做方法证实涉及到的标准

标准物质石英尘红外方法做粉尘中二氧化硅的曲线规格：70g

Nalgene 6355 面罩，聚碳酸酯；聚乙烯头饰?该可调节面罩拥有一个大小为1 门6 in. (1.5 mm) 的聚碳酸酯透明窗口，可提供冲撞防护。经验证，它可以阻挡波段为200 到360 纳米的紫外线光源的照射。可用于灭菌过程以及色谱/ 电泳条或电泳胶的读取过程。紫外线辐射可能会导致其颜色呈轻微黄褐色。装有舒适的可调节头饰。环绕式设计可提供对头部正面和侧面的保护。大小为长× 宽为29.5 cm×20cm，该尺寸还可对颈部和头顶提供保护。用户可舒适地将其佩戴于护目镜之外。符合OSHA 标准29 CFR 部分1910.1030，可用于防止血载病菌。符合ANSI 标准287.1. 生物危害/ 透明订货信息：Nalgene 6355 面罩，聚碳酸酯；聚乙烯头饰目录编号 6355-0001每盒数量1每箱数量4警告！不要与放射性同位元素一起使用。当用户的操作涉及到Beta 放射性同位元素时，可使用Nalgene Beta 放射线防护罩。

产品特点：8000 系列固体和有害废物方法基于SW-846 的资源保护和回收利用法案(RCRA) 中的“用于评价固体废物的测试方法”特点和优势：● 方法8080A 包含实验室分析固体和液体基质时需要遵循的详细操作程序。这种方法使用一台GC/ECD 仪器分离在对水溶性或固体样品的萃取液进行浓缩和净化处理后所得到样品中的选定农药。● 方法8082 用来通过GC/ECD 仪器测定以单独酒类芳香物或Aroclor 形式存在的PCB 浓度。方法8082 的PCB( 聚氯联苯) 标准品试剂盒方法8082 用来测定以单独酒类芳香物或Aroclor 形式存在的PCB 浓度。一台配有毛细管柱的Clarus 600 GC 仪器用来进行分离并检测洗脱物；所用的检测器为ECD( 电子捕获检测器)或ELCD( 电解质电导率检测器)。方法8270C 的标准品方法8270C 是一种利用二氯甲烷萃取水溶性样品或二氯甲烷/ 丙酮混合液萃取固体样品后再使用一台配有毛细管柱的Clarus 600 GC 仪器进行化合物分离的分析方法。Clarus 600 GC/MS 仪器用于检测GC 洗脱物。订货信息：方法8082 的PCB( 聚氯联苯) 标准品试剂盒产品描述部件编号1.2 mL、1000 μg/mL、溶于正己烷N9331028方法8270C 的标准品产品描述部件编号用于方法 8270C 的半挥发性校准标液1.2 mL、1000 μg/mL、溶于正己烷N9331030用于方法 8270C 的内标1.2 mL、2000 μg/mL、溶于二氯甲烷 / 苯N9331036用于方法 8270C 的混合液产品描述部件编号用于方法 8270C 的 HICAL 混合酸1.2 mL、2000 μg/mL、溶于二氯甲烷N9331031用于方法 8270C 的分析物混合液1.2 mL、2000 μg/mL、溶于甲醇N9331032用于方法 8270C 的平衡混合液1.2 mL、2000 μg/mL、溶于二氯甲烷N9331033方法 8270C 的替代标准品产品描述部件编号用于方法 8270C 的酸性替代标准品1.2 mL、2000 μg/mL、溶于甲醇N9331037用于方法 8270C 的碱性和中性替代标准品1.2 mL、2000 μg/mL、溶于二氯甲烷 / 丙酮N9331038

符合ISO 17025:2017标准的CDMS产品。NIST标准的可追溯性或单独认证有证书。Pelcotec CDMS-XY ISO标样是一种用于扫描电镜、场发射扫描电镜、离子束雕刻、CD-SEM、激光扫描显微镜和原子力显微镜快速、精确校准的便捷工具。该标样提供了 X 和 Y 两个坐标轴的比例尺线，可在不旋转样品台的情况下轻松进行二维校准。Pelcotec CDMS-XY ISO蚀刻线标样使用蚀刻技术制成，具有卓越的线缘质量，可提供广泛的测量范围。该标样有两种特征尺寸范围可选，分别是 Pelcotec CDMS-XY-1T ISO和 Pelcotec CDMS-XY-0.1T ISO，每个尺寸范围都提供可追溯和认证标样，总共有四种：Pelcotec CDMS-XY-1T ISO：特征尺寸范围为 2.0mm 到 1um，适用于放大倍率在 10x - 20,000x 之间的台式扫描电镜和低到中等放大应用。 2mm、1mm、0.5mm、0.1mm、50um、10um、5um、2um 和 1um。Pelcotec CDMS-XY-0.1T ISO 和 0.1C ISO 的特征尺寸为：2mm、1mm、0.5mm、0.1mm、50um、10um、5um、2um 和 1um、500nm、250nm 和 100nm。可选的预先安装在样品座上。Pelcotec CDMS-XY-1-ISOPelcotec CDMS-XY-0.1-ISO基底：硅是是基底尺寸：2.5×2.5mm是是基底厚度：525±10μm是是唯一序列识别号是是 产品编号描述单位709-1Pelcotec CDMS-XY-1T ISO，2mm - 1um，可追溯，没有样品座，蚀刻线个701-1Pelcotec CDMS-XY-1T ，2mm - 1um，可追溯，没有样品座，蚀刻线个Pelcotec CDMS-XY-1C ISO：每个标样均根据 NIST 标准进行了单独认证，特征尺寸范围为 2.0mm 到 1um，适用于放大倍率在 10x - 20,000x 之间的台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位713-1Pelcotec CDMS-XY-1C ISO，2mm - 1um，已认证，没有样品座，蚀刻线个705-1Pelcotec CDMS-XY-1C ，2mm - 1um，已认证，没有样品座，蚀刻线个Pelcotec CDMS-XY-0.1T ISO：特征尺寸范围为 2.0mm 到 100nm，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用，放大倍率可达 10 - 200,000x。 产品编号描述单位710-1Pelcotec CDMS-XY-0.1T ISO，2mm - 100nm，可溯源，没有样品座，蚀刻线个702-1Pelcotec CDMS-XY-0.1T ，2mm - 100nm，可溯源，没有样品座，蚀刻线个 Pelcotec CDMS-XY-0.1C ISO：每个标样均根据 NIST 标准进行了单独认证，特征尺寸范围为 2.0mm 到 100nm，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用，放大倍率可达 10 - 200,000x。 产品编号描述单位714-01Pelcotec CDMS-XY-0.1C ISO，2mm - 100nm，已认证，没有样品座，蚀刻线个706-01Pelcotec CDMS-XY-0.1C ，2mm - 100nm，已认证，没有样品座，蚀刻线个该标样的特征尺寸范围见下表：Pelcotec CDMS-XY-1T ISO 和 -1C ISO 的特征尺寸为： 2mm、1mm、0.5mm、0.25mm 的校准方块是是垂直于 X 轴和 Y 轴的刻度线，间距为 10um、5μm、2μm 和 1μm是是 仅限高分辨率版本 - 垂直于 X 和 Y 轴的附加刻度线以 500、250 和 100 nm 节距标出—是可在晶圆级追溯到 NIST（ISO 17025:2017 认证标准）T 版本T 版本CDMS 标样直接获得 NIST 标准认证（ISO 17025:2017 认证标准）C版本C版本不装在样品台上可用 是是可安装在 SEM样品台上是是精度优于0.3%是是线边缘粗糙度为每 1um 线边缘长度 +/- 0.3nm是是测量报告的不确定性 (k=2)* 为 ±0.012μm是是

CNW dSPE分散固相萃取纯化管(EN 15662：一般果蔬)，粉状硫酸镁（GB 23200.121-2021）SBEQ-CA8318-H是涉及样品前处理和化学分析中的两个重要方面。dSPE分散固相萃取纯化管(EN 15662：一般果蔬)，粉状硫酸镁（GB 23200.121-2021）SBEQ-CA8318-HdSPE（dispersive Solid Phase Extraction）是一种固相萃取技术，通常用于样品的前处理和净化。在分析食品样品（如水果和蔬菜）时，dSPE方法被广泛应用于去除样品中的干扰物质，同时富集目标分析物。 - **EN 15662标准**：这是欧洲标准委员会（European Committee for Standardization，简称CEN）发布的一项标准，主要涉及食品样品（特别是水果和蔬菜）的化学分析。该标准规定了样品的准备和分析方法，包括使用dSPE进行固相萃取的具体步骤。 - **应用**：适用于食品安全监测领域，用于检测食品中的农药残留、重金属、添加剂等有害物质，确保食品安全符合法律法规要求。 ### 2. 粉状硫酸镁 (GB 23200.121-2021) - **概述**：粉状硫酸镁是一种常用于样品前处理中的试剂，主要用于去除水分和有机溶剂的残留。在分析化学中，粉状硫酸镁被广泛用作吸湿剂，帮助保持样品或反应混合物的干燥状态。 - **GB 23200.121-2021标准**：这是中国国家标准（GB，GuoBiao）的一部分，涉及到粉状硫酸镁的规格和质量要求。该标准确保了产品的稳定性和质量一致性，以满足实验室和工业应用的需求。 - **应用**：粉状硫酸镁常用于样品制备过程中，特别是在液-液萃取或固相萃取中，用于去除水分和提高分析物的提取效率。它还可以用于控制反应体系的湿度，确保化学反应的稳定性和重复性。 CNW dSPE分散固相萃取纯化管(EN 15662：一般果蔬)，粉状硫酸镁（GB 23200.121-2021）SBEQ-CA8318-H作为样品前处理和分析过程中不可或缺的组成部分，为确保准确的分析结果和可靠的数据提供了重要支持。它们的使用不仅影响到分析的灵敏度和准确性，还直接关系到食品安全和环境监测等重要领域的实施和合规性。

符合ISO 17025:2017标准的CDMS产品。NIST标准的可追溯性或单独认证有证书。Pelcotec CDMS ISO校准标样是一种独特的经济实惠、功能齐全、可追溯的校准标样，可用于快速精准的扫描电镜(SEM)、场发射扫描电镜(FESEM)、离子束刻蚀(FIB)、CD-SEM、LM和AFM放大倍数校准。这些标样采用蚀刻制造技术制成，可以覆盖广泛的测量范围。Pelcotec CDMS ISO校准标样有两种特征尺寸范围，分别是 Pelcotec CDMS-1T ISO和 Pelcotec CDMS-0.1T ISO，都提供可追溯和认证标样，共有4个种：Pelcotec CDMS-1T ISO: 可追溯，特征尺寸范围为2.0毫米到1微米，放大倍数范围为10倍到20,000倍，非常适合台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位701-1Pelcotec CDMS-1T ISO，2mm - 1um，可追溯，没有样品台，蚀刻线个699-1Pelcotec CDMS-1T，2mm - 1um，可追溯，没有样品台，蚀刻线个Pelcotec CDMS-1C ISO: 经过NIST标样认证的特征尺寸范围为2.0毫米到1微米，放大倍数范围为10倍到20,000倍，非常适合台式扫描电镜和低到中等放大应用。产品编号描述单位711-1Pelcotec CDMS-1C ISO，2mm - 1um，经过认证，没有样品台，蚀刻线个703-1Pelcotec CDMS-1C，2mm - 1um，经过认证，没有样品台，蚀刻线个Pelcotec CDMS-0.1T ISO: 可追溯，特征尺寸范围为2.0毫米到100纳米，放大倍数范围高达10倍到200,000倍，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用。产品编号描述单位708-01Pelcotec CDMS-0.1T ISO，2mm - 100nm，可追溯，没有样品台，蚀刻线个700-01Pelcotec CDMS-0.1T，2mm - 100nm，可追溯，没有样品台，蚀刻线个 Pelcotec CDMS-0.1C ISO: 经过NIST标样认证的特征尺寸范围为2.0毫米到100纳米，放大倍数范围高达10倍到200,000倍，适用于所有扫描电镜和大多数场发射扫描电镜应用。产品编号描述单位712-01Pelcotec CDMS-0.1T ISO，2mm - 100nm，经认证，没有样品台，蚀刻线个704-01Pelcotec CDMS-0.1T ，2mm - 100nm，经认证，没有样品台，蚀刻线个 Pelcotec CDMS ISO标样的特征尺寸范围为2mm、1mm、0.5mm、0.25mm、10um、5um、2um和1um（适用于 Pelcotec CDMS-1T ISO 和 Pelcotec CDMS-1C ISO）。而Pelcotec CDMS-0.1T ISO 和 0.1C ISO 的特征尺寸范围为2mm、1mm、0.5mm、0.25mm、10um、5um、2um、1um、500nm、250nm和100nm。较小的特征尺寸被嵌套在一起，以便于导航和快速校准。特征的精度为0.3%或更高。标样的实际尺寸为2.5 x 2.5mm，厚度为525um ±10um，在硅表面上没有涂层。每个Pelcotec CDMS ISO校准标样都有一个独特的识别编号。Pelcotec CDMS ISO校准标样可供选择不安装或安装在SEM样品台A-R上。对于AFM应用，Pelcotec CDMS ISO安装在12mm的AFM圆片上，而对于LM应用，则安装在25 x 75mm的载玻片上。也可以制备在自定义的支架上。可选的样品座。Pelcotec CDMS-1-ISOPelcotec CDMS-0.1-ISO基底：硅是是基底尺寸：2.5×2.5mm是是基底厚度：525±10μm是是唯一序列识别号是是2mm、1mm、0.5mm、0.25mm 的校准方块是是垂直于 X 轴的刻度线，间距为 10μm、5μm、2μm 和 1μm是是仅高分辨率版本 - 垂直于 X 轴的附加刻度线以 500、250 和 100 nm 节距标出—是可在晶圆级追溯到 NIST（ISO 17025:2017 认证标准）T 版本T 版本CDMS 标样直接获得 NIST 标准认证（ISO 17025:2017 认证标准）C版本C版本不装在样品台上可用是是可安装在 SEM样品台上是是精度优于0.3%是是线边缘粗糙度为每 1um 线边缘长度 +/- 0.3nm是是测量报告的不确定性 (k=2)* 为 ±0.012μm是是

产品特点：GPC/SEC 聚合物标准品在ISO 9001 : 2000 质量标准体系保证下，安捷伦聚合物标准品用于进行准确、可靠的GPC/SEC 色谱柱校正的理想参考物质。独特的高度特征性均聚物的附加应用，可以作为研究和分析方法开发的模式聚合物。安捷伦生产商用最高质量聚合物标准品，具有极窄的聚合分散性和最宽分子量范围。利用各种独立的技术（例如光散射和粘度计）和高性能GPC 来验证聚合分散性并确定所有重要的峰尖的最高分子量（Mp），提供了这些具有广泛特征数据的高质量聚合物标准品。安捷伦宽范围的EasiVial、EasiCal 和传统的校正工具包采用特别的设计，涵盖了用于有机和水相GPC/SEC 应用的所有分子量范围。我们为您提供最广泛的选择，最大限度地满足您的特殊表征需求。此外，我们提供单一分子量的其他聚合物，宽分布聚合物用于系统验证或广泛的标准校正程序。校正试剂盒安捷伦提供宽范围的聚合物标准品试剂盒，用于方便地进行GPC/SEC 色谱柱校正或光散射校正及粘度计检测。该试剂盒有十种不同的标准聚合物，覆盖了单一的分子量范围，可以与有机溶剂或水溶液、中等极性或极性溶剂一起使用。每个单一聚合物都有它自己的关于分析条件和评价的分析证明，例如Mp 用于制作校正图表。所选择的聚合物以其分子量的对数作等距离校正，提供一条更加均一的标准曲线。单一聚合物分子量我们设计了单一的商品标准品，具有最窄的分子量分布。此外，它们也覆盖了最宽的分子量范围，从162-1500 万。当前的聚苯乙烯标称分子量为1500 万，聚合度分布≤1.10。这些标准品通常为1 克、5 克和10 克包装，每个标准品均附带分析证明，证明包含详细分析条件和相关数据。订购信息：GPC/SEC 标准品选择指南 聚合物类型单一 分子量校正 试剂盒 EasiCal EasiVial GPC/SEC 类型聚苯乙烯√√√√有机聚甲基丙烯酸甲酯√√√有机聚乙二醇（PEG）√√√有机/水相聚环氧乙烷（PEO）√√√有机/水相普鲁兰多糖√√有机/水相聚丙烯酸 Na 盐√√水相

生化培养皿BLOCHEMISTRY PETRI CULTURE DISHES 定量培养皿QUANTITY PETRI CULTURE DISHES 别名:双重皿、二重皿、双蝶、培养蝶、平板皿、(阜氏皿、 皮氏皿、陪替氏皿.均为petri 外文译音) 一、概况及用途 培养皿 目前在国外已出现塑料代替，在出厂前已进行消毒，用过一次即丢掉。在我国目前有三种培养皿，它生产使用的玻璃料不同，普迪培养血是用硬料或中性料在大炉炉台上经桃料、吹泡、再入模具人工吹制成型，经联合烘爆口(或磨口)、退火、喷(印) 标即成产品。生化培养皿其生产工艺相同，但它是用“g5”料玻璃生产，在质量要求较普通培养皿为高。定量培养皿使用玻璃料为“95热料，生产工艺完全不同，它是先在大炉炉台上，吹制成5000ml烧杯,然后将口、底爆去成为玻璃筒，再将玻璃筒燥开，经加温到玻璃软化点压成平板玻璃，再用金钢刀划成园片，经加温熔融逐步成型。由于工艺复杂、成品率低、成本高。速度慢所以产量不高。 用途:适用于防疫特别是02病的带菌病人的菌种培养化验、医院临床诊断、食品、药品检验分析，这些单位用于细菌的分离培养。抗菌素效价检验(微生物测定法一一杯蝶法)以及在农业科学研究对种子发芽、植物、昆虫、鱼种的人工培养、孵化研究。近年来由于电子工业的发展，大规格的培养皿又用于“锗”片的保管及烘干做盛器。固此培养皿使用面广、用量大。一般讲防疫、医院单位多用90--- -100mm 规格:农科院、水产学院多用120m/m以上的大规格。 生化培养皿，适用于生物制品、制药工业作生物检验、或对抗菌素的药效测定。当然也可代替普通培养皿使用。 定量培养皿、适用于在显微镜下进行检查、观察细菌的形态、分类或对药物效价的检定、培养作定量分析操作使用，它不但要决定培养细菌的性质、而且还要决定培养的量。 二、造型: 它的造型是根据pet ri氏设计的,是口、底垂直、底平、壁钱的二个平底皿套合而成。皿四成烘光(或磨平)皿口烘光的优点是边沿光滑机械强度高，不易崩损和染色吸附于皿口。缺点是在爆口时留有玻滴，对底和盖之间的密合性有影响，新菌易侵入。口. 部磨平的优点是口部边沿平整，密合性好，新荡不易侵入，缺点是边沿易崩损，在染色操作时，染色易吸附于皿口，不易清除。 三、使用方法: 使用前经过清洁消毒，培养皿清洁与否对工作影响较大,可影响培养基的酸硷度，若有某些化学药品的存在，会抑制细菌的生长。新购的培养皿应先用热水冲洗，再置于1%或2%的盐酸溶液中浸泡数小时，使游离险性物质除去(或用砂皂洗刷)，再用蒸馏水冲洗二次，若要培养细蘭再用高压蒸气灭菌(一般在15磅高压蒸气) ,即l20C的温度下30分钟灭蘭，置室温中干燥，或用干热灭蘭，就是将培养皿置于烘箱内 温度控制在120C左右的情况下维持2小时，即可杀死细菌的胞芽。经过消毒的培养皿才能接种培养使用。“培养皿通常使用固体培养基制成平板培养(就是平板皿名称的由来)，平板培养基制作是将已装好的灭菌琼脂培养基，用温水(无菌)熔化，取下试管的棉花塞，管口于酒精灯火焰上通过，然后微启灭菌的培养皿盖，使试管口能深入为宜，倾入培养基后即可盖密，再轻轻的摇匀倾入的培养基，使之均匀的分布f皿底上疑结,即得平板培养基。由于细菌的繁殖、发育生长是与所供给的培养基(营养) 有直接关系，尤其是作定量检验分析，对提供营养物的多少，有决定意义，细菌培养时对营养物提供的多少，是否均匀，这对于培养皿、皿底是否平整极为重要。如培养皿皿底不平，琼脂的培养基分布的厚薄将随培乔m血底是否平整而有厚有薄，薄的部分营养供给就不足，这对定量分析有着密切关系，故对定量培养皿m底要求特别平整的原因所在。但作-般定性培养皿(检验细菌、菌落生长、繁殖等)，使用普通培养皿即可。 细菌的分离培养，一般标本中常同时混有数种细菌,如口腔咽喉菌及耳朵的分泌物、痰液、小便、大便等，凡需研究的细菌，须先用分离培养法，使其成为纯培养，通过对细菌作纯培养，用肉汁加2 %琼脂的固体培养基，经保温湖斗以脱脂棉花过滤，注入试管中，二天后检验无新菌，再投入培养皿内，先制成平板，在无菌的条件下进行接种, 接种后把培养I倒置移入25--30^C的恒温箱内(倒置是避免水蒸气凝成液滴滴入m底内，影响菌落的生长)，通过培养进一步观察细菌的形态和色泽，研究致病的病菌，以及对它防治的效果。 生化培养皿、定量培养皿的使用方法，基本与普通培养皿相同，但它的质量要求为高。定量培养皿培养后，还要放在显微镜下进行检验， 四、规格及质量要求: (一)规格及参考尺寸: 培养皿规格尺寸的计算，在国际上有两种不同的计算方法，-种方法是按皿盖计算，理由是在培养时使用恒温箱内进行培养，它可以计算恒温箱的体积可存放多少个培养皿。另一种计算方法是按照培养皿皿底计算，理由是在培养时可按照培养m的皿底体积计算使用多少培养基。目前在我国亦存在二种计算方法，但在轻I部QB520-- 66 规定标准中是按皿底计算。 (二)玻璃色泽，无色透明或微带青绿色或微黄色

PTFE（四氟）烧瓶一、产品简介聚四氟乙烯烧瓶通常具有圆肚细颈的外观，与烧杯明显地不同。它的窄口是用来防止溶液溅出或是减少溶液的蒸发，并可配合橡皮塞的使用，来连接其它的聚四氟乙烯器材。当溶液需要长时间的反应或是加热回流时，一般都会选择使用聚四氟乙烯烧瓶作为容器。烧瓶的开口没有像烧杯般的突出缺口，倾倒溶液时更易沿外壁流下，所以通常都会用四氟搅拌棒轻触瓶口以防止溶液沿外壁流下。烧瓶因瓶口很窄，不适用四氟搅拌棒搅拌，若需要搅拌时，可以手握瓶口微转手腕即可顺利搅拌均匀。若加热回流时，则可於瓶内放入磁搅拌子，以加热搅拌器加以搅拌。烧瓶随著其外观的不同可分平底烧瓶和圆底烧瓶两种。二、主要用途(1)液体和固体或液体间的反应器；(2)装配气体反应发生器(常温、加热)； (3)蒸馏或分馏液体(用带支管烧瓶又称蒸馏烧瓶)；三、产品优势1、四氟烧瓶有单颈、三颈和四颈，17、19和24等标准口，每个标准口配有塞子。2、可拆卸清洗，内壁光滑；3、使用温度：-200℃～+250℃。；4、可根据您的要求定向加工四氟圆底烧瓶；5、盖子与体以及各个颈与盖子之间都是螺纹连接，方便拆卸和清洗四、使用方法①应放在石棉网上加热，使其受热均匀；加热时，烧瓶外壁应无水滴。 ②平底烧瓶不能长时间用来加热。 ③不加热时，若用平底烧瓶作反应容器，无需用铁架台固定。 五、使用注意事项1.加热时要垫石棉网，也可以用其他热浴加热。液体量不超过容积的2/3，不少于容积的1/3； 2.配置附件（如温度计等）时，应选用合适的橡胶塞，特别注意检查气密性是否良好； 3.蒸馏时事先在瓶底加入少量沸石，以防暴沸；4.加热时应放在石棉网上，使之均匀受热； 5.蒸馏完毕必须先关闭活塞后再停止加热，防止倒吸；

一、艾本德Eppendorf epT.I.P.S.移液器吸头 枪头材质高品质是 Eppendorf 产品标准，每个珍贵样品都应该得到的处理。 亲身体验Eppendorf 移液吸头如何助您节省时间，降低成本。 Eppendorf 移液吸头从材料、与移液器的匹配性、设计和按压力各方面，设定了吸头的新标准。 根据不同样品的特性，需要选择与其相应的产品和纯度。 这就涉及到特定的产品纯度或含有某些物质，而且产品性能稳定、可靠且设计合理。 Eppendorf epT.I.P.S.移液吸头具有良好设计，满足所有样品处理的特定需求。二、艾本德Eppendorf epT.I.P.S.移液器吸头 枪头优势Eppendorf完整的移液系统 - epT.I.P.S. 移液吸头 - *适配于Eppendorf 多种移液器。 这使得吸头与移液器*密封，降低吸头装卸时所用的力度。 其次，移液吸嘴通用性的设计，可适配于其他品牌的移液器。 Eppendorf 拥有自己的生产设备，位于德国北部，因此我们在选择和加工塑料原料时能始终保持zui高质量标准。 理想的润湿性能，高度透明和特定的、经验证的洁净度级别，均直观地诠释了我们的产品及生产理念。Eppendorf 每一种吸头都和相应量程的 Eppendorf 移液器*匹配，zui大程度确保移液精准度和可靠性，可达到您的期望并可信赖。三、产品特点优化的吸嘴形状设计，*适配于 Eppendorf 移液器。具有通用性，可适配于其他品牌的移液器。精细的刻度可便捷直观地观察移液体积。细长的吸头可伸至窄口、较深的容器底部，且不会触碰容器顶部的边缘。逐渐变细的嘴尖可以轻松操作微量的液体。可提供以下洁净级：Eppendorf Quality, PCR clean, Eppendorf Biopur® 。带颜色标识的替换板可方便区分吸头规格，便于选择匹配的 Eppendorf 移液器。

NJ-ZH密封高压消解罐消解-原子吸收光谱法测定土壤重金属产品介绍：高压消解罐，也称为密封高压消解罐、压力消解器、压力消解罐、消化罐、聚四氟乙烯高压罐，它是一种能分解难溶物质的密闭容器，在气相、液相、等离子光谱质谱、原子吸收和原子荧光等化学分析方法中做样品前处理，多用于食品、药品、疾控中心、乳制品、环境中心、农产品、海产品、水产品等行业对茶叶中美术绿、稀土，果蔬、粮油、蛋类、肉类，奶粉等里铅、铬、镉、甲基汞、无机砷等重金属的检测。技术参数：规格型号NJ-ZH-5、10、15、20、25、30、50、60、100、200、250、500、1000ml等组成方式一套包含：一个外罐和一个内杯外罐材料优质无磁不锈钢内杯材料及耐温 1、国产聚四氟乙烯PTFE耐温200℃以内2、TFM耐受230-260℃，耐压性，恢复性好，金属元素值低，铅、铀含量小于0.01ppb,无溶出与析出（涉及到双氧水或高氯酸产气量大的试剂，建议选择TFM材料）使用条件整套放烘箱内使用耐受5Mpa（50kg）注意事项1、消解用溶剂加入量根据不同实验而定，一般为内杯容量的1/3到1/52、如在实验中用到高氯酸、双氧水，用量不宜过多，需进行冷硝化过夜处理3、刚消解结束由于里面压力过大，所以冷却至室温时才很容易打开了4、同一规格内外罐通用，同一规格国产或TFM内胆也通用配套产品内杯可以配套赶酸器在后期做赶酸、消解实验摘 要：为寻求一种可行的土壤重金属元素分析方法，采用了“硝酸-氢氟酸-过氧化氢”三酸消化体系和密封高压消解罐法对土壤样品进行消化，以原子吸收光谱法测定其中的铜、锌、铅、铬、镉。结果表明：采用该方法能将土壤样品中的铜、锌、铅、铬、镉完全消解出来；密闭消解的方式有效控制了样品的损失及污染，此外还保护了操作者的安全；前处理操作过程简单，省时、省力；称样量和酸用量少，环境污染小；方法的灵敏度、测定结果的精密度和准确度均较高。从实验结果可以看出，采用该法测定土壤中的重金属时，测定结果准确可靠，实验条件易于控制，能够满足环境监测分析的要求，可以作为一种可行的土壤重金属元素分析方法被采纳。关键词：密封高压消解罐消解；原子吸收光谱法；土壤；铜；锌；铅；铬；镉（1）土壤样品的加工处理将采集的土壤样品（一般不少于 500 g）混匀后用四分法缩分至约 100 g。缩分后的土壤样品经自然风干后，除去土壤样品中的石子和动植物残体等异物，用木棒碾压，通过 2 mm 尼龙筛（除去 2 mm 以上的砂砾），混匀。用玛瑙研钵将通过2mm尼龙筛的土壤样品研磨至全部通过 100 目尼龙筛，混匀后备用。（2）土壤样品的消解用电子天平准确称量表 4 和表 5 中的土壤标准参考样和经上述加工过的土壤样品（平行称量 6 份）各 0.1500g 左右，置于密封高压消解罐中。用几滴超纯水湿润一下，然后加入 5 mL 硝酸，浸泡 0.5 h 去除有机质，接着加入 2mL 过氧化氢、2 mL 氢氟酸。待样品被酸液充分浸润后，盖紧罐盖，并将消解罐安装好。放入电热恒温鼓风干燥箱中，于 160 ℃下平衡 9 h 进行密闭消解，每批土壤样品同时做 2 份全程试剂空白试验（用超纯水代替样品）。样品消解完成之后，将消解罐从电热恒温鼓风干燥箱中取出，放于通风橱中降温，待温度降至室温时开启消解罐。取出内罐，置于电热板上赶酸。赶酸完毕（蒸至近干，此时消解液因样品基体不同而呈粘稠状或湿盐状，残渣为灰白色），用 0.5%硝酸溶液转移至 25 mL 刻度试管中定容，摇匀，静置，溶液澄清后待测。高压消解法被我国有关部门认定为标准方法,比如GB/T5009、GB/T14962、GB/T6609、GB/T11914、GB/T17378、SN/T2004.1、2—2005、SN/T 1634-2005等。美国AOAC亦规定此法为测定As、Cd、Hg、Pb、Se、Zn等元素的样品标准分解方法。方法优点局限高压消解法安全、前期投入少、设备简单、操作容易、样品及试剂用量少、值低、避免玷污、样品处理安全彻底、准确度高、可大批量处理样品样品处理周期稍长、不可控温控压、外观简陋常温消解法投入量少、设备简单、操作容易、试剂用量大、准确度一般、工作周期短、可大批量处理样品易玷污、污染环境、有损操作人员健康、精密度欠佳试剂用量稍多、对某些难溶样品有局限性微波消解法安全、可以控温控压、小批量效率高、样品及试剂用量少、值低、避免玷污、准确度高、智能化程度高 前期后期投入很大、对操作人员要求高、对某些样品有局限性、Cr和Pb损失大、消解不彻底、工作温度低、不能同时高温高压

用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为15％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为26％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为25％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为17％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

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用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为24％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为18％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

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用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为25％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

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用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为19％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为22％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。