高纯氩气分析仪

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高纯氩气分析仪相关的仪器

  • APIX超高纯电子气质谱分析仪 结合了工艺先进的电子电路和功能强大的过程分析软件的、性能卓越 的大气压离子化质谱仪 (API-MS)使得 Thermo Scientific APIX 生产线提供的分析仪系统成为半导体和电子工业大宗气体连续质量控制的选择。 API-MS 为传统质量控制技术提供了一个成本-效益的替代方案,允许每种大宗气体中一系列潜在污染物浓度监测能够达到很低的测量下限;相较于其他技术,甚至能够优于100倍。 APIX产品线提供了更多完整的杂质分析,包括: H2、CO、CO2、H2O、O2、CH4 、Kr和 Xe ,以及其他需要测量的杂质。随着 300 mm 晶圆生产者发布更严格污染物控制气体质量标准,这种技术将持续的成为ppt级杂质测量下限的首选技术。 特点: 快速在线测量(典型<5秒)确保 了立即响应供气的波动状况 完全集成的多分析器分析方案提 供了污染物的快速检测 超高的灵敏度和10ppm的测量下限满足当下以及未来的严格的气体分析要求 备份能力在单个大气压离子化分 析器(API)在维护时,允许每 一台大气压离子化质谱仪(APIMS)支持多流路分析 针对于工厂控制和数据集中的标准 化工业通讯协议 (OPC, DDE, Modbus, Siemens 3964R, PROFIBUS, 等等)应用 超高纯氮气(UHP N2) 超高纯氩气(UHP Ar) 超高纯氦气(UHP He) 超高纯氢气(UHP H2) 运行原理APIX δQ 和APIX Quattro 采用阳离子大气压离子化质谱仪 ( API-MS)技术, 该技术被电子工业广泛用于检测超纯气体中的污染物。进样时,样气以大气压或略高于大气压的压力进入离子源。 金属针设置在靠近由孔板行成的通向棱镜组的入口附近。它带有高的电压,能够产生电晕放电。这就产生了从孔板到针头的电子流。电子与离子源中 大量样气发生反应,从而导致大量样气气体分子的电离。 幸运的是,相对于氮气、氢气、氦气和氩气而言,这些出现在样气中浓度很低的污染物需要很少的能量就可以产生 电离。正是因为如此,任何污染物分子出现在样气中,它们与样气离子发生反应的几率就非常高。 这种反应发生时,电荷转移至污染物气体分子,这就形成了再次电离。 这个电荷转移导致非常高比例的污染物气体分子被电离。 事实上,这个效率比其他使用真空腔电离技术的质谱仪, 其效率要高1000倍。 部份样品、完全电离的污染物,经过一系列的减压透镜后,进入三重四级杆质谱仪。一个测量质量数达到300道尔顿(原子质量单位)三重四级杆能够确保实现所有污染物的精确测量。脉冲计数放大器的噪声等级仅为10个脉冲,每106个脉冲, 与大气压离子源配合后, 能够确保12数量级的测量下限,它可以低1012之一 (即1 ppt). 配置:APIX δQ的标准配置为一个单一机箱,它里面配置了1个大气压离子化质谱仪(API-MS)和 一个Air Liquide 气体处理单元,它能够用于ppb或ppt级自动校准。标准机箱是为 相对空气洁净且有温度控制的环境而配置;如果需要,一定数量的冷却降温和吹扫选项也可以满足更多环境需求。 APIX Quattro 标准配置使用了三个机箱,两个配置了4 个大气压离子化质谱仪(API-MS)独立机箱,和第三个装有一个Air Liquide 气体处理单元机箱。 四个质谱仪中的每一个都安装在滑轨上,以便向前拖出,便于维护。 顶部安装的机箱盖包含流路切换阀组, 用于采样气体连接。它允许多个流路连接到每个独立的 散装气体分析器。这种流路选择可以是手动或完全自动完成。每一个大气压离子化质谱仪( API-MS )都是独立的,并且都具备多流路切换功能。当一台质谱仪进行年度固定维护时,可以使用其余三台质谱仪监测四个散装气体。 在这两种配置的机箱盖组件包含一个氢安全系统,以确保质谱仪在氢气泄漏时安全关闭。这个安全设备使用独立于质谱仪供电。如果需要有限的机动性,可以提供一组车轮,使该质谱仪能够安全地从一个测试点推送到另一个测试点。 每一个质谱仪通过使用后备电池闪存、运行实时的操作系统的处理器控制。这个处理器作为一系列内部控制器的主人,它们之间的通过以太电缆实现互联。 这些微处理器中的每一个都能作为一个独立部件单独运行,例如气体处理器和多流路进样系统。气体处理器仅需要一个单独的校准气瓶并结合了来自渗透管装置的湿度校准。 内部配电装置通过内部分析仪网络进行监测和控制。 这一设计拓展了 GasWorks 软件的诊断能力。每一个多处理器网络提供了冗余的通讯渠道,允许质谱仪可靠、不需要电脑工作站独立运行,直接传送样品流路数据和诊断信息至DCS或SCADA系统。每一个通讯渠道都可被配置为点对点的 光纤通讯或是硬接线的电流回路、多点连接 。每个分析器都可以配置一个嵌入式opc服务器,与 Microsoft 主机或多种工艺网关协议(Modbus, Siemens, Allen-Bradley, 等.)实现无缝通信 。如果需要质谱仪提供硬接线模拟检测和数字报警输出, OPTO 22 SNAP 和 OPTOMIX 协议将被完全支持,一系列硬件卡件能够使用。 Thermo Scientific GasWorks 软件 Thermo Scientific GasWorks 软件包为质谱仪操作提供了一个直观的、信息丰富且灵活的窗口。使用安装了Gasworks软件的一台电脑可以完成初始设置,过程数据和诊断信息的显示。我们也可以断开电脑与APIX的连接;APIX能够脱离与电脑的连接而独立运行于无人值守模式。 从设计概念到数代产品,完全认可的ISO 9001质量程序得到了软件团队的严格执行。 软件安装可以随时检查,以确保其可验证的完整性和正确性。软件更新可以远程上传。 技术参数测量方式APIX δQ: 1x 三重四级杆质谱分析器 APIX Quattro: 4x 三重四级杆质谱分析器质量范围1-300 AMU离子源类型大气压离子化离子源背景<1 ppt放大器和动态测量范围100 MHz脉冲计数型检测器脉冲计数通道电子倍增器检测噪声每106 有10个数检测下限 10 ppt (根据组份变化)分析时间(典型) 1s每个组份流路切换时间(典型)15分钟至 1 ppb适合的大宗气体H2 , N2 , Ar, He串口连接类型RS232, RS422, RS485检测的污染物H02 , He, CO, CO2 , O2 , CH4 , Kr 和 Xe (其他污染物也可检测)外形尺寸APIX δQ: 1.9 m (H) x 0.7 m (W) x 0.65 m (D) APIX Quattro: 1.9 m (H) x 2.1 m (W) x 0.65 m (D)
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  • GAP-6N系列惰性气体纯化器GAP-6N系列惰性气体纯化器的原理是利用合金吸附剂在高温中能与氧气、氮气、水、二氧化碳和烃类等杂质反应生成稳定化合物或固溶体的性质来把氩气、氦气、氖气、氙气等惰性气体中的上述杂质除去,从而达到纯化之目的,净化后得到的高纯气体已广泛用于半导体、电子、冶金、锂电池制造、光纤等产业部门的分析和科学研究中。设备特点:l 净化程度深,不仅能除去O2等较活泼的杂质,而且还可以除去N2等惰性杂质,这是一般净化机办不到的;l 工作温度较低,能耗少;l 本系列纯化器配置单体高纯纯化,和预净化加高纯纯化一体机两款产品,一体机在合金吸附塔之前已经除去了较活泼的杂质,极大地延长了合金吸附塔的使用寿命,合金吸附塔使用失效后需更换。技术参数:设备名称设备机型 工作方式备注 纯化器GAP-6N自动£ 选Ar、He、Xe或Ne原气要求Ar、He纯度≥99.9% 一般瓶装纯氩、液氩、瓶装氦杂质含量O2200ppm ;H2O1000ppm,N2≤100PPm输出纯气杂质含量O2≤0.2PPm;H2O≤1PPm(即露点≤-76℃); N2≤0.5PPm;CO+CO2≤0.1PPm;尘埃粒子数(≥0.3μm)3-5个/升纯度≥99.9999%工作压力0-1.0MPa处理气量1-4Nm3/h 备注可根据用户要求设计制造
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  • GAP-6N系列惰性气体纯化器GAP-6N系列惰性气体纯化器的原理是利用合金吸附剂在高温中能与氧气、氮气、水、二氧化碳和烃类等杂质反应生成稳定化合物或固溶体的性质来把氩气、氦气、氖气、氙气等惰性气体中的上述杂质除去,从而达到纯化之目的,净化后得到的高纯气体已广泛用于半导体、电子、冶金、锂电池制造、光纤等产业部门的分析和科学研究中。设备特点:l 净化程度深,不仅能除去O2等较活泼的杂质,而且还可以除去N2等惰性杂质,这是一般净化机办不到的;l 工作温度较低,能耗少;l 本系列纯化器配置单体高纯纯化,和预净化加高纯纯化一体机两款产品,一体机在合金吸附塔之前已经除去了较活泼的杂质,极大地延长了合金吸附塔的使用寿命,合金吸附塔使用失效后需更换。技术参数:设备名称设备机型 工作方式备注 纯化器GAP-6N自动£ 选Ar、He、Xe或Ne原气要求Ar、He纯度≥99.9% 一般瓶装纯氩、液氩、瓶装氦杂质含量O2200ppm ;H2O1000ppm,N2≤100PPm输出纯气杂质含量O2≤0.2PPm;H2O≤1PPm(即露点≤-76℃); N2≤0.5PPm;CO+CO2≤0.1PPm;尘埃粒子数(≥0.3μm)3-5个/升纯度≥99.9999%工作压力0-1.0MPa处理气量1-4Nm3/h 备注可根据用户要求设计制造
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  • 氩气在光谱分析仪中的作用你知道吗?

    氩气是一种无色、无味的单原子气体,密度是空气的1.4倍,是氦气的10倍。氩气是一种惰性气体,在常温下与其他物质均不起化学反应,在高温下也不溶于液态金属中。氩气在直读光谱分析仪对物质进行分析检测的过程中起着重要的作用。氩气的纯度不够会加大物质检测结果的误差,导致测量的结果不可用。 一般光谱激发时由于瞬间电压高、电流大、激发温度也会很高,氩气可以很好的对钨电极起保护作用,一般的氩气纯度不够,不能很好的保护钨电极,导致钨电极损伤,而且一些高溶点的物质如硅等就会激发不充分,在金属表面就会产生有很多很多白点,造成检测数据不准。 高纯氩作为火花室保护气的主体,其纯度高才会形成需要的“聚能放电”否则就是所谓的“扩散放电”引起不良的激发。样品的组织结构越复杂,对氩气的纯度要求就越严格。 直读光谱仪使用的氩气纯度要求≥99.999%,如果纯度达不到,则会导致校正系数超出要求范围,标准化系数偏高。或者激发光源不激发及跳闸。氩气不纯,对光路尤其是透镜的损坏较大,导致透镜污染,影响直读光谱仪分析谱线;再者激发时声音表现无力,激发点不能充分燃烧,影响分析数据,使数据偏离实际值,导致分析不准确。

  • 气相色谱仪GC8800分析氩气高纯氩气

    分析高纯氩气,氮气组分不到底是什么原因造成的?之前测的都能到底,与实验室温度有关系么?最近实验室温度都在18度左右。[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/10/202010181327531585_7702_5034971_3.png[/img]

高纯氩气分析仪相关的耗材

  • 高纯镍箔锥、镍箔片 其他元素分析仪配件
    高纯镍箔锥 Nickel foil cones产品名称货号规格空白值包装高纯镍箔锥CN017330.13mlO:4ppm N:1ppm100个高纯镍箔锥CN017340.18mlO:8ppm N:1ppm100个镍箔锥用于装粉状样品,嵌入镍篮中无需封口高纯镍箔片 Nickel foil squares 产品名称货号规格空白值包装高纯镍箔片CN0173112x12mmO:3ppm N:1ppm500个高纯镍箔片CN0173225x25mmO:8ppm N:1ppm500个镍箔片用于包柱状或粒状样品产品介绍:镍箔锥和镍箔片全部采用高纯材料制备,超低空白适用于各种O/N/H分析样品。
  • 元素分析仪配件Elementar 03 679 910高纯碳粒 0.3-0.85mm
    元素分析仪配件Elementar 03 679 910高纯碳粒 0.3-0.85mmHigh Purity Carbon Granular , 0.3 to 0.85mm 瑞士santis:锡囊,锡杯,银囊,银杯,锡舟,银舟,锡箔片,线状铜,氧化铜,三氧化? 钨,镀银氧化钴等试剂,元素标样,密封圈,石英反应管,填料,配件。 可以适配各品牌元素分析:如Elementar德国元素, Analytik Jena耶拿, Eltra, LECO力可, Horiba堀厂, Perkin Elmer,Shimadzu岛津,Thermo,? Buechi, CKIC, Costech,?EuroVector, GERHARDT, HEKATECH, Metrohm,VELP等等。
  • 洽诺斯 高纯镍囊6.1x10 6.2x5 其他元素分析仪配件
    高纯镍囊 Nickel capsules, Smooth 产品名称货号规格包装备注长镍囊CN017216.1x10mm100个/瓶O: 4ppm N: 2ppm带盖镍囊CN017116.2x5mm100套/瓶O: 4ppm N: 2ppm用于金属或无机物装粉末样品进行O/N/H分析

高纯氩气分析仪相关的资料

高纯氩气分析仪相关的资讯

  • 微孔分析是用氮气还是氩气
    氩气是惰性气体,并且是球形单原子分子。氮气是非球形双原子分子,并且四极距可能导致局部吸附,特别是具极性的吸附剂。除了氮气会在极性点上发生吸附,氩气和氮气在分子大小和吸附热上很接近。标准压力下氩气的沸点是87.29K,氮气的沸点是77.35K。 对于微孔分析,使用液氩温度下氩气吸附要好于液氮温度下氮气吸附或氩气吸附。氩气作为惰性气体与固体表面特定作用少,且液氩温度高于液氮温度,可缩短平衡时间。除此之外,填充微孔的氩气压力高于氮气压力,更容易测量精确。
  • 使用氧氮氢分析仪分析碳化硅中的氧氮氢元素
    1 绪言在材料科学的浩瀚星空中,碳化硅(SiC)无疑是一颗璀璨的明星。作为无机半导体材料的杰出代表,碳化硅不仅以其独特的物理和化学性质在磨料、耐火材料等领域大放异彩,更在光电、电子等高技术领域展现出无限潜力。然而,要想充分发挥碳化硅的这些优异性能,对其内部元素的精确分析与控制显得尤为重要,特别是氧、氮、氢这三大元素。研究表明,氧含量对碳化硅的等电点和分散性有显著影响:随着氧含量增加,碳化硅微粉的等电点接近石英,水中分散性提升,但过高氧含量则反之,且耐高温性下降,故生产中需严格控制氧含量。适量的氮元素可以调节介电性能、增强其耐高温和抗氧化能力,同时,精确控制氮含量还能优化碳化硅的光电性能,如提升发光效率,进而拓展其在光电子及光电导领域的应用。当前,行业内普遍采用惰性气体熔融法作为检测碳化硅中氧、氮、氢元素含量的主流技术。该方法利用惰性气体作为载气,在高温下促使试样中的目标元素转化为易于检测的气态化合物(CO2、N2、H2),随后通过高灵敏度的非色散型红外检测器与热导检测器,实现对样品中氧、氮、氢含量的直接、精确测量。这一技术的广泛应用,为碳化硅材料的质量控制与性能优化提供了强有力的技术支持。然而,目前大部分氧氮氢分析仪都是是用热导测氢/氮,意味着同一个样品单次只能测氢或者氮,我们使用的宝英光电科技的ONH-316锐风氧氮氢分析仪使用红外测氢技术,能实现氧氮氢联测,达到一次分析同时得到三种元素含量的目的。2 实验部分2.1仪器与试剂仪器:宝英光电科技ONH-316锐风氧氮氢分析仪,高纯氩气做载气,流量为400mL/min,红外吸收法测氧和氢,热导法测定氮。常规分析设置:碳化硅熔点相对较高,大约在2700℃左右,为了防止样品熔融后升华,引起气路堵塞,造成后续测试的影响,所以仪器脱气功率设置为6.0kW,后续分析功率设置为5.5kW。测试的最短分析时间设定为:氧20秒、氮15秒、氢20秒。ONH-316锐风氧氮氢分析仪指标名称性能指标氧氮氢分析范围低氧:0.1ppm~5000ppm高氧:0.5%~20%低氮:0.1ppm~5000ppm高氮:0.5%~50%0.1ppm~5000ppm灵敏度0.01ppm载气高纯氩气2.2样品处理碳化硅粉末经天平称重后直接投样分析测试,无需特殊处理,本实验选择的是样品编号2、3、4的原料样品(非标准物质)进行氧、氮、氢元素检测&zwnj 。2.3实验方法和步骤2.3.1 分析前准备仪器开机,依次打开动力气(工业氮气)和载气(氦气)气瓶,打开仪器电源预热,预热一小时待仪器稳定后,打开冷却水开关,打开计算机电源进入软件,设定合适的分析参数。2.3.2 空白试验仪器基线稳定后,进行空烧做样,用空的坩埚做实验,重复5 ~ 6 次,观察曲线稳定性。待系统稳定下来后,只在进样器中加入镍囊进行分析测定系统氧、氮、氢的空白值,并进行空白补偿。2.3.3 称样称重使用的是梅特勒AL104万分之一天平,将镍囊放置放置于天平上,去皮后称取0.01g左右粉末样,称重完成后,盖上镍囊盖并用洁净的平口钳小心挤压镍囊,排出镍囊内部空气。梅特勒AL104万分之一天平2.3.2 样品测试将石墨坩埚放至仪器下电极凹槽内,点击软件上开始分析按钮,待进料口打开后,投入样品,仪器按照分析自动流程进行氧、氮、氢的熔融分析,绘制分析曲线,通过已经建立的分析方法计算并输出氧、氮、氢的含量。按确定的实验方法,对2、3、4号样品的氧、氮、氢量分别连续进行了两次测试。2.3.5 测定结果数据样品标识氧含量%氮含量%氢含量%25.540621.1330.009785.482419.6960.0107935.129714.8990.010795.139515.9660.0110540.586839.2310.010650.612439.1350.011152.3.6样品释放曲线2.3.7 分析中使用到的耗材石墨坩埚带盖镍囊3 结论从分析曲线上可以看出,样品的释放完全且均匀平滑,从分析数据来看,分析结果的稳定性和重复性都非常好,说明此分析方法非常适合用于碳化硅粉末样品的氧氮氢元素分析。
  • 伦敦金属交易所有色金属质量控制系列(3)高纯金属基体的ICP-OES分析
    我们在1月份连续推出了《伦敦金属交易所有色金属质量控制系列 —— 高纯基体金属的 ICP-OES 分析》(1)Avio 500 分析金属镍中的杂质和(2)Avio 500 分析金属铅中的杂质,介绍了伦敦金属交易所对金属镍和铅中的杂质要求,以及珀金埃尔默 Avio ICP-OES 在相关检测中表现出来的优异的干扰消除能力、检出能力、稳定性,可靠性和准确性等,以及明显降低仪器运行成本的Ar低消耗量。本期我们将继续介绍系列的第三部分《高纯基体金属的 ICP-OES 分析(3)Avio 200 分析金属铝中的杂质》,了解伦敦金属交易所对金属铝的标准规范,以及 Avio ICP-OES 在检测方面表现出来的多种优异性能,特别是在波长稳定性和光谱分辨率上的表现。金属铝(Al,英文Aluminium,原子序数为13,原子量26.98)。铝元素在地壳中的含量仅次于氧和硅,居第三位,是地壳中含量最丰富的金属元素。铝及其合金的独特性质能够满足航空、建筑、汽车三大重要工业发展所要求的材料特性,使得金属铝的生产和应用极为广泛。伦敦金属交易所发布了两种规格的金属铝(99.5%纯度和99.7%纯度)的杂质要求,表 1 列举了对其中一种铝(99.7%纯度)中杂质的要求;同时,也将中国国标对铝锭中杂质的要求也列入表中(GB/T 1196-2008)。表 1. 伦敦金属交易所 99.7% 纯度金属铝中的杂质要求样品样品以 5% 硝酸(v/v)消解,所有分析在 1% Al 溶液中进行(与样品消解后的溶液介质接近),并按照其对杂质元素含量的规定进行加标回收实验。标准工作曲线用 5% 硝酸(v/v)溶液配制浓度水平为 0.5,2.0 和 8.0 ppm 的混合标准溶液(含相应 Sc 作为内标),方法设置中使用“添加方法-样品截距”作为校准计算方法克服等离子体中的基质效应。仪器珀金埃尔默 Avio 200 ICP-OES,仪器参数、实验条件设置见表 2;各杂质元素的测定波长见表 3。标准进样系统配置和参数用于所有分析。矩管位置设置为 -3。在考虑氩气(Ar)成本时,Avio 200 的低氩气消耗可以大大节省成本。表 2. Avio 200 ICP-OES 仪器参数和实验条件表 3. 各杂质元素的测定波长 回收率浓度如表 1 所示的杂质元素混合标准溶液加到 1% Al 溶液中的回收率均在 ±5% 以内,结果如图 1 所示,表明能够准确检测低浓度的杂质元素。图 1. 杂质元素混合标准溶液在 1% 浓度 Pb 溶液中的加标回收率仪器稳定性通过 4 小时连续分析 1% Pb 溶液中内标物 钪(Sc)的光谱信号强度的变化考察仪器的稳定性,结果见图 2,信号强度的波动在 ±4% 以内,表明仪器有着良好的稳定 。图 2. 1% Al 溶液中内标物钪(Sc)的光谱信号强度变化方法检出限方法检出限定义为连续 7 次测量 1% Al 溶液中各杂质元素测量值的标准偏差的 3 倍,结果如图 3 所示,表明方法的检出限符合金属镍标准规范要求。图 3. 1% Al 溶液中各杂质元素的检出限(深蓝色)和伦敦金属交易所金属铝标准规范要求(浅蓝色,按 100 倍稀释 99.70% 纯 Al 计算)Avio ICP-OES的波长稳定性和光谱分辨率1. Avio ICP-OES 具备极佳的波长稳定性(图 4)在 谱线清晰,杂散光极少,检测器边缘亦具有与中间相同的分辨率独有的三狭缝设计,对干扰较小的谱线,可用宽的狭缝以获得更高的光通量;对干扰较大的谱线,可用窄的狭缝以获得更好的光谱分辨信息采用大面积光栅,有极好的色散率,即使在 200 nm处也可获得优异的光学分辨率(图 4)图 4. 每一根谱线由 1 – 30 个像素组成, 在 200 nm 处的分辨率可达 0.003 nm结论本文证明了珀金埃尔默 Avio ICP-OES 可以对高纯 Al 中的杂质元素进行准确分析,符合伦敦金属交易所对高纯金属 Al 的要求。Avio ICP-OES 在实验过程中显示了优异的波长稳定性和光谱分辨率。Avio 200 ICP-OESAvio 500 ICP-OES扫描下方二维码,下载珀金埃尔默Avio ICP-OES分析金属铝中的杂质相关资料。

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