底片显影液是否需要检测

摘要：奥豪斯化身跨界达人，跻身胶片复古潮儿！今天为你讲解奥豪斯与胶片电影那些事儿。 一部热映的《芳华》把一段被尘封的历史推到了我们面前，同时也把承载了那段岁月的八一电影制片厂推到了我们面前。 八一电影制片厂，在那些岁月里，拍摄了诸多经典的、有着时代烙印的电影。如《地道战》、《地雷战》、《南征北站》等。这些黑白色的经典影片，没有如今的数码技术，到底是怎么拍摄出来的呢？ 这里就不得不提到电影史上非常重要的——胶片。 过去的电影，都是由胶片拍摄。胶片分为35mm，70mm等不同规格，利用光化学原理呈像，是影像的底片。制作胶片电影是非常精细、精致且宏大的一项工程，从拍摄、冲洗、剪辑、到成片，流程复杂，工艺精细。 (胶片摄影机快门曝光示意图） 首先讲几个关于胶片电影的冷知识： 1. 在2012年之前，国内还是胶片电影的天下，此后数字电影制作技术逐渐蓬勃，我们能看到的胶片电影越来越少了。 2. 手机美图软件的「菲林」效果其实就是胶片感。 3. 2017年最棒的一部胶片电影是由克里斯托弗诺兰执导的《敦刻尔克》，该片3/4为35mm胶片、70mm胶片、IMAX70mm胶片拍摄，画质细腻逼真。 4. 在胶片电影时代，一部90分钟长的电影要用4万米的胶卷，全国几百个院线同时放映，需要同数量的拷贝胶卷，合起来要几千万米。 5. 十几二十年前盗版电影很盛行，知道为什么吗？请看上一条。 6. 有电影人说：不是35mm胶卷（及以上）拍的电影，就是让观众在电影院里看电视剧。（近年来国内电视剧多采用数字拍摄，以节省成本、方便剪辑。） 7. 很多国家保密档案和文化研究资料的底稿都是胶片存底的。所以胶片电影也许会消失，但胶片不会消失。 8. 全国的电影胶片工已经不足五十人。（注释1） 9. 全国关闭了很多胶片冲洗厂，但八一电影制片厂还保留着冲洗设备，用来冲洗、修复老电影胶片和国家档案的底片与正片。（注释2） 10. 八一电影制片厂胶片冲洗室在冲洗胶片之前，需要按要求配制各类定影液显影液，其中最重要的就是测试溶液的酸碱度，这一关键步骤正是用奥豪斯ST系列酸度计完成的。 纳尼，洗个照片还要酸度计？这个你就不懂了吧，容小编给你讲解讲解。 这要从胶片的成像开始讲起。我们所说的胶片一般是银盐感光胶片，以光化学原理成像的胶片是这样构成的。 所谓的「银盐」，是指卤素与金属银形成的化合物的总称，如氯化银、溴化银和碘化银。 氯化银微溶于水，它对波长很短的紫色区域及紫外线感光。 溴化银对蓝色区域光线感光。碘化银的作用重在增加感光范围。 如添加碘化银和溴化银的混合乳剂，感光范围能达到毫微米。 所以银盐的存在，是为了在短期曝光内，通过光化学反应，在胶片上留下影像。（注释3） 胶片电影制作的每一环节都非常重要，但在拍摄水平、胶片质量不变的条件下，最能影响最终成像效果的则是胶片冲洗环节。 在胶片电影称王的时代，胶片冲洗厂遍地开花、昼夜运转。每一次冲洗都需要配备多种类、大分量的显影液、定影液等，根据显影效果不同，显影液和定影液的配方比例也有很不同。其中最重要的是各化学试剂的配比量和化学试剂的酸碱值。 对于显影效果来说，酸度值越低，显影效果越差，若值越高，显影越快，反差也越大。一般情况下，配出的冲洗液pH 值固定在8.4-8.7之间，就能满足绝大多数显影效果。 同时，配比的溶液温度要保证在℃-20℃之间，以保证胶片的质量，因溶液温度过高，洗出的胶片会有雾感；溶液温度过低，胶片容易变脆、易断裂。 在这样配制大量冲洗液的要求下，值的准确性就显得尤为重要。到如今，大批量胶片冲洗液的配制需求已经很少了，但对胶片冲洗液的品质追求，依然是胶片爱好者及国家胶片档案资料保护、修复的基本要求。 作为与胶片电影有着深厚渊源的八一电影制片厂，决定采购可以满足快速、稳定、准确」的奥豪斯ST系列pH 计，以完成如今小批量、精确度要求高的国家档案类胶片冲洗、老电影胶片修复、存储等工作。 那么奥豪斯系列酸度计到底有什么出色之处呢？小编就选择其中一款——ST3100台式酸度计，给大家讲讲那些闪闪发亮的功能吧！ 1. 奥豪斯ST3100台式酸度计可达到0.01pH 的精度，可以满足更精确的冲洗液配制要求。 （精度可达到0.01pH） 2. 多次测试酸碱值实验中，最难判断的是电极状态好坏，但奥豪斯ST3100台式酸度计自带的电极状况表情提示符，通过「笑脸」、「哭脸」等简易表情，帮助操作人员在测试前快速判断电极状况，方便了配制操作。 3. 配制冲洗液的工作室空间有限，奥豪斯ST3100台式酸度计采用主机和电极分体式设计，操作起来非常灵活。 4. 奥豪斯ST3100台式酸度计有温度补偿功能和温度电极，即使暂时选择不带温度电极的酸度计，后续如果需要，也可以配备。同时还有缓冲液自动识别，对于常常要测溶液温度的冲洗液配制实验来说，这个设计非常有用。 5. 奥豪斯ST3100台式酸度计的按键与显示非常简单，不用说明书就可以自学自用。为了方便使用，还自带快速操作指南。 6. 奥豪斯ST3100台式酸度计还有三点校准，比两点校准的测试范围更广、操作更方便。 7. 奥豪斯ST3100台式酸度计自带背光显示，在光线昏暗、环境有限的情况下也可以清楚读数。 8. 奥豪斯ST3100台式酸度计还有自动终点功能。在测试完成之后，不需要人为判断读数再手动确定读数，仪器会自动进行读数，得到的测试结果更为准确。 得知奥豪斯系列台式酸度计可以在八一电影制片厂有用武之地，作为一名奥豪斯人，小编真的觉得很自豪啊。 胶片电影不是一种情怀，而是一颗匠心。百年奥豪斯仪器，也正是秉持着这样一份匠心来做每一款产品。奥豪斯系列台式酸度计能进入八一电影制片厂，能为越来越重要、专业的胶片冲洗事业发光发热，也算是「天作之合」吧！ 想要了解奥豪斯还能跨界哪些领域吗，请联系我们！ 参考文献：注释1-2：李晗. 电影胶片工的“迟暮时代”[Z].经济，2016年12月07日注释3：蒋懿龙.知其然知其所以然 胶片成分及原理解读.[Z]摄影之家,2015年9月14日

湿电子化学品是半导体、集成电路等多个领域的重要基础性关键化学材料，是当今世界发展速度较快的产业领域。我国湿电子化学品2012年市场规模仅为34.81亿元，到2018年已增至79.62亿元，而2021年湿电子化学品市场规模预计超过100亿元。湿电子化学品（又称电子级试剂、超净高纯化学试剂、工艺化学品、湿化学品等）一般主体成分纯度大于99.99%，是电子行业湿法制程的关键材料，常用于湿法刻蚀、清洗等微电子、光电子湿法工艺制程，约占集成电路制造成本的5%。湿电子化学品湿电子化学品可分为通用性湿电子化学品和功能性湿电子化学品。通用湿电子化学品一般为单组份、单功能、被大量使用的液体化学品，包括酸、碱、有机溶剂等，常用于集成电路、液晶显示器、太阳能电池、LED制造工艺等；功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配类化学品，包括蚀刻液、清洗液、光刻配套试剂等，常用于半导体刻蚀、清洗等工艺中。常见湿电子化学品（数据自中国电子材料行业协会）类别湿电子化学品约占湿电子化学品总需求比例（%）合计占比估计通用湿电子化学品过氧化氢16.70%88.20%氢氟酸16%硫酸15.30%硝酸14.30%磷酸8.70%盐酸4.80%氢氧化钾3.80%氨水3.70%异丙酮2.80%醋酸1.90%功能湿电子化学品MEA等极佳溶液3.20%11.80%显影液（半导体用）2.70%蚀刻液（半导体用）2.20%显影液（液晶面板用）1.60%剥离液（半导体用）1.20%缓冲刻蚀液（BOE)0.90%湿电子化学品的国际分类标准国际半导体设备和材料协会(SEMI)根据金属杂质、控制粒径、颗粒个数和应用范围等制定了湿电子化学品国际等级分类标准。Grade1等级湿电子化学品常用于光伏太阳能电池等领域；Grade2等级湿电子化学品常用于平板显示、LED、分立器件等领域；Grade3等级湿电子化学品常用于平板显示、LED、集成电路等；Grade4等级湿电子化学品常用于集成电路等领域。 IC制造不同线宽对应湿电子化学品国际等级分类标准SEMI等级IC线宽(μm)金属杂质(10-9)控制粒径(μm)颗粒(个/mL)C1(Grade1)＞1.2≤1000≤1≤25C7(Grade2)0.8-1.2≤10≤0.5≤25C8(Grade3）0.2-0.6≤1≤0.5≤5C12(Grade4）0.09-0.2≤0.1≤0.2*Grade5*≤0.01**国际湿电子化学品市场国际湿电子化学品市场份额的80%主要被德国的E.Merck 公司、美国的Ashland 公司、Sigma-Aldrich 公司、Mallinckradt Baker 公司、日本的Wako 、Summitomo 等占据。欧美传统老牌企业的湿电子化学品产品市场份额（以销售额计）约为34%,主要企业有德国巴斯夫公司、美国亚什兰集团、亚什兰化学公司、美国Arch 化学品公司、美国霍尼韦尔公司、AIR PRODUCTS、德国E.Merck 公司、美国Avantor Performance Materials 公司、ATMI 公司等。日本企业约占30%的市场份额，主要企业关东化学公司、三菱化学、京都化工、日本合成橡胶、住友化学、和光纯药工业（Wako）、stella-chemifa 公司等。中国台湾、韩国、中国大陆企业（即内资企业）约占全球市场份额的35%。全球湿电子化学品行业主要企业国家及地区企业名称美国霍尼韦尔、ATMI、Arch化学品、亚仕兰集团、空气化工产品、Avantor™ Performance Materials德国巴斯夫、汉高、E.Merck日本关东化学、三菱化学、京都化学、东京应化、住友化学、宇部兴产、Stella Chemifa、Wako、日本合成橡胶韩国东友精细化工、东进世美肯、soulbrain ENG中国台湾台湾联仕电子、台湾侨力 国内湿电子化学品研究 自1980 年北京化学试剂研究所在国内率先研制成功适合5µm技术用的MOS级试剂开始，经过数十年积累，国内湿电子化学品企业陆续获得了 G1、G2 等级的化学试剂生产技术，少数部分技术领先企业已经具备 G2 等级化学试剂规模化生产的能力，部分产品的关键技术指标已经达到了国际G3 标准的水平。2010 年之后，技术领先企业的部分产品具备了 G3 等级的生产技术，行业进入快速发展阶段。国内的湿电子化学品目前主要生产G2、G3级别，仅部分达到G4级别，产品主要进口自欧美、日本、韩国、中国台湾的企业。湿电子化学品常用检测仪器与技术湿电子化学品的纯度和洁净度对于电子元器件产品的成品率、性能和可靠性有重要影响。仪器信息网特将湿电子化学品纯度及杂质分析和颗粒检测常用的仪器进行整理。湿电子化学品常用检测仪器常用仪器用途对应仪器专场（点击进入）粒度仪颗粒分析等粒度仪仪器专场电感耦合等离子体—质谱仪（ICP-MS）纯度和杂质分析等电感耦合等离子体—质谱仪（ICP-MS）仪器专场离子色谱纯度和杂质分析等离子色谱仪器专场电位滴定仪纯度和杂质分析等电位滴定仪仪器专场紫外可见分光光度计纯度和杂质分析等紫外可见分光光度计仪器专场液相色谱纯度和杂质分析等液相色谱仪器专场液质联用纯度和杂质分析等液质联用仪器专场

自中美贸易战以来，国家对于半导体行业的重视日渐提升。为避免关键技术被“卡脖子”，国家大力推动半导体行业的发展，先后发布了《国务院关于印发新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策的通知》、《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》等政策，从财税政策、投融资政策、研究开发政策、进出口政策、人才政策、知识产权政策、市场应用政策、国际合作政策等多个层面支持国内半导体行业的自主创新。半导体材料主要包括第一代半导体材料（Si等）、第二代半导体材料（砷化镓GaAs、锑化铟InSb等）、第三代半导体材料（碳化硅SiC、氮化镓GaN、氧化锌ZnO、金刚石、氮化铝等），以及在半导体工艺环节必须用到的特种气体、靶材、光刻胶、显影液、抛光液和抛光垫、键合胶、电镀液、清洗液、刻蚀液、研磨材料、掩模版、光阻材料等。其中，大部分半导体材料依赖于对外进口，目前主要进口自美国、日本、韩国等。表1 热门半导体材料主要进口国家及地区主要半导体材料主要进口国家及地区硅片等日本、德国、韩国、美国、中国台湾砷化镓GaAs等日本碳化硅SiC等美国、欧洲特种气体美国、德国、法国、日本靶材美国、日本光刻胶中国台湾、日本、美国抛光液和抛光垫美国、日本、韩国研磨材料美国掩模版日本湿电子化学品德国、美国、日本、韩国、中国台湾光阻材料日本封装材料中国台湾半导体材料的晶体结构和缺陷杂质都将对半导体器件的性能产生较大的影响，因此半导体材料的检测对于成品质量具有至关重要的意义，以下整理了半导体检测中用到的主要科学仪器及其在半导体领域的应用。表 半导体检测仪器和用途半导体检测仪器与技术（点击下方仪器进入专场）在半导体领域的应用光学测量仪器外延层厚度测量、测定元素含量、用于高纯气体分析等电学测量仪器（四探针、三探针、扩展电阻、C-V法、霍尔测量）测量电阻率、载流子浓度、导电类型、迁移率、寿命及载流子浓度分布等X射线衍射仪缺陷及形貌观察（无损检测），检测二次缺陷的形成和消除等金相显微镜观察晶体缺陷等俄歇电子能谱表面层原子成分、含量、化学键合状态分析等二次离子质谱杂质检测等扫描电镜微区形貌观察，成分、结构分析，失效分析，缺陷检测等透射电镜半导体晶体缺陷分析等原子吸收分光光度痕量杂质检测等气相色谱气体分析高频电感耦合等离子体发射光谱微量成分分析等离子束用于分析离子注入层和外延层损伤、定位等离子探针用于薄层分析、微区分析、测量浓度分布，分析痕量杂质等电子探针成分分析等以上列举了半导体行业用到的热门半导体材料和检测仪器，日后仪器信息网也将对半导体检测解决方案进行盘点敬请期待。

气体检测仪是一种用于检测环境中气体浓度的仪器，广泛应用于工业、环保、医疗等领域。随着工业化的加速和人们对环保意识的提高，气体检测仪在日常生活和工作中扮演着越来越重要的角色。那么如何判断气体检测仪是否需要维修呢？本文跟随逸云天小编一起详细探讨下吧。　　以下是一些判断气体检测仪是否需要维修的常见迹象：　　1.校准问题：如果检测仪的校准不准确或无法通过校准，可能需要维修或更换传感器。　　2.指示异常：如指示不稳定、闪烁、无指示或指示与实际情况不符等。　　3.报警功能故障：报警器不工作或误报警等问题。　　4.电池问题：电池寿命变短、无法充电或电池漏电等。　　5.损坏或破损：检测仪外观有明显的损坏、裂纹或连接线松动等。　　6.性能下降：检测灵敏度下降或响应时间变慢。　　7.频繁故障：如果检测仪经常出现故障或需要频繁维修，可能存在更严重的问题。　　综上所述，关于判断气体检测仪是否需要维修的相关信息就分享到这里，希望这篇文章能帮助到大家。　　未来，逸云天公司会更加科学的协调环境和社会资源，采用现代化的管理模式，对企业的质量管理和服务水平提出更高的要求，以过硬的品质在不断创新中前进。

各会员单位及行业相关单位和人员：中国特种设备检验协会团体标准《射线底片扫描成像质量标准》已完成征求意见稿（见附件1）。现面向协会会员单位及行业相关单位和人员征求意见。请各单位和人员于2023年4月24日前，将对标准（征求意见稿）的意见或建议按标准征求意见表（见附件2）要求填写，以电子邮件的形式反馈至协会团体标准工作委员会无损检测标准化工作组秘书处。逾期未反馈视为无意见。无损检测标准化工作组秘书处联系方式：联 系 人：原可义联系电话：13466554205电子邮箱：yuankeyi@outlook.com协会团体标准工作委员会秘书处联系方式：联系电话：010-59068820附件：1、《射线底片扫描成像质量标准》征求意见稿及编制说明及编制说明2、《中国特种设备检验协会团体标准征求意见表》中国特种设备检验协会团体标准工作委员会2023年3月24日

近日，德州仪器半导体制造（成都）有限公司凸点加工及封装测试生产扩能项目（二期）竣工验收。该二期工程建设内容包括：在集成电路制造厂（FABB）新增凸点加工产能18.7975万片/年（全为常规凸点产品），在封装测试厂（AT）新增封装测试产能 10 亿只/年（均为常规QFN产品）。二期工程建设完成后，扩能项目新增凸点加工产能33.3975万片/年（全部为常规凸点33.3975万片/年），新增封装测试产能 21.48 亿只/年（其中常规QFN 15.48 亿只/年，WCSP 6 亿只/年）。仪器信息网通过公开文件查阅到该项目的相关仪器设备配置清单和工艺流程。FABB 集成电路制造厂主要生产设备清单.封装测试厂（AT）主要生产设备清单生产工艺:1、凸点加工晶圆凸点是在封装之前完成的制造工艺，属于先进的封装技术。该工艺通过在晶圆级器件上制造凸点状或球状结合物以实现接合，从而取代传统的打线接合技术。凸点加工制程即从晶圆加工完成基体电路后，利用涂胶、黄光、电镀及蚀刻制程等制作技术通过在芯片表面制作铜锡凸点，提供了芯片之间、芯片和基板之间的“点连接”，由于避免了传统 Wire Bonding 向四周辐射的金属“线连接”，减小了芯片面积，此外凸块阵列在芯片表面，引脚密度可以做得很高，便于满足芯片性能提升的需求，并具有较佳抗电迁移和导热能力以及高密度、低阻抗，低寄生电容、低电感，低能耗，低信噪比、低成本等优点。 扩能项目凸点包括普通凸点和 HotRod 凸点两种，其主要区别在于凸点制作所采用的焊锡淀积技术不同，普通凸点采用植锡球工艺，工艺流程如下图所示，Hot Rod 凸点采用电镀锡银工艺，工艺流程如下图所示。扩能项目凸点包括 RDL(Redistribution Layer)、BOP-on-COA(Bump on Pad – Copper on Anything)、BOP(Bump on Pad)、BOAC (Bond Over Active Circuit)、 BOAC PI (Bond Over Active Circuit with Polyimide)、Pb-free HotRod，上述各类凸点结构如下图所示，主要区别为层次结构和凸点类型不同。扩能项目各类凸点结构示意普通凸点加工主要工艺流程及产污环节注：普通凸点产品中的 BOAC 不含灰化、回流焊与助焊剂去除工艺Hot Rod 凸点加工主要工艺流程及产污环节凸点加工的主要工艺流程简述如下：（1）晶圆检测分类(wafer sorting)：对来料晶圆进行检测，主要是检测晶圆有无宏观缺陷并分类。（2）晶圆清洗(incoming clean)：由于半导体生产要求非常严格。扩能项目清洗工艺分为两种工艺，第一种仅使用高纯水，另一种使用 IPA 清洗，清洗后再用纯水进行清洗。IPA 会进入废溶剂作为危废收集，清洗废水进入中和废水系统进行处理。（3）烘干(Dehydration bake)：将清洗后的晶圆烘干。该工序产生的烘干废气通过一般废气排气系统排放。 （4）光刻（Photo）扩能项目采用光刻机来实现电镀掩膜和PI（聚酰亚胺）层制作，包括涂胶、曝光，EBR和显影。涂胶是在晶圆表面通过晶圆的高速旋转均匀涂上光刻胶（扩能项目为光阻液和聚酰亚胺（PI））的过程；曝光是使用曝光设备，并透过光掩膜版对涂胶的晶圆进行光照，使部分光刻胶得到光照，另外部分光刻胶得不到光照，从而改变光刻胶性质；显影之前，需要使用EBR对边缘光阻进行去除。显影是对曝光后的光刻胶进行去除，由于光照后的光刻胶和未被光照的光刻胶将分别溶于显影液和不溶于显影液，这样就使光刻胶上形成了沟槽。通过曝光显影后再进行烘干，晶圆表面可形成绝缘掩膜层。扩能项目该制程使用了各类光阻液、聚酰亚胺、EBR、显影液及纯水，完成制程的废液统一收集，作为危废外运处置。显影液中由于含有四甲基氢氧化铵，将产生少量的碱性废气，由于其浓度很低，扩能项目将其通入酸性废气处理系统进行处理；显影液及显影液清洗水排入中和废水处理系统。光刻工艺示意图（5）溅射（SPUTTER）溅射属于物理气相沉积（PVD）的一种常见方法，即金属沉积，就是在晶圆上沉积金属。UBM（凸点底层金属）是连接焊接凸点与芯片最终金属层的界面。UBM 应在芯片焊盘与焊锡之间提供一个低的连接电阻。为了形成良好的 UBM，一般采用溅射的方法按顺序淀积上需要的金属层。扩能项目采用 Ti:W 合金-Cu 的顺序进行溅射。溅射示意图（6）电镀（Plate）凸点电镀根据需求，可单纯镀铜，也可镀铜、镍、钯或镀铜、锡银，镀层厚度也有差异，可为铜膜或铜柱。扩能项目普通凸点电镀工艺包括镀铜膜、镀镍和镀钯。扩能项目 HotRod 凸点电镀工艺包括电镀底层铜（plateCOA，Copper on Anything）、电镀铜柱（plate Cu POST）、电镀锡银。基本的电镀槽包括阳极、阴极、电源和电镀液。晶圆作为阴极，UBM的一部分作为电镀衬底。在电镀的过程中，铜、锡银溶解在电镀液中并分离成阳离子。加上电压后，带正电的 Cu2+、Sn2+、Ag+迁移到阴极（晶圆），并在其表面发生电化学反应而淀积出来。电镀工艺原理示意图如下：电镀工艺示意图扩能项目采用的铜、镍阳极为颗粒状，会全部消耗，不产生废阳极；扩能项目使用的镀钯、锡银阳极是镀铂钛篮，呈网状支架作为电镀阳极，不消耗也不更换，镀银采用烷基磺酸盐无氰镀银工艺。 阳极金属如下图所示：电镀阳极实物图b.电镀操作过程进机台→将每片晶圆上到杯状夹具上→用超纯水预湿→镀铜→清洗→镀锡银（或镀镍→清洗→镀钯）→清洗→甩干→出机台。c.电镀清洗扩能项目电镀清洗采用单槽快速喷洗，清洗水直接排入废水处理系统，不重复利用，清洗废水排入 FABB 一楼电镀废水处理系统进行处理，保证处理设施出口一类重金属排放达标。清洗过程中产生有机废气排入有机废气处理系统统一处理。d.电镀槽液更换项目对电镀槽中电镀液离子浓度定期检测，适时添加化学药剂，保证电镀液可用。使用一段时间后，因电镀液中悬浮物浓度升高，需对电镀液进行更换。扩能项目依托 FABB 一层现有的2个2m³的电镀废液收集槽将电镀废液全部收集暂存，委托有资质的危废处理公司外运处置。电镀废液约半年排放一次，年排放量约为 3.5m³，因此收集槽的容积可满足废液收集需求。（7）去光阻（Resist stripping）电镀完成后，利用光阻去除剂去除电镀掩膜光阻，依次使用 NMP 与 IPA 进行湿式清洗，最后用纯水进行清洗，清洗后进行干燥。干燥通过自燃烘干或者 IPA吹干。（8）蚀刻(ETCH) 将凸点间的 UBM 刻蚀掉。扩能项目采用湿法腐蚀。湿法腐蚀是通过化学反应的方法对基材腐蚀的过程，对不同的去除物质使用不同的材料。扩能项目采用过氧化氢作为 Ti-W 合金的腐蚀材料，普通凸点采用硫酸腐蚀铜，含锡银凸点采用磷酸腐蚀铜，产生的含磷的酸性废水排入 CUB5c 氢氟废水处理系统进行处理，不含磷的酸性废水排入中和系统进行处理。蚀刻完成后，使用气体吹扫晶圆表面进行去杂质。（9）灰化(Ash)剥离光掩膜的过程可以使用干燥的、环保的等离子工艺（‘灰化’），即用氧 等离子体轰击光掩膜并与之反应生产二氧化碳、水等物质使其得以剥离。该过程 产生一般热排气，排入一般排气。（10）凸点制作晶圆凸点工艺最主要的 3 种焊锡淀积技术是电镀、焊锡膏印刷以及采用预成 型的焊锡球进行粘球。RDL、BOP、BOAC 等凸点采用粘球工艺(Ball place)，粘 球的一般操作过程为，首先在晶圆表面涂抹一层助焊剂，然后将预先成型的焊锡 球沾在助焊剂上，接着进行检查，确保每个晶粒都沾有焊锡球。Hot Rod 等凸点 焊锡淀积技术采用电镀锡银工艺。回流(reflow)，该过程将焊料熔化回流，使凸点符合后续封装焊接要求。最 后，再使用纯水对助焊剂进行清洗去除（Flux wash）。助焊剂清洗废水排入中 和废水系统进行处理。（11）自动检测(AVI) 对凸点加工完的晶圆进行自动检测，确认是否有缺陷。至此，晶圆上的凸点 制作完成。 （12）晶圆针测(Probe)在凸点完成后，晶圆上就形成了一个个的小格，即晶粒。针测（Probe）是对每个晶粒检测其导电性，只进行通电检测操作，没有任何化学过程。不合格晶粒信息将被电子系统记录，在接下来的封装和测试流程中将不被封装。扩能项目晶圆针测工序全部在 OS5 进行。（13）包装(Packing)：利用塑料盒、塑料袋等对完成凸点的晶圆进行简单包装，然后进入AT厂房进行封装（后工序）。2、封装测试QFN 封装测试QFN 封装即倒装式四周扁平无引脚封装(QFN，Quad Flat No lead Package)，扩能项目 QFN 封装包括传统 QFN 封装和 FCOL QFN 封装（Flip Chip on Lead frame QFN Package，框架上倒装芯片封装）。传统 QFN 封装和 FCOL QFN 封装的结构如图所示。传统 QFN 封装和 FCOL QFN 封装结构对比覆晶框架QFN在工艺流程上相较传统QFN主要区别在芯片与载板框架的连接方式，传统 QFN 通过金属导线键合，覆晶框架 QFN 通过芯片倒装凸点键合，相比传统工艺新增助焊剂丝网印刷、覆晶结合、助焊剂清洗、等离子清洗等工艺，以下对 QFN 封装的工艺及产污进行表述。贴片：在自动贴膜机上在晶圆的正面贴一层保护膜（胶带），研磨过程中保 护晶圆的电路表面。该工序可能产生废胶带。（1）背面减薄：研磨机台上，通过高速旋转的研磨轮（转速约为 2500 转每 秒）对晶圆背面进行机械研磨，将晶圆减薄到规定厚度。研磨过程中需要用超纯 水冲洗研磨硅屑和冷却研磨轮。清洗废水经回收系统回收利用后，浓水排入废水 处理站进行絮凝沉淀+中和处理。（2）去膜：研磨完成后，去除晶圆正面的胶带。该工序可能产生废胶带。 （3）晶圆清洗：利用超纯水对晶圆表面进行冲洗，去除晶圆表面的尘埃颗 粒等杂质。清洗废水经回收系统回收利用后，浓水排入废水处理站进行絮凝沉淀+中和处理。（4）背面贴膜：使用背面贴膜设备在晶圆背面贴一层 BSC 膜，使晶圆背面被胶带保护、支撑。该工序可能产生废胶带。（5）烘干：使用背面涂层烘烤设备将膜层烘干。（6）贴膜：使用晶圆贴片机在晶圆的背面再贴一层膜。该工序可能产生废胶带。（7）划片：在专门的划片机上，通过高速旋转的金刚石刀片（转速约在 50000 转每秒）或激光将晶圆切割成符合规定尺寸的晶粒（die）。刀片的金刚石颗粒 大小只有几个微米。切割过程中利用超纯水进行刀片冷却和硅屑冲洗。激光划片属非接触加工，无应力，因此切边平直整齐，无损坏；不会损伤晶圆结构，电性 参数优于机械切割方式，用超纯水进行硅屑冲洗。（8）UV 照射：使用 UV 照射机进行 UV 照射使粘结剂失去黏性达到去膜的目的。（9）点银浆：将银浆点到框架上以备粘合用；（10）粘片：将芯片置入框架点银浆处；（11）银浆固化：在氮气保护环境下烘干固化，将芯片牢固的粘结在框架上；（12）引线键合：使用金线或铜线将芯片电路 Pad 与框架引脚 Lead 通过焊接的方法连接起来，实现电路导通，焊接采用超声波焊接，无焊接烟尘产生，主要产污为废引线。（13）助焊剂丝网印刷：在密闭机台内用丝网将助焊剂印刷到引线金属框架上，无排气。丝网采用 IPA 清洗，清洗有有两种情况，一种是用设备自动清洗，IPA 会喷到丝网上，然后用棉布擦拭，擦拭布吸收 IPA 及丝网上的脏物后就当作 危废处理，没有废液，设备是密闭的，不连接排气；另外一种是人工擦拭，会在 化学品通风橱内操作，也是用棉布擦拭，没有废液产生，通风橱连的一般排气。（14）覆晶结合：将晶圆 IC 反扣在引线金属框架上，让锡银铜柱对准丝网印刷的助焊剂。（15）回流焊：将覆晶结合后的芯片放在氮气保护的回焊炉内按一定的温度曲线通过该炉，使用回流焊的方式实现晶圆 IC 与引线金属框架的焊接，该过程使用的助焊剂无挥发性物质，后续使用专用清洗剂进行清洗。（16）助焊剂清洗：使用助焊剂清洗剂洗掉回流焊残留的助焊剂并用水冲洗干净。设备自带清洗废气冷凝装置，冷凝液进入废水处理系统，不凝气接入现有一般排气系统。（17）等离子清洗：使用等离子清洗剂激发氧氩等离子体实现更高级别的彻 底清洗，将残留的微量氧化层清洗干净，清洗废气接入现有一般排气。 （18）塑封固化：使用环氧树脂对 IC 进行外壳封装。（19）去毛刺：去除塑封外壳毛刺并进一步烘烤固化成型将塑封固化好的芯片置入有机盐溶液中去除塑封外壳毛刺及溢出料，产生去毛刺废水。（20）激光打标：用激光将产品的 Lot No 刻录在产品表面(为了追踪产品的履历）。就是在产品的表面印上去不掉的、字迹清楚的字母和标识，包括制造商 的信息、国家、器件代码，生产日期等，主要是为了产品识别并跟踪，该工序将 产生打印粉尘和硅粉。（21）切带：切开胶带使单个晶粒分离。（22）自动检测：使用 2/3D 自动检测设备进行检测。均为物理测试。检查 产品的电气及速度特性，包括基本测试，如电气特性可靠性测试、直流电、交流 电运行测试、目视检查，以及运行速度测试等。（23）IC 分类：使用晶粒分类设备对封装好的晶圆进行分类。（24）终检：使用最终检测设备进行终检。（25）包装：使用真空包装设备对封装好的芯片进行包装并入库。该工序可能产生废包材。传统 QFN 工艺流程及产污环节FCOL QFN 工艺流程及产污环节2、WCSP 封装WCSP 封装（Wafer Chip Scale Packaging，晶圆级封装），即在晶圆片未进 行切割划片前对芯片进行封装，之后再进行切片分割，完成后的封装大小和芯片尺寸相同。此外，WCSP 封装无需载板框架，可直接焊接在 PCB 印制线路板上使用。凸点和针测完成后，晶圆即进入封装测试厂 AT 厂房进行 WCSP 封装及测试，主要工艺流程如下：（1）贴片：在自动贴膜机上在晶圆的正面贴一层保护膜（胶带），研磨过 程中保护晶圆的电路表面。该工序可能产生废胶带。（2）背面减薄：研磨机台上，通过高速旋转的研磨轮（转速约为 2500 转每 秒）对晶圆背面进行机械研磨，将晶圆减薄到规定厚度。研磨过程中需要用超纯 水冲洗研磨硅屑和冷却研磨轮。清洗废水经回收系统回收利用后，浓水排入废水 处理站进行絮凝沉淀+中和处理。（3）去膜：研磨完成后，去除晶圆正面的胶带。该工序可能产生废胶带。（4）晶圆清洗：利用超纯水对晶圆表面进行冲洗，去除晶圆表面的尘埃颗 粒等杂质。清洗废水经回收系统回收利用后，浓水排入废水处理站进行絮凝沉淀 +中和处理。（5）背面贴膜：使用背面贴膜设备在晶圆背面贴一层 BSC 膜，使晶圆背面 被胶带保护、支撑。该工序可能产生废胶带。（6）烘干：使用背面涂层烘烤设备将膜层烘干。（7）贴膜：使用晶圆贴片机在晶圆的背面再贴一层膜。该工序可能产生废胶带。（8）激光打标：用激光将产品的 Lot No 刻录在产品表面(为了追踪产品的 履历）。就是在产品的表面印上去不掉的、字迹清楚的字母和标识，包括制造商的信息、国家、器件代码，生产日期等，主要是为了产品识别并跟踪，该工序将产生打印粉尘和硅粉。（9）划片：在专门的划片机上，通过高速旋转的金刚石刀片（转速约在 50000 转每秒）将晶圆切割成符合规定尺寸的晶粒。刀片的金刚石颗粒大小只有几个微米。切割过程中利用超纯水进行刀片冷却和硅屑冲洗。（10）激光切片：首先进行晶圆黏片，即在晶圆背面贴上水溶性保护膜然后进行切割。激光切割属非接触加工，无应力，因此切边平直整齐，无损坏；不会损伤晶圆结构，电性参数优于机械切割方式；激光可以切割任意形状，如六角形晶粒，突破了钻石刀只能以直线式加工的限制，使晶圆设计更为灵活方便。切割过程中使用超纯水进行硅屑冲洗。 （11）UV 照射：使用 UV 照射机进行 UV 照射去膜。（12）自动检测：使用 2/3D 自动检测设备进行检测。均为物理测试。检查 产品的电气及速度特性，包括基本测试，如电气特性可靠性测试、直流电、交流 电运行测试、目视检查，以及运行速度测试等。（13）IC 分类：使用晶粒分类设备对封装好的晶圆进行分类。（14）终检：使用最终检测设备进行终检。（15）包装：使用真空包装设备对封装好的芯片进行包装并入库。该工序可能产生废包材。WCSP 工艺流程及产污环节

5G、人工智能、智慧交通等消费电子、汽车电子、计算机等应用领域的发展，对芯片的性能提出更高的要求，加快了芯片制程升级，从而带动了半导体行业的发展。半导体晶圆制造工艺包括清洗、曝光、显影、刻蚀、CMP（化学机械抛光）、切片等环节，需要用到各种特殊的液体，如显影液，清洗液，抛光液等等，这些液体中表面活性剂的浓度对工艺质量效果产生深刻的影响。动态表面张力在半导体晶圆清洗工艺的应用半导体晶圆清洗工艺要求芯片制造技术的进步驱动半导体清洗技术快速发展。在单晶硅片制造中，光刻，刻蚀，沉积等工艺后均设置了清洗工艺，清洗工艺在芯片制造进程中占比最大，随着芯片技术节点不断提升，对晶圆表面污染物的控制要求也越来越高。为了满足这些高的清洁度要求，在其中部分需要化学清洗的工序，清洗剂的浓度一定要保持在适当的浓度范围之内，成功的清洗工艺有两个条件：1. 为了达成所需的清洁效果，清洗剂的浓度需要在规定范围内。2. 在最后的漂洗过程后，须避免表面活性剂在硅晶圆上残留，残留的表面活性剂对后面的处理工艺会造成不利影响。清洗工艺的好坏直接影响下一道工序，甚至影响器件的成品率和可靠性，然而在清洗工艺过程中，工人往往疏于监控清洗和漂洗工序中表面活性剂的浓度，表面活性剂经常过量，而为了消除表面活性剂过量带来的不利影响，又往往要费时费力地增加漂洗工序阶段的成本。德国析塔SITA动态表面张力仪监控晶圆清洗工艺中清洗剂的添加德国析塔SITA动态表面张力仪通过动态表面张力的测试，建立清洗槽液的表面张力值与表面活性剂浓度关系曲线，进而实现通过监控晶圆清洗工艺中表清洗剂表面张力的变化来调整清洗剂的添加量，从而优化晶圆清洗工艺。动态表面张力在半导体晶圆切片工艺的应用半导体晶圆切片和CMP工艺要求晶圆切片工艺是在“后端”装配工艺中的第一步。该工艺将晶圆分成单个的芯片，用于随后的芯片接合(die bonding)、引线接合(wire bonding)和测试工序。在芯片的分割期间，金刚石刀片碾碎基础材料(晶圆)，同时去掉所产生的碎片。在切割晶圆时某一种特殊的处理液会用于冷却工作时的刀片，这种处理液中会加入某种表面活性剂，以此来润滑刀片并移除切割过程中产生的碎片，改善切割品质、延长刀片寿命。在半导体晶圆CMP工艺中，利用机械力作用于晶圆片表面，同时研磨液中的化学物质与晶圆片表面材料发生化学反应来增加其研磨速率。抛光液是 CMP 技术中的决定性因素之一，其性能直接影响被加工工件表面的质量以及抛光加工的效率。在CMP抛光液中，一般使用水基抛光液作为加工介质，以去离子水作为溶剂，加入磨料（如 SiO2、ZrO2 纳米粒子等）、分散剂、pH 调节剂以及氧化剂等组分，每个组分都具有相应的功能，对化学机械抛光过程起到不同的作用。磨料通过抛光液输送到抛光垫表面后，在抛光垫和被加工表面之间同时受到压力作用以及相对运动的带动，通过对被加工表面形成极细微的切削、划擦以及滚压作用，对表面材料进行微量去除。磨料的形状、硬度、颗粒大小对化学机械抛光都具有重要的影响。分散剂是一种兼具亲水性与亲油性的界面活性剂，能够均匀分散一些不溶于液体的固体颗粒，对于抛光液而言，分散剂能够减少抛光液中磨料颗粒的团聚，提高抛光液中磨料的分散稳定性。德国析塔SITA动态表面张力仪监控晶圆切片和CMP工艺种特殊处理液和抛光液的添加目前在晶圆切片和CMP工艺中，监测切片过程中的特殊处理液和研磨液表面活性剂浓度往往容易出现问题，如果将样品送到第三方实验室进行检测，成本高，且有一定时差，无法快速矫正表面活性剂浓度。德国析塔SITA动态表面张力仪，可以建立液体表面张力值与表面活性剂浓度关系曲线。在几分钟内完成特殊处理液和研磨液动态表面张力的测量，进而可以量化数据呈现液体表面活性剂浓度，帮助工人迅速将实际值与期望值作比较，及时调整表面活性剂浓度。动态表面张力在半导体晶圆光刻工艺的应用半导体晶圆在光刻工艺中使用显影剂溶解光刻胶，将光刻胶上的图形精确复制到晶圆片上。四甲基氢氧化铵（TMAH）溶液是常用的显影剂，人们往往在四甲基氢氧化铵（TMAH）溶液中添加表面活性剂，以降低表面张力，改善光刻工艺中光刻胶的粘附性，改善光刻显影液对硅片涂胶面的润湿，使溶液更易亲和晶圆表面，确保一个稳定且不与表面几何形状相关的蚀刻过程。德国析塔SITA动态表面张力仪监控TMAH溶液表面活性剂浓度德国析塔SITA动态表面张力仪，可以建立TMAH溶液表面张力值与表面活性剂浓度关系曲线。通过快速连续监控TMAH溶液表面张力，并在设定的范围内自动比较数据，使用工人可以在表面活性剂浓度超出限定值后，短时间迅速反应采取相关措施。同时析塔SITA动态表面张力仪可对MAH溶液的润湿性能进行简便快捷的分析。操作简单、无需任何专业经验。动态表面张力在半导体晶圆蚀刻工艺中的应用在太阳能电池生产过程中，需要对晶圆进行蚀刻工艺，将显影后的简要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果，使用工人往往在蚀刻液中添加异丙醇IPA，以降低蚀刻液表面张力。晶圆蚀刻工艺中容易存在的问题是：蚀刻过程的对流会引起异丙醇的快速蒸发，蚀刻液表面张力增加，蚀刻工艺质量下降。因此需要将蚀刻液中异丙醇浓度控制在规定范围内。德国析塔SITA动态表面张力仪监控蚀刻液中异丙醇浓度德国析塔SITA动态表面张力仪可以精确快速测量蚀刻液动态表面张力，使用工人可以将测量值与实际所需值进行对比，得出异丙醇浓度是否在规定范围内，如超出限定值后，则可以在短时间内快速采取相应措施，达到高质量的蚀刻工艺和避免异丙醇过量，节省成本。 析塔SITA动态表面张力仪在半导体行业的客户案例德国析塔SITA动态表面张力仪介绍德国析塔SITA动态表面张力仪采用气泡压力法测量液体动态及静态表面张力，通过智能控制气泡寿命，测出液体中表面活性剂分子迁移到界面过程中表面张力的变化过程，即连续的一系列动态表面张力值以及静态表面张力值。德国析塔SITA动态表面张力仪，共有4种型号。附录（英文原文）●Monitoring of wetting characteristics of etchants and developers●Monitoring the surfactant concentration of TMAH-solutions●Monitoring the surfactant concentration in wafer cleaning processes翁开尔是德国析塔SITA中国独家代理，如需了解各种关于析塔表面张力仪信息以及应用，欢迎致电【400-6808-138】咨询。

近期，中国科学院上海光学精密机械研究所科技考古中心与湖北省博物馆、湖北省考古研究所密切合作，采用高性能便携式激光共焦显微拉曼光谱仪和便携式X射线荧光光谱仪对著名的曾侯乙墓出土的战国早期蜻蜓眼玻璃珠成功进行了原位无损检测。 　　光谱仪是将成分复杂的光分解为光谱线的科学仪器，由棱镜或衍射光栅等构成，利用光谱仪可测量物体表面反射的光线。阳光中的七色光是肉眼能分的部分可见光，但若通过光谱仪将阳光分解，按波长排列，可见光只占光谱中很小的范围，其余都是肉眼无法分辨的光谱，如红外线、微波、紫外线、X射线等等。通过光谱仪对光信息的抓取、以照相底片显影，或电脑化自动显示数值仪器显示和分析，从而测知物品中含有何种元素。这种技术被广泛地应用于空气污染、水污染、食品卫生、金属工业等的检测中。此次光谱仪成功用于著名的曾侯乙墓出土的战国早期蜻蜓眼玻璃珠原位无损检测。 　　该项研究确定了这些精美的玻璃珠属于钠钙硅酸盐玻璃体系，采用锑基、锡基化合物作为着色剂/乳浊剂，符合西方常用玻璃的化学成分体系和制作工艺特征，与兴盛于我国战国时期的铅钡玻璃不同。 　　结合器型、纹饰的分析结果，研究认为，此次检测的蜻蜓眼玻璃珠的制作技术应该是多元化的，且可能来自于古埃及或东地中海沿岸地区的彼此之间有相互交流的不同制作中心。这一发现为古代丝绸之路上与古代玻璃相关的经济文化交流提供了新的证据。 　　鉴于便携式光学与光谱学方法的优势及其广阔的应用前景，上海光机所科技考古中心目前已成功将多种分析技术应用于对中国新疆拜城克孜尔、河南淅川、湖北江陵、广西合浦等地区出土的古代玻璃化学成分、锑基、锡基乳浊剂/着色剂以及原材料残余物等的相关研究中，确定了我国出土的春秋、战国至唐、宋时期的钠钙玻璃与西方同类制品中锑基和锡基着色剂、乳浊剂出现的时间顺序基本一致。相关研究成果目前已在《中国科学》、Journal of Archaeomety Science、Archaeometry、Microscopy Researchand TechNIque、Journal of Raman Spectroscopy、Journal of X-Ray Spectrometry等多个学术期刊中公开发表。 　　古代玻璃、青铜和陶瓷都曾在人类文明发展过程中发挥过重要作用，而新兴科学技术的应用将有助于探索古代玻璃中所蕴藏的奥秘，为中、西方政治、经济、文化交流提供重要信息。该研究受上海市公共研发平台项目、科技部973项目以及科技部国家科技支撑计划项目的支持。 　　中国是文物大国，但却并非文物保护强国。一直以来，国内物质文化遗产科学研究和保护的总体形势极为严峻，如何利用科学技术更好的为文化遗产保护服务?应建立物质文物保护的科技支撑体系，该项研究顺应我国物质文化遗产领域对文物保护和科学研究仪器装备的具体需求，对加强国内物质文化遗产领域的信息交流有着重大意义。

血糖是血液葡萄糖含量的简称。葡萄糖是人体的重要组成成分，也是能量的重要来源。正常人体每天需要很多的糖来提供能量，为各种组织、脏器的正常运作提供动力。所以血糖必须保持一定的水平才能维持体内各器官和组织的需要。血糖不宜过低，也不能过高。当血糖过高的时候，会增加肾小球的滤过压力，甚至会强制破坏肾小球的滤过功能，导致肾单位被破坏。除此之外，对神经、视网膜、心脑血管也有一定程度的损伤。 所以，定期对体内血糖水平进行监测是十分必要的。空腹时，全血血糖的正常值为3.9~6.1mmol/L，可换算为70~110mg/dL，凡是在此范围内的空腹全血血糖值都属于正常情况。长期服用一些药物会导致血糖值出现偏差，造成药物性高血糖。如降压药物、降脂药物、抗病毒药物、抗菌药物、免疫抑制剂、抗精神病类药物、糖皮质激素等。这些药物在用于治疗非血糖相关性疾病时，通过损害胰岛β细胞分泌功能而致胰岛素分泌不足，或降低外周组织对胰岛素的敏感性，进而致血糖升高。另外，服用一些药物短期内不会对血糖造成明显影响，检测时却会误导血糖仪，如对乙酰氨基酚、维生素C、水杨酸、尿酸、 胆红素、甘油三酯、麦芽糖、木糖等。其中，维生素C具有抗氧化作用，会影响血糖的测定，大部分在医院使用的血糖检测设备是通过葡萄糖氧化酶法检测血糖，葡萄糖氧化酶具有氧化的作用，而维生素C具抗氧化的效果，这会减弱葡萄糖氧化酶的氧化效果，从而导致测量值偏低。在日常生活中，血糖监测能够直接了解机体实际的血糖水平，有助于我们判断自身的健康情况，在疾病预防中起到重要作用。

p 　　这是一个长期追寻的目标：开发一种能揭示患有癌症的病人是否需要化疗的测试。 /p p 　　如今，人们可能有了针对乳腺癌的此类测试。一项为期5年、涉及分析这种肿瘤基因的研究，追踪了该测试的有效性。研究表明，一些在术后通常会接受化疗的女性其实能安全地跳过6个月的疗程。 /p p 　　“这朝为单个病人量身定制疗法更近了一步。”并未参与此项研究的英国伦敦癌症研究所Mitch Dowsett表示。 /p p 　　作为癌症疗法的支柱，化疗非常折磨人。它会导致恶心、疲劳、掉发，有时会引发危及生命的感染或心脏问题。化疗甚至能生成新的癌症。不过，它可能并非必需的。在一些人体内，肿瘤具有很高的侵袭性，而在另一些人体内，它们会很多年处于休眠状态。 /p p 　　目前，医生基于肿瘤大小或者是否会扩散到淋巴结等因素，作出治疗决定。而个性化治疗取得的大多数进展是在开发针对乳腺癌的 strong span style=" color: rgb(255, 0, 0) " span id=" _baidu_bookmark_start_4" style=" line-height: 0px display: none " ? /span span id=" _baidu_bookmark_start_6" style=" line-height: 0px display: none " ? /span span id=" _baidu_bookmark_start_6" style=" line-height: 0px display: none " /span /span /strong a title=" " style=" color: rgb(255, 0, 0) text-decoration: underline " href=" http://www.instrument.com.cn/application/SampleFilter-S01-T000-1-1-1.html" target=" _self" strong span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 基因测试 /span /strong /a span id=" _baidu_bookmark_end_7" style=" line-height: 0px display: none " ? /span span id=" _baidu_bookmark_end_5" style=" line-height: 0px display: none " ? /span 方面。这些测试利用手术期间采集的肿瘤样本进行。 /p p 　　一种名为“安可待”的此类测试分析了21个基因的活性，并且从0到100给人们作出评分——分数越高，意味着预后越差。这种测试已提供给一些癌症尚未扩散到淋巴结的女性，以帮助指导关于化疗的决定。 /p p 　　如今，它在2600余名癌症已经扩散的女性身上进行了测试。这些女性通常总是会接受化疗，以及诸如三苯氧胺等激素疗法。 /p p 　　在研究中，六分之一的女性获得的“安可待”得分低于12，因此只接受了副作用没有化疗那么严重的激素疗法。5年后，这部分女性中只有6%死亡，或者癌症复发。 /p p 　　该团队成员、德国贝塞斯达福音医院的Oleg Gluz介绍说，这些数据表明跳过化疗是正确的决策。这是因为此前研究证实，化疗通常会将复发率降低三分之一。也就是说，在这种情况下，只会把复发率从6%降低到4%。而这种小幅降低可能会被化疗带来的已知损伤掩盖。 /p p 　　Gluz在日前于荷兰阿姆斯特丹举行的欧洲乳腺癌会议上宣布了这一结果。 /p

判断二氧化碳检测仪是否需要更换可以从以下几个方面考虑：　　1.校准结果：如果检测仪经过多次校准后仍然无法达到准确的测量结果，可能需要更换。　　2.响应时间：检测仪的响应时间明显变长，可能意味着传感器已经老化，需要更换。　　3.显示异常：如果检测仪的显示出现异常，如屏幕模糊、数据不稳定等，可能是设备出现故障，需要更换。　　4.使用年限：根据检测仪的使用年限和制造商的建议，超过一定时间后可能需要更换。　　5.性能下降：发现检测仪的性能明显下降，如测量精度降低、误差增大等，这可能是传感器磨损或其他问题的迹象，需要更换。　　6.损坏或故障：如果检测仪遭受了物理损坏或出现故障，无法正常工作，就需要进行更换了。　　以上相关信息就分享到这里，希望这篇文章能帮助到大家。　　保障条件：　　一、所有保修服务自发货日起即为生效。　　二、在保修期间发生的返回运输费用由双方协商承担。　　三、保修服务不含以下内容：　　A、产品本身所配备的备件属易耗品，不列为保修范围。　　B、仪器设备因人为因素或未按规程操作及不可抗力（如地震等）　　因素造成损坏不属保修范围。　　C、非正常条件下，对仪器进行了自行拆卸处理亦不属保修范围。　　保修后服务：　　A、维修后若质保期内则质保期在之前基础上延续，如果做相关更换，更换部份重新计算质保期，为期12个月。　　B、过了保修期，涉及维修更换，收取相应硬件及服务费用。

半导体材料无机非金属离子和金属元素解决方案——光刻胶篇李小波 潘广文 近年来，随着物联网、人工智能、新能源汽车、消费类电子等领域的应用持续增长以及5G的到来，集成电路（integrated circuit）产业发展正迎来新的契机。集成电路制造过程中，光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，是半导体制造中最核心的工艺。涉及到的材料包括多种溶剂、酸、碱、高纯有机试剂、高纯气体等。在所有试剂中，光刻胶的技术要求最高。赛默飞凭借其在离子色谱和ICPMS的技术实力，不断开发光刻胶及光刻相关材料中痕量无机非金属离子和金属离子的检测方案，助力光刻胶产品国产化进程。从光刻胶溶剂、聚体、显影液等全产业链，帮助半导体客户建立起完整的质量控制体系。 光刻胶是什么？光刻胶又称抗刻蚀剂，是半导体行业的图形转移介质，由感光剂、聚合物、溶剂和添加剂等四种基本成分组成。将光刻胶旋涂在晶圆表面，利用光照反应后光刻胶溶解度不同而将掩膜版图形转移到晶圆表面，实现晶圆表面的微细图形化。根据光刻机的曝光波长不同，光刻胶种类也不同。 光刻相关材料光刻相关材料主要有溶剂、显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂，这些材料被称为高纯湿电子化学品，是集成电路行业应用非常广泛的一类化学试剂。光刻胶常用溶剂有丙二醇甲醚/丙二醇甲醚醋酸酯（PGME/PGMEA）、甲醇、异丙醇、丙酮和N-甲基吡咯烷酮（NMP）等。常见的正胶显影剂有氢氧化钠和四甲基氢氧化铵等，对应的清洗剂是超纯水。 光刻胶及光刻相关材料中金属离子、非金属阴离子对集成电路的影响半导体材料拥有独特的电性能和物理性能，这些性能使得半导体器件和电路具有独特的功能。但半导体材料也容易被污染损害，细微的污染都可能改变半导体的性质。通常光刻胶、显影液和溶剂中无机非金属离子和金属杂质的限量控制在ppb级别，控制和监测光刻工艺中无机非金属离子和金属离子的含量，是集成电路产业链中非常重要的环节。 光刻胶及光刻相关材料中无机金属离子、非金属离子的测定方法国际半导体设备和材料产业协会（Semiconductor Equipment and Materials International,SEMI）对光刻胶、光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂等制定了严格的无机金属离子和非金属离子的限量要求和检测方法。离子色谱是测定无机非金属离子杂质（F-、Cl-、NO2- 、Br-、NO3- 、SO42-、PO43-、NH4+）最常用的方法。在SEMI标准中，首推用离子色谱测定无机非金属离子，用ICPMS测定金属元素。赛默飞凭借其离子色谱和ICPMS的领先技术，紧扣SEMI标准，为半导体客户提供简单、快速和准确的光刻胶和光刻相关材料中无机金属离子和非金属离子的检测方案，确保半导体产业的发展和升级顺利进行。针对光刻胶及光刻相关材料中痕量无机非金属离子和金属元素的分析，赛默飞离子色谱和ICPMS提供三大解决方案。 方案一 NMP、PGMEA、DMSO等有机溶剂中痕量无机金属和非金属离子的测定方案 光刻胶所用有机溶剂中无机非金属离子的限量要求低至ppb~ppm级别。赛默飞离子色谱提供有机溶剂直接进样的方式，通过谱睿技术在线去除有机基质，一针进样同时分析SEMI标准要求监控的无机非金属离子。整个分析过程无需配制任何淋洗液和再生液，方法高效稳定便捷，避免了试剂、环境、人员等因素可能引入的污染。ICS 6000高压离子色谱有机试剂阀切换流路图 滑动查看更多 光刻胶溶剂中ng/L级超痕量金属杂质的测定，要求将有机溶剂直接进样避免因样品制备过程引起的污染。由于 PGMEA 和 NMP具有高挥发性和高碳含量，其基质对ICPMS分析会引入严重的多原子离子干扰，并对等离子体带来高负载。iCAP TQs ICP-MS 中采用等离子体辅助加氧除碳，并结合冷等离子体、串联四级杆和碰撞反应技术，可有效去除干扰。变频阻抗式匹配的RF发生器设计，可轻松应对有机溶剂直接进样，并可实现冷焰和热焰模式的稳定切换。 冷焰TQ-NH3模式测定NMP中Mg热焰TQ-O2模式测定NMP中V NMP、PGMEA有机溶剂直接进样等离子体状态未加氧（左），加氧（右） 方案二 显影液中无机金属离子及非金属离子测定方案 光刻工艺中常用的正胶显影液是氢氧化钠和四甲基氢氧化铵，对于这两大碱性试剂赛默飞推出强大的在线中和技术，样品仅需稀释2倍或无需稀释直接进样，避免了样品前处理引入的误差和污染，对此类样品中阴离子的定量限达到10ppb以下。这一方法帮助多家高纯试剂客户解决了碱液检测的技术难题，将该领域的高纯试剂纯度提升到国际先进水平。中和器工作原理四甲基氢氧化铵TMAH是具有强碱性的有机物，作为显影液的TMAH常用浓度为2.38%, 为了避免样品处理中引入的污染，ICPMS通常采用直接进样方式测定。在高温下长时间进样碱性样品，会导致腐蚀石英炬管，引起测定空白值的提高。iCAP TQs使用最新设计的SiN陶瓷材料Plus Torch，耐强酸强碱，可一劳永逸地解决碱性样品中痕量金属离子的测定。新型等离子体炬管Plus Torch 方案三 光刻胶单体和聚体中卤素及金属离子测定方案 光刻胶单体和聚体不溶于水，虽溶于有机试剂但容易析出，常规方法难以去除基质影响。赛默飞推出CIC在线燃烧离子色谱-测定单体和聚体中的卤素，通过燃烧，光刻胶样品基质被完全消除，实现一次进样同时分析样品中的所有卤素含量。燃烧过程实时监控，测定结果准确稳定，满足光刻胶中痕量卤素的限量要求。图 CIC燃烧离子色谱仪SEMI P32标准使用原子吸收、ICP光谱和ICP质谱法来测定光刻胶中ppb级的Al Ca Cr 等10种金属杂质，样品前处理可采用溶剂溶解和干法灰化酸提取两种方法。溶剂溶解法是使用PGMEA等有机溶剂将样品稀释50-200倍，超声波振荡充分溶解后，直接进样测定。部分聚合物较难溶解于有机溶剂中，将采用500-800度干法灰化处理，并用硝酸溶解残留物提取。iCAP TQs采用在样品中添加内标工作曲线法测定，对于不同基质样品及处理方法的样品可提供准确的测定结果。 总结 针对集成电路用光刻胶及光刻相关材料，赛默飞离子色谱和ICPMS提供无机非金属离子和金属离子杂质检测的完整解决方案，为光刻胶及高纯试剂客户提供安全、便捷可控的全方位支持。“胶”相辉映，赛默飞在行动，助力集成电路产业发展，促进光刻胶国产化进程，欢迎来询！ 参考文献：1.SEMI F63-0521 GUIDE FOR ULTRAPURE WATER USED IN SEMICONDUCTOR PROCESSING2.SEMI P32-1104 TEST METHOD FOR DETERMINATION OF TRACE METALS IN PHOTORESIST3.SEMI C43-1110 SPECIFICATION FOR SODIUM HYDROXIDE, 50% SOLUTION4.SEMI C46-0812 GUIDE FOR 25% TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE5.SEMI C72-0811 GUIDE FOR PROPYLENE-GLYCOL-MONO-METHYL-ETHER (PGME), PROPYLENE-GLYCOL-MONO-METHYL-ETHER-ACETATE (PGMEA) AND THE MIXTURE 70WT% PGME/30WT% PGMEA6.SEMI C33-0213 SPECIFICATIONS FOR n-METHYL 2-PYRROLIDONE7.SEMI C28-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR HYDROFLUORIC ACID8.SEMI C35-0118 SPECIFICATION AND GUIDE FOR NITRIC ACID9.SEMI C36-1213 SPECIFICATIONS FOR PHOSPHORIC ACID10.SEMI C44-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR SULFURIC ACID11.SEMI C41-0618 SPECIFICATION AND GUIDE FOR 2-PROPANOL12.EMI C27-0918 SPECIFICATION AND GUIDE FOR HYDROCHLORIC ACID13.SEMI C23-0714 SPECIFICATIONS FOR BUFFERED OXIDE ETCHANTS

问题：无机溶液标准物质是否需要前处理？解答：部分无机标准溶液需要前处理：1.标准物质都是匹配国标使用的，使用时需要完全按照国标方法操作，保证标准物质的处理方法和样品相同；2.特别注意砷标准溶液用原子荧光法检测时必选按照国标方法处理后才能使用，标准物质证书也有明确备注；3.总氰化物需要按照国标方法操作，蒸馏后使用；4.浊度标准溶液使用前必须充分混匀，保准溶液均匀后使用；5.有些客户将高浓度化学需氧量标样冷藏后会有晶体析出，属于正常情况，试用前将溶液恢复室温后摇晃复溶正常使用。文章来源：国家标准物质中心

光谱分析仪是将成分复杂的光分解为光谱线的科学仪器，由棱镜或衍射光栅等构成，利用光谱仪可测量物体表面反射的光线。阳光中的七色光是肉眼能分的部分(可见光)，但若通过光谱仪将阳光分解，按波长排列，可见光只占光谱中很小的范围，其余都是肉眼无法分辨的光谱，如红外线、微波、紫外线、X射线等等。通过光谱仪对光信息的抓取、以照相底片显影，或电脑化自动显示数值仪器显示和分析，从而测知物品中含有何种元素。这种技术被广泛地应用于空气污染、水污染、食品卫生、金属工业等的检测中。　　俄罗斯航天集团和法国国家太空研究中心近日签署合作协议，共同研发水星紫外线光谱分析仪(PHEBUS)部件。该光谱分析仪将安装在“贝皮可伦坡”开发项目欧洲宇航局的水星轨道飞行器上，分析仪采用极紫外光谱真空紫外区55—155纳米和远紫外区145—315纳米的双频分析结构，利用旋转镜进行近轨360° 的观测。　　法国国家太空研究中心作为水星轨道飞行探测器的研发方，负责水星外气层光谱分析仪研发的领导、相应地面保障系统的建设，以及设备的系统集成和数据收集、传输和保存的管理。　　俄罗斯航天集团承担设备旋转系统的研发、制造和独立检测，向法国方面提供设备并在飞行器上进行安装和测试，俄方参与合作研发的有俄罗斯科学院空间研究所，法方有法国大气、环境和空间观测实验室。　　“贝皮可伦坡”开发项目是欧洲航天局(ESA)和日本宇宙航空研究开发机构(JAXA)合作的水星探测计划，以意大利数学家、科学家和工程师朱赛普可伦坡的昵称(贝皮可伦坡)命名。任务是研究水星表层及周围空间物质构成，观测水星地面不可见物质，评判行星的地质演变过程，分析研究水星表层化学成分及内部结构、磁场起源及与太阳风的相互作用，搜寻极地区域是否有冰的存在等。计划包含两颗轨道器水星行星轨道器和水星磁层轨道器。轨道器计划于2018年4月发射，计划一次飞跃地球、两次飞跃金星、五次飞跃水星，最终在2024年到达水星。水星行星轨道器将用以测绘水星地图，水星磁层轨道器则用来研究水星的磁场。

导 语相对于HPLC中的紫外检测器的简单操作来说，PDA检测器的使用和应用可以说是难上了级别，光源选择、狭缝、带宽、参比波长等如何选择甚是烧脑。本期我们以 SPD-M20A 检测器为例，聊一聊 PDA 检测器的使用设置和谱图解析方面的注意事项。 首先提出三个问题，针对这三个问题的展开介绍，使大家对PDA 检测器的有更深刻的认识： • 为什么会选择使用PDA检测器，优势何在？• 如何使用好PDA检测器。• 如何利用PDA检测器的功能为我们提供更多的信息，更大的帮助？ NO.1 过人之处 — 特殊的光路系统 二极管阵列检测器(PDA)是HPLC 应用中比较多的一款通用型检测器，其光路系统基本结构由光源、半透半反镜、M1 镜、滤光装置、流通池、M2 镜、狭缝、光栅、光电二极管阵列组成。 针对于紫外检测器来说：1、可以实现实时多波段检测；2、可以通过光谱图鉴别物质；3、可以通过光谱图进行色谱峰的纯度。 NO.2如何找到实验合适的设置方法 我们使用中发现PDA参数设置是很复杂的，十分烧脑。针对PDA参数设置，提出以下建议：设置方法前，我们面临的各项参数，首先列出各参数的设置范围及影响。 通过对PDA参数的阐述，针对方法中参数设置我们提出设置建议： 灯的选择使用D2灯和W灯作为光源，提供190-800nm波长范围的吸收光谱。D2 灯使用波长范围：190-600nmW 灯使用波长范围：371-800nmD2+W 同时使用范围：190-800nm 对于仅限于紫外线区域的测量，只应使用D2 灯，根据实际的流动相比例并设置合理波长范围。 例如：纯甲醇为流动相，我们设置的波长范围尽量避免流动相的截止波长。 ②光电二极管曝光时间光源在光电二极管元件上驻留的时间，这里以单反相机举例，在光线充裕的拍照需要将底片的曝光时间缩短，否则曝光过度，底片感光饱和，照片一边白光（即 PDA 灵敏度，分辨率变差）；在 夜晚或光线不足的拍照需要将底片的曝光时间延长，否则曝光不足，底片感光不足，照片模糊不清，噪点增多（即 PDA 噪音变大））；PDA 可以自动调整器曝光时间，也就是在现有光强度的情况下，将光源在光电二极管元件上驻留的时间加以优化，在保证 PDA 的分辨率，灵敏度同时降低基线噪音。 在更换氘灯或者更换流通池是要重新调整曝光时间的，仪器时间长了光路系统老化也需要重新调整曝光时间。 ③采样时间测量数据按此采样时间循环输出。作为指导性原则，分析物峰内大约30个测量点以上即可满足数量测定要求。示例： 如果峰宽（从峰开始到峰结束的时间）是 30 秒，设定采样时间为 1 秒，则峰内有 30 个测量点。 如果采样时间减少，则每单位出峰时间的测量点数量增加，也就改进了数量测定结果，保证了峰形的真实性。但是，数据文件大小也相应增加。 当执行快速洗脱的数量测定时，出现尖峰，采样时间应设定较小的采样时间值。 采样时间和曝光时间的关系：1 个采样时间输出的数据是 1 个采样时间内曝光时间采集数据的平均值。 示例： 曝光时间 20ms，采样时间 2000ms，每 2000ms 平均输出 2000 / 20 = 100 点，这 100 点的平均值就是采样时间输出值。采样时间的倒数是采样频率。 ④光谱带宽谱带宽与 PDA 检测器在检测波长处的吸光度响应息息相关，如检测波长设置为 250 nm，光 谱带宽设置为 20 nm，检测器吸光度取值处于 240-260 nm 范围内。光谱带宽设置的大小影响信噪 比、色谱峰高度、以及色谱峰表观分离度。 如上图?，测量时会把246-254nm波长范围的吸光度取平均值，作为输出结果：带宽越大，噪音越低，但光谱分辨率也越低，通常设定为4。 光谱带宽设置越大，实际检测波长范围涉及的光电二极管的个数也就越多(如带宽设置 20 nm，光电二极管分辨率 1 nm，涉及的光电二极管个数为 20 个)，实际检测到的吸收度平均值以及基线噪 音也随之降低，但基线噪音降低效果更加显著。 随光谱带宽的增加，涉及的光电二极管数目亦会随之增加，检测器实际检测波长范围吸收度响应平均化程度也会增加，导致检测器的光谱分辨率(区别与光电二极管分辨率)降低，对依靠吸收光谱对化合物进行初步鉴别带来困难。 建议设置带宽为4nm。 ⑤狭缝宽度比较窄的狭缝宽度，有利于提高PDA光电二极管的分辨率，对于依靠比对紫外吸收光谱鉴别化合物有利；比较宽的狭缝宽度，则允许更多的光透过狭缝经由光栅发生色散而被光电二极管检测到，其结果是检测到的信号强度增加，基线噪音相对减小，检测器的灵敏度增加，但伴随PDA 光电二极管的分辨率降低。 强调分辨率的实验：应该选择1.2nm狭缝。强调灵敏度的实验：应该选择8nm狭缝。 ⑥响应时间响应时间表述的是光电二极管对于流通池内吸收度的突然变化的响应速度。响应时间设置小的时候，描绘出的色谱峰越能反映真实情况，色谱峰高度以及基线噪音同时提高 (基线噪音更加显著)。响应时间设置大的时候，色谱峰高度以及基线噪音同时减少 (基线噪音更加显著)。 ⑦参比波长设置合适的参比波长可有效补偿流动相吸光度变化的影响，可以有效减小基线波动以及噪音水平，提高信噪比。特别是在使用HPLC梯度洗脱模式的时候，流动相随着梯度的不断变化，其吸光度亦不断改变，造成背景噪音过大。 参比波长设置越靠近检测波长，基线噪音水平越低，但同时会损失一定峰高。一般地，参比波长要设置为靠近检测波长但对检测组分没有吸收的波长。设置范围建议：实际检测波长+100nm且避免样品在参比波长处有较大吸收。 注意：? 建议使用参比波长在单独D2灯为光源情况下进行。如果同开启D2+W灯作为光源时，可能导致可见光波长噪音上升。? 避免样品在参比波长处有较大吸收，影响峰高响应值。综上所述，我们要根据实际的实验条件调整PDA参数设置，才能达到最佳的分析结果及解析结果。下期我们具体讲解，关于谱图解析和纯度计算方面的内容，感兴趣的小伙伴继续关注哦！ 液相工程师梁帅

又到一年的岁末年终，奥豪斯已走过第110个春秋。长期以来，奥豪斯公司始终秉持「务实创新」的理念，以「专业」、「精致」、「卓越」的服务态度，坚持深耕行业、深挖用户需求，持续为客户提供「灵感源于务实」的全面而又丰富的产品，在行业内取得了良好的口碑。回望成绩卓著的2017年，奥豪斯接连举办了一系列丰富多彩的市场活动，得到了广大合作伙伴的踊跃支持和积极参与。接下来，带您一起来体验这些市场活动的部分精彩瞬间吧！ 1. 2017广州国际分析测试及实验室设备展览会暨技术研讨会 2月下旬，在广州保利世贸博览馆，奥豪斯盛装出席「2017广州国际分析测试及实验室设备展览会暨技术研讨会」（2017 china lab）。作为今年的业内首秀，奥豪斯倾力筹备以「百年传承 荣耀再续」为主题的新品发布会，在200多家优秀的仪器厂商中脱颖而出，旗舰专业产品explorer准微量天平和frontier™ 5000系列离心机一经亮相，就引来大批专业观众的侧目与驻足，现场十分爆！ 2. 2017中国国际衡器展 如此精彩的论坛刚刚落下帷幕，奥豪斯又在由中国衡器协会举办的第二十一届衡器专业展览会——「2017中国国际衡器展」中精彩亮相。4月6日，350多家企业齐聚上海新国际博览中心，奥豪斯继续精彩卓越的表现，重磅发布的trooper 3000过程称重仪表、trooper 1000重量变送器等新产品，及经典产品defender 8000智能终端仪表倍受专业用户的青睐与体验，现场热闹非凡。 3. 2017第十七届北京分析测试学术报告会暨展览会 转眼就是金秋十月，奥豪斯继续扬帆起航，进军全新领域。10月9日，业界颇具影响力的「第十七届北京分析测试学术报告会暨展览会」（bceia 2017）如约在北京国家会议中心拉开了盛大的帷幕。奥豪斯凭借别致醒目的展台门面和覆盖种类全面的核心产品成为了展会现场的一道靓丽风景线，特别是今年重磅推出的全新实验室设备产品，以极端环境摇床及恒温混匀器为代表，一经揭幕，就立刻成为了全场关注的焦点，引来专业观众们纷纷前来操作体验，并得到大家的一致好评。看了以上的照片，是否也让您回忆起了当时精彩热闹的场面呢？虽然活动早已结束，但每场活动前来咨询的爆满情况，还让人记忆犹新。接下来，小编就为大家梳理一下活动现场的热点话题及对应的明星产品吧！4. 奥豪斯竟然投身影视业了？喜欢看电影的小编，从来没想到国宝级电影厂八一电影制片厂也在使用我们奥豪斯的产品。奥豪斯的st系列ph计，居然成了八一电影制片厂的新宠！！在数码摄像技术普及的今天，还有很多优质电影依然采用胶卷拍摄。众所周知，用胶卷拍摄，不仅要拍摄技术，还要有冲洗技术——这其中，很关键的一步就是胶片冲洗液配的好不好。显影液的碱性值和停影液的酸度值如果不准确，会非常影响洗片效果。奥豪斯的st系列ph 计，能快速地获得精确的测量结果，就这样被八一电影厂相中了。小编内心真的无比自豪啊！5. 奥豪斯居然打入了餐饮圈？产品好不好，要看有哪些用户在使用，它为用户解决了那些问题？全国连锁中式快餐品牌真功夫，是快餐食品标准化的领军企业，每一份粥品、每一份卤饭的配比都是固定的——准确的称量才能保证每一份快餐品质如一。奥豪斯的valor系列电子案秤，因其精准的称量结果和稳定优异的性能、人性化的操作界面，一下子入了真功夫的法眼，为其产品质量保驾护航。几年来，奥豪斯已持续为数百家真功夫门店的厨房提供定制化单面显示屏的valor电子案秤，并将继续合作下去。6. 奥豪斯微孔板摇床，清华学霸的好帮手 医学院进行细胞培养，特别是进行脱色染色实验时，特别需要保证样品的均匀性。一款能保证混匀结果稳定性的摇床就显得尤为重要。奥豪斯的摇床品质性能极佳，倍受高校医学院的喜欢。奥豪斯的微孔板摇床，就服务于清华大学医学院研究所，主要用于大肠杆菌的培养研究。研究院工作人员说：「在国外做研究的时候，就用奥豪斯的产品，回到国内，也离不开它。」7. 奥豪斯往复式摇床，奋战市级血站一线 从高校研究走向医学应用，奥豪斯的摇床也取得了优异的成绩。国内某市的中心血站的检验科，使用了奥豪斯的数显控制往复式摇床，其出色的「神经中枢」微处理控制器和负载传感器保证了摇荡的均匀性和一致性，保证了每次混合过的血液样品质量，再也没有出现过变质现象。其负责人还决定向血站其他的其他部门推广使用这款摇床。8. 配料实现零差错？奥豪斯的t81系统没有不可能！很多企业都需要进行配方配料，传统的配料方法容易出现人为失误。这种人为失误几乎成了硬伤，没法避免。那么配料零差错，真的很难实现吗？不难，奥豪斯新推出的defender8000智能终端专为「零差错」而生。别看这款仪器很小巧，但它可以搭建起「智能手工配料体系」，撑起工厂配料生产环节：不仅能实现配料过程「零」失误，还能对生产流程进行智能控制。此外，所有配料数据都可实现全程追溯、还能进行配方保密、实现分级管理功能。全球著名的多家食品企业都在用它进行配料生产。 回望2017年这些异彩纷呈的活动，我们可以看到奥豪斯人没有止步于百年品牌积淀带来的安适，在传承优秀企业精神的同时，还勇于创新、不断突破，打破以往的市场推广模式，转变视角，关注客户的真正需求。特别在最终用户的应用痛点解决方案上，交出了一份出色的答卷。相信在即将到来的2018年，奥豪斯将在探索与开拓的道路上，继续乘风破浪、一往无前！如果您想了解更多摇床系列或奥豪斯其他实验室设备的产品信息，或正在寻求更专业细致的选型指导，请及时联系我们，我们的工程师们将会在第一时间为您提供专业的解答和建议。

p 　　10月17日，北京环保宣传中心官方微博@@京环之声今日发帖回应媒体报道《23省44城市自来水检出疑似致癌物》。 /p p 　　@@京环之声表示，清华大学研究人员历时3年，在全国23个省、44个城市和城镇、155个点位采集了164个水样。水样涵盖水厂出厂水、家庭自来水和水源水，这是迄今为止国内规模最大最全面的一次调研。研究人员检测了自来水样中当前已知的全部9种亚硝胺类消毒副产物，其中NDMA(亚硝基二甲胺)是亚硝胺类化合物中含量最高的。 /p p 　　于是有的媒体写出了题为《23 省 44 城市自来水检出疑似致癌物》的报道，一时间引起了大家的恐慌。 /p p 　　对此，@@京环之声进行了解读。 /p p 　　 strong 亚硝胺是致癌物吗? /strong /p p 　　亚硝胺类化合物被国际癌症研究中心判定为 2A 类致癌物，即“动物致癌证据明确，但人类致癌证据不充分”。另有很多流行病学研究表明，亚硝胺类化合物与消化系统癌症有较明显的相关性。 /p p 　　听起来有点吓人的样子，那为什么自来水中会有亚硝胺类物质呢? /p p 　　亚硝胺是自来水消毒的副产物 /p p 　　自来水厂消毒通常会使用含氯消毒剂，在氯的作用下水中的少量污染物会变成消毒副产物，其中部分有机氮化物可以变为亚硝胺类物质。氯是最廉价且相对安全的消毒手段，多年来始终找不到它的替代品，因此亚硝胺等微量消毒副产物也无可避免，世界各国无一例外。 /p p 　　目前大多数学者的观点是：包括亚硝胺在内的自来水消毒副产物并不会对健康产生明显影响，但是如果不消毒，带来的危害可能更大。 strong WHO(世界卫生组织)的饮用水指南也持同样观点。 /strong /p p style=" text-align: center " 　　 img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201611/insimg/071ce153-2644-44c1-822a-0e3c90fef5a0.jpg" title=" Ma5u-fxwvpat4957263.jpg" / /p p 　　 strong 水中的亚硝胺危险吗? /strong /p p 　　既然目前的自来水中不可避免地会含有亚硝胺类物质，那么我们就来关注一下剂量。 /p p 　　本次清华大学的调查数据显示：中国自来水中 NDMA 的平均浓度大约是 11 ng/L 华东、华南地区，家庭自来水中的 NDMA 平均浓度大约在 18 ng/L 左右 长三角地区的家庭自来水中 NDMA 的平均浓度为 28 ng/L 左右。(注：1 ng/L，万亿分之一，即 0.0000000000001) /p p 　　这也是为什么新闻中说华东华南“最严重”的原因。 /p p 　　那么这些数据意味着什么呢?说明这些自来水都不能喝了吗? /p p 　　虽然自来水中的亚硝胺是一个研究热点，但只有少数国家和地区针对它制定了标准。比如美国加州制定了一个特别严苛的标准(10 ng/L)，如果用这个标准衡量，中国自来水有 1 / 4 左右超标。 /p p 　　但是看看别的标准：加拿大卫生部的指导值是 40 ng/L 澳大利亚的指导值是 100 ng/L WHO 的指导值也是 100 ng/L。 /p p 　　如果用这些标准衡量，本次清华大学的调查中仅有极个别样本超过澳大利亚或世卫组织的标准，而超过加拿大标准的只占 7% 左右。也就是说，如果按照 WHO 的标准，这次检验中绝大多数水是安全的。 /p p 　　@@京环之声表示，虽然水要天天喝，但毕竟亚硝胺的浓度比较低。如果按照媒体报道的数据推算，即使你一辈子喝长三角的水，因为亚硝胺得消化道癌症的概率也只有十万分之几。 相对而言，其他来源的亚硝胺更值得关注。如：腌腊食品、烟草等。 /p p 　　 strong 安全，不代表不需要改进 /strong /p p 　　@@京环之声同时坦言，这次检出 NDMA 的样本中，中国的平均浓度(中位数)大约是22 ng/L，而美国是4 ng/L。此外，无论检出亚硝胺类化合物的种类还是检出率，中国的情况都比美国更严重。如果和欧洲、日本相比，我们的差距更大。而且，清华的研究人员在长三角某县城的龙头水中检出了全国NDMA的最高浓度，是44个城市中唯一超过世界卫生组织100ng/L标准的，这归根结底，是源头污染的问题，所以解决问题重在控制源头污染。 /p p 　　@@京环之声最后强调，安全，不代表不需要改进。当然要尽可能减少亚硝胺这种可疑的致癌物，但如果盲目追求“高标准”，最后伤害的还是全体纳税人的利益。 /p

回想起我侄女的三岁生日派对，我至今仍清晰地记得餐桌上&ldquo 算命&rdquo 的环节。当时，一位颇有创意的家长戴着头巾和奢华的耳环，很快，一群刚刚学步的幼儿便排成一行，迫不及待想听到能预测自己未来的&ldquo 魔法&rdquo 。十多年过去了，虽然科技发展的水平发生了变化，但随着常见病基因检测的泛滥而出现的&ldquo 高科技占星术&rdquo ，却很可能与当年那场派对上的&ldquo 算命&rdquo 没什么两样。 　　美国政府问责局(GAO)曾秘密开展了一项针对15种常见病基因检测的研究，这些疾病包括老年痴呆症、乳腺癌和多动腿综合征等。该研究发现情况异常混乱。完全相同的DNA样本的检测结果却大相径庭：四个公司对同一个DNA样本提供者进行高血压和前列腺癌患病风险预测，结论却有低于、等于和高于平均患病风险三种情况。 　　美国政府问责局报告的结论是，直接推销给公众的基因检测具有误导性，这些项目很少或者说根本没有实际用途。但是，世界各地成千上万的人仍然虔诚地将自己的唾液样本送去检测，并且从中得到能够改变人生的&ldquo 预言&rdquo 。到目前为止，这些检测依然评估混乱，且严重缺乏监管。 　　对于任何担心生活被&ldquo 过度医疗化&rdquo 的人来说，基因检测市场无疑是最新的值得关注的领域。这种看似无害的技术，却能把那些健康的人变成惶恐的病患，他们的个人生活也会被各种各样的疾病和早逝的遗传倾向重新定义。 　　当然，在那些天花乱坠的炒作中，也存在承诺和希望，尤其是涉及罕见的单一基因异常的疾病时。研究人员可以用基因检测来确定婴儿是否患有罕见的糖尿病，在这种检测基础上的后续治疗对那些患病婴儿的帮助很大。然而，也存在许多虚假的希望。比如，尚没有证据表明基因检测对如下一些人有用：有静脉血栓栓塞症病史的人、考虑抗抑郁治疗的人，以及想确认心血管疾病患病风险的人。 　　一些仅仅在实验室里证明有用的方法，在商人、懒惰的记者和&ldquo 科学救世迷&rdquo 的鼓噪下迅速流入市场。这次是以&ldquo 个性化药物治疗&rdquo 的形式出现的&mdash &mdash 承诺根据每个人的基因图谱来进行治疗。 　　最近的研究报告一方面肯定了不同形式的基因检测具有潜在的好处，另一方面则警告政府应制订相应的理性政策，为评估该技术设立强制性的规则，并规范其市场。 　　英国纳菲尔德生物伦理委员会的一份报告发现，基因检测结果可能不可靠、难以解释，并且导致更多不必要的检测。该报告的结论是，许多所谓的&ldquo 个性化诊断和治疗&rdquo 好像被过分夸大了，因此应谨慎对待。英国保守党委托开展的技术评估则发现，基因检测结果可能不准确且有误导性，该评估报告呼吁对基因检测技术进行&ldquo 适当的监管&rdquo 。 　　位于英国剑桥的&ldquo 公共卫生遗传学基金会&rdquo 公开反对对疾病&ldquo 过早干预&rdquo 的宣传，并指出这些干预措施的效果需要以科学证据为基础。某国际研究小组曾向世界宣告，根据基因图谱量身定制的个性化诊断距离现实尚有数十年的路要走。 　　遗传学家戴维· 梅尔泽和他的同事在2008年的《英国医学杂志》上发表文章称，常见病的遗传倾向这门学科依然很不确定，以至于旁观者可能会将其视作&ldquo 遗传占星术&rdquo 。作者下结论称，在这个以实证为基础的时代，推销评估体系不健全的基因检测技术是一种不受欢迎的行为，并指出防止其误导性是当务之急。 　　评估基因检测结果是一项复杂的业务，需要评定检测是否达到了其声称的衡量标准、遗传变异预测实际疾病的效果如何、检测结果对治疗是否有用处，以及会引发何种社会及伦理问题。 　　很显然，当前存在着过分夸大基因检测价值的倾向，这也是德国对直接面向消费者的基因检测实施严厉监管的原因之一。英国的政府咨询机构则发布了一套原则，并希望将其纳入&ldquo 自愿行为守则&rdquo &mdash &mdash 这项软弱无力的对策，已被批评为促进基因检测市场化，而不是确保对其进行适当的监管。同时，非营利组织&ldquo 英国基因观察&rdquo 的警告称，基因检测可能会被用于向健康人贩卖非必要的预防性药物，并认为应将检测限制在对健康有益以及符合伦理的范围内。 　　梅尔泽教授认为，基因检测评估不健全是更大的问题。他说，政府应该创建某种强制性的针对基因检测的&ldquo 维基解密&rdquo &mdash &mdash 披露完整的证据，这样人们就知道他们买的是什么样的垃圾。 　　至于我的侄女&mdash &mdash 那个正在茁壮成长的少女，她至今依然深信餐桌上的预言总有一天会发生。

天眼查显示，北京北方华创微电子装备有限公司“晶圆卡盘和晶圆加工方法”专利公布，申请公布日为2024年7月16日，申请公布号为CN118352289A。 背景技术高分子聚合物在微电子制造中有广泛的应用，例如：聚酰亚胺(PI)是一种综合性能良好的有机高分子材料，耐高温达400℃以上，并具有高绝缘性能，103Hz下的介电常数4.0，属于低介电常数材料，被广泛用于微电子制造领域：1、聚酰亚胺容易与氧气、NaOH等发生化学反应而被刻蚀掉，因此可被用作牺牲层来制备微机械系统(MEMS)中的悬空结构；2、利用聚酰亚胺的绝缘性能可用作电路之间的钝化层，如先进封装中的重新布线(RDL)技术，可将聚酰亚胺光敏改性后光刻制备图案化结构并避免不同电路之间互连；3、利用聚酰亚胺的低介电常数特性，可减少电路中的寄生电容，用于高频电子器件中的线路钝化。再如：光刻胶是一类具有光敏特性的高分子聚合物，在光照下其结构发生改性，可以被显影液剥离(正性光刻胶)或者保留(负性光刻胶)，利用光刻胶的光敏特性可以将光刻板上的图形转移到晶圆上，再通过干法刻蚀或者薄膜生长等工艺将图案固定下来，最后光刻胶需要被去除。在上述应用中，常常需要等离子体干法刻蚀对高分子聚合物进行处理。例如：采用聚酰亚胺来实现先进封装中的重新布线技术时，需要等离子体干法刻蚀对聚酰亚胺表面进行改性处理，增大粗糙度和亲水性，以保证电镀重新布线金属时药液可以完全浸润整个晶圆；再如：利用光刻胶做干法刻蚀的掩膜后的去除过程中，由于光刻胶经过干法刻蚀后发生改性，难以使用溶剂溶解的方法进行湿法去除，而需要进一步利用等离子体去胶机进行去除。尤其是在扇出型封装中，晶圆的基底常采用树脂等聚合物制作，进而在制作晶圆的过程中，晶圆容易发生翘曲。当基底有翘曲时，刻蚀过程中的电荷积累引起的放电效应会严重影响刻蚀工艺结果，甚至导致刻蚀工艺停止而失败。发明内容本发明提供了一种晶圆卡盘和晶圆加工方法，涉及晶圆的刻蚀技术技术领域，为解决翘曲的晶圆在等离子刻蚀时易放电打火的问题而设计。晶圆卡盘包括边缘卡盘和中心卡盘，边缘卡盘分布在中心卡盘的至少一个径向的外侧，边缘卡盘传动连接有边缘卡盘驱动装置以调节边缘卡盘的高度。本发明提供的晶圆卡盘可以避免晶圆的边缘打火受损。

p style=" text-indent: 2em text-align: justify margin-bottom: 20px " 2020年5月18日，中国HPV疫苗的一个里程碑。第一针国产疫苗成功在一名10岁小姑娘身上完成注射。疫苗的质量控制情况在上一篇文章里面已经做了介绍（ span style=" color: rgb(255, 0, 0) " strong 详情戳下图链接 /strong /span ），这篇短文带您了解下HPV病毒的检测可以用到哪些科学仪器。 strong span style=" color: rgb(79, 97, 40) " 【部分仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途】 /span /strong /p p style=" text-align: center" a href=" https://www.instrument.com.cn/news/20200522/539252.shtml" target=" _blank" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 450px height: 149px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202005/uepic/a34665bb-1062-4f48-b1eb-18427ffdabc7.jpg" title=" 国产HPV文章链接.png" alt=" 国产HPV文章链接.png" width=" 450" vspace=" 0" height=" 149" border=" 0" / /a /p p style=" text-indent: 2em text-align: justify margin-bottom: 20px " 宫颈癌的诊断需要检查HPV感染情况。那么，HPV检测最常用的方法呢？又会用到什么生命科学仪器呢？根据现有技术归纳有： span style=" color: rgb(0, 112, 192) " 染色镜检法(巴氏涂片)、宫颈TCT检查(薄层液基染色法)、DNA检测法和血清学检测 /span 。 /p p style=" text-align: justify " 　　 span style=" color: rgb(0, 112, 192) " strong 1. TCT液基薄层细胞检测Thin-prep Cytologic Test /strong /span /p p style=" text-align: justify " 　　液基薄层细胞检测系统可以对宫颈细胞进行细胞学分类并诊断受否有病变。该方法是目前国际上最先进的宫颈癌细胞学检查技术，与传统的宫颈刮片(巴氏涂片)检查相比精确度高，对宫颈癌细胞的检出率为100%。对于部分癌前病变，霉菌、滴虫、病毒、衣原体等微生物感染也能识别。 /p p style=" text-align: justify " 　　 strong span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 细胞保存液 /span /strong ：可快速裂解宫颈液样品中的红细胞，效力较强。还含有固定细胞成分，能快速对白细胞和脱落上皮细胞等需要检验的细胞固定，防止细胞自溶。处理后的细胞形态完好，保持采集时的原始形态，防止膨胀、固缩。 /p p style=" text-align: justify " 　　 strong span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 染色机和液基薄层细胞制片机 /span /strong ：经过固定保存的细胞继续通过专用的仪器进行染色和制片，可以制作变成标本。 /p p style=" text-align: justify " 　　 strong span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 显微成像分析 /span /strong ：宫颈液处理好制成标本后，通过高分辩显微成像采集高质量图像，与计算机软件结合，可以检测宫颈糜烂、宫颈癌、宫颈息肉、慢性宫颈炎、宫颈囊肿等相关病变。宫颈癌的早期诊断的金标准。 /p p style=" text-align: justify margin-bottom: 20px " 　　TCT薄层细胞检测要求仪器可以拍摄高清晰度(平场消色差/复消色差)、色彩逼真(24位真彩)、可高倍放大(有效倍数20,000–35,000倍)、智能变焦的画面。并且配备可以得到TBS分类的MDO病理细胞图文报告的计算机软件。随着适龄(25–45岁)女性 strong span style=" color: rgb(49, 133, 155) " 二级预防 /span /strong 措施的意识不断加强，导致医院等检验机构对试剂盒和相关仪器的需求量增大。所以高品质、集成化的仪器与试剂盒将是产业发展的方向。 /p p style=" text-align: justify " 　　 span style=" color: rgb(0, 112, 192) " strong 2.HPV-DNA检测 /strong /span /p p style=" text-align: justify " 　　临床上HPV-DNA检测的方法主要有：实时荧光聚合酶链反应法(PCR)、基因芯片法和杂交捕获法(HC-II)。下图总结了三种分子生物学方法的特点。下面文章重点介绍了其中需要的一些仪器： /p p style=" text-align: center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 442px height: 196px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202005/uepic/16040ec6-4c63-4a16-91ea-b55a7f78cd89.jpg" title=" 检测分类.png" alt=" 检测分类.png" width=" 442" height=" 196" / /p p style=" text-align: center " span style=" font-size: 12px " strong 王巧燕, 陈伟华. 国内HPV DNA检测的常见方法比较[J]. 检验医学, 2012(01):77-80. /strong /span /p p style=" text-align: justify " 　　 strong （1） a href=" https://www.instrument.com.cn/zc/133.html" target=" _blank" span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 实时荧光定量PCR仪 /span span style=" color: rgb(227, 108, 9) " Quantitative Real-time PCR /span /a /strong /p p style=" text-align: justify " 　　实时荧光定量PCR仪可以在DNA扩增反应中，以荧光化学物质测每次聚合酶链式反应(PCR)循环后产物总量的方法。通过内参或者外参法对待测样品中的特定DNA序列进行定量分析的方法。模板的Ct值和该模板的起始拷贝数存在线性关系，所以成为定量的依据。 /p p style=" text-align: justify " 【点击图片进入 span style=" color: rgb(0, 112, 192) " strong 实时荧光定量pcr /strong /span 专场】 br/ /p p style=" text-align: center" a href=" https://www.instrument.com.cn/zc/133.html?SampleId=& IMShowBigMode=& IMCityID=& IMShowBCharacter=& SidStr=1684" target=" _self" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 208px height: 208px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202005/uepic/acb0a518-0ece-4f9e-acba-813a997325c7.jpg" title=" CFX384 Touch PCR 仪.jpg" alt=" CFX384 Touch PCR 仪.jpg" width=" 208" height=" 208" / /a /p p style=" text-align: center margin-bottom: 15px " 　　 strong span style=" font-size: 14px " (图为BIO-RAD CFX384 Touch 实时荧光定量 PCR 仪 span style=" font-size: 14px color: rgb(0, 176, 80) " /span ) /span /strong br/ /p p style=" text-align: justify " 　　荧光物质：荧光探针和荧光染料。 /p p style=" text-align: justify " 　　 span style=" color: rgb(49, 133, 155) " TaqMan荧光探针 /span ：PCR扩增时在加入一对引物时加入一个特异性的寡核苷酸荧光探针。探针两端分别标记报告荧光基团和淬灭荧光基团。探针完整时，报告基团发射的荧光信号被淬灭基团吸收 PCR扩增时，Taq酶的5& #39 -3& #39 外切酶活性将探针酶切降解，荧光监测系统可接收到报告荧光基团和淬灭荧光基团分离信号。每扩增一条DNA链，就有一个荧光分子形成，实现荧光信号的累积与PCR产物形成完全同步。 /p p style=" text-align: justify " 　　 span style=" color: rgb(49, 133, 155) " SYBR荧光染料 /span ：在PCR反应体系中，加入过量SYBR荧光染料，SYBR荧光染料非特异性地掺入DNA双链后，发射荧光信号，而不掺入链中的SYBR染料分子不会发射任何荧光信号，从而保证荧光信号的增加与PCR产物的增加完全同步。SYBR仅与双链DNA进行结合，因此可以通过溶解曲线，确定PCR反应是否特异。 /p p style=" text-align: justify margin-bottom: 15px " 　　 span style=" color: rgb(49, 133, 155) " 分子信标 /span ：该探针在5和3末端自身形成一个8个碱基左右的发夹结构的茎环双标记，两端的核酸序列互补配对，导致荧光基团与淬灭基团紧紧靠近，不会产生荧光。PCR产物生成后，退火过程中，分子信标中间部分与特定DNA序列配对，荧光基因与淬灭基因分离产生荧光。 /p p style=" text-align: justify " 　　 strong span style=" color: rgb(0, 0, 0) " （2） /span a href=" https://www.instrument.com.cn/zc/137.html" target=" _blank" span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 核酸分子杂交仪 /span span style=" color: rgb(227, 108, 9) " Hybridization Oven /span /a /strong /p p style=" text-align: justify " 　　杂交捕获法HC-II需要使用分子杂交仪，又叫分子杂交炉或分子杂交箱。核酸分子杂交技术可以检测待测基因组中是否含有已知基因序列。该设备可替代塑料杂交袋和水浴摇床，避免杂交袋破损带来的污染危险。拥有温控精确，空气循环装置独特，升温速度快等特点。广泛地使用于克隆基因的筛选、酶切图谱的制作、基因组中特定基因序列的定性、定量检测和疾病的诊断等方面。分子生物学领和临床诊断中均有应用。 /p p style=" text-align: justify " 【点击图片进入 span style=" color: rgb(0, 112, 192) " strong 杂交仪 /strong /span 专场】 /p p style=" text-align: center" a href=" https://www.instrument.com.cn/zc/137.html" target=" _self" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 218px height: 199px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202005/uepic/a33c8200-bd06-4544-8295-0e410545c6ad.jpg" title=" TAITEC HB-100型杂交炉.jpg" alt=" TAITEC HB-100型杂交炉.jpg" width=" 218" height=" 199" / /a /p p style=" text-align: center " 　　 span style=" font-size: 14px " strong (图为TAITEC HB-100型杂交炉) /strong /span /p p style=" text-align: justify " 　　1)普通分子杂交仪：一般为封闭恒温箱式结构，加上振荡或旋转式可动结构。可实现温度、转速等实验参数的控制和调整。 /p p style=" text-align: justify " 　　2)半自动分子杂交仪：在人工干预下杂交后可以进行孵育、显色。 /p p style=" text-align: justify margin-bottom: 15px " 　　3)全自动分子杂交仪：主要应用于基因芯片产品，自动化、无需人工参与。基因组DNA与芯片上特异的DNA探针在特定温度条件下反应，杂交、洗膜、孵育、显色等步骤后最终得到检测结果，整个过程全自动完成。 /p p style=" text-align: justify " 　　 strong （3） a href=" https://www.instrument.com.cn/zc/879.html" target=" _blank" span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 核酸提取仪 /span span style=" color: rgb(227, 108, 9) " Nucleic Acid Extraction System /span /a /strong /p p style=" text-align: justify " 　　核酸提取仪是应用配套的核酸提取试剂来自动完成样本核酸提取工作的仪器。在疾病控制中心、临床疾病诊断、输血安全、法医学鉴定、环境微生物检测和分子生物学研究等领域广泛应用。自动液体工作站功能非常强大，分液、吸液可自动完成。有些设备还具有扩增、检测的功能，实现提取到检测的全自动化。 /p p style=" text-align: justify " 　　1)离心柱法：离心柱法核酸提取仪主要采用离心机和自动移液装置相结合的方法，通量一般在1–12个样本。效率和手工提取差不多，价格昂贵，一般不同型号仪器的耗材不能通用，适合经费充足的大型实验室使用。 /p p style=" text-align: justify " 　　2)磁珠法：以磁珠为载体，利用磁珠在高盐低PH值下磁珠吸附核酸 在低盐高PH值下与核酸分离。移动磁珠和转移液体实现核酸提取纯化，并且可以实现高通量。每次可提取8–96个样本，操作简单快捷，提取96个样本仅需30–45 min。成本低廉，是目前市场上的主流仪器。 /p p style=" text-align: justify " 【点击图片进入 span style=" color: rgb(0, 112, 192) " strong 核酸提取仪 /strong /span 专场】 /p p style=" text-align: center" a href=" https://www.instrument.com.cn/zc/879.html" target=" _self" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 207px height: 179px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202005/uepic/270425c7-e9c6-4736-b0b6-46d2c3a6f2ce.jpg" title=" TIANGEN TGuide S96自动核酸提取仪.jpg" alt=" TIANGEN TGuide S96自动核酸提取仪.jpg" width=" 207" height=" 179" / /a /p p style=" text-align: center margin-bottom: 15px " 　　 span style=" font-size: 14px " strong (图为TIANGEN TGuide S96自动核酸提取仪) /strong /span /p p style=" text-align: justify " 　　　 strong （4） a href=" https://www.instrument.com.cn/zc/540.html" target=" _blank" span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 基因芯片 /span span style=" color: rgb(227, 108, 9) " Genechip /span /a /strong /p p style=" text-align: justify " 　　基因芯片又称DNA微阵列、生物芯片，其测序原理是杂交测序法。在一块基片表面固定了序列已知的靶核苷酸的探针，进行核酸杂交的方法。当溶液中带有荧光标记的核酸序列TATGCAATCTAG，与基因芯片上对应位置的核酸探针产生互补匹配时，通过确定荧光强度最强的探针位置，获得一组序列完全互补的探针序列，据此可重组出靶核酸的序列。 /p p style=" text-align: justify " 　　 span style=" font-size: 14px " strong 可分为三种主要类型： /strong /span /p p style=" text-align: justify " 　　1)固定在聚合物基片：如尼龙膜，硝酸纤维膜等表面上的核酸探针或cDNA片段。通常用同位素标记的靶基因与其杂交，通过放射显影技术进行检测。优点为所需检测与技术相对比较成熟。缺点探针密度不高，样品和试剂需求量大，定量检测困难。 /p p style=" text-align: justify " 　　2)固定在玻璃板DNA探针阵列：通过与荧光标记的靶基因杂交进行检测。点阵密度较大的提高，探针在表面上的结合量也比较一致，标准化生产较难。 /p p style=" text-align: justify margin-bottom: 20px " 　　3)硬质表面直接合成的寡核苷酸探针阵列：与荧光标记的靶基因杂交进行检测。该方法把微电子光刻技术与DNA化学合成技术相结合，探针密度大大提高，试剂用量减少，可以规模化、产业化。 /p p style=" text-align: justify text-indent: 2em " span style=" color: rgb(0, 112, 192) " strong 此外，随着技术的进步，现在可以应用数字pcr进行高通量检测。对于HPV病毒的2个致病亚型，可以精准检测。 /strong /span br/ /p p style=" text-align: center" a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/C375205.htm" target=" _self" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 261px height: 142px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202005/uepic/52b60c0d-d80d-4d51-9a5f-0d688030dda3.jpg" title=" NaicaTM高通量微滴芯片式数字PCR系统.png" alt=" NaicaTM高通量微滴芯片式数字PCR系统.png" width=" 261" height=" 142" / /a /p p style=" text-align: center " 　　 span style=" font-size: 14px " strong (图为Naica sup TM /sup 高通量微滴芯片式数字PCR系统) /strong /span /p p style=" text-align: justify " 　　Naica sup TM /sup 自动化微滴芯片数字PCR系统有3色荧光通道，能够同时检测和定量HPV16和HPV18以及人类参考基因ALB。在每25 μL反应10,000个拷贝的野生型DNA背景下，尽管突变等位基因的频率为0.05%，HPV16和HPV18依然能够精准的被检测到，并且在95%的置信区间内没有检测到假阳性。在连续稀释实验中，3色HPV检测显示预期和测量的HPV16和HPV18浓度之间存在良好的相关性。该数字PCR系统还能够成功地检测口咽癌患者FFPE肿瘤标本DNA中HPV16和HPV18。 /p p style=" text-align: center" img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202005/uepic/783a6724-9797-4d39-b53b-415426e7bda0.jpg" title=" 分割线.png" alt=" 分割线.png" / /p p style=" text-align: center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 135px height: 135px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202005/uepic/22ed5a5b-3d70-41f4-960a-189c4b9458de.jpg" title=" 3i-生仪社.jpg" alt=" 3i-生仪社.jpg" width=" 135" height=" 135" / /p p style=" text-align: center " span style=" background-color: rgb(255, 192, 0) " 扫码关注 span style=" background-color: rgb(255, 192, 0) color: rgb(255, 0, 0) " strong “3i生仪社” /strong /span 了解生命科学新鲜资讯 br/ /span /p

前不久，法国总统的竞选大会上，左翼总统候选人梅朗雄在法官大选中首次使用了全息投影技术辅助演讲，利用3D投影，梅朗雄同时现身在两个会场，获得了最大的关注，这是第一次有候选人将全息投影技术直接应用在竞选中。期间，梅朗雄的支持者纷纷掏出手机为他和他的“分身”拍照。3D投影技术在政府、商场等各领域可以达到出人意料的效果。你还以为全息技术是这样的吗？电影《星球大战》里的机器人投出全息影像 首先我们要明确一点，全息和3D显示不存在谁包含谁的问题，他们是有交叉的两个概念。只是，全息技术是一项很有前景的3D显示技术。 另外，全息技术除了应用在3D成像，还广泛用在测量、存储、加密、防伪等各个方面，实际上大家日常生活中经常见到的各种镭射防伪商标，就是全息技术的一大应用。解读全息技术 当我们看一张照片时，你怎么来判断照片里的物体有多远？ 一般情况下可以根据物体之间的遮挡关系、近大远小的经验和画面中的阴影等信息来判断，但是缺少了观看真实物体时的立体感。因为使用相机进行拍摄时，记录的只是物体的光强信息，而物体的深度信息是包含在相位当中的。 既然如此，是否可以通过某种方式，将光线的强度信息和相位信息同时记录下来呢？ 这就是“全息”思想的来源。所谓“全息”，其实是个科学上创造的名词，本意即指可以同时呈现强度和相位信息的技术，类似地，英文中会冠以“holo-”开头，表达全息相关名词。 比较麻烦的一点就是，我们手中用来记录光线的物质都只是对光强敏感，而不是对相位敏感。因此要一个方法，利用记录光强的物质将相位的分布记录下来。科学家们发现，光的干涉恰好可以满足需求。 其第一步是拍摄过程，利用干涉原理来记录物体光波信息： 被拍摄物体在激光辐照下形成漫射式的物光束；另一部分激光作为参考光束射到全息底片上，和物光束叠加产生干涉，把物体光波上各点的位相和振幅转换成在空间上变化的强度，从而利用干涉条纹间的反差和间隔将物体光波的全部信息记录下来。记录着干涉条纹的底片经过显影、定影等处理程序后，便成为一张全息图，或称全息照片。 其第二步是成象过程，这是利用衍射原理再现物体光波信息： 全息图犹如一个复杂的光栅，在相干激光照射下，一张线性记录的正弦型全息图的衍射光波一般可给出两个象，即原始象（又称初始象）和共轭象。再现的图像立体感强，具有真实的视觉效应。全息图的每一部分都记录了物体上各点的光信息，故原则上它的每一部分都能再现原物的整个图像，通过多次曝光还可以在同一张底片上记录多个不同的图像，而且能互不干扰地分别显示出来。 进击的全息传统(光学)全息术 ? 数字全息术 ? 计算全息术 若是去科技馆的话，经常会见到传统全息术的展品。从3D显示的效果来说，传统全息术的显示效果还是非常棒的，但是难以实现动态显示，而且干板价格比较昂贵，也不利于复制和传播。 随着数字式感光器件的发展，科学家意识到，就如同数码相机取代胶片相机一样，可以将干板换成CCD或者CMOS。由于记录下来的信息是数字化的，所以可以用计算机进行处理，即便没有参考光束，也可以用计算机计算出复现的图像，进行研究。 所谓计算全息，其实就是抛开了干涉图的记录过程，直接将光场分布使用计算机通过数学运算计算出来。这样做有一个巨大的好处，那就是可以实现任意物体的全息显示，即便这个物体在现实中并不存在。因此许多产品的防伪标识都可以使用这种方式来实现。知识扫盲区 全息技术不同于虚拟现实技术(VR)与增强现实技术(AR)。 全息是一种图像的展示方式，呈现三维立体形式，有物体的尺寸、形状、亮度和对比度等信息，AR与全息投影技术所呈现的虚拟图像都可以叫做全息。然而，全息投影与AR有着不同的技术实现手段。 全息投影也叫虚拟成像，是利用衍射原理记录并再现物体真实三维图像的技术，也就是通过记录被摄物体反射或投射光波中的信息并完全重建图像，是完全可以通过裸眼来体验的。 AR是将虚拟图像准确叠加到现实中物体上的技术；VR是通过佩戴上VR设备，在眼前覆盖一个完全虚拟的景象，通过动作的追踪，进行场景的模拟。 全息的应用 目前全息投影技术和批量生产条件相对成熟，但其应用范围还相对较窄，国内主要将全息投影技术应用到小型展柜、小型舞台中。全息投影在展柜的商业运用中，多是用于展示企业标识、小型电子产品、珠宝首饰的360°和270°展台，内容多数是比较简单的旋转动画，当然也有用于展示游戏角色的，角色有比较简单的动作。 在舞台的商业运用中，为满足舞台的观赏角度，以180°的单片全息幕居多。应用方式有虚拟表演、虚拟与真人互动、真人表演全息特效等。 在房地产展示中，全息投影沙盘的模块化硬件可以实现重复使用，减少电子沙盘、样板间模型售罄即废的资源浪费情况。而且展示内容以数字影像方式存在，展示内容灵活多变，内容量巨大，还可以很好的完成客户与楼盘间的互动。 在传统照片中的应用，全息投影照片将传统的二维平面图转变为动态的、有体感的、可全方位视角观看的图像，消费者可将自己、亲友甚至偶像的全息投影照片放置在全息投影相框中，操作方式同将电子照片放到电子相框一样方便简单，但相对于电子照片，全息投影照片的视觉效果和感官体验是全新震撼的。 当然，全息投影的应用还有很多方式，如全息投影博物馆、全息投影伴舞、全息投影视频电话、全息投影只能引导员等等。全息的前景 随着技术的不断成熟以及单位材料成本的下降，或者出现更好的替代投射材料，在这之后，作为综合性的能研究开发并提供整体解决方案和相关服务，提供硬件集成和展示内容制作一站式解决方案的供应商或许会脱颖而出，获得不菲的收益。 作为可以帮助人类解决一部分空间问题的显示技术，其应用领域及可预见的发展前景是我们难以想象到的。虽然目前仍然存在着一系列的问题，但毋庸置疑，我们相信全息投影行业具有极大的市场前景。 作为一种具有颠覆意义的革命性技术，我们可以预见到全息投影技术在很多方面具有非常巨大的、革命性的应用价值，在立体电影、电视、展览、显微术、干涉度量学、投影光刻、军事侦察监视、水下探测、金属内部探测、保存珍贵的历史文物、艺术品、娱乐场合、酒吧、KTV房、DISCO等等场所都能获得广泛的应用。

近日，山西省醋产业协会副会长王建忠在接受媒体采访时说，市面上的山西陈醋95%为勾兑醋，且大多添加防腐剂，这一说法引起了各界广泛关注。 　　一名顾客在超市对比挑选山西老陈醋。 　　针对国内市场食醋安全的争论，多位食品专家表示，勾兑醋是以酿造食醋为主体，只要按标准添加，不存在安全问题。 　　有专家表示，目前的检测手段很难区分酿造醋和勾兑醋，现行的国家标准还不够完善，亟须建立合理的醋业新国标。 　　酿造醋营养价值更大 　　勾兑醋和酿造醋有何区别? 　　1 释疑 　　鲁绯博士是北京一家食品研究所的研究员，多年来一直对中国传统发酵食醋进行研究。 　　鲁绯介绍，按照国家标准，食用醋共分为两种，一种是酿造醋，一种是勾兑醋。勾兑醋是以酿造食醋为主体，与食品添加剂等混合配制而成的调味食醋。其中，酿造食醋的比例不得少于50%。前者酿造的时间长，工序复杂，满足不了市场需求，才出现了勾兑醋。但国家对勾兑醋也是有要求的，其中酿造醋的含量不得低于50%。 　　酿造醋中除了含有醋酸，还含有乳酸等多种有机酸以及原料中带入的一些营养成分及其降解产生的营养成分，口感柔和。而勾兑醋中乳酸等有机酸营养成分含量少，酸烈一些。 　　中国农业大学食品科学与营养工程学院教授籍保平表示，有的老陈醋要用半年时间发酵，而勾兑醋就是简单勾兑，工艺相差很多，成本也低很多。 　　按标准生产可放心吃 　　2 释疑 　　勾兑醋能不能食用? 　　鲁绯表示，很多消费者觉得“勾兑”的就是不好的，其实，这是一个误解，一些传统发酵食品，例如酱油、食醋、白酒，在生产过程中，为保证产品质量的统一，勾兑只是一道正常的工序。 　　鲁绯说，因为勾兑醋中不完全是酿造醋，所以涉及保质期问题，必然要添加防腐剂，但只要严格按照国家标准要求添加，不超量不超范围使用，就不存在安全问题。 　　鲁绯透露，目前实际上不管是勾兑醋，还是酿造醋，不加防腐剂的醋很难找到，因此，“有没有苯甲酸钠并不是判断是否为酿造醋的标准”。 　　籍保平表示，勾兑是正常的方法，勾兑醋完全可以食用，国家也有针对勾兑醋的相关标准。 　　鲁绯表示，目前确有一些厂家用冰醋酸直接勾兑食用醋，这不符合我国对勾兑醋生产的规定，工业冰醋酸不是食品原料，属于非法添加剂，对人体肯定有安全危害。 　　鲁绯说，消费者最好在大超市购买正规厂家的知名产品，现在对食品安全监控越来越严，企业越大，相对来说，产品质量越有保证。 　　尚无明确标准可鉴别 　　释疑 　　勾兑醋和酿造醋好区分吗? 　　据鲁绯介绍，国家标准没有办法对酿造醋和勾兑醋进行很好地区分。因此，“山西陈醋勾兑门”其实暴露出了醋业国家标准存在漏洞。 　　他们曾与北京市食品安全监控中心一起，从大超市、农贸市场购买了各种食用醋，进行过检测方法的研究和调研，希望能找到判定酿造醋和勾兑醋的方法，但是很难把两者区别开来。 　　但根据他们的检测，一些厂家担心消费者对勾兑醋有抵制情绪，因此在勾兑醋的产品上也标称为酿造醋。 　　今年5月底，中国调味品协会组织了勾兑醋产品标准修订的研讨会，有关部门、检测单位等曾经召开过一个食用醋的标准讨论会，有人提出了区分方法，但是，由于方法还很不成熟，数据也不完善，检测成本也高，还有待要把如何检测、如何区别加到标准里，但由于检测成本太高，未能如愿。 　　鲁绯表示，这需要政府加大投入，产、学、研与检测单位等一起合作，建立新的合适的标准。 　　籍保平表示，其实，是勾兑醋还是酿造醋本身不是很严重的问题，但商家必须做到让百姓明明白白消费，国家相关部门可以设计相关的产品说明标签，贴在醋包装上，便于消费者区分酿造醋和勾兑醋。 　　■反应王建忠 　　“陈醋95%为勾兑”属误读 　　“这是采访我的记者对行业不熟悉，对我讲的话的一种误读误报”，昨天，王建忠接受本报记者电话采访时称：当时我也不是以“山西醋产业协会副会长”身份接受采访的，而是以“山西金醋生物科技有限公司董事长”身份受访的 更为重要的是，媒体所报道的内容根本不是我表达的意思，我的意思是山西95%以上的醋是添加了国家允许添加的食品添加剂苯甲酸钠。 　　据报道称：王建忠介绍，勾兑醋还分两种，一种是冰醋酸勾兑的，一种是加苯甲酸钠防腐的，放添加剂的占了95%，不添加任何防腐剂，纯酿的6度老陈醋，几乎就不多，其占市场份额不到5%。 　　“使用冰醋酸勾兑醋是不允许的，目前在山西境内没有发现用此勾兑的”，王建忠称，“山西老陈醋”由于其特殊的工艺，不需要加任何防腐剂，久放不腐，这是山西老陈醋的根本。但是“山西醋”或者“山西陈醋”则并非如此，由于它们达不到“山西老陈醋”的相关生产标准，其达不到一定的酸度，就容易变质，因此需要添加苯甲酸钠用以防腐，而按规定，这在产品的外包装上是要求对添加的防腐剂成分进行标注的。 　　“而且添加该防腐剂在全国各大醋厂具有普遍性”，王建忠这样强调：未添加防腐剂的山西老陈醋在市场上的份额也就5%左右。另外，市场上打着山西醋旗号的产品有的并非山西制造。 　　■市场调查 　　多家超市80%陈醋含防腐剂 　　80%陈醋含防腐剂 　　发酵醋价格更高些“习惯吃山西陈醋” 　　本报记者走访了北京多家超市，就市场上售卖的食用醋进行了调查。 　　以家乐福超市创益佳店为例，陈醋品牌包括：千年井山西陈醋、七秀泉陈醋、东湖陈醋、水塔陈醋、恒顺、龙门、老才臣、小二黑等12种品牌。除东湖陈醋五年陈酿500ml(玻璃瓶)、恒顺优质香醋550ml(玻璃瓶)标明无食品添加剂之外，其他的品牌均含有食品添加剂苯甲酸钠(一种防腐剂)。除了老才臣产自北京、紫林陈醋产自浙江杭州外，其他所有品牌陈醋均产自山西。 　　记者在华联超市西直门店看到，货架上的12种醋类品牌中，有8个品牌明确标明含有苯甲酸钠，还有2种品牌标明含有添加剂山梨酸钾(一种防腐剂)。其中北京老才臣、北京宽牌、江苏恒顺、江苏镇江陈醋未标明含有苯甲酸钠。 　　乐天玛特超市崇文门店内，货架上摆放的15种醋类品牌中，有12个品牌的醋类产品在食品添加剂中明确标识有苯甲酸钠，占到了总数的80%，其中有7个产自山西的品牌，均含有苯甲酸钠。 　　调查显示，北京市面上销售的陈醋中，约80%含防腐剂，其中多为苯甲酸钠。 　　发酵醋价格更高些 　　记者调查发现，陈醋中是否添加苯甲酸钠对陈醋的价格有一定影响。 　　以山西太原东湖牌陈醋为例，500ml的东湖五年陈酿没有食品添加剂，售价为14.5元，而标明含有食品添加剂的东湖陈醋800ml装仅售价7.5 元，360ml装仅售1.4元。同样，550ml恒顺优质香醋，不含食品添加剂，售价6.7元，而添加了苯甲酸钠的恒顺陈醋，800ml仅售5.9元。 　　“习惯吃山西陈醋” 　　记者观察到，山西陈醋颇受消费者欢迎，不少消费者反复对比千年井陈醋和东湖陈醋，并选择其中一种放入购物车内。 　　大部分消费者表示，在选购食用醋时，最注重的是陈醋的酿造年数，单纯从几年陈酿上来选择，倾向于选择酿造年数最久的陈醋。当被问及是否会去观察醋的成分时，年轻消费者均表示没有这个习惯，而有极少部分的老年人表示，会观察是否含有添加剂。同时，几乎没有消费者知道“陈醋多数为勾兑”一事。 　　■表态 　　责令王建忠辞去副会长 　　山西老陈醋均酿造生产 　　山西醋产业协会： 　　“协会方面已责令王建忠辞去副会长之职”，山西醋产业协会会长曹文杰昨天接受记者采访时表示，8月6日，协会组织省酿醋骨干企业开会，与会负责人一致对王建忠严重不负责任的言论表示强烈的谴责。 　　据介绍，协会方面发表了严正声明，声明称：山西省所产的山西老陈醋、山西陈醋全部是纯粮酿造，根本不存在醋精勾兑 山西食醋企业全部能按标准组织生产，不存在多加防腐剂的情况 因王建忠不负责任的言论和行为已经严重损害了协会的声誉，严重侵犯了我省食醋生产企业的名誉，协会保留对其提起诉讼追究法律责任的权利。 　　山西质监中心： 　　8月6日，山西省食品质量监督检验中心发布信息称：山西所产老陈醋产品安全可靠，不存在超范围、超限量滥用防腐剂现象，可以放心食用。 　　山西当地媒体引述山西质监局负责人的话表示：山西省内获证企业冠以“山西老陈醋”标识的均为酿造生产，目前国内市场上标注“山西陈醋”或“山西老陈醋”字样的食醋产品，并不全是山西企业生产的。

IC光刻胶开发一般来说会涉及研发设备和测试设备，其中研发设备主要就是以混配釜和过滤设备为主，此类设备需考虑纯度控制，设备内一般使用PFA内衬或PTFE涂层，避免金属离子析出。测试设备（必备的）ICP-MS、膜厚仪、旋涂机、显影器、LPC、质谱、GPC，另外关于光刻机也是核心部分。光刻胶是半导体产业重要的耗材，而有这样一家企业从事光刻胶研发多年，去年却因采购光刻机投入了人们的视野，登上了风口浪尖。苏州晶瑞化学股份有限公司（已更名为“晶瑞电子材料股份有限公司”）是一家微电子化学品及其它精细化工品生产商，公司的产品主要包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料以及锂电池粘结剂等，可应用于半导体、光伏太阳能电池、LED等相关行业，具体应用到下游电子信息产品的清洗、光刻、制备等工艺环节。其采购光刻机主要用于晶瑞化学集成电路用高端光刻胶研发项目。近日，仪器信息网从公开文件了解到该项目的相关信息，涉及工艺流程和仪器配置等信息，详情如下：项目主体工程研发方案建设项目工程一览表本项目主要生产设备一览表营运期工艺流程及产污分析：工艺流程及简述：本项目通过小试实验为晶瑞化学股份有限公司生产提供技术支撑，不产生具体产品，实验室在进行实验后得到的合成树脂与光产酸剂用于合成光刻胶，光刻胶性能测试结束后剩余物料作为危险废物委托有资质单位处理，不作为产品销售或外卖。1. 研发工艺流程图因研发中心项目每次开发过程中所使用的化学原料、可能发生的化学反应等均具有不确定性，因此研发中心项目的流程以实验研发中心为单元进行表示如下：本次研发中心项目工作流程图工艺流程描述研发中心项目具体操作流程如下：a、实验前风险评估：在此阶段科学家将对需进行的研究进行预研发风险分析，并通过相关的安全分析得出需研究项目的试验安全等级，确定试验过程中需采取的安全和环保措施。b、风险评估通过后将进入研发小试实验阶段：因研发中心项目每次实验需用到的物料和用量均无法事先设定，需根据具体的研发方向和实验要求来确定，因此研发中心项目的物料使用种类和使用量具有不确定性。但公司从环保角度考虑，研发中心项目各实验室均按标准化实验室进行建设，本次研究实验除光刻胶制备与测试在密闭的光刻机中进行，其他实验步骤均在实验室通风橱内进行，通风橱收集率为 90%，光刻机为密闭系统，产生的废气由单独的管道收集，收集率为 98%。收集后的废气经一套“蜂窝活性炭+袋式活性炭”两级活性炭处理装置处理后由 30m 高排气筒 P4 排放。研发中心项目实验过程得到的合成树脂与光产酸剂用于合成光刻胶，光刻胶性能测试结束后剩余物料均收集后作为危废委外处理，有妥善的处理处置方式。具体研发实验工艺：1、树脂合成工艺：树脂合成工艺流程树脂合成工艺流程简述如下：除氧：常温、常压下，向搭载机械搅拌、冷凝管和温度计的四口烧瓶中持续通入氮气，除去反应瓶中的氧气，氮气作为保护气体，可以保护后续反应不受氧气干扰。聚合反应：除氧后向四口烧瓶中依次加入反应所需单体，引发剂及适量溶剂后，将四口烧瓶置于油浴锅（加热辅材为硅油）中使用机械搅拌器搅拌至四口烧 瓶中的物料搅拌成透明均一的溶液，于设定温度条件下油浴锅加热反应，红外监测反应进程。油浴加热为间接加热，使用硅油作为加热辅材，硅油的沸点高于100摄氏度，油浴加热所需的加热温度为 20~60 摄氏度，该温度下硅油几乎不产生油雾，反应在通风橱中进行。引发剂和溶剂的添加种类与添加量，单体的配比等根据设定的工艺路线及实验的测试结果进行优化。该过程使用的单体有：（A）丙烯酸酯类单体（甲基丙烯酸 5-氧代四氢呋喃 -3-基酯，2-甲基 2-金刚烷基甲基丙烯酸酯，丙烯酸叔丁酯）；（B）马来酸酐；（C）降冰片烯；加入的溶剂为二氧六环；引发剂为：对甲基苯磺酸、偶氮二异庚腈、偶氮二异丁酸二甲酯、偶氮二异丁腈、过氧化苯甲酰，以及氨水。反应过程中无废液产生，反应装置使用自来水间接冷却。该反应过程产生 G1-1 有机废气、G1-2 氨气。聚合反应方程式一次清洗、过滤、干燥：使用滴液漏斗将树脂溶液用丙酮稀释，通过滴液漏斗缓慢滴加到 5 倍用量纯水中，将上述混合物倒入布氏漏斗，并用真空泵抽滤，得到白色粉末产物，将得到的产物放置于 65 ℃ 烘箱烘 20h（仪器可定时，烘干结束后自动停止）。树脂沉淀过滤过程中，产生 S1-2 废滤材及 S1-2 清洗废液，均作为危废委托有资质单位进行处理。干燥过程产生 G1-2 有机废气。金属离子去除：将离子交换树脂填充到离子交换柱中。将醋酸丁酯和聚合物 粉末于烧杯中溶解，并调节体系固含至 15-20 wt%。将树脂溶液直接倒入离子交 换柱中，流经离子交换树脂，循环多次，ICP-MS 金属离子浓度低于 10 ppb。该过程产生固体 G1-3 有机废气、S1-3 离子交换树脂。二次清洗、过滤、干燥：将树脂溶液缓慢滴加到去 5 倍用量的纯水中（1L 废水量），抽滤得到白色粉末状聚合物，将得到的产物放置于 65 ℃ 烘箱烘 20h（仪器可定时，烘干结束后自动停止），产生 S1-4 废液、S1-5 废滤材、G1-4 有机废气。水分测试：加入卡尔菲休试剂，使用水分仪检测水分含量至 2000ppm，该过程产生 G1-5 有机废气，S1-6 测试废液。理化性质测试：树脂经过真空干燥后，在测试实验室中使用四氢呋喃、DMF、四氢呋喃、重水、氘代丙酮、氘代氯仿、DMSO-d6、甘油、丙二醇甲醚醋酸酯、乙腈、丙酮、溴化钾、硝酸钾等溶剂对树脂的理化性质进行测试。通过核磁测试聚合物结构，通过凝胶渗透色谱测定聚合物分子量大小，该过程产生 G1-6 有机废气以及 S1-7 测试废液。2、光产酸剂制备工艺：光产酸剂制备工艺流程生产工艺流程简述如下：备料：光产酸剂制备研发实验常用的原料包括：对羟基苯磺酸钠、十二烷基苯磺酸、樟脑坤磺酸钠、和三苯基氯化硫鎓盐，二苯基氯化碘鎓盐、醋酸酐、间苯二酚等；溶剂包括：纯水、甲醇等；该工序产生 G2-1 有机废气。合成：将光产酸合成所需原料钠盐加入到搭载机械搅拌的四口烧瓶中，用水溶解。光产酸剂合成反应方程式萃取：通过滴液漏斗向烧瓶中缓慢滴加鎓盐溶液，于室温下反应 3-5 个小时。静止分层，除去上层水溶液，并继续用水洗涤 3 次，用甲醇萃取产物，该工序产生 S7 废液。该工序产生 S2-1 废液以及 G2-2 有机废气。干燥、过滤：用无水硫酸钠干燥甲醇萃取液 24h，然后过滤。该工序产生 S2-2 硫酸钠以及 S2-3 废滤材。旋蒸：使用旋转蒸发仪将滤液旋蒸后得到产物光产酸剂。该过程产生 G2-3 有机废气。3、光刻胶制备与测试：光刻胶制备与测试工艺流程该工艺全部在光刻机中进行，工艺流程简述如下：样品制备与测试：样品制备所用树脂为实验室自主研发合成，光致产酸剂为自主研发合成；所用溶剂包括：丙二醇甲醚醋酸酯、乳酸乙酯、二甲苯、γ -丁内酯、丁酮、丙二醇单甲醚、醋酸丁酯、石油醚、二甘醇单丁醚、甲基异丁基酮、DMAC、NMP等。调制时根据设定的工艺路线或前次的测试结果选择加入不同的树脂和溶剂。将所用的树脂与光致产酸剂、碱性添加物三辛胺等和溶剂按照一 定的比例混合、溶解。样品调制用树脂主要包括：酚醛树脂、重氮萘醌磺酸酯、叠氮类化合物、甲醚化三聚氰胺等。光产酸剂有：三苯基硫鎓盐、二苯基碘鎓盐、三嗪类化合物等。样品制备过程中无化学反应发生，不产生污染物。过滤：使用漏斗等过滤仪器将样品过滤，该工序产生 S3-1 废滤材。光刻胶成膜、烘干：使用匀胶显影涂布机将调制好的光刻胶涂布在硅片上， 涂布好的硅片用100℃热板烘干。涂布、烘干过程中光刻胶中的有机溶剂挥发产生 G3-1 有机废气；剩余的光刻胶报废处理，产生 S3-2 废光刻胶。冷却：将涂布、烘干后的硅片冷却至室温，该工序产生 G3-2 有机废气。光刻胶曝光显影：将冷却至室温的硅片放入曝光机内曝光。曝光结束后将硅片放入显影液中显影，显影后使用纯水清洗硅片即可得到微米或纳米级别图案。实验室常用的显影液包括：四甲基氢氧化铵、氢氧化钾、氢氧化钠溶液等，该工序产生 S3-3 碱性废液。成像测试：主要通过显微镜、椭偏仪等仪器观察光刻胶图形的成像效果。测试后产生 S3-4 废硅片。4、仪器清洁：仪器清洗工艺流程工艺流程简述如下：残余物溶解：加丙酮溶解仪器内残留的光刻胶或树脂，产生溶解废液 S4-1，丙酮挥发产生有机废气 G4-1；清洗溶剂：加少量纯水，清洗仪器内残留的废液，产生含有机溶剂的清洗废液 S4-2，丙酮挥发产生有机废气 G4-2；擦拭：使用无尘布蘸取少量丙酮擦拭干净仪器内壁，产生有机废气 G4-3。润洗：待仪器干燥后，使用纯水对仪器进行润洗，产生的 W1 润洗水排入污水管网；干燥：仪器清洗干净后放在置物架自然晾干或放入烘箱烘干。上述流程除光刻胶制备与测试在密闭的光刻机中进行，其他实验步骤均在实 验室通风橱内进行。5、设备清洗设备清洗工艺流程使用纯水对设备进行清洗，使用的工段有：（1）显影工艺中对硅片进行喷淋清 洗；（2）湿法曝光工段中作为镜头与硅片间的浸没液体；该工序产生清洗废液，作为危废委托有资质单位进行处理。 纯水使用情况详情见下表：设备清洗用水汇总

湖南省市场监督管理局关于特种设备检验检测机构专项监督检查情况的通报各市州市场监督管理局，相关特种设备检验检测机构：为贯彻落实《特种设备安全监督检查办法》（国家市场监督管理总局令第57号）及全省特种设备安全监察工作会议精神，省局组织对部分在我省开展检验检测工作的特种设备检验检测机构（以下简称检验检测机构）进行了专项监督检查。现将有关情况通报如下：一、检查依据及目的依据《特种设备安全法》《特种设备安全监察条例》《特种设备检验机构核准规则》（TSGZ7001—2021）《特种设备检测机构核准规则》（TSGZ7002—2022）和相关技术标准规范，通过开展专项监督检查，查找各检验检测机构存在的问题，推进检验检测机构规章制度健全、操作规程有效、质量管理体系稳定运行，不断提升特种设备检验检测工作质量。二、专项监督检查情况省局组织专项检查组以“四不两直”的方式对7家检验检测机构进行了专项监督检查，共发现各类问题49条（问题清单详见附件），主要问题如下：（一）检验检测工作质量方面。一是部分检验机构存在缺少或漏检必要的检验项目（如：管道射线检测透照次数少于规定要求；管道检验直接开挖检测中开挖数量少于规定要求；管道检验报告中缺少腐蚀防护系统质量等级评价内容）。二是检验报告（记录）与现场实际不符（如：压力容器检验报告中安全阀数量、整定压力与现场使用的不一致；管道检验报告中三桩检验未记录实际发现的问题；射线检测记录和操作指导书中管道规格、材质、焊接方法与实际不符）。三是检验检测记录填写不规范，存在信息记录漏项、填写错误等情况（如：射线检测记录和评片记录中未填写日期；压力容器检验记录中“主体结构形式”将“夹套式”填写成“单层”）。（二）质量管理体系方面。一是个别检验检测机构存在超核准范围检验；二是质量管理体系文件未及时修订更新，部分质量管理体系文件仍在引用过期规范标准；三是个别检验机构未按《特种设备安全法》的要求对检验中发现的严重事故隐患及时报告特种设备安全监管部门；四是部分检验检测机构未按安全技术规范要求开展检验检测工作。三、有关要求（一）从严查处相关违法行为。此次检查发现，四川汇正管道技术有限公司、四川宇通管道技术有限责任公司、湖南科信检测有限公司、湖南九宫格智能科技有限公司和湖南安广检验检测有限公司在检验检测工作中涉嫌违法，省局已分别交办岳阳、娄底、长沙、常德等市局进行进一步核查处理。一旦查实确属违法，各相关市局要一律依法从严查处，并将查处情况及时上报省局。（二）强化检验检测机构监管。各级市场监管部门要充分认识检验检测工作质量对特种设备安全的重要作用，切实履行法定职责，加强对检验检测机构的监督检查，要将本次专项监督检查中发现问题的机构列为重点监管对象，加大监督力度，对存在违法违规行为或存在重大安全隐患的检验检测机构，要依法依规严肃查处。要进一步压实压紧检验检测机构主体责任，督促指导检验检测机构依法施检、依规施检、科学施检、安全施检、廉洁施检，为企业排险除患提供专业化技术指导和服务。（三）提升检验工作质量。各级市场监管部门要组织开展问题隐患自查整改“回头看”，督促检验检测机构举一反三认真查找并整改“同类项”问题，确保此次专项监督检查行动见成效。全省各检验检测机构要严格执行法律法规和安全技术规范，修订完善检验方案和作业文件，强化检验检测工作质量考核，杜绝检验项目漏检、缺检、错检；要加强人员培训和检验检测案例学习研讨，不断提升检验检测队伍能力素质和检验检测工作质量。（四）抓实问题整改销账。相关市（州）市场监管部门对本次专项监督检查中发现的问题要逐一下达安全监察指令，督促被抽查单位建立问题清单和整改台账，按时限要求完成整改。对存在逾期不改的或有重大违法违规行为的（如持证人员挂靠、出具虚假报告、未按安全技术规范要求开展检验检测等）检验检测机构，应依法予以处罚，情节严重的可依法吊销许可证书，并通报相应许可机关。本次专项监督抽查整改工作于2023年5月31日前完成并将整改情况报送省局特种设备局。联系人：杨飞宇，0731-85693141邮箱：273768656 @qq.com附件：检验检测机构专项监督检查问题清单湖南省市场监督管理局2023年5月11日附件检验检测机构专项监督检查问题清单序号检验检测机构名称检查情况及发现的问题1四川汇正管道技术有限公司一、汨-湘-屈支线长输管道检验报告存在的问题1、检验报告中分项报告未设置签字和日期栏；2、防腐层破损点缺陷分类无标准依据；3、阴极保护有效性检测，部分检测数据超过标准要求，报告未提出该问题；4、报告中腐蚀防护系统综合评价、绝缘接头绝缘性能检测、剩余强度评价等项目只有结论，无检测数据或分析计算过程，未能提供相关见证材料；5、腐蚀防护系统的综合评价等级为2级，根据根据《压力管道定期检验规则—长输管道》（TSGD7003-2010）要求至少开挖5处，报告中开挖点只有1处，开挖数量不够，且开挖检测项目不全，缺少防腐层厚度等项目。二、汨罗-平江支线长输管道检验报告存在的问题1、检验报告中分项报告未设置签字和日期栏；2、防腐层破损点缺陷分类无标准依据；3、阴极保护有效性检测，部分检测数据超过标准要求，报告未提出该问题；4、报告中腐蚀防护系统综合评价、绝缘接头绝缘性能检测、剩余强度评价只有结论，检测数据或分析计算过程，未能提供相关见证材料；5、腐蚀防护系统的综合评价等级为2级，根据《压力管道定期检验规则—长输管道》（TSGD7003-2010）要求至少开挖6处，报告中开挖点只有1处，开挖数量不够，且开挖检测项目不全，缺少防腐层厚度等项目。2四川宇通管道技术有限责任公司1、检验报告中开挖点分项检测报告3～22的检测日期为2022年11月29日～12月5日，而该检验报告结论页的编制、审核、审批日期均为2022年11月16日，涉嫌出具虚假检验报告；2、检验报告中管线敷设环境调查报告的土壤电阻率检测结果大量错误，引用该数据的土壤腐蚀性等级评价、交流电流密度计算结果、交流干扰程度的评判结果、破损点评价结果、腐蚀防护系统评价等一系列数据或结果都受到影响。该检验公司涉嫌检验、检测结果严重失实；3、检验报告中多个交流干扰电压变化曲线图与评定结论描述不相符，涉嫌出具虚假检验报告或检验、检测结果严重失实。3湖南科信检测有限公司一、在国家能源集团湖南岳阳华容电厂开展的无损检测存在的问题1、编号为7CQ-11的焊口射线检测底片与焊口实际不符；2、射线检测委托单上无监理签字；3、射线底片上的焊工代号与委托单上的不一致；4、编号为1CQ-35的焊口，底片编号1-2上像质计未横跨焊缝，底片编号2-3与3-4上搭接标记不全，底片编号6-1搭接标记间距为150mm，不符合NB/T47013.2-2015标准要求；5、管道编号IZ-E-1第49号焊口返修片49R1无像质计；6、抽查的射线检测记录中增感屏厚度不符合射线操作指导书要求；7、抽查的射线检测记录和操作指导书中管道规格、材质、焊接方法与实际不符；8、抽查的射线检测记录和评片记录中未填写日期。二、在湖南华电平江发电有限公司开展的无损检测存在的问题1、抽查的编号为SXJC.B-PJ#1-GL-132、133、134、135、136等报告中每道焊口透照次数为4次，透照焦距为400mm，按照NB/T47013.2-2015标准，该透照焦距下，此类规格管道的透照次数应该为6次，该检测报告涉嫌射线检测漏拍；2、编号为SXJC.B-PJ#1-GL-140、153、154的报告中每道焊口透照次数为1次，按照NB/T47013.2-2015标准，该类规格管道的透照次数为2或3次，该检测报告涉嫌射线检测漏拍。4沈阳龙昌管道检测有限公司1、检验报告中分项检测报告未设置签字和日期栏；2、报告中三桩检验未记录实际发现的问题；3、报告中无腐蚀防护系统质量等级评价；4、报告中直接开挖检测中土壤腐蚀性检测、防腐层检测项目不齐全。5湖南九宫格智能科技有限公司1、对长沙雅士亚华程酒店有限公司所使用的一台无使用登记证的压力容器出具了结论为符合要求的定期检验报告；2、2台压力容器检验报告中安全附件检验报告的安全阀数量、整定压力与容器现场使用的安全阀不一致；3、检验记录和检验报告中“主体结构形式”填写“单层”有误，应该是“夹套式”；4、检验记录和检验报告中部分内容不明确，比如“壳体（壳程）”“夹套（管程）”等未进行选择。6湖南安广检验检测有限公司1、涉嫌超核准范围检验门式、桥式起重机械；2、质量管理体系文件未结合公司核准范围，不具备科学性、适应性和操作性；3、组织机构图存在逻辑错误；4、作业指导书中涵盖了大型起重机械检验内容；5、部分过期规范标准仍在引用；6、特种设备安全监管部门仍写成质量技术监督局；7、部分岗位无职责，而部分明确了职责的岗位未在相关图中明确；8、未明确各类设备的检验责任部门；9、未根据公司的实际需要任命法规标准责任人；10、未按《特种设备安全法》的要求对检验中发现的严重事故隐患及时报告特种设备安全监管部门作出规定；11、部分检验报告中，检验人员和审核人员为同一人，不符合三级审核要求；12、部分检验报告（如燃气管道检验报告）未按公司规定时限及时出具；13、对检验人员和相关责任人员的安全教育和技能培训工作未落实。7湖南省特种设备检验检测研究院益阳分院1、抽查益阳中心医院有6台电梯原检验有效期至2023年1月，而检验完成日期为2月。检验完成后，湖南省特种设备检验检测研究院益阳分院未发使用标志，并且对设备超期未检的严重隐患未按《特种设备安全法》《特种设备安全监察条例》等法律法规的要求向监察机构书面报告重大问题；2、抽查益阳中心医院的电梯使用标志（检验合格标志），有一台电梯的使用标志未标明设备代码、单位内编号、登记证编号；3、部分检验意见通知书中应注明整改事项要求；4、抽查压力管道检验报告，检验报告中检验图示（如测厚点的具体位置）未明确；5、抽查安全阀校验报告，报告中对安全阀安装位置描述不准确。

7月1日，广西贺州市贺江部分河段网箱出现死鱼现象，7月5日，死鱼现象加重，当地向自治区环保厅报告情况，经检测才发现，原来贺江上游马尾河口至贺州市与广东省交界处江段水质中的镉、铊出现不同程度的超标。 　　&ldquo 类似铊这样的重金属，并不在常规的水质监测中。&rdquo 水质监测专家、珠江流域水环境监测中心原副总工程师曹永旭告诉羊城晚报记者，国家对河段水质的监测有设基础指标，铜、铅、锌、镉、六价铬和锰等几种重金属是常规检测项目，以人力采样、分析、监测为主，也难以每日每时监测。 　　&ldquo 即使这些重金属，如果不在检测时段出现污染，监测部门也未必能发现。&rdquo 曹永旭解释说，而像铊这样的重金属，并不在常规水质监测指标内。监测这样的重金属污染只能靠鱼类。贺江污染事件曝光后，每小时从江水取样后，环保部门都要开车几个小时到南宁或广州进行检测，数据有滞后性。水质监测受距离、人力、仪器、经费等各种外在客观条件所限。即使有这些设备，也不是实时监测水中的重金属超标情况，还要送到有科研力量的机构，这些机构也需要花很长时间，才能测出重金属是否超标。 　　&ldquo 并非政府不想监测铊这些重金属，主要是条件限制。监测铊的设备都是进口仪器，对存放环境要求十分高，要求是无尘的。一套设备200万元。目前只有广州自来水公司等大型单位科研机构才有设备。&rdquo 　　曹永旭说，在监测设备缺少时，水生物鱼类是一种有效的生物监测和预警手段，国外和国内不少自来水厂会在前置的取水口专门养鱼，通过观察鱼的特殊回避特性来看水质是否出现污染。鱼类可通过嗅觉、味觉、视觉，侧线及其他感受器而感受水中化学成分变化，对水中有些重金属离子(如汞、铜、锌等)，具有很高的敏感性。 　　曹永旭建议，在韶关、广东广西交界处等冶炼、矿业较多地区，最好开展铊等重金属的监测，以保证人们健康。

8月24日，日本政府不顾国内外反对，福岛第一核电站启动核污染水排海，并计划排放30年。该消息发布后，引起我国出现盲目“抢盐”的恐慌现象，并导致核辐射检测仪在线上平台火爆销售，甚至被抢购一空。许多专家表示，我们无需过度恐慌，理性关注即可，也有人支持购置核辐射检测仪来保证身体安全，那么作为大众居民，我们是否必要购置核辐射检测仪？其原理是什么？核辐射检测仪到底是不是“智商税”？且听本网来揭秘。核辐射检测仪的原理核辐射检测仪是通过探测放射性物质的衰变过程来进行工作的。放射性物质会不断地释放出α粒子、β粒子、γ射线等辐射，这些辐射会与检测器中的物质相互作用，产生电离效应。在这个过程中，检测器中的物质会失去一部分电荷，导致检测器中的电荷量发生变化，从而产生电信号。核辐射检测仪通常采用闪烁晶体作为探测器，闪烁晶体是一种能够吸收射线并转化为可见光的物质。当放射性物质释放出的射线进入闪烁晶体时，晶体中的原子或分子会吸收这些射线，并把它们转化为可见光。这个过程被称为光致发光。然后，光被收集到光电倍增管中，并转化为电信号。这些电信号会被放大和整形，以便后续的信号处理和测量。除了闪烁晶体，核辐射检测仪还可以使用其他类型的探测器，如半导体探测器、液体闪烁计数器等。半导体探测器的工作原理与闪烁晶体类似，都是基于放射性物质的衰变过程，通过探测器中的物质与辐射相互作用产生电离效应，从而检测辐射的强度和类型。而液体闪烁计数器则是一种将闪烁剂和光电倍增管结合在一起的探测器，它能够测量β粒子和γ射线。总之，核辐射检测仪是基于放射性物质的衰变过程进行工作的，通过探测器中的物质与辐射相互作用产生电离效应，从而检测辐射的强度和类型。闪烁晶体和光电倍增管是核辐射检测仪中非常重要的部件，其性能直接影响核辐射检测的准确性和稳定性。随着科学技术的发展，核辐射检测仪的材料和性能将不断得到改进和完善，为保障人类安全和环境健康做出更加重要的贡献。核辐射检测仪的应用场景辐射检测仪的应用场景广泛，主要包括以下场景：1.核物理实验室、科研单位放射性实验室等会产生放射性物质的单位，主要用于日常放射性物质剂量检测，以便及时处理。2.用于海关和边境巡逻等，防止犯罪分子取放射性材料及放射性物质袭击的应急响应。3.环保部门、钢铁石材检测、矿山或金属检测公司等，用于监测放射源。4.医疗、工业等领域的X射线仪器的X射线辐射强度。5.其他检测放射性物质需要。综上所述，辐射检测仪的应用场景非常广泛，应用于各大领域。我们需要购买核辐射检测仪吗？最近的央视报道中，华南理工大学环境与能源学院教授张永清表示：“普通百姓购买放射性检测仪必要性不强。因为放射性测量过程中，只有一个仪器还是不够的，还要有相应适合的方法，不同的核素有不同的方法来进行测量，而且不同的样品有不同的前处理方法。如果说一般普通老百姓只是买一个仪器来测，他们还不具备专业的方法。”市面上价格较低的核辐射检测仪往往精度低，难以真正检测出放射性物质，而较为专业的核辐射检测仪价格昂贵，且需要专业知识和技能才能正确使用和维护才能合理使用。其次，普通人在日常生活中接触到的辐射量通常是非常低的，不需要过于担心辐射对健康的影响。而且，即使周围存在一些放射性物质，核辐射检测仪也并不能保证绝对的安全。因此，建议普通人不要盲目购买核辐射检测仪，更不需要过度恐慌，如果确实需要检测辐射水平，可以寻求专业的检测机构或者政府部门进行检测。

荧光检测仪是一种同时分析包括黄金(Au)等24种元素的仪器。应用在生物化学、生物医学、环境化工等部门。那么我们对于小白的我们，为了购买一台荧光检测仪，需要注意什么?和荧光检测仪选购误区。接下来和一六仪器了解。　　首先要判断一台原子荧光检测仪的级别。技术指标是决定一台原子荧光光谱仪级别高低的根本。技术指标越好，其级别越高。其次，在同等级别的基础上要衡量比较仪器的配置与功能。功能多，配置高的仪器在相同级别下档次就高。　　一个选购误区是非常值得注意的，就是以某个系统部件的性能来断定整台仪器的级别。这种以偏概全的断定方式是不科学的，也是非常不可取的。因为一台原子荧光光谱仪是由多个系统所组成，只有在各系统良好的配合使用下，仪器才能达到理想的使用效果。类似于木桶原理的短板效应。　　在能满足检测要求后，根据相应需要选择不同的配置，这里要有6看：　　一、看耐用性与使用的方便性：是否易操作，易维护。　　二、看测试速度：多长时间测试一个数据，是否能做到省时，。　　三、看操作软件的友好性：操作软件是否界面友好，方便实用。　　四、看售后服务：售后服务人员是否能在帮助安装调试的同时帮助解决测试样品的方法及仪器使用时所出现的问题。　　五、看扩展功能：选购的仪器能否与任何型号的液相色谱进行无缝对接，扩展形态分析 能否升级拓宽检测元素范围。　　六、看价格：选购的仪器价格是否合理，是否能够接受。　　以上就是一六整理分享的关于荧光检测仪选购误区及选购时需要注意的六点。想了解更多相关资讯，欢迎持续关注。

上篇聊的偏粗线条，这篇会聊一些更细节的半导体“黑话”，还有就是这些半导体独立王国的“语言”和我们“正常人”说的话到底有什么关联，毕竟半导体行业不是凭空出世的，芯片人更不是“空降兵”，这个细分领域的技术和应用是有其根基和土壤的； “正常”电镜人里做冷场发射电镜CFESEM的，特别是做氦离子显微镜HIM的，都熟悉“Anneal”这个术语，指的是通过瞬间加热灯尖驱逐吸附的气体分子，增强钨单晶的活性以便于灯尖切削，俗称“重生”；半导体对“Anneal”的”黑话“称呼差别比较大叫回火，又称退火，也是对wafer进行热处理的一种手段；更广义地讲，集成电路IC工艺中所有的在氮气等不活泼气氛中进行的热处理的过程，都可以称为退火；”退火“与“重生”异曲同工，目的一是激活杂质，使不在晶格位置上的离子运动到晶格位置，以便具有电活性，产生自由载流子，起到掺入杂质Doping的作用；二是消除损伤，离子植入Ion Implatation后回火是为了修复因高能加速的离子直接打入芯片而产生的损毁区；由于进入底材Substrate中的离子行进中将硅原子撞离原来的晶格位置，而导致的晶体的特性改变就叫损毁；而这种损毁区，经过回火的热处理后即可复原。这种热处理的回火功能可利用其温度、时间差异来控制全部或局部的活化植入离子的功能。氧化制程中也有回火工序，主要是为了降低SiO2的晶格结构。退火方式有传统的炉Furnace退火，还有更先进的快速退火：包括脉冲激光法、连续波激光、非相干宽带频光源；如卤光灯、电弧灯、石墨加热器、红外设备等；“Furnace”在透射电镜TEM样品加热杆Heating holder上很常见，就是“坩埚”。 这里提到的离子植入Ion Implantation对熟悉FIB的“正常人“并不陌生，传统聚焦离子束利用Ga+离子束进行切割Milling、截面Sectioning、或是在气体注入系统GIS的配合下做刻蚀Etching，离子束在不同的气体配合下，可以做到选择性刻蚀Selective Etching，或增强型刻蚀Enhanced Etching；在FIB中，掺杂物Dopant对样品的掺杂Doping，我们是不希望看到的，注入到样品里的Ga+会被视为对样品的污染Contamination；而晶圆制造中的离子植入，是在原本本征的半导体里主动的植入或通过扩散的方法将其它的原子或离子掺杂进去，达到改变其电性能的方法，这里，我们是希望看到样品wafer性能发生改变的； 甚至，当一般植入的离子分布达不到要求时，还会加码，通过进炉管Furnace加高温的方式将离子进行扩散Diffusion，以达到我们对离子分布的要求，同时对离子植入造成的缺陷进行修复；这里涉及到的设备叫扩散炉Diffusion furnace；此工序就是在扩散炉管内通以饱和的杂质蒸汽，使芯片表面有一高浓度的杂质层，然后以高温使杂质驱入扩散，快速完成固态扩散需要约数亿年才能完成的任务；Diffusion虽然能较精确地选择杂质Dopant的数量，但受限于离子能量，无法将杂质驱入芯片更深（um级别）的区域了；因此需借着原子有从高浓度往低浓度扩散的性质，在相当高的温度去进行，一方面将杂质扩散到较深的区域，且使杂质原子占据硅原子位置，产生所要的电性，另外也可将植入时产生的缺陷消除；此方法就称为驱入Drive-In；“Drive-in“在这里就不是那种能直接开车进去看电影的露天电影院了；”Drive-In”工艺中，不再加入半导体杂质总量，只将表面的杂质往半导体内更深入的推进；在驱入时，常通入一些氧气﹒因为硅氧化时，会产生一些缺陷，如空洞Vacancy；这些缺陷会有助于杂质原子的扩散速度；电镜中用到的超高真空泵-离子泵Ion Getter Pump，有和上面说的半导体的“Drive-in”手段类似，通过将杂质气体分子驱入离子泵的钛合金板，逐步达到提升真空的功效；顺便一句，半导体制程中用到的”特种气体“，”黑话“叫”特气“。 还记得”正常“电镜上熟悉的用来做表层污染物去除的Plasma cleaner等离子清洗吗？电子枪和电子光学镜筒装配前会用来轰击清洁样品表面，避免超高真空下的发气outgassing，俗称”轰击台“；晶圆制程中的这类设备就叫Arc Chamber弧光反应室，和“轰击台”原理一样，事实上设备就是利用一个直流式的电浆发生器，操作电流产生的弧光电浆来清洁抛光晶圆表面；这里的电浆就是又一句半导体“黑话”，正常人一般叫它Plasma，或等离子体；电浆Plasma是人类近代物化史上重大的发现之一，指的是一个遭受部分离子化的气体，气体里面的组成有各种带电荷的电子，离子，及不带电的分子和原子团等；电浆发生器的两金属极板上加上直流电压而产生的电浆我们就叫它直流电浆DC Plasma了； 提到电浆，就顺便说下晶圆的镀膜Deposition环节；相比较使用化学蒸气沉积CVD Chemical Vapor Deposition方法的镀膜，使用物理蒸气沉积法PVD的镀膜工艺在高制程中更常被用到；PVD制程中，脱离电浆的带正电荷离子，在暗区的电场的加速下，获得高能量，当离子与阴电极产生轰击之后，基于能量传递的原理，离子轰击除了会产生二次电子以外，还会把电极表面的原子给"打击"出来，称为sputtering溅射；电极板加直流电压称为DC Sputtering直流溅射；阴极导电材料，因为像“靶子“被电浆打击，被称为靶材Target；说到这里，我嘘了一口气；终于，半导体人也不是必须只讲自己人的”黑话“，他们跟”正常人“一样，还是能讲些”人话“的；需要溅射镀膜比较细腻的可以用磁控DC溅镀机：为了使离子在往金属靶表面移动时获得足够的能量，除了提高极板间的电压外，还必须使离子在阴极暗区内所遭受的碰撞次数降低，就必须降低溅渡的压力，越低越好，以增长离子的平均自由行程；这样一来，单位体积内的气体分子数降低，使得电浆里的离子浓度也降低，导致溅渡薄膜的沉积速率变慢，整体镀膜更加细腻；“正常”电镜实验室中，为了增加样品导电性，我们会去给样品镀一层金膜，这里的“镀金仪”就是缩小版的Fab里的PVD设备了；除了“镀金”，我们还经常会去“镀碳”；碳膜比起金膜来，可以增强样品表层导电性，但不会影响到“打能谱”，标定样品的化学元素信息；所以生物样品常用镀金，材料样品更愿意镀碳，就是这个道理； 我们利用Sputtering溅射技术镀金，镀碳的技术则为Evaporation蒸镀；Fab里的采用蒸镀技术的PVD设备，就是将蒸镀源放在坩埚Furnace里加热，当温度升高到接近蒸镀源的熔点附近时，原本处于固态的蒸镀源的蒸发能力将会特别强，利用这些被蒸发出来的原子，就可在附着在离其不远处的芯片Wafer表面上，形成薄膜式的沉积层，这种方法就是蒸镀Evaporation了；随着用以隔离之用的场氧化层FOX，CMOS电晶体，金属层及介电层等构成IC的各个结构在Chip芯片上建立之后，芯片的表面也将随之变得上下凸凹不平，致使后续制程变得更加困难；所以，传统半导体制程就开始执行芯片表面平坦化的技术了；以介电层SiO2的平坦化为例，有高温热流法、各种回蚀技术及旋涂式玻璃法；当 超大规模集成电路 VeryLarge Scale Integration- VLSI的制程推进到0.35um以下后，上面这些技术就不能满足制程需求了，故而也就产生了Chemically Mechanical Polishing化学机械研磨法CMP制程；所谓CMP就是利用在表面布满研磨颗粒的研磨垫Polishing pad，对凸凹不平的晶体表面，藉由化学助剂Reagent的辅助，以化学反应和机械式研磨等双重的加工动作，来进行其表面平坦化的处理；看到这里，您不难看出，这个半导体的CMP不就是我们“正常”实验室人经常操作的电化学抛光Electro-ChemicalPolishing制样流程吗？怎么什么进了半导体应用的门槛就非得改名，开说“黑话“呢？由于半导体芯片行业薪酬普遍高出“正常“行业一头，导致在这个行业里的从业人沾沾自喜；笔者接触过一位有幸掌握了CMP操作技术的年轻人，”下界“来做电镜售后，满脑子都是半导体厂里的条条框框，动辄fingerpointing这个那个流程不够详细规范，无法操作，责任不明等等，俨然就是一位被半导体惯坏Spoiled的巨婴，”下凡“之后连正常思考都不会了；这里例子让我知道了即使在光鲜的半导体行业里，也会培养出只知规程，而实际却”四体不勤，五谷不分“的庸才。通篇看到这里，要是您要还没说“服了You”的话，那下面我们再接着多看多学一堆半导体的”黑话“吧；一片大硅片、OR晶圆，即Wafer上有许多相同的方形小单位，这些小单位叫Die，大家在这里肯定都理解这不是那个常用动词了吧？不过学材料的同学，你们知道它“黑话“叫“晶粒“吗？这回不淡定了吧；同一片上的每个Die晶粒都是相同的构造，具有相同的功能，每个晶粒经切割封装后，就制成了一颗颗我们日常生活中常用的IC芯片了，所以每一个大晶圆片所能造出的小IC数量是很可观的；同样地，如果因制造的疏忽而产生的缺陷，往住波及到同一批次Lot里成百成千个产品；说到这里，各位看官也明白为什么晶圆厂都喜欢300mm，就是12英寸的大硅片了吧；没错，一次出货出的多，省耗材省时间，人人喜大普奔；这里再来个插科打诨，Die的复数这里“黑话“叫Dice；没错，就是我们耍的”骰子“一个词；让我们期盼这来之不易的晶圆片不会轻易地godie，好不容易划片成功的裸Die不会变态地被当骰子耍吧；Fab里最贵的三类设备，也就是晶圆制造前道工艺中的三大设备了；除了上面提到的各类“D”类Deposition沉积镀膜设备，其余两大设备就是听得耳朵都长茧子的的光刻机Photolithography“L“类设备，和光刻后的刻蚀机Etching”E“类设备了；目前海外Fab使用最广泛的光刻机就是DUV深紫外光刻Deep-UV lithography，和ASML动辄卖上亿美元一台的EUV极紫外光刻机Extreme-UV lithography了；不知不觉中，ASML和EUV似乎成了光刻机的代名词；事实上，能够在硅基上“刻”出图案的技术有多种：X射线光刻 X-ray lithography、电子束光刻 Electron beamlithography EBL、氦离子束光刻 Helium ion beam lithography、等离子体飞秒激光光刻Femtosecond Plasma Lithography FPL、纳米压痕刻Nano Imprint Lithography NIL；这么多种类的光刻技术，光刻机的供应商自然不会只有ASML一家，ASML倒确实是唯一一家既可以做EUV光刻，也能做EBL光刻的光刻机“大户”；ASML是在收购了用13260只电子束EBL跟它PK光刻老大败北的Mapper后，同时获得这项技术的；上面有提到可以说是半导体芯片行业使用频率可以排名前三的“黑话”，叫Fabless，业务里不做Fab的就叫Fabless；我们现在聊到了光刻，曝光时需要拿一片事先印好图形玻璃模板叫Mask或Reticle，放在光源与物镜之间的这一类叫做光罩Mask光刻，DUV、EUV光刻就是这类了；同理，曝光过程中不用模板辅助显影，而是光源直接接触硅片的技术就叫无光罩Maskless光刻了，带电粒子束光刻，也就是电子束、离子束一类光刻就属于这类了；“黑话”的特性是除了“道上”的同行，别人都听不懂的；这里的Maskless就又是一个“活生生”半导体的“黑话“的例子；既然提到“曝光“exposure，我们就顺便聊下半导体”盗用“摄影师的这条行话吧；早期照相机底片的感光原理在集成电路的制造过程中也适用；借助”曝光“，可以将光罩，又叫光掩模，也就是Mask上的事先定义的图形Pattern，转移到晶圆片上，借助大数值孔径Numerical Aperture NA的物镜的帮助，形成了更为精细的光阻图形；所以如果”光刻“是晶圆制造中最关键的一步的话，”曝光“便是”光刻“中那个最重要的步骤；既然重要，这里我们就多聊两句”黑话“：以使用最广的5XStepper为例，其方式就是把对紫外线UV敏感的光阻膜PR当作照相机的底片，光罩上是芯片架构师用EDA设计的各种图形，以特殊波长的光线，比如G-Line 436nm照射穿过光罩，经过物镜，又叫缩小镜或Reduction Lens后，光罩上的图形则呈5倍缩小，精确地定义在”底片“，也就是芯片上的光阻膜，又叫光刻胶或Photoresist，再经过显影Development后，即可将照到光线的正光阻膜显掉，从而就得到了我们心心念念地想要的各种精细图形，准备好为下一步的刻蚀或离子植入制程使用；因为光阻膜对于某特定波长的光线特别敏感，所以Fab厂都有黄光区，将一切照明用光源统一过滤成昏黄色，以避免泛白光源中含有对光阻有感光能力的波长成份存在，否则会发生光线污染，扰乱精细的光阻成形。就像胶片时代的照相底片一样，光刻胶 photoresist，又称光阻剂，也有正负之分；半导体的负片叫负性光刻胶negative photoresist，正片叫正性光刻胶 positive photoresist，较高制程的Fab多会用到正胶，显影时正胶会被显没，留下底下需要被刻蚀掉的硅片区域；“光刻胶“叫起来比”光阻剂“更加顺口，也算是一句标准的下凡“黑话”吧；这个关于光刻胶的“黑话”群还包括：无机光刻胶 inorganic resist、多层光刻胶 multilevel resist、电子束光刻胶 electron beam resist、X射线光刻胶 X-ray resist等分类；还有甩胶 spinning、涂胶 coating、烘胶 baking、去胶stripping、氧化去胶 removing by oxidation、等离子体去胶 removing of by plasma，等等。曝光工艺里还时不时地会听到还分接触式曝光法contact exposure、接近式曝光法 proximity exposure、还有投影式曝光法 projection exposure的说法，这是不是让刚刚觉得自己懂了点晶圆制造的半导体小白，只瞅了一眼半导体的世界，一下子又跌回了“深渊“呢？半导体“黑话“这次就先聊止于此，下篇是Save the best to the last，最精彩的那一集大结局；敬请期待。

人们对于空气污染问题的关注度日渐提高，推动了空气污染检测仪市场的繁荣。近几年来，每到雾霾严重时，有些电商的空气污染检测仪甚至会卖到脱销。　　然而，这些民间使用的空气污染检测仪真的准确吗?2016年7月7日，两名英国约克大学国立大气科学中心的大气化学家阿拉斯泰尔?刘易斯(Alastair Lewis)和彼得?爱德华兹(Peter Edwards)在《自然》杂志撰文，质疑廉价空气污染检测装置的精度，呼吁研究者和政府加强对这些检测仪精度的检验，并出台相关标准。　　财新记者就这一问题采访了作者之一的彼得?爱德华兹，他向财新记者介绍，传统的空气污染检测装置采用的技术，在使用前都经过了专业机构的反复测试，它们的测量方法都是可追溯的，其不确定性也是可控的。这些装置唯一的问题是成本很高，一般每一台设备需要一万至十万美元不等。　　而在上述文章中提到的廉价的小型检测仪，虽然价格低廉、宣称精准，其使用的技术没有经过严格的测试，在真实的大气环境中不能进行准确测量。少数的研究中，这些廉价设备被拿来和专业的设备对比，检测特定的空气污染物，结果发现，廉价设备的检测结果变化很大，干扰物以及稳定性问题使这些设备很难做出真正可靠的测量。　　财新记者：这些廉价检测仪一般被用在哪些领域?　　彼得?爱德华兹：文章中提到的廉价检测仪由各种各样的公司售卖，有的用于城市范围的空气质量检测，有的用于个人周围的空气监测。这些检测仪所用的技术，过去大多都用于工业风险检测，对这种技术来说，在典型大气环境中是否测得准并不重要。　　财新记者：对用户来说，是否他们只是把这些数据当做一个参考，所以有没有标准其实不是很重要?　　彼得?爱德华兹：如果廉价检测仪只是被当做对空气污染的一个粗浅估测，那么它们能否提供准确可靠的数据确实没那么重要。但在这样的情况下，这些检测仪就应该在售卖和营销时说明它们的局限，任何购买这些仪器的人都应该被告知这些情况。　　财新记者：官方的高质量检测和个人用的廉价检测仪之间有什么区别?　　彼得?爱德华兹：专业的检测设备所用的技术都经过了数十年的发展，用于测量真实大气环境中的特定污染物。这些设备是基于光谱或质谱法制造出来的高度专业化的仪器，能够最小化来自其他化学成分的干扰从而最大化其精度和可靠性。因此，这些设备都具有极好的性能，其检测结果也经过多次的验证，非常可靠。　　相反，大多数廉价检测仪所用的技术并不是为了检测大气环境中的化学成分而发明的，它们原来都是用作工业用途，在工业的应用场景中，目标气体浓度远高于一般的的环境，而干扰也会少得多。这些技术在真实的大气环境中效果如何目前尚缺乏验证。　　财新记者：为什么专业设备和廉价设备之间的成本差距这么大?　　彼得?爱德华兹：专业设备所要求的组件往往非常昂贵，比如激光和高反射镜。此外，对设备性能的检测和验证也会使成本上升。　　财新记者：检测仪的精确度和其成本是成正比的吗?　　彼得?爱德华兹：基本上如此，但这不仅仅是价格的问题。有人可能会以极高的价格卖一个精度很低的仪器。一个仪器最重要的是其使用的技术是否和其用途相符合。

麻省理工大学经常能够发明出一些让人印象深刻的产品，同时造价成本又非常低廉。根据国外媒体报道，近日麻省理工的研究人员又研发出了一种非常神奇价格又很便宜的传感器，这种传感器是一块NFC通信模块，可以借助碳纳米管检测到空气中特殊气味的存在。未来这种芯片可以探测大到危险的炸弹、小到一块变质的牛肉。 　　这种新型的传感器非常神奇，他的发明者是一位化学家，曾经探索过传感器的不同功效，发现其在食物包装方面大有可为。通过与智能手机相连，可及时告诉你食物是否腐坏。传感器加智能手机，就是这么简单。过去也曾有过类似的传感器，但都未与手机相连，也没有如此多的功能。 　　&ldquo 这款传感器的一大亮点在于便宜。只要将它放在那里，然后来读取数据即可。无需线路，也不用电。&rdquo 麻省理工学院的化学教授Timothy Swager在发布会上介绍说，&ldquo 对于这样一项技术，如何应用到实际中去需要很大的想象力。&rdquo 　　目前，麻省理工的研究小组已经为自己的成果申请了专利，同时也在不断的对成果进行改善，希望能通过蓝牙与智能手机连接。一旦成功，这种芯片的应用范围就会进一步扩大。同时，该小组还考虑将这种芯片嵌入到徽章中，这样佩戴徽章的工作人员就能在危险区域遇到有害气体时，第一时间收到报警。当然，对于普通用户来说，用它来检测家中的鸡肉是否已经变质，也是非常不错的主意。