光学研磨机

现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机，主要特点，咨询热线，15300030867,010-82752485-815，张经理，欢迎您的来电咨询！? 水性或胶性的物质可通过加入水，将其磨碎；? 可选用A 11.4 250 ml研磨杯；? 随机配A 11.5 80ml的研磨杯，研磨杯为Tefel材质（PTFE，经玻璃纤维固化）和高级不锈钢(1.4571)制成，可用于需要液氮的研磨。现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机，技术参数A11 分析研磨机工序类型分批处理工作原理剪切/冲击电机输入功率160 W电机输出功率100 W最大转速28000 rpm最大圆周速度53 m/s最大使用容积80 ml最大给料硬度6 Mohs最大给料颗粒10 mm冲击/剪切刀头材料不锈钢1.4034研磨室材料不锈钢1.4571工作时间 开1 min工作时间 关10 min研磨室，可用水冷却不研磨物料可在研磨室用干冰冷却是研磨物料可在研磨室用液氮冷却是外形尺寸85 x 240 x 85 mm重量1.5 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %DIN EN 60529 保护方式IP 43电压220 - 240 / 100 - 115 V频率50/60 Hz仪器输入功率160 W

MultiDrive MT 150.5 Milling tube, autoclavableMT150.5研磨杯与MultiDrive control 多功能破碎仪配合使用，最适合于样品干磨。该塑料研磨杯，透明设计，方便实验者持续观察样品匀浆过程中的变化。 MT150.5研磨杯集成RFID芯片，自动识别样品杯和相应的使用时间。该研磨杯的标准配置中均包含了5个密封圈，即1包TS1。通过更换密封圈，可增加研磨杯的使用次数。研磨杯均可高温灭菌，有效杜绝交叉污染。 数量：5个/包 最大可用体积：150mL 最大进料粒度：10 mm/5 Mohs 与介质接触的材料：不锈钢、PCTG FDA合规性：是 注：出于安全考虑，使用该研磨杯时，必须使用TC 1防护罩。如未使用TC1，则MultiDrive将无法启动。请一并订购TC 1保护罩。MultiDrive TC 1 Protective housing组合MultiDrive MT 150和BT 250使用的防护罩MultiDrive BT 250.5 Blending tube, autoclavableBT 250.5 匀浆杯与MultiDrive control 多功能破碎仪配合使用，最适合于湿磨工艺。该塑料匀浆杯，透明设计，方便实验者持续观察样品匀浆过程中的变化。 BT250.5匀浆杯集成RFID芯片，自动识别样品杯和相应的使用时间。该匀浆杯的标准配置中均包含了5个密封圈，即1包TS1。通过更换密封圈，可增加匀浆杯的使用次数。匀浆杯均可高温灭菌，有效杜绝交叉污染。 数量：5个/包 最大可用体积：250mL 最大进料粒度：10 mm/5 Mohs 与介质接触的材料：不锈钢、PCTG FDA合规性：是 注：出于安全考虑，使用该匀浆杯时，必须使用TC 1防护罩。如未使用TC 1，则MultiDrive将无法启动。请一并订购TC 1保护罩。

产品介绍：　　2.0ml螺帽管，平底带单独旋盖，螺旋盖已旋上，无菌；带O环，防泄漏的螺帽管盖，可承受离心力达20000Xg，可121℃的高压灭菌。可与MP fastprep-24研磨机配套使用。 　　离心管在全球范围内被广泛使用，并已经成为所有实验室、工业和研究领域及日常工作的一个不可缺少的部分。安全的带O形密封圈螺帽管和结实的聚丙烯试管，使该产品成为一个用于离心、运输和存储高质量合成低聚核苷酸、酶、缓冲液等的理想多功能的工具。 产品规格：2.0ml/支，100支/包

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。 技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节 研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨 研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？ 基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨 所谓医药中间体，实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品，不需要药品的生产许可证，在普通的化工厂即可生产，只要达到一些的别，即可用于药品的合成。 我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种，需求量达250万吨以上。经过30多年的发展，我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套，只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富，原材料价格较低，有许多中间体实现了大量出口。那么，我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢？我国β－内酰胺类抗生素经过近50年的发展，已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β－内酰胺类抗生素（除利期内的品种外）我国都能生产，而且成本很低，青霉素产量居位，大量出口供应国际市场；头孢类抗生素基本能够自给自足，还能争取一部分出口。2012年，与β－内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产，除了半合成抗生素的母核7－ACA和7－ADCA需要部分进口外，所有的侧链中间体均可生产，而且大量出口。 以β－内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例，我国现有苯乙酸生产厂家近30家，总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小，大的年产2000吨，其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨，消费结构为：青霉素G占85%，其他医药占4%，香料占7%，农药及其他域占4%。随着国内香料、医药、农药等行业的发展，苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年，我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨，农药行业将消费500吨，香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量，预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。 所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机，是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。 产品说明：锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。 第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。医药中间体CMD2000系列胶体磨（研磨分散机）的特点：① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨

研磨适配器是应用于高通量组织研磨仪的研磨容器，形状类似离心管，专用于少量多批次样品的研磨。研磨时，将样品和研磨珠放入适配器中，然后盖上盖子，即可放入研磨机中进行研磨。

碳纳米管浆料高剪切研磨分散机，超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家，碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成， 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点：①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。

Allied 金刚石复合研磨剂是专门为金相学样品制备设计的。精确的金刚石颗粒使研磨效果更均匀。它与水、乙二醇、酒精等润滑剂兼容，而且用水就可轻易清除

玛瑙研磨球 玛瑙球磨珠产品具体规格为：3-60mm之间，如需特殊规格可按照客户需求加工任意规格研磨球。玛瑙球：（agate　ball）是由进口玛瑙为原料制成的，不仅具有高强度和高韧性，而且兼备高耐磨性。可用于各种球磨机使用，寿命长且可降低成本、减少生产加工中的球的磨损，对环境的影响也小。采用纯天然的玛瑙石经切割、打磨和抛光等工艺制成。具有结构致密。色泽通透、高弹性模量和优异的耐磨型。适合球磨机对电子材料、陶瓷材料、油墨材料、化工材料、电池材料、稀土材料、等的粉体研磨产品。比重：2.65kg/L, 散重：1.58kg/L,莫氏硬度：7， 颜色：奶白或深蓝；粒径：7-30mm。 比重大、强度高、粉碎效率高、可缩短处理时间。真球度高、表面光滑、直径分布小、可进行高精度产品的破碎和分散。因使用高纯度原料，使其具有高耐磨性、可以最小限度地限制杂质的混入。耐磨性能好、寿命长、不需频繁的补充玛瑙研磨球，减少生产成本。对粘性和比重大的被粉碎物的湿式粉碎和分散、也可发挥较大的威力。使用在搅拌球磨机的粉碎过程中、不需担心球的生锈的腐蚀问题。用途：压电陶瓷、绝缘材料等电子材料、磁性材料的粉碎和分散颜料、油墨（墨水）、涂料等的粉碎和分散药品、食品的粉碎和分散精密陶瓷的粉碎和分散其他：化工、电子、陶瓷、油墨、涂料等多种研磨机械配套的理想研磨介质。

产品名称：ShakIR Sample Grinder-For Optimized Sample Mixing品牌：美国PIKE公司产品价格：面议(RMB) PART NUMBERDESCRIPTION161-1070ShakIR, Heavy Duty Sample Grinder, 110/220VSample Grinder Vials161-1035Stainless Steel Vial with Ball, 1" long x 0.5"Options and Replacement Parts for Sample Grinders161-1037Spare Stainless Steel Ball160-8010KBr Powder, 100 g

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

MultiDrive BL 2000 Blender vesselBL 2000匀浆杯与IKA MultiDrive basic 配合使用，特别适用于各类样品的湿磨处理，如肉类、香肠、大豆、青贮饲料、蔬菜等。 该容器所有零件均可用洗碗机清洗。匀浆刀头易于拆卸，以方便对其进行彻底清洁。 该匀浆杯标准不锈钢刀头。技术参数工序类型分批处理工作原理混合速度范围3000 - 20000 rpm最大圆周速度78.5 m/s最大使用容积2000 ml最大给料颗粒30 mm冲击/剪切刀头材料不锈钢1.4034材料(其他)不锈钢、PCTG、聚四氟乙烯、硅胶、碳化硅工作时间 开30 min工作时间 关10 minFDA合规性是多次使用是可洗碗机清洗是数据传输驱动器/容器无线射频识别监控维护时间是温度测量是温度测量精度0.1 K温度测量精确性±1 K最低温度限制。-50 °C最高温度限制。80 °C刀头/刀具直径75 mm外形尺寸180 x 280 x 220 mm重量1.25 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

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Spectrocertified® Grinding and Briquetting Additives研磨粉，助磨剂 X-Ray Mix&trade ,研磨粉，助磨剂产品货号产品描述600粉末6251/4 克/片6501/2 克/片SpectroBlend&trade 44µ ( 微米) 研磨粉，助磨剂产品货号产品描述660粉末6901/2 克/片硼酸, 1/2 克/片产品货号产品描述7501/2 克/片

Coleparmer spex 8000系列球磨机用研磨罐8000M混合通常在装有研磨球的研磨罐中进行。根据要混合的材料的性质和数量，可以使用一个或多个球。对于在混合过程中结块的样品，加入水或酒精的浆料可能会有所帮助。随后可以通过在非常低的温度烘箱中加热塑料瓶来干燥样品。如果结块是由于静电引起的，可以在研磨罐中加入少量纤维素（10%）。研磨通常在金属或陶瓷容器中进行：钢、碳化钨、氧化铝、氧化锆、氮化硅和玛瑙。干式研磨是最简单的方法，也是最常用的方法。容器选择的标准通常是研磨效率与微量污染的标准；钢和碳化钨比陶瓷或玛瑙研磨得更快，但如果分析样品中包含研磨罐的金属，则应避免使用该类型研磨罐。碳化钨、氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷、氮化硅和玛瑙研磨罐硬度高但脆性强。8001硬化钢研磨罐套装，65mL硬度，MoHS=5&half -6。洛氏硬度：C=60‒ 65。主要元素：Fe，次要元素：Cr、Si、Mn、C用于湿式或干式研磨/混合。研磨罐尺寸5.7cm*7.62cm直径*高。研磨罐的罐体和瓶帽内衬是硬化工具钢。套装包括带O形圈的螺纹盖，可进行湿式或干式研磨/混合，两个&half in.和四个¼ in.钢球。研磨载荷5-20 g；混合负载约30 ml。8001LC硬化钢研磨罐套装，65mL与（#8001）相同的研磨罐，但钢中铬含量较低（0.2%）。8003氧化铝陶瓷研磨罐套装，45mL硬度，MoHS=9主要元素：Al，次要元素：Si、Ca、Mg研磨罐尺寸2¼ 英寸（5.7厘米）直径x2¾ 英寸（7.0厘米）长。高纯度99.5%氧化铝陶瓷罐体（#10008）和两个带一个&half in.球（#8003A）的滑盖（#22254）；套装包括八个橡胶垫圈（#10009）。研磨载荷5-15 g；混合负荷约20ml。研磨浆料（使用液体研磨助剂的固体样品）时，使用（#8015）夹具固定研磨罐端盖。这样可以防止泄漏和损坏研磨罐。 8004碳化钨研磨罐套装，55mL硬度，MoHS=8&half 主要元素：W、C、Co和次要元素：Ta、Ti、Nb用于湿式或干式研磨/混合。研磨罐尺寸2¼ 英寸（5.7厘米）直径x2&half 英寸（6.35厘米）长。碳化钨内衬阀体、两个螺纹式碳化钨内衬盖（#35299）、两个7/16 in.碳化钨球（#8004A）和八个corprene垫圈（#10010）。研磨负载5-15g，混合负载约25 ml。碳化钨是一种非常坚硬，但也非常脆的材料。因此，必须小心防止破损。起始样本大小应为¼ 英寸。8005氧化锆陶瓷研磨罐套装，45mL硬度，MoHS=8&half 主要元素：Zr，次要元素：Y、Hf、Mg 用于湿式或干式研磨/混合。研磨罐尺寸2¼ 英寸（5.7厘米）直径x25/8英寸（6.67厘米）长。固体氧化锆陶瓷研磨罐（#33580）、盖子（#35379）和两个&half 英寸的球（#8005A）；七个橡胶垫圈（#10009）。研磨负载约5-15g；混合负载约25ml。8007不锈钢研磨罐套装，65mL硬度，MoHS=5‒ 5&half 。洛氏硬度：C=55-60主要元素：Fe、Cr和次要元素：Ni、Mn、S、Si研磨罐尺寸2¼ 英寸（5.7厘米）直径x3英寸（7.62厘米）长。研磨罐主体和盖子内衬由硬化的440C不锈钢制成。包括两个&half 英寸和四个¼ 英寸的不锈钢球。套装包括带O形圈的旋盖，以允许湿式或干式研磨/混合。研磨载荷5-20 g；混合负载约30ml。8008氮化硅研磨罐套装，45mL硬度，MoHS=8&half +主要元素：Si和次要元素：Y、Al、Fe、Ca用于湿式或干式研磨/混合。研磨罐尺寸2&half 英寸（5.7厘米）直径x211/16英寸（6.8厘米）长。固体氮化硅研磨罐（#38412）、盖子（#38413）和两个&half in.球（#808A）；七个橡胶垫圈（#10009）。研磨载荷约为5-15g；混合负载约为25mL。起始样本量应为¼ 英寸。8009圆端硬化钢研磨罐套装，35mL硬度，MoHS=5&half -6。洛氏硬度：C=60‒ 65。主要元素：Fe，次要元素：Cr、Si、Mn、C用于湿式或干式研磨/混合。研磨罐尺寸23/8英寸（6.0厘米）直径x3英寸（7.62厘米）。硬化钢罐体具有圆形端部的研磨室，可实现更高效的研磨/混合。包括适用于潮湿或干燥用途的螺纹盖和O形圈，两个&half in.和四个¼ in.钢球。为了获得最佳效果，请使用（#8009B）1英寸钢球。研磨载荷3-10g；混合负载约25mL。8014玛瑙研磨罐套装，45mL硬度，MoHS=6-7主要元素：Si，次要元素：Al、Na、Fe、K、Ca、Mg用于干磨和混合。研磨罐尺寸2¼ 英寸（5.7厘米）直径x2¾ 英寸（7.0厘米）长。所有玛瑙罐体（#22258）、两个滑盖（#22257）、两颗&half 英寸玛瑙球（#8014A）和八个corprene垫圈（#10009）。研磨载荷3-10 g；混合负载约20mL。当样品中不可有金属及有机物污染时使可使用（#8014）玛瑙研磨瓶套件。其高抛光性和耐磨性有利于以最小的传输损耗进行研磨。8002塑料研磨罐，135mL21/8英寸（54毫米）直径x2&half 英寸（67毫米）长。由聚苯乙烯制成；包括一个螺旋式聚乙烯帽；研磨负载20-50g，混合负载50ml。使用（#3112）或（#806A）塑料球。每套包含100个。8020厚壁聚碳酸酯罐套装，75mL罐子尺寸2英寸（50.8毫米）直径x3英寸（76.2毫米）长。聚碳酸酯主体，带螺纹聚丙烯帽和橡胶垫圈。提供两个&half 和四个3/8的甲基丙烯酸酯球。也可与（#807B）不锈钢球组一起使用。建议混合/研磨负载10-30 g：适用于软质至中硬质材料。适用于高达40mL的浆料研磨。可多次反复使用。3127硬化工具钢研磨罐套装，5mL¾ 英寸（19.1毫米）直径x 1-7/8英寸（47.6毫米）长。由工具钢制成；包括带两个滑盖和两个（#51707）O型环的中心气缸，用于湿式或干式使用，以及¼ in.钢球。研磨负载0.3-1.0 g，混合负载2 mL。必须与（#8011）适配器一起使用。5004碳化钨内衬钢研磨罐套装，5mL3/4英寸（19.1毫米）直径x2 1/8英寸（54毫米）长。包括两个带碳化钨插件的Delrin滑盖、六个一次性甲基丙烯酸酯中心圆柱体和两个5/16英寸（7.9毫米）碳化钨球。研磨负载0.5-1.5 g；混合负载3mL。

上海新诺 玛瑙研钵 天然A级玛瑙乳钵 研磨碗 研磨棒 研钵产品介绍：玛瑙乳钵主要适用于实验室内部对少量样本的研磨与分析实验仪器，用于研磨固体物质或进行粉末状固体的混合。玛瑙研钵适应于化验室、制药厂、化工实验室的研磨用，耐压强度高、耐酸碱。研磨后不会有任何乳钵本体物质混入被研磨物中。 玛瑙研钵技术特点：① 产品无裂痕、无杂质、抗耐磨性强。② 产品光泽度、抗腐蚀性强，可在酸性研磨材料中使用。③ 选用巴西进口原材料加工制成，纯度、硬度高。 玛瑙研钵化学组成：成分SiO2MgO/CaO/Mn2O3wt%97.262.74 玛瑙研钵物理性质：比重散重莫氏硬度弹性模量颜色2.65kg/dm31.5kg/L7.2-7.5〉70Gpa灰白或灰色

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

适用于研磨珠敲打式均质器，对各种样品进行高效破碎，用于蛋白、核酸的提取 以下为Bertin原装kits，无DNA酶、RNA酶 货号描述包装适用样品0.5ml研磨KitKT03961-1-203.05CK14-0.5mL 柔嫩组织研磨kit50/包微量的柔嫩动、植物组织等KT03961-1-204.05VK05-0.5mL 微生物研磨kit50/包微量的酵母菌、真菌等　　　　2ml研磨KitKT03961-1-001.2MK28 坚韧组织研磨kit50/包坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-002.2CK28 坚韧组织研磨kit50/包坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-003.2CK14 柔嫩组织研磨kit50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等KT03961-1-004.2VK05 微生物研磨kit50/包酵母菌、真菌等微生物KT03961-1-005.2VK01 微生物研磨kit50/包细菌KT03961-1-006.2SK38 土壤研磨kit50/包土壤、粪便等KT03961-1-009.2CKMix 坚韧、柔嫩组织通用研磨kit50/包坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-010.2CK01 细菌研磨kit50/包细菌以下为Bertin原装管壁加硬型2ml研磨kits（超硬管）KT03961-1-007.2CK28-R 加强型坚韧组织研磨kit50/包相当坚韧的动、植物组织等，如羽毛、皮肤、种子等KT03961-1-008.2MK28-R 加强型坚韧组织研磨kit50/包相当坚韧的动、植物组织等，如羽毛、皮肤、种子等KT03961-1-013.2CKMix50-R 超强型坚韧组织研磨kit50/包极其坚韧的动、植物组织等，如牙齿、骨骼、坚果等KT03961-1-014.2CK68-R 超强型坚韧组织研磨kit50/包极其坚韧的动、植物组织等，如牙齿、骨骼、坚果等　　　　7ml研磨KitKT03961-1-302.7CK28 坚韧组织研磨kit50/包相当坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-303.7SK38 土壤研磨kit50/包土壤、粪便等KT03961-1-304.7VKMix 细菌、真菌通用研磨kit50/包酵母菌、真菌等微生物KT03961-1-305.7CK01 细菌研磨kit50/包细菌KT03961-1-306.7CKMix50 超强型坚韧组织研磨kit50/包极其坚韧的动、植物组织等，如牙齿、骨骼、坚果等KT03961-1-307.7CK14 柔嫩组织研磨kit50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等　　　　15ml研磨KitKT03961-1-502.15CK28 坚韧组织研磨kit25/包相当坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-510.15CK01 细菌研磨kit25/包细菌KT03961-1-514.15CK68 超强型坚韧组织研磨kit25/包极其坚韧的动、植物组织等，如牙齿、骨骼、坚果等 注： 研磨珠选择的一般规律是：样品硬度越强、韧度越高，选择的珠子密度、直径也就越大 珠子的选择并没有绝对性，一种样品可以同时适用多种珠子 科研人员往往选择与样品颗粒大小接近的珠子，并且密度较大的为首选 有的使用者，喜欢把同种质地不同直径的珠子按体积比搭配使用

OptiPrepTM光学元件抛光系统—OptiPrepTMOptical element Polishing SystemOptiPrepTM抛光系统设计用于多种光学部件的抛光，包括：1) 套圈（Ferrules）：陶瓷、玻璃、不锈钢、塑料2) 连接器（Connectors）：MT/MT-RJ，ST，SC/FC（APC）3) 波导（Waveguides）4) 硅V形槽（Silicon V-groove）5) 光学芯片（Optical chip）6) 毛细管/玻璃镜片（Capillary/Glass Lenses）7) 光纤束（Fiber Bundles）8) 带状光纤（Ribbon Fiber） 9) 裸光纤（Bare Fiber）双测微计（俯仰和侧滚）设计允许精密样品相对于抛光平面进行倾斜调整。刚性的Z向主轴确保预置的几何角度在整个研磨或抛光工艺过程都保持稳定。数字指示器设计使得量化材料去除量成为可能，一方面可以实时监测，另一方面可以在无人值守时进行预置。可变的转动和摆动速度，可以最大限度地利用整个研磨抛光盘，减少人为痕迹。可调负载控制扩展了设备性能，既可以处理精密的小样品，也可以处理大样品。特点：1) 可变转速：5-350 RPM，增量5 RPM；2) 触控开关控制所有功能；3) 1/4 HP（190W）电机，具持久减速齿轮箱，提供高扭矩输出；4) 数字计时器和转速表；5) 为OptiPrep?定位装置的操作集成控制；6) 研磨盘可以顺/逆时针旋转；7) 快速更换研磨盘设计，阳极氧化抗磨损和腐蚀；8) 耐腐蚀/冲击表面；9) 碗型冲洗防止碎片堆积；10) 带有调节阀的电子冷却控制装置；11) 前置数字指示器显示实时材料去除量（样品行程）；12) 后置数字指示器显示垂直定位（静态），具有调零功能，分辨率1μm；13) 精密主轴设计确保样品垂直于研磨盘，并可以同时旋转；14) 6倍速样品自动摆动，可调节；15) 8倍速样品自动/半自动旋转；16) 凸轮紧锁系统，无需工具，可以精确定位夹具；17) 尺寸：15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)；18) 重量：95 lb. (43 kg)；19) 装运尺寸：33" W x 31" D x 15" H (838 x 787 x 381 mm)；20) 装运重量：125 lb. (57 kg)；21) 符合CE标准；22) 美国Allied公司设计制造。产品附件：

金刚石磨盘，延伸到细磨单 一微米粒度。它们取代 了 传统的研磨 工艺，在材料 磨削率、表面质量、工件几 何形状和寿命方面都取得了 优异的效果。SL金刚 石磨 盘提供了一个简单，清洁和 高效的精细研细磨和无与伦比的精度，SL-M SL-H能使各种材料的细磨到金刚石粒度3μm以 下, 容 易清 洁、高效. 创新的设计，SL金刚石磨盘由微米级的金刚石磨料嵌入高性能聚合物的结构基质。树 脂结 构镶嵌在纺织基地，它吸收振动，从而提高表面质量。 米级金刚石细粒度分布，既具有优良的表面质量，又具有高的材料磨削率 容易更换，S L可用于任何标准研磨机或抛光机。安装选项(不锈钢载体或背胶)，可实 现不 同粒度的磨盘快速转换。 寿命长, 大面积的磨料层增强磨盘的寿命,磨削时间短，制样成本低. 自锐性 S L 金刚石磨盘，使用中无需修整。由于自锐化粘合系统，金刚石磨盘在磨削过程中不需要进行调理，可持续获得良 好的磨削效果。 干净的工作空间，使用S L磨盘，工作环境保持清洁。使用水冷却，不需要金刚石润滑液或 润滑剂。 适用性强，S L可用于研磨各种材料，如钢材、不锈钢、合金、光学玻璃、各种晶体、工业 陶瓷、陶瓷密封件等材料 树脂金刚石磨盘是一种自锐、柔性金刚 磨盘，适用于平磨和细磨，取 代了传统SiC砂纸在各种材 料 磨 削中的应用。 精密级配金 刚石和最佳的粒度集合，使加 工时间短，表面平整，轮廓清 晰度高

在行星式球磨机中，装有研磨球和样品的球磨罐在行星盘的高速运动下，自身也作高速旋转，样品与研磨球之间在与球磨罐内壁不断的碰撞、磨擦中产生剧烈的能量，这种巨大的能量使得样品达到良好粉碎效果真空球磨机 ：采用可抽真空的球磨罐，使物料在真空状态下进行破碎和研磨的过程。低温球磨机 ：采用水冷迴圈式，使研磨环境在-80～0摄氏度（可调），减少研磨过程中，因為温度的升高，影响物料变质，同时可配备我公司的研磨罐的温度接受系统，TM无线接收，可对物料时时监控。

美国QMAXIS研磨抛光片原装进口美国QMAXIS研磨抛光片，是将微米级、纳米级的金刚石、或氧化铝、或碳化硅微粉，用高分子粘合体系均匀地涂布在高强度的Mylar片（麦拉片）表面，具有出色的平整度、边缘保持和共面性。研磨抛光片适用于玻璃、陶瓷、硬质金属、复合材料、光纤、光学元件、半导体、芯片、电路板以及用于SEM和TEM分析的微电子元器件的研磨、减薄和抛光。适合手动研磨抛光，干法、湿法均可。订货信息：DiaFilm 金刚石研磨抛光片 包装规格：5片/包颜色粒径8in [203mm] 带背胶8in [203mm] 不带背胶绿色30µmGFD-08-30GFDX-08-30橙色15µmGFD-08-15GFDX-08-15蓝色9µmGFD-08-9GFDX-08-9棕色6µmGFD-08-6GFDX-08-6粉红色3µmGFD-08-3GFDX-08-3淡紫色1µmGFD-08-1GFDX-08-1灰白色0.5µmGFD-08-05GFDX-08-05浅灰色0.1µmGFD-08-01GFDX-08-01订货信息：AlumiFilm 氧化铝研磨抛光片 包装规格：100片/包颜色粒径4in [102mm] 带背胶8in [203mm] 带背胶绿色30µmGFA-04-30GFA-08-30黄色12µmGFA-04-12GFA-08-12蓝色9µmGFA-04-9GFA-08-9粉红色3µmGFA-04-3GFA-08-3淡绿色1µmGFA-04-1GFA-08-1白色0.3µmGFA-04-03GFA-08-03订货信息：CarbiFilm 碳化硅研磨抛光片 包装规格：100片/包粒径4in [102mm]带背胶5in [127mm]带背胶8in [203mm]带背胶30µmGFC-04-30GFC-05-30GFC-08-3012µmGFC-04-12GFC-05-12GFC-08-129µmGFC-04-9GFC-05-9GFC-08-93µmGFC-04-3GFC-05-3GFC-08-31µmGFC-04-1GFC-05-1GFC-08-1

各种型号和规格 研磨管 和 研磨珠~满足实验中不同组织或器官的均质研磨需要！适用于各种研磨均质机器！欢迎来询价！本公司可以提供单独的研磨管，研磨珠，也可以提供预装好珠子的研磨管。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

氧化铝刚玉陶瓷研磨球 氧化铝研磨球 陶瓷研磨球 高铝球5m-50mm各种规格齐全，外观为白色球状，滚轴球磨机 大小型球磨机 行星式球磨机配套用高强度氧化铝，陶瓷球，瓷球，研磨球，刚玉球，耐磨瓷球，高铝球，抛光球，陶瓷微球。用途：1.配套行星球磨机2.耐磨陶瓷微珠主要应用于非金属矿产品粉料（如硅酸锆、高岭土、重质碳酸钙等）及涂料、油漆、食品等行业的物料研磨与分散以及金属件的抛光使用，适用于各种球磨、研磨和抛光设备。也可以在浇筑时加在橡胶里增加耐磨系数。特点：（1）主要成分为氧化铝（≥92%）， 对被研磨物料的品质没有影响。（2）产品比重大（≥3.60g/cm3)，能大幅度提高研磨效率，降低研磨时间，节省能耗，降低成本；同时有效增加球磨机有效容积,从而增加研磨物料的加入量。 （3）产品硬度高，磨耗低，能大大延长研磨体的使用寿命。（4）产品白度高，不会对被研磨物料的颜色产生影响。氧化铝陶瓷球化学成分成分Al2O3Na2OMgOSiO2CaOOtherWt%94%210.51.51物理性质比重散重维氏硬度挤压强度软化点包装3.7kg/dm32.2kg/L1300kg/mm220000＞1400℃25kg/包

总览905nm 脉冲激光器应用于光触发晶闸管（LTT）或光触发集成电源电路（IGBT）,Licht-zündbare晶闸管（LZT）或集成电路905nm 脉冲激光器 75W 30ns,905nm 脉冲激光器 75W 30ns通用参数规格峰值输出功率 75W正向电流（Max. 值）25A脉冲宽度（FWHM）30ns占空比0.10% 波长905±10nm工作电压6.0V(100ns/1kHz)阈值电流0.3A工作温度-40℃-+85℃连接器ST,FC可选输出功率(不含光纤)(8A,25°C,100ns脉冲宽度)180 mW1m HCS/PCF 200/230Cm, NA=0.37尺寸图公司简介筱晓(上海)光子技术有限公司成立于2014年,是一家被上海市评为高新技术企业和拥有上海市专精特新企业称号的专业光学服务公司，业务涵盖设备代理以及项目合作研发，公司位于大虹桥商务板块，拥有接近2000m² 的办公区域，建有500平先进的AOL(Advanced Optical Labs)光学实验室，为国内外客户提供专业技术支持服务。公司主要经营光学元件、激光光学测试设备、以及光学系统集成业务。十年来,依托专业、强大的技术支持，以及良好的商务支持团队，筱晓的业务范围正在逐年增长。目前业务覆盖国内外各著名高校、顶级科研机构及相关领域等诸多企事业单位。筱晓拥有一支核心的管理团队以及专业的研发实验室，奠定了我们在设备的拓展应用及自主研发领域坚实的基础。主要经营激光器/光源半导体激光器（DFB激光器、SLD激光器、量子级联激光器、FP激光器、VCSEL激光器）气体激光器（HENE激光器、氩离子激光器、氦镉激光器）光纤激光器（连续激光器、超短脉冲激光器）光学元件光纤光栅滤波器、光纤放大器、光学晶体、光纤隔离器/环形器、脉冲驱动板、光纤耦合器、气体吸收池、光纤准直器、光接收组件、激光控制驱动器等各种无源器件激光分析设备高精度光谱分析仪、自相关仪、偏振分析仪，激光波长计、红外相机、光束质量分析仪、红外观察镜等光纤处理设备光纤拉锥机、裸光纤研磨机

铜研磨盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数Φ203mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

产品简介：紫铜研磨盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机，可以订制盘型。 产品型号紫铜研磨盘技术参数?203mm、?381mm如需特殊尺寸请与我司销售人员联系！