和传感器在内的多个市场域。晶圆尺寸：大可达200mmICP源尺寸可选：65mm和300mm温度范围：从-150°C到400°C集群：多达5个模块，包括 ALD、PECVD、离子束刻蚀和离子束沉积等技术

Agilent 7900 ICP-MS（电感耦合等离子体质谱）是一款灵活的单四极杆 ICP 质谱仪，可提供非常出色的基质耐受性、有效的氦碰撞模式、超低的检测限和宽广的动态范围。因此，无论样品类型如何，您都可以确信始终报告准确的数据，即使在痕量分析中也是如此。7900 ICP-MS 为要求苛刻的商业和工业应用提供了超高的性能，并具有研究和高级分析（例如形态分析）所需的灵活性。高灵敏度和瞬时信号的快速采集是单纳米颗粒 (spICP-MS)、单细胞分析和激光剥蚀所必需的，让您能够在竞争中脱颖而出。（一）产品特点：超稳定的（低 CeO/Ce）等离子体可提供出色的基质耐受能力超高基质进样系统 (UHMI) 使您能够运行总溶解固体量 (TDS) 高达 25% 的样品氦 (He) 池气体模式能够可靠地控制多原子干扰，从而改善准确度离轴透镜可在整个质量范围内提供高灵敏度和低检测限宽动态范围检测器使您可以在同一次样品运行中分析常量和痕量元素快速积分（驻留时间 0.1 ms）支持分析快速瞬态信号，例如单纳米颗粒 (spICP-MS)ICP-MS MassHunter 方法向导可帮助您自动构建方法配置灵活，可轻松连接至可选附件和外围设备，适用于高级应用（二）工作原理：1.什么是电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS)？ICP-MS 是一种用于测量金属和其他元素浓度的分析技术。样品通常以液体形式引入，但 ICP-MS 也可用于测定固体材料以及气体中的元素浓度。ICP-MS 由高温离子源（等离子体）、质谱仪（通常是四极杆质量过滤器）和检测器组成。等离子体处于大气压下，质谱仪和检测器位于真空室中，因此 ICP-MS 还需要一个接口和离子透镜传递离子通过系统。2.电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 的原理是什么？将液体样品泵入雾化器形成气溶胶，再随气流进入等离子体。等离子体是一种高温电火花，可蒸发样品材料，然后使元素原子化和离子化。离子通过一个接口进入真空室，再通过离子透镜和碰撞/反应池 (CRC) 与光子、中性粒子、干扰离子分离。分析物离子由四极杆质量过滤器分选，每个质量都被传递到检测器进行计数。3.电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 的用途是什么？ICP-MS 用于从食品安全、环境监测及药物检测到半导体制造、地球化学分析和生命科学研究领域等几乎所有行业的多元素分析。ICP-MS 测定每个样品约需要 3 分钟，因此在高通量实验室中尤为有用。ICP-MS 几乎可以定量从 ppt 级到百分级浓度的每种元素（并测定其同位素组成），还可以连接到色谱系统进行形态分析。华侨仪器为您提供详细的日化实验室解决方案，更多相关产品信息，欢迎来电咨询！

产品说明：电感耦合等离子体(Inductive coupled plasma以下简称ICP)自60年代中期研制成功以来与原子发射光谱仪器(Atomic Emission Spectrometer以下简称AES)相结合，以它优越的激发性能，良好的精密度，宽广的动态范围，极低的检出限以及多元素同时快速测定等优点，已蓬勃发展为无机成分分析的重要手段，并广泛应用于地质矿产、冶金机械、石油化工、医药卫生、食品饮料、农业土壤、商检环保、科研教学等各个科技领域，而顺序扫描型ICP－AES仪器以其灵活、方便、价格低廉等优点成为分析仪器市场上一枝独秀，深受用户欢迎。我公司是我国最早开发研制成功ICP－AES光谱仪的厂家，数次迭代研发ICP6800-1电感耦合等离子体发射光谱仪，该产品在继承原产品诸多优点基础上，对原产品的软件、光学系统、电路系统等进行了大量的改进，是国内目前较为先进的产品。技术参数：1 、 主单色器Czerny-Turner装置 1.1 焦距1000mm。 1.2全息离子刻蚀闪耀光栅：刻线2400条或3600条或4320条/mm。 1.3 闪耀波长250nm。 1.4 波长范围：（180～800）nm(采用3600条/mm光栅时，长波只能达到450nm)。 1.5 色散率倒数：0.4nm/mm(2400条/mm光栅)、0.24nm/mm(3600条/mm光栅)。 1.6 入射和出射狭缝：20μm 2 、 高频发生器 2.1 频率（40.68±2） MHz,工作线圈内径25mm，三匝。 2.2 功率（0.6～1.5）kW，自激振荡式。2.3 电源：AC220V,30A,50Hz，单相交流电源。2.4 接地电阻≤10Ω，选用扁铜带与0.5m2的铜板焊接在一起深埋地下2m 以上，单独直接接地。 2.5 输出功率稳定性0.2%。 2.6 电磁场泄漏：距机箱30cm处测辐射强度，电场10V/m，磁场0.2A/m，远小于国家规定指标。 3 、 炬管、气路及进样系统 3.1 三管同轴式整体吹制的石英炬管，内径(17～18)mm，切线方向引入冷却气和辅助气。 3.2 雾化室为Scott型双筒同轴雾化室。 3.3 雾化器为气动玻璃同轴式雾化器，耐高盐分。 3.4 冷却气(10～14)L/min 辅助气(0～3)L/min 压力0.25MPa。 3.5 载气(0～1.0)L/min,载气流量由高精度质量流量计来控制，载气压力（0.3～0.4）MPa。 3.6 所用氩气99.99%以上。 4 、 扫描机构 4.1 主单色器扫描步距0.001nm/步。 4.2 扫描速度40nm/s。 5 、 测光系统 5.1 测光采样时间（0.1～10）s之间任选，间隔0.01s。 5.2 光电倍增管响应范围(160～800)nm。 5.3 负高压(-100～-1200)V之间任选，间隔1V，稳定性0.02% 5.4 动态范围(5～6)个数量级。 5.5 测光方式：峰高或定位测光。 6 、 数据采集与处理系统 视窗式菜单、汉字显示、模块结构、人机对话、谱线轮廓扫描、分析方法编制、背景扣除、干扰校正、波长校正、定量分析、标准曲线、定性分析、数据统计处理、报告打印等功能。 7 、 尺寸和重量 尺寸：长X宽X高= 160cm ×65cm ×70cm 重量: 200kg配置说明：发射光谱仪主机，冷却循环水箱，发射光谱仪操作软件，联想计算机，联想激光打印机

产品详情德Sentec电感耦合等离子体ICP干法刻机SI 500 ICP-RIE SI 500 德国Sentech等离子刻蚀机 低损伤刻蚀由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。高速刻蚀对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀，光滑的侧壁可以通过室温下气体切换工艺或低温工艺即可很容易地实现。自主研发的ICP等离子源三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH高端等离子体工艺设备的独特属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它具有高耦合效率和非常好的起辉性能，非常适用于加工各种材料和结构。动态温度控制在等离子体刻蚀过程中，衬底温度的设定和稳定性对于实现高质量蚀刻起着至关重要的作用。动态温度控制的ICP衬底电极结合氦气背冷和基板背面温度传感，可在-150°C至+400°C的广泛温度范围内提供了优良的工艺条件。SI 500为研发和生产提供先进的电感耦合等离子体(ICP)工艺设备。它基于ICP等离子体源PTSA，动态温度控制的衬底电极，全自动控制的真空系统，使用远程现场总线技术的先进的SETECH控制软件和用于操作SI 500的用户友好的通用接口。灵活性和模块化是SI 500主要的设计特点。SI 500 ICP等离子刻蚀机，可以用于加工各种各样的衬底，从直径高达200 mm的晶片到装载在载片器上的零件。单晶片预真空室保证稳定的工艺条件，并且切换工艺非常容易。SI 500 ICP等离子刻蚀机，通过配置可用于刻蚀不同材料，包括但不仅限于例如三五族化合物半导体(GaAs, InP, GaN, InSb)，介质，石英，玻璃，硅和硅化合物(SiC, SiGe),还有金属等。SENTECH提供用户不同级别的自动化程度，从真空片盒载片到一个工艺腔室到六个工艺模块端口，可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统，目标是高灵活性或高产量。SI 500 ICP等离子刻蚀机也可用作多腔系统中的工艺模块。 型号：SI500 ICP等离子刻蚀机 带预真空室适用于200mm的晶片衬底温度从-20?°C到300?°C型号：SI500C 等温ICP等离子刻蚀机带传送腔和预真空室衬底温度从-150?°C到400?°C型号：SI500-RIE RIE等离子刻蚀机背面氦气冷却刻蚀的智能解决方案电容耦合等离子体源，可升级成ICP等离子体源PTS型号：SI500-300 ICP等离子刻蚀机带预真空室适用于300mm晶片

提升您的期望 — 新型 Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪开启了 ICP-MS 的新纪元。新型 Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪将再次重新定义 ICP-MS：与世界上最畅销的 7700 ICP-MS 系列相比，其高盐基质耐受能力增强了 10 倍，动态范围扩展了 10 倍，信噪比提高了 10 倍 ，而且功能强大的软件还可帮您编写方法。全球最强大的全自动 ICP-MS 具备业内最高效的氦气碰撞模式，具有无与伦比的干扰消除能力，无论什么样的应用，都能为您提供最优异的数据质量。Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪的每个组件都经过精心设计，造就了卓越的性能和可靠性，为您开辟成功之路。特性1. 史无前例的高盐基质耐受能力 — Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪的稳定等离子体和可选的超耐高盐进样系统（UHMI）可帮助您对高达 25% 总溶解固体（TDS）含量的样品进行常规测量，其高盐基质耐受能力比传统 ICP-MS 限量高 100 倍，远远超出了其他任何 ICP-MS。2. 最宽的动态范围 — 新型正交检测器系统（ODS）可提供高达 11 个数量级的动态范围，从亚 ppt 级到百分级浓度，用户可在同一次运行中同时测量痕量与常量元素。3. 痕量物质检测更胜一筹 — 新型的接口设计和优化的扩展级真空系统提高了离子传输效率，在 2% CeO 的条件下可提供 109 cps/ppm 的灵敏度，ODS 则可提高增益并降低背景，进而提高信噪比。4. 更快的瞬时信号分析 — Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪每秒可完成 10000 次独立测量，可为瞬时信号的准确分析提供极短的积分时间5. 无可比拟的易用性 — 最新一代 ICP-MS MassHunter 软件提供了直观的控制面板设计，配备的小工具可指导您完成每一步分析。只需简单回答几个应用问题，或者对一个典型的样品进行分析，创新的方法设置向导即可自动为您创建方法。您还可以使用远程监控应用程序随时随地监测与控制您的 ICP-MS 仪器，增强了灵活性。6. 更高的分析效率 — 超耐高盐进样系统（UHMI）技术结合可选的集成样品引入系统 （ISIS 3）以及 ODS，可以在最宽的动态范围内分析并定量几乎任何样品，避免了因产生量程外结果而不得不重新分析所耗费的额外时间及成本。

8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀（ICP-DSE）设备1. 详细介绍Pishow® D 系列深刻蚀设备，是针对8英寸~6英寸产线或科研深硅刻蚀工艺的用设备，拥有自主开发的优化设计，保证了优异的刻蚀精度控制和损伤控制。提供Si Bosch工艺的解决方案。该设备高性价比的解决方案和优秀的空间利用率，可帮助不同客户实现产能升。2. 系统特性Pishow® D 系列是采用深硅刻蚀技术的电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备提供Bosch解决方案，实现对Si的高深宽比刻蚀优化的气柜设计，缩短进气距离，短工艺切换时间小于1.0Pishow® D 系列可选择8~4英寸晶圆，提供单腔式和多腔式等多种腔室搭配方式

1. 产品概述Shale® C系列电感耦合等离子体化学气相沉积设备（ICP-CVD）是一款先进的薄膜沉积设备，它结合了电感耦合（ICP）和电容耦合（CCP）技术，为用户提供了一种高效、可靠的薄膜沉积解决方案。该设备通过高密度等离子体的产生，实现了极低的沉积温度，这不仅能够保护基材，减少热损伤，还能确保薄膜的高致密性与优异的填充能力。该工艺适用于多种材料的沉积，尤其是在对薄膜质量有高要求的应用中表现优越。此外，Shale® C系列设备采用了符合国际标准的零部件，这些组件是8英寸产线设备中的常用标准部件，确保了设备的兼容性与可维护性。设备的设计遵循SEMI的严格标准，确保其在半导体行业中的稳定运行及高度可靠。在产品性能方面，Shale® C系列经过了一系列严格的稳定性和可靠性测试，验证了其在长时间连续运行下的表现。这使得该设备成为高端制造过程中的理想选择，适合用于大规模生产和研发实验。2. 系统特性可在低温（120°C）下沉积高致密薄膜，其致密性不亚于LPCVD在750°C生长的薄膜可有效降低等离子体损伤，从而降低漏电，漏电流密度与原子层沉积（ALD）制备的薄膜相当可提供高深宽比薄膜填充工艺可选8/6英寸电，适用于不同尺寸的晶圆

质谱仪安捷伦Agilent 8900 串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS) 是行业中成功且应用广泛的串联电感耦合等离子体质谱仪。安捷伦Agilent 8900 ICP-MS/MS 提供了一系列配置，适合从常规商业分析到高级研究和高纯度材料分析的应用，其重新定义了 ICP-MS 性能，可提供可靠的分析结果。安捷伦串联四极杆电感耦合等离子体质谱仪 ICP-MS 8900 系统具有与安捷伦市场领先的单四极杆 ICP-MS 系统相同的基质耐受性和稳定性，并与超高效的氦 (He) 碰撞模式相结合。但 8900 系统增加了串联质谱操作 (ICP-MS/MS)，可对碰撞反应池 (CRC) 中的反应化学过程进行精确的控制，使其成为强大、灵活的多元素分析仪。利用 8900 ICP-MS/MS 控制干扰，让您的结果可靠无疑。 特性MS/MS 控制反应化学过程，可确保提供一致、可靠的结果，即使对于此前难以分析的元素（如 Si、P 和 S）也是如此；反应化学过程可解决同量异位素重叠问题，这超出了高分辨率 ICP-MS 的能力；四通道反应池气体控制可提供快速、灵活的多模式操作；一套预设方法简化了常规分析的方法设置；氦气模式可简单、有效地控制常见的多原子干扰；稳定的（低 CeO/Ce）等离子体，可提供出色的基质耐受性；超高基质进样 (UHMI) 技术可耐受总溶解固体量 (TDS) 高达 25% 的样品；高灵敏度和低背景为超痕量分析物提供了超低的检测限；通用性和高性能相结合，支持高级研究和要求苛刻的应用；灵活的操作模式（母离子/产物离子扫描）支持对反应化学模式进行研究。串联四极杆 ICP-MS 是一种用于元素分析的串联质谱仪 (MS/MS)。ICP-MS/MS 在碰撞/反应池 (CRC) 前增加了一个额外的四极杆质量过滤器 (Q1)，因此质谱干扰问题可以通过反应池气体和氦气 (He) 碰撞模式得到解决。为了在单位 (1 u) 质量分辨率下实现高离子传输效率，ICP-MS/MS 的两个四极杆都必须在高真空条件下运行。ICP-MS/MS 尤其适用于那些采用单四极杆 ICP-MS 无法实现成功分析的高级应用。 串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS) 电感耦合等离子体质谱仪工作原理ICP-MS/MS 使用两个四极杆质量过滤器对离子进行两次过滤，Q1 位于 CRC 之前，Q2 位于 CRC 之后。双重质量过滤 (MS/MS) 能够控制 CRC 中用于解决质谱重叠干扰的反应过程。Q1 剔除目标分析物质量以外的所有离子，因此只有分析物离子和相同质量的干扰物能够进入 CRC。反应池气体将分析物离子与重叠离子分离，且不存在单四极杆 ICP-MS 中可能发生的其他元素或同位素形成新的重叠产物离子的风险。 串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS) 电感耦合等离子体质谱仪的用途ICP-MS/MS 适用于那些采用单四极杆 ICP-MS 无法实现理想分析的高要求应用。这些应用可能需要极低的检测限，例如，检测半导体制程化学品和高纯度材料中的超痕量污染物或检测极小的纳米颗粒。ICP-MS/MS 可以利用 MS/MS 消除同量异位素干扰、双电荷离子干扰、相邻质量数重叠干扰以及高强度的多原子干扰。这种能力使它可以分析低浓度的非常规分析物，如 Si、P、S、Cl，甚至是 F。 串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS) 的应用高灵敏度和 MS/MS 模式 — 对半导体干扰实现出色的控制ICP-MS/MS 为半导体和材料行业提供了更低的检测限和更出色的干扰控制。领先制造商使用 8900 确保其高纯度工艺化学品和材料的质量。超高灵敏度、超低背景以及极短的 0.1 ms 驻留时间可确保准确检测出最小纳米颗粒 (NP)。MS/MS 可控制 Si 和 Ti 的干扰，从而实现 SiO2 和 TiO2 NP 的低浓度分析。反应气体模式可分离地质年代学及核化学中的同质异位素重叠MS/MS 控制碰撞/反应池中的化学反应，使研究人员能够分离阻碍地球化学测量的同质异位素重叠。8900 可分离 204Hg 与 204Pb、87Rb 与 87Sr 以及 176Lu 与 176Hf 等重叠，实现准确的地质年代学同位素比值分析。MS/MS 还可分离用于核研究和核退役测量的放射性核素的直接重叠，提高丰度灵敏度，分离峰拖尾重叠（如 238U 与 237Np）。提供轻松应对生命科学新应用的性能和灵活性安捷伦 ICP-MS/MS 仪器可以分离先前难以分析的元素（如 Cl、P 和 S）的光谱重叠，彻底颠覆了生命科学研究。使研究人员能够对蛋白质和肽直接进行基于 S 和 P 杂元素的单独化合物定量分析。新型测量的执行能力开辟了药物开发、临床研究和毒液组学等全新的研究领域。

申贝科学仪器电感耦合等离子体光谱仪 ICP-OES EXPEC 6500系列产品，采用垂直矩管双向观测技术，齐聚了第四代自激式固态RF源、定制的大面阵E-CCD检测器和结构优化设计，实现了仪器更高的检测灵敏度、更宽的线性动态范围、更优的稳定性（RSD1%@8h）和更好的样品适应性。性能优势数字自激式全固态射频电源自激式全固态射频电源，全数字控制，500-1600W功率可调，具有更强的样品适应性；iStandby模式提供超低功率待机功能，降低氩气消耗50%以上；无运动部件结合水冷式设计，同时保证电源的稳定性和可靠性。新一代垂直矩管双向观测技术轴向观测获得高灵敏度，径向观测避免基体干扰，同时垂直矩管可避免高盐沉积，延长矩管使用寿命，同时氩气消耗减少，降低仪器使用成本。大面阵E-CCD检测器大面阵CCD检测器，获得高分辨率的同时得到更宽的光谱范围；其优异的低噪声、深紫外相应结合防溢出设计，有效提升电感耦合等离子体光谱仪 EXPEC 6500的检出能力；大面阵设计确保仪器真正实现全谱一次采集，一次曝光可完成所有160nm-900nm范围内72种元素分析。稳定性和可靠性通过高精密温度梯度场仿真，风道流体力学仿真，结合反复实践验证，优化内部结构设计，使设备具有较好的环境温度耐受性。结合RF电源，进样系统等多处关键部件的稳定性设计，具有8小时连续测量数据RSD1%的超高稳定性。可扩展多种应用需求高分辨光学系统配置可满足稀土行业检测需求。可扩展样品智能前处理设备我们为电感耦合等离子体光谱仪 EXPEC 6500 配套开发了样品智能前处理系统，从样品称量开始，至出结果等一系列过程，“一键式”智能处理，不需要人工参与。应用领域水、土壤、大气、固废等环保领域，石油、化工、纺织品，冶金、矿石、高纯金属，食品、药品，在线监测/联用技术等科研领域产品选型产品型号特点EXPEC 6500 D型 垂直炬管双向观测EXPEC 6500 R型 垂直炬管径向观测EXPEC 6500 H型 全谱高分辨率EXPEC 6000 D型 水平炬管双向观测EXPEC 6000 R型 垂直炬管径向观测

安捷伦 7900 ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪是一款灵活的单四极杆 ICP 质谱仪，可提供非常出色的基质耐受性、有效的氦碰撞模式、超低的检测限和宽广的动态范围。因此，无论样品类型如何，您都可以确信始终报告准确的数据，即使在痕量分析中也是如此。7900 ICP-MS 电感耦合等离子体质谱仪为要求苛刻的商业和工业应用提供了超高的性能，并具有研究和高级分析（例如形态分析）所需的灵活性。高灵敏度和瞬时信号的快速采集是单纳米颗粒 (spICP-MS)、单细胞分析和激光剥蚀所必需的，让您能够在竞争中脱颖而出。 安捷伦 7900 ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪产品特性：● 高盐基质耐受能力 — Agilent 7900 ICP-MS 的稳定等离子体和可选的超耐高盐进样系统 (UHMI) 可帮助您对高达 25% 总溶解固体 (TDS) 含量的样品进行常规测量，其高盐基质耐受能力比传统 ICP-MS 限量高 100 倍。● 宽动态范围 — 新型正交检测器系统 (ODS) 可提供高达 11 个数量级的动态范围，从亚 ppt 级到百分级浓度，用户可在同一次运行中同时测量痕量与常量元素。● 痕量物质检测更胜一筹 — 新型的接口设计和优化的扩展级真空系统提高了离子传输效率，在 2% CeO 的条件下可提供 109 cps/ppm 的灵敏度，ODS 则可提高增益并降低背景，进而提高信噪比。● 更快的瞬时信号分析 — 7900 ICP-MS 每秒可完成 10000 次独立测量，可为瞬时信号的准确分析提供很短的积分时间。● 易用性 — 新一代 ICP-MS MassHunter 软件提供了直观的控制面板设计，配备的小工具可指导您完成每一步分析。只需简单回答几个应用问题，或者对一个典型的样品进行分析，创新的方法设置向导即可自动为您创建方法。您还可以使用远程监控应用程序随时随地监测与控制您的 ICP-MS 仪器，增强了灵活性。● 更高的分析效率 — 耐高盐进样系统 (UHMI) 技术结合可选的集成样品引入系统 (ISIS 3) 以及 ODS，可以在宽动态范围内分析并定量几乎任何样品，避免了因产生量程外结果而不得不重新分析所耗费的额外时间及成本。 二手安捷伦 7900 ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪应用优势：1、使用 HPLC-ICP-MS 进行一体化多元素形态分析Agilent 7900 ICP-MS 可提供要求极高的应用所需的灵活性。针对安捷伦液相色谱系统提供全面的连接支持和集中的软件控制，能够实现常规以及高性能的形态分析。同时还支持其他色谱分离（例如 GC、CE 和 FFF。HPLC-ICP-MS 高级功能包括自动切换色谱柱和流动相，能够在一次无人值守运行序列中分析多种 HPLC-ICP-MS 方法。2、单纳米颗粒 (sNP) 分析的高灵敏度和快速信号采集在激光剥蚀 (LA) ICP-MS 成像应用中，高灵敏度是检测极小纳米颗粒 (NP) 的重要因素，也是获得理想空间分辨率的关键。7900 在整个质量数范围内具有出色的灵敏度，结合优化的 0.1 ms 驻留时间，可实现快速时间分辨分析 (TRA) 采集。将高灵敏度与 ICP-MS 高稳定性等离子体以及宽动态范围检测器相结合，可轻松实现常量元素分析。3、利用灵活的配置和较高的性能轻松应对 ICP-MS 高级应用7900 可提供要求极高的应用所需的灵活性。利用 ORS4 碰撞/反应池有效控制干扰，并结合高效的冷等离子体，实现高纯度加工化学品的超痕量分析。可选的样品引入工具包能够实现有机溶剂和腐蚀性样品（例如 HF）的常规分析。易于连接至第三方外围设备（例如激光剥蚀 (LA-ICP-MS)），从而实现固体的直接、高灵敏度分析。

安捷伦Agilent电感耦合等离子体质谱仪7800ICP-MS/7850ICP-MS/7900ICP-MS Agilent 7900 ICP-MS 是一款灵活的单四极杆电感耦合等离子体质谱仪，可提供出色的基质耐受性、有效的氦碰撞模式、超低的检测限和宽广的动态范围。7900 ICP-MS 灵敏度高且能够快速采集瞬时信号，可满足单纳米颗粒 (spICP-MS)、单细胞分析和激光剥蚀的要求。此外，其具有研究和高级分析（例如形态分析）所需的灵活性。 特性1、具有稳定的（低 CeO/Ce）等离子体可提供的基质耐受能力2、具有基质进样系统 (UHMI) 使您能够运行总溶解固体量 (TDS) 高达 25% 的样品。3、氦 (He) 池气体模式能够可靠地控制多原子干扰，从而改善准确度。4、离轴透镜可在整个质量范围内提供高灵敏度和低检测限。5、宽动态范围检测器使您可以在同一次样品运行中分析常量和痕量元素。6、快速积分（驻留时间 0.1 ms）支持分析快速瞬态信号，例如单纳米颗粒 (spICP-MS)。7、ICP-MS MassHunter 方法向导可帮助您自动构建方法。8、配置灵活，可轻松连接至可选附件和外围设备，适用于高级应用。什么是电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS)？ICP-MS 是一种用于测量金属和其他元素浓度的分析技术。样品通常以液体形式引入，但 ICP-MS 也可用于测定固体材料以及气体中的元素浓度。ICP-MS 由高温离子源（等离子体）、质谱仪（通常是四极杆质量过滤器）和检测器组成。等离子体处于大气压下，质谱仪和检测器位于真空室中，因此 ICP-MS 还需要一个接口和离子透镜传递离子通过系统。 电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 的用途是什么？ICP-MS 用于从食品安全、环境监测及药物检测到半导体制造、地球化学分析和生命科学研究领域等几乎所有行业的多元素分析。ICP-MS 测定每个样品约需要 3 分钟，因此在高通量实验室中尤为有用。ICP-MS 几乎可以定量从 ppt 级到百分级浓度的每种元素（并测定其同位素组成），还可以连接到色谱系统进行形态分析。 电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 的原理是什么？将液体样品泵入雾化器形成气溶胶，再随气流进入等离子体。等离子体是一种高温电火花，可蒸发样品材料，然后使元素原子化和离子化。离子通过一个接口进入真空室，再通过离子透镜和碰撞/反应池 (CRC) 与光子、中性粒子、干扰离子分离。分析物离子由四极杆质量过滤器分选，每个质量都被传递到检测器进行计数。

CP2060T电感耦合等离子体发射光谱仪特别适合用于测定各种石化产品中常量、微量、痕量元素的含量。仪器拥有专业完善的油品直接进样测量技术，可智能调节氧气流量消除积碳影响，高效、抗干扰性强、自动化程度高、操作简便、稳定可靠、测试范围广、分析速度快、检出限低等特点

上海善福电子科技有限公司专业从事实验室仪器设 备、生物仪器设备、 配件耗材的销售、租赁、维修。公司主 营产品有色谱、质谱、光谱、测序仪等化学、生物类全新分 析仪器及二手仪器，如HPLC，GC，LCMS，GCMS，AAS，IPC， PCR等。公司经营品牌有Agilent、Waters、Thermo Fisher、 PerkinElmer、AB SCIEX、岛津等。公司为生物医药、第三方 检测、化工能源、食品环境等企业 及高校、科研院所提供 国内外*的分析技术产品。公司拥有专业的技术团队，可提供 稳定可靠的售后服务和技术支持，让客户无后顾之忧。公司 可为客户节约大量实验成本，并帮助客户得以快速发展。电感耦合等离子体原子发射光谱仪5110 ICP-OESAgilent 5110 同步垂直双向观测 (SVDV) ICP-OES 具有独特的智能光谱组合 (DSC) 技术，可以实现同步的水平和垂直测量。配合使用垂直炬管与速度更快且无需气体吹扫的 VistaChip II CCD 检测器，5100 ICP-OES（也称作 ICP-AES）能够以一半的氩气用量来运行最具挑战的样品，速度可提升 55%，并且不影响任何分析性能。产品特性：● 独特的智能光谱组合 (DSC) 技术可实现同步水平和垂直信号测量，消耗更少气体即可运行最快的 ICP-OES 分析● 高级阀系统 (AVS) 可降低每次分析成本并使分析效率提高一倍以上● 垂直炬管设计可以测量包括高基质和挥发性有机溶剂在内的复杂样品● 通过分析过程中精准气泡注入控制，可选 AVS 能够有效缩短样品提升、稳定时间和清洗延时，从而实现高精度的分析● 固态 RF 系统可提供稳定的等离子体，确保长期稳定的分析性能● IntelliQuant 模式使样品中的所有元素一目了然，大大简化了方法开发过程并实现了快速样品筛选● 直观的 ICP Expert 软件和 DSC 技术使方法开发更为便捷流畅● 完全集成式切换阀与即插即用式炬管极大程度减少了培训需求，确保实现快速启动。● 5110 提供三种灵活配置：同步垂直双向观测、垂直双向观测和垂直观测。

二手ICP-MS电感耦合等离子体质谱 PE NexION 300简介二手PE等离子体质谱仪 NexION 300的稳定性、灵活性和性能在电感耦合等离子质谱仪中突出，代表了近年来行业的重大进步，仪器具有3种操作模式（标准、碰撞、反应），并且可以从一种模式快速切换到另一种模式。这样，就可以在同一台仪器上执行所有分析。它是一款可在不牺牲灵敏度或性能的情况下达到更大效率的电感耦合等离子质谱操作系统。它兼具碰撞池的简单便捷和真实反应池的检出限，是一款具有该功能的电感耦合等离子体质谱系统。结合三锥接口和四极杆式离子偏转器实现了更高的可靠性。这一创新的离子通道可去除大量的未离子化物质（防止其进入通用池），在保持仪器清洁的同时，还能减小漂移，省去池的清洁操作。NexION 300Q型电感耦合等离子体质谱仪能为你提供理想的解决方案，操作简单。二手ICP-MS电感耦合等离子体质谱 PE NexION 300仪器特点1、采取双模式（模拟/数字探测器）2、具有非常大的样品引入系统3、少量液体摄取雾化器4、自由运行的射频等离子体发生器5、自动X，Y，Z轴火炬定位6、PlasmaLok技术7、快速四极杆式扫描技术8、采用多功能细胞技术9、采用四极杆式离子偏转器10、等离子视图窗口11、采取四极杆式的真空系统12、台式设计

产品概述 EXPEC 7000型电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS采用了具有自主知识产权的自激式全固态射频电源技术、两次离轴式离子传输技术、四极杆驱动技术、高速动态碰撞池技术。产品特点 1、可车载 ICP-MS，稳定性和可靠性高 集成气路阀块避免了常规 ICP-MS 中分立气路组件的可靠性问题；集成式气路设计，减少气路接头，采用抗震性更优的柔性连接技术。 轻量化、模块化、抗震性设计，保障仪器便于移动工作；结构紧凑，采用三维移动平台，无需来回拖动 ICP 模块，提高仪器 稳定性。；车载模式下具有与实验室平台工作一样的检测性能；良好的抗震性设计、优良的整机及整车散热系统，提高了仪器的稳定 性和车内环境舒适度。 2、智能化软件平台 图形化控制，更易于使用操作；可视化运行监测，关键运行参数实时显示，Windows 资源管理器风格的方法库管理，易于上手操作。 定制化报表，一键输出需要的数据结果；具有数据分析功能，根据实际报表需要，可任意添加删除样品信息。 3、良好的拓展能力 可与 HPLC 联用，测定元素形态； 配置有机进样系统，可直接分析；油品等有机物样品。应用领域 环境中大气、水质、土壤和固废污染物中超痕量无机元素分析 食品和药品中无机元素的超痕量分析 元素的形态分析等

iCAP TQ 三重四级杆 ICP-MS-MS 电感耦合等离子体质谱联用仪

埃仑ICP-MS9800型电感耦合等离子体质谱仪该仪器是我公司研发的新型电感耦合等离子体质谱仪，仪器整体轻巧便捷，性能指标优异，性价比高；测试过程更加自动化，提高测试效率；采用新的碰撞反应池技术，能有效的消除多原子离子干扰，降低易受干扰元素的检出限；已广泛应用于环境、食品、半导体、核工业、石油化工、矿产、医药及生理分析领域等。产品特点1、先进等离子源采用新型的变频等离子体发生器，超常的可靠性，可直接对有机溶剂进行分析。2、先进等离子体屏蔽技术极大地提高仪器的灵敏度，改善低质量数元素的检出限，达到ppt水平。3、气路稳定可靠集成式气路设计，减少气路接头，采用抗震性更优的柔性连接技术。轻量化、模块化、抗震性设计，保障仪器便于移动工作；结构紧凑，三维移动平台，无需来回拖动 ICP 模块，提高仪器 稳定性。4、车载模式良好的抗震性设计、整机及整车散热系统，提高了仪器的稳定性，具有与实验室平台工作一样的检测性能。5、智能化软件平台图形化控制，更易于使用操作；可视化运行监测，关键运行参数实时显示，Windows 资源管理器风格的方法库管理，易于上手操作。6、定制化报表一键输出需要的数据结果；具有数据分析功能，根据实际报表需要，可任意添加删除样品信息。7、良好的拓展能力 可与 HPLC 联用，测定元素形态； 配置有机进样系统，可直接分析油品等有机物样品。

美国PerkinElmer电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS兼具三重四极杆的强大能力与单四极杆灵活性的完美结合技术决定性能一台几乎无需维护的ICP-MS新一代无需维护或更换的射频（RF）线圈设计，独特的实现对离子牢牢控制从而实现最干净质谱分析系统的设计，使NexION 2000避免了几乎所有的维护要求。LumiCoil TM 技术 – 全新的RF线圈设计，等离子体耦合效率更高，无需水冷或气冷，寿命更长。三锥接口（Triple Cone Interface）– 独有的超锥设计，实现业界最紧凑离子束。三锥位于真空腔外，维护快速简单。四极杆离子偏转器（Quadrupole Ion Deflector）– 实现离子束90度偏转后进入通用池（Universal Cell ），过滤不带电物质，减少背景和干扰，从而实现更准确结果。专利的三锥接口（Triple Cone Interface ）和四极杆离子偏转器（Quadrupole Ion Deflector）结合，实现离子束的高效控制与聚焦，使NexION 2000的碰撞反应池系统免除了所有的清洗或维护需求。每次分析，获得最佳工作效率与其他ICP-MS系统不同，NexION 2000具有电子稀释技术（EDR）,可以让您调谐离子传输，从而在一次样品运行时，实现高低含量同时分析。这扩大您的分析动态线性范围至12数量级，优化了您工作效率的同时保护了检测器的使用寿命。为获得更好的准确性和更低的检出限，反应池模式下的专利动态带宽调谐技术（Dynamic Bandpass Tuning）使您可以调整离子质量带宽，高效去除干扰物母离子的同时将分析物离子的传输效率最大化。NexION 2000具有功能强大的针对不同干扰的工作模式，预置的分析方法让您轻松应对各类分析挑战。无惧基体，表现优异NexION 2000 强大的全基体进样系统（AMS），无需手动稀释，实现高固体溶解含量样品分析。全基体进样系统（AMS）智能稀释您的样品，让您在保持分析高固体溶解含量样品的灵活性同时仍能分析高低含量元素，减少样品重复分析。PerkinElmer技术专家们为NexION 2000打造的全固态、自激式射频发生器提供更稳定的等离子体，仪器的耐受性得到进一步加强。新一代的LumiCoil工作线圈技术实现高效等离子体耦合，且无需水冷或气冷，使用寿命超长。日常检测更轻松ICP-MS配备的Syngistix&trade 软件使得再复杂的样品分析也变得简单易行。本着完全符合日常分析流程的设计理念，软件操作界面非常直观，有着从左到右、图标化的全过程向导，将从仪器开机、方法开发到数据报告等每一步都进行了简化。

产品概述 ICP-5000是集中阶梯光栅的二维分光系统、自激式全固态射频电源、科研级高速CCD为一体的全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪，可以同时分析72个元素，覆盖元素周期表绝大多数金属元素和非金属元素；检出能力达到ppb级别。小型、智能化ICP-5000告别了过去的单道扫描时代，带您体验快速、全谱分析技术！ 电感电感耦合等离子体发射光谱仪-ICP-5000 产品特点分析准确 中阶梯二维分光系统，具备较高的分辨能力；防溢出背照式百万像素CCD检测器，紫外响应高，无紫外荧光膜，使用寿命长；多种背景校正技术可供选择；稳定可靠 全固定无运动部件的光学系统；稳定的质量流量氩气集成控制系统；可视化的安全联锁和运行监控。便捷易用 采用可拆卸炬管，内置自动化的炬管准直、光源优化功能。使用成本低 智能光室吹扫，紧凑的光室设计等多项措施降低氩气消耗；免费保外技术指导和平价现场服务。全面的分析软件 层次化的软件界面，操作直观、便捷，可满足不同层次客户的使用需求；丰富的方法库和版本化的管理方式更利于方法的传承、学习和维护。典型用户 高校、质检中心、环境监测站、企业、农业系统、地质地矿典型应用点 环境保护、地质冶金、电子电器、食品安全、化工制药

产品介绍：Agilent 7500 ICP-MS电感耦合等离子体质谱－ICP-MS，是一种新型的无机元素和同位素分析技术，可快速同时检测周期表上几乎所有元素。ICP-MS技术在分析能力上，超过传统的无机分析技术如电感耦合等离子体光谱技术(ICPAES)、石墨炉原子吸收(GFAAS)和汞冷原子吸收技术(CVAAS)的总和，被称为当代分析技术最激动人心的发展。最近，与分离技术联用进行环境毒理、生命科学等领域的元素价态、形态分析成为ICP-MS技术应用的一个焦点。产品参数：● 可快速同时检测周期表上几乎所有元素● 最低的检出限（低至ppq级）● 分析效益/成本比最佳● 最宽的线性动态范围—可直接检测从ppq到数百ppm浓度● 谱线最简单、干扰最小，准确度和精密度好● 需要样品量很低(ul至ml)，分析速度很快（1～3分钟/样品）● 检测模式灵活多样半导体工业常用材料中超痕量污染物分析：固体：Si GaAa单晶切片；石英、碳化硅等炉材料；高纯金属电极等液体：超纯水；HF HNO3 HCI H2SO4 H2O2 氨水等气体：SiH4 TE0S NF3 N2等Agilent ICP-MS可直接分析有机样品：Agilent ICP-MS的高效能、高功率屏蔽矩冷等离子体技术已被用于测定一系列有机样品的ppt级痕量污染元素。● 对其中一些样品，其他方法无法得到满意的结果，高功率屏蔽矩冷等离子体技术是唯一的分析方法。● 强碱性清洗剂——四甲基氢氧化氨(TMAH)等● 常用有机溶剂——甲苯、二甲苯、IPA等● 高基体样品——光刻胶、液晶、BPSG、PSG等挥发性极强的清洗剂——丙酮、甲醇等。

安捷伦电感耦合等离子体质谱仪7800 ICP-MS 结合了成熟、可靠的硬件、自动优化工具和预设方法，可实现更简单的常规分析。凭借高基体耐受性能、宽动态范围，以及对多原子干扰的有效控制，该系统消除了分析复杂或多样化样品基质的不确定性。7800 ICP-MS 易于设置和使用，可为最广泛的样品类型提供可靠的结果。电感耦合等离子体质谱仪安捷伦ICP-MS系列的7800系统提供了宽广的动态范围，卓越的基质耐受性和卓越的干扰消除能力，简化了方法的开发和运行。“7800 ICP-MS可以预置解决方案”安捷伦光谱产品副总裁Philip Binns说，“它能够提供可靠、稳定的性能表现和更简便的应用，方便用户进行日常检测分析。”新功能和自动化工具使7800易于设置和操作。安捷伦提供了针对特定行业的应用程序包，以帮助用户快速轨道常规分析。已有的可用于饮用水、环境废物和制药应用领域。用于食品检测和其他应用程序的软件包也将很快面市。该软件包将包括标准作业程序、方法//特定批次的模板和预定义报表布局等。安捷伦7800 ICP-MS系统的设计，能够满足行业和合作实验室简化方法开发和提高生产效率的需求。安捷伦ICP-MS的MassHunter软件的新版本有很多预置方法，包括许多常见的应用程序和用户建立一个有关应用程序或样品类型的全功能方法向导。安捷伦新一代高性能SPS 4 自动进样器，它能够帮助实验室最大限度地提高生产力。能够与公司的AAS、MP-AES、ICP-OES和ICP-MS组合相兼容。电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS 7800产品特性：1、快速提高常规金属分析效率 — ICP-MS MassHunter 软件包含预定义设置的可简便加载和运行的预设方法，预定义设置涉及从等离子体条件到分析物积分时间及内标。对于新方法，方法向导将根据样品类型和应用建立方法。了解关于饮用水、环境废弃物和制药产品解决方案中元素杂质的更多信息。2、减少样品前处理 — 7800 ICP-MS 标配独特的耐高盐进样 (HMI) 技术，无需稀释即可分析总溶解固体 (TDS) 含量高达 3% 的样品，减少了样品前处理并节省了时间。 3、最大限度减小信号抑制 — HMI 能减少信号抑制，因此可以准确测定高基体样品而无需标样的基体匹配。4、有效去除干扰，确保数据准确性 — 氦气 (He) 碰撞模式可在同一套质谱条件下去除所有多原子离子干扰，简化了方法开发与日常操作。He 模式无需基体特异性或分析物特异性反应池条件。 5、在一次运行中同时分析常量和痕量元素 — 宽动态范围正交检测器系统 (ODS) 可在一次运行中实现常量元素（数百或数千 ppm）与痕量元素（ppt 或亚 ppt 级）的直接分析。较高的上限浓度可减少由超量程结果造成的样品再运行。6、最大程度提高通量和分析效率 — 可选的集成式进样系统 (ISIS 3) 和 SPS 4 自动进样器可在不影响数据质量的前提下降低每个样品的分析成本。

珀金埃尔默全新Avio® 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

icpTOF的优越性能icpTOF电感耦合等离子体-飞行时间质谱耦合了Thermo Scientific公司的 iCAP RQ平台（包含离子源和真空接口）和TOFWERK高性能飞行时间质谱分析仪。iCAP RQ平台提供了多类型的样品进样方式，高强度并稳固的ICP，更加简单的椎体和离子电镜维护程序和Q-cell科技。飞行时间质谱分析仪在保证跟四级管（QMS）同等灵敏度的同时，为icpTOF增加了快速全谱分析，更宽的线性动态范围和高达6000的质量分辨率。鉴于其快速全谱图采集和所有元素同位素的同步分析，icpTOF是单颗粒多元素分析和快速激光蚀刻成像的理想检测器。所有元素。一直以来。 icpTOF记录全谱图以提供回溯分析，因此 您不会错过任何分析物或干扰信号。高质量分辨率 icpTOF 2R高达6000的质量分辨率让排除干扰离子更加容易。精确的同位素比率 icpTOF可同时测量所有同位素，从而最大程度上消除离子源和进样过程扰动对测量结果的影响。分析精度趋近于统计限制。高速检测 icpTOF每隔30微秒就可记录一张全谱图，使其成为快速瞬态信号（如单个纳米颗粒，流体包裹体和单激光脉冲烧蚀）的最佳检测器。icpTOF R， icpTOF 2R， 和icpTOF S2 型号规格一览icpTOF R， icpTOF 2R和icpTOF S2 在Thermo Scientific公司的 iCAP RQ平台（包含离子源和真空接口）上耦合了TOFWERK高性能飞行时间质谱分析仪。这三种型号性能各有千秋，适用于您的多种应用需求。icpTOF 2R搭配一款更长的飞行时间质谱模块，提供高达6000的质量分辨率，是对同标称质量的离子分离要求较高的分析案例的理想选择。S2型号的超高灵敏度可以提升生物样品成像的空间分辨率，同时也可以在分析细小颗粒物时有更好的信噪比。质量分辨能力（在FWHM的dm/m）敏感性 （cps/ppb 代表 238U）全元素分析ICP备300050000是的ICP备2R600030000是的ICP备2号900300000是的 icpTOF硬件设计增长的离子飞行时间带来更好的质量分辨能力这两款icpTOF都配备了支持Q-cell碰撞/反应技术的iCAP RQ平台（蓝色），有效降低复杂基底可能带来的干扰icpTOF 2R搭配的飞行时间模块（黄色）长度是icpTOF的两倍，大大提升了仪器的质量分辨能力'陷波'技术有效衰减等离子体和样品基底相关的离子强度 铪含量较高的'Plesovice'锆石的激光脉冲烧蚀实验信号。'陷波'技术用来将28 -硅, 40 -氩气等离子体, 90 -锆石和 179 -铪等信号控制在10mV以下。

Pishow® A 系列8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）设备 1. 详细介绍ICP是一种加工微纳结构的等离子刻蚀技术。具有刻蚀快、选择比高、各项异性高、刻蚀损伤小、均匀性好、断面轮廓可控性高、刻蚀表面平整度高等优点。目被广泛应用于Si、SiO2、SiNx、金属、III-V族化合物等材料的刻蚀。可应用于大规模集成电路、MEMS、光波导、光电子器件等域中各种微结构的制作。2. 系统特性拥有多种材料刻蚀解决方案，包括硅基材料、金属、III-V和其他化合物半导体可提供高低温（-10℃至+150℃）工艺模式可提供ALE解决方案，实现对刻蚀速率和均匀性的高精度控制具备Bosch工艺能力，可提供高深宽比硅深槽或深孔刻蚀解决方案适用于8英寸晶圆，并可向下兼容，提供单腔式和多腔式等多种腔室搭配方式