碳氢真空清洗机

设备特点：侧震+底震真空超声波清洗，清洗效果好，渗透力强；2槽真空干燥，清洗节拍快，效率高；配备自动灭火装置，防爆系列主件，安全性能高；外配独立式冷水机，蒸馏回收系统，实现零排放；手动式人工搬运清洗，设备成本低；水系溶剂和碳氢,可自由搭配；从单槽式到多槽式,根据客户的产能要求,量身定制； 多槽式满足从粗洗到蒸汽浴洗到突沸干燥等一系列全自动的精密清洗工艺。

【产品简介】PAL-HydrocarbonCleaner碳氢清洗剂浓度计 ，专门设计为金属加工行业&汽车制造业检测而研发的产品解决方案。PAL-Hydrocarbon Cleaner碳氢清洗剂浓度计能方便的管理清洗济剂添加或更换时机，减少时间浪费，有效控制成本。PAL-Hydrocarbon Cleaner碳氢清洗剂浓度计协助检测碳氢清洗剂浓度，碳氢清洗剂浓度会随着使用次数的不断增加而不断下降，使用科学检测工具让其功效得到更有效的发挥。【产品参数】型号PAL-Hydrocarbon Cleaner货号4558测量范围0-30%分辨率0.1%测量精度±1%自动温度补偿范围10-100℃环境温度10-40℃样本量至少0.3ml测量时间约3秒电源2*AAA 碱性电池国际防护级别IP 65尺寸重量55 （W） x 31 （D） x 109 （H） mm,100g（仅主机部分）

设备特点：配有蒸馏再生系统，实现零排放；操作简单，运行成本低；实现真空清洗机真空干燥，效率高；配有自动灭火装置，安全可靠；可以实现旋转及抛动清洗，圆篮和方篮选择使用。主机参数：槽体尺寸：680mm*H650mm,厚度15mm不锈钢板清洗篮：圆篮φ250mm*H350mm方篮：L220mm*W200mm*H180mm抛动机转动：电机抛动高度50mm，转动3转/min超声波频率：法兰式安装40KHZ,1200W外配设备：5P冷水机，蒸馏再生量100L/H

【产品简介】 PAL-HydrocarbonCleaner碳氢清洗剂浓度计 ，专门设计为金属加工行业&汽车制造业检测而研发的产品解决方案。能方便的管理清洗济剂添加或更换时机，减少时间浪费，有效控制成本。协助检测碳氢清洗剂浓度，碳氢清洗剂浓度会随着使用次数的不断增加而不断下降，使用科学检测工具让其功效得到更有效的发挥。 【产品参数】型号PAL-Hydrocarbon Cleaner货号4558测量范围0-30%分辨率0.1%测量精度±1%自动温度补偿范围10-100℃环境温度10-40℃样本量至少0.3ml测量时间约3秒电源2*AAA 碱性电池国际防护级别IP 65尺寸重量5.5x3x10.9cm，100g（仅主机）

产品特点：1、主要适用于铜合金、精密冲压件、硬盘、铝活塞、轴承电子零部件等的清洗和干燥。2、采用超声波清洗、脱气超声波清洗、真空超声波清洗的清洗方式，确保盲孔、深孔、狭缝的清洗效果。3、蒸汽浴洗和真空干燥加快碳氢溶剂的蒸发，使工件迅速干燥。4、旋转抛动辅助清洗，提高清洗效果。5、气动多臂机械手，提高输送的效率和安全性。6、双真空干燥槽降低干燥节拍，提高生产效率。7、真空泵、水泵、马达、风机等采用防爆电机，提高使用的安全性。8、导热油间接加热和制冷机制冷，控制清洗和干燥的温度9、电气控制采用了防爆措施。10、PLC全程序控制及触摸屏人机界面操作。

【产品简介】ATAGO（爱拓）便携式数显碳氢清洗剂折射计/碳氢清洗剂浓度计 PAL-Hydrocarbon Cleaner，专门设计为金属加工行业&汽车制造业检测而研发的产品解决方案。碳氢清洗剂浓度计能方便的管理清洗济剂添加或更换时机，减少时间浪费，有效控制成本。协助检测碳氢清洗剂浓度，碳氢清洗剂浓度会随着使用次数的不断增加而不断下降，使用科学检测工具让其功效得到更有效的发挥。【产品参数】型号PAL- Hydrocarbon Cleaner货号4558测量范围0.0 ~ 30.0%测量精度±0.1%测量温度10 ~ 100°C（ATC）分辨率0.1%环境温度10 ~ 100°C电源AAA 电池x2国际防护等级lP65尺寸和重量5.5x3.1x10.9cm，100g（仅主机）配件PAL便携腰包 : RE-39409 挂绳 : RE-39410 10% 蔗糖溶液 (±0.03%) : RE-11001020% 蔗糖溶液 (±0.03%) : RE-11002030% 蔗糖溶液 (±0.03%) : RE-11003040% 蔗糖溶液 (±0.04%) : RE-110040 50% 蔗糖溶液 (±0.05%) : RE-110050 60% 蔗糖溶液 (±0.05%) : RE-110060

设备介绍：采用最新环保工艺设计，零排放。设备由脱气超声清洗、真空超声清洗、蒸汽浴清洗、真空干燥等工艺组合而成一套全自动清洗机，整机PLC+人机界面控制，全自动化。多槽组合，效率高产品用途。设备特点：1.真空超声波清洗、干燥、对盲孔、薄板部品清洗品质佳；2.自动化清洗、清洗过程由PLC程序控制，智能、高效；；3.自动蒸馏再生系统、节能排放、循环经济4.气体浓度检测+自动灭火系统，安全性高；5.智能化、远程监控。设备应用：用于解决各类冲压、拉伸、五金加工零件的批量除油清洗

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换清洗源，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗功能。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40（CF40)工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-150W可调，远程等离子源，自动匹配器气体控制标配单路质量流量计（MFC)可选双路。50毫分/分，自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制皮拉尼真空计，测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护

创新型设计完美全面的清洗解决方案。Evactron CombiClean 清洗系统为透射样品，样品杆以及透射极靴等其他分析设备提供了桌面式清洗平台，帮助客户清洗样品以及电镜部件，去除其存在的碳污染问题。同时也提供了外置等离子发生器用于电镜腔体清洗方案。系统操作简单，检测器可以智能控制多个等离子发生器单元，控制器自由切换可以通过不同发生器的工作模式。系统支持旋叶机械泵，从而防止油污染。提供干燥氮气保护环境，保证经等离子清洗过后的样品可以长期保存，此时不影响其他等离子发生器的使用。应用Evactron CombiClean 系统可以提供外置式等离子发生器，用于扫描电镜、透射电镜和双束电镜，同时也可以清洗透射样品杆以及气塞。结合使用Evactron TEM Wand透射电镜等离子清洗杆，可以清洗透射电镜样品、部件以及真空腔内部。系统特性系统通过内部的处理器，由MicroPirani 软件对于真空度以及功率进行智能控制。处理器可以对等离子发生器进行定时清洗控制以及氮气保护循环。系统保留操作日志。操作可以通过前置面板或者电脑完成。高真空的扫描电镜，聚焦离子束FIB系统，由于样品，操作，油污，FIB的气体注入系统带来的碳氢污染物会累积在样品室表面，以及探测器包括EDX窗口，进而影响系统分辨率，清晰度，真空度以及稳定性。Evactron等离子清洗机适用于任何扫描电镜以及XPS等其他任何真空腔体，她可以很好的解决这些困扰电镜使用者的污染问题.

高真空的扫描电镜，聚焦离子束FIB系统，由于样品，操作，油污，FIB的气体注入系统带来的碳氢污染物会累积在样品室表面，以及探测器包括EDX窗口，进而影响系统分辨率，清晰度，真空度以及稳定性。Evactron等离子清洗机适用于任何扫描电镜以及XPS等其他任何真空腔体，她可以很好的解决这些困扰电镜使用者的污染问题.

深圳心齐+龙岗光学玻璃超声波清洗机维修XQ408H，在使用心齐超声波清洗机时，先简单了解下心齐清洗设备的清洗步骤：（１）连接好清洗槽与发生器之间的电缆；（２）将清洗液倒入清洗槽中（倒入清洗液的量就为放入被清洗物时，液面的位置约为整体的四分之三为佳）；（３）将被清洗物放入清洗槽；心齐公司专业对外维修各种超声波清洗机，超声波发生器，超声波清洗振板，工业纯水机、真空碳氢清洗机、通过式清洗机、汽车零部件清洗机、光学镜片清洗机、电池零件清洗线、柜式喷淋清洗机、双槽多级水洗机、电解模具清洗机、真空干燥箱、循环烘干机等

德国Bandelin DT255超声波清洗机特点：频率超过18千赫（每秒18.000次振动）的振动称为超声波。由于这些振动，液体中形成了数百万个小的真空气泡。它们在高压阶段内爆，产生高效的压力波。这个过程叫做空化。较低的频率约20千赫，适用于细胞分裂，产生更大的直径和更强的压力波的频率约35千赫，用于强烈但温和的清洁。所有超声波浴都使用SweepTec获得了均匀的超声场。脉冲功能确保稳定的高超声峰值输出。• 固定主电缆:预防短路风险• 焊接一体式出水管，密封性好• 铝箔前面板易于卫生清洁Bandelin SONOREX产品系列包括：DIGITEC - DT数字型DIGIPLUS - DL高功率型SUPER RK- 超级型Bandelin DT255超声波清洗机技术参数：Bandelin DT255超声波清洗机应用范围:• 啤酒样品脱气分析酒精含量，原汁，颜色，pH值• 高效液相色谱溶剂脱气• 用于分析锡含量的罐头食品样品的脱气• 木材季铵化合物(QAC)的提取• 用于草药样品的微生物提取• 提取土壤样本以测定碳氢化合物• 乳剂的生产，血浆和血清的混合• 对素食食品中残留分析的样品进行均质化• 加速化学反应• 暂停进程的加速• 饮用水或排水的污染物分析准备• 化妆品和制药中脂质体的制备• 分析样品的准备，例如头发分析• 滴定管、吸管、培养皿等实验室玻璃器皿• 分析筛网• 压片机• 呼吸面具• 各种金属零件和电子元器件• 过滤器

一、产品概述：扫描电镜等离子清洗机是一款专为扫描电子显微镜（SEM）样品准备而设计的高效清洗设备。该机利用等离子体技术，通过活性气体的激发，去除样品表面的有机污染物和微尘，确保样品在显微观察中的清洁和高质量成像。扫描电镜等离子清洗机具有快速、均匀的清洗效果，并能够处理各种材料，包括金属、陶瓷和聚合物等。其自动化控制系统使得操作简单便捷，广泛应用于材料科学、纳米技术和生物医学等领域，为研究人员提供可靠的样品处理解决方案。CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程等离子清洗源设计，清洗快速、高效、低轰击损伤，主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。二、设备用途/原理：设备用途扫描电镜等离子清洗机主要用于准备扫描电子显微镜（SEM）样品，去除样品表面的有机污染物、微尘和其他杂质。它广泛应用于材料科学、纳米技术和生物医学等研究领域，以确保样品在显微观察中的清洁和高质量成像。工作原理 该设备通过等离子体技术进行清洗。首先，等离子清洗机将特定的气体（如氧气或氩气）引入反应室，并通过高频电源激发气体形成等离子体。等离子体中的活性粒子与样品表面的污染物反应，分解并去除这些杂质。该过程能够快速且均匀地清洗各种材料，确保样品表面达到所需的清洁度，从而提高扫描电子显微镜的成像质量和分析准确性。三、主要技术指标：产品型号CIF-SEM法兰接口KF40（CF40）工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-150W可调，远程等离子源，自动匹配器气体控制标配单路质量流量计（MFC）可选双路。50毫升/分，自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制皮拉尼真空计，测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min质量保证二年质保，终身维护四、产品特点1.远程等离子清洗源 2.清洗快速、高效 3.低轰击损伤

CXCH-3000型微机碳氢分析仪优于国标GB/T476-2008《煤中碳和氢的测定方法电量&mdash 重量法》的规定。仪器采用库仑法测氢，重量法测碳，计算机操作和处理数据，准确度和精密度均符合国家标准。该仪器用于测定煤炭、原油及其它固体物料中有机和无机碳和氢的含量，是一种适合我国国情的煤质分析仪器。仪器采用多种方法可以分析特殊样品，实时保存数据、调入历史数据等。煤中碳和氢的测定方法GB\T476-2008已代替GB\T476-2001GB\T15460-2003。技术指标：测量范围：碳：1～99%　　　　　氢：0.1～99.9%控温范围：燃烧炉：室温～1000℃ 转化炉：室温～500℃控温精度 ± 5℃涂膜电压：10V± 0.5V 工作电压：24V± 0.5V准 确 度：符合GB/T476的规定重复性误差：碳：&le 0.50%、氢：&le 0.15%尺寸：825*400*400（mm）特点：一体化结构、操作简便百分含量自动显示测量结果准确对电解池采用先进的清洗技术，免除以前电解池繁琐的清洗。延长电解池的使用寿命。该系统自备了电解池自动冷却装置，使用方便。该系统自备电解池自动涂膜功能。优化的系统设置，碳管称重数据输入计算机后自动进行碳、氢的数据处理。适用于煤炭、煤炭渣、焦炭、矿物、岩石、石油化工产品等多种物料的碳、氢的含量测定。

碳氢元素分析仪，碳氢元素分析仪价格【鹤壁创新仪器】供应的碳氢元素分析仪可广泛用于测定煤和其它有机物中“碳”和“氢”元素的含量。被测试样在高温条件下于氧气流中燃烧生成水和二氧化碳，用吸水剂和二氧化碳吸收剂分别吸收，根据吸收剂的增重计算出碳和氢的百分含量。准确度符合GB/T476要求。 碳氢元素分析仪 技术参数:测定范围：碳（1-100） %，氢 （0-20）% 测定精度符合：GB/T476-2008要求测温精度：0.2级 控温范围：（100-1100）℃ 控温精度：±10℃第 一节炉炉膛温度：850℃， 额定功率：1200W，恒温区长：60㎜第二节炉炉膛温度：800℃， 额定功率：1500W，恒温区长：80㎜第三节炉炉膛温度：600℃，额定功率：800W。 工作电源：AC220V±22V 50HZ±1HZ外形尺寸（㎜）：1200×350×450重量：53Kg我们致力于为煤质分析仪器领域提供具有国内先进水平的高性价比的煤炭检测设备和煤质化验室整体解决方案，拥有多项煤质分析仪器方面的关键技术和高素质科研专家及生产技术人员，具有强大的开发能力与完善的质量监控体系，并建立了完善的销售和售后服务体系。鹤壁市创新仪器仪表有限公司（总部）地址：河南省鹤壁市山城区朝阳街19号邮编：458000电话：手机：（0)（24小时）联系人：常经理传真：Q Q：e-mail：web：www.chuangxinyiqi. com煤质分析仪器、煤炭化验设备（碳氢元素分析仪，碳氢元素分析仪价格） 请认准鹤壁创新仪器 国内知名品牌 五星级服务 让您用的放心碳氢元素分析仪器 碳氢氮元素分析仪 碳氢分子修复仪 氢元素测定仪 碳氢氮元素分析仪说明书 碳氢分析仪 碳氢分析仪品牌 总碳氢分析仪 碳氢元素检测仪 碳氢元素测定仪 碳氢元素 固体物料碳氢元素 碳氢元素检验仪 碳氢元素分析仪 快速自动测氢仪 快速测氢仪 快速自动测氢仪厂家 快速自动一体测氢仪 碳氢元素测定仪 电厂煤炭测氢仪 炼钢厂煤炭自动测氢仪 化工厂煤碳氢元素分析仪 焦化厂碳氢元素分析仪

在线碳氢溶剂浓度计，碳氢溶剂BRIX监控仪，在线brix浓度计，清洗机专用浓度探头一、工作原理：秒准MAYZUM清洗机专用浓度探头MAY-3001QX是根据光折射的原理来检测液体的浓度值，光在不同浓度的液体中产生的折射率不同，传感器将接收到的感光信号转换为折射率；如下图所示：从LED发出的光线经过光纤从蓝宝石棱镜的一侧进入蓝宝石棱镜，并到达棱镜与液体物料的接触面上，根据接触面处液体折射率的不同，一部分光被全反射到棱镜的另一侧，全反射光的位置会因为临界角改变而改变（临界角会因为液体折射率不同而不同），CCD用于精确检测全反射回来的光的位置，而每一个位置对应的折射率。二、秒准MAYZUM清洗机专用浓度探头MAY-3001QX应用范围：制药行业（中药浓缩液）、食品行业（果汁、明胶、胶原蛋白肽……）、脱销行业（测量氨水浓度）、酒业（酒精勾兑）、有机和无机化学材料（酸/碱浓度控制）、化工行业（酸碱盐的生产，质量管控，泄漏检测，使用盐水的地下贮罐）：硫酸、盐酸、硝酸、氯乙酸、氨水、甲醇、乙醇、盐水、氢氧化钠、冷冻液、碳酸钠、甘油、双氧水、糖水、果汁、酿造、奶油、药液、生物液体、醇提、丙酮、DMAC、NMP、DMF、果汁、双氧水、车用尿素、切削液、乳化液、浆料、乙二醇、氨水……等等三、秒准MAYZUM清洗机专用浓度探头MAY-3001QX特点描述：1、安装方式灵活（安装于管道、槽体、反应釜、储罐…）、体积小巧，安装方式多样化，可选卡箍/法兰/螺纹安装；2、不受介质颜色、浊度、粘度、气泡、固体杂质、结晶体的影响，不受液体压力变化、流量突变、湍流现象影响；3、出厂附带标定证书，内置温度补偿，即装即用，无需现场校准，也不需要定期校准；4、连续测量，迅速反馈，消除人工检测误差，不再需要人工频繁取样检测，节省大量人力财力，保证数据一致性，提升产品质量；5、标配多组信号模拟输出，便于客户集成控制，提高自动化程度，提高生产效率；6、数据可以无线远传至PC、PLC……，同步显示物料编码、浓度值、设备工作状态等，生成历史数据曲线、保存、导出数据记录（功能可按需定制）；7、采用智能化芯片，运行无需试剂耗材，功耗低，探头内部的光源寿命可长达10万小时，稳定性高，使用寿命长；8、温度传感器与浓度探头集成，紧贴测量介质，保证温度补偿及时、准确、可靠；四、秒准MAYZUM清洗机专用浓度探头MAY-3001QX规格参数选型表：产品型号MAY-3001-18MAY-3001-70测量项目折射率、温度、浓度、Brix（或其他标度）浓度范围0-18%0.0-100% Brix折射率范围1.3330~1.36061.3330~1.4655分辨率0.01 %，折射率 0.00002，温度 0.1℃ 测量温度0-100℃温度补偿自动温度补偿，0-60℃环境温度0-60℃关键部位材质触液面材质：316L/蓝宝石棱镜；传感器外壳：铝输入电源24V DC信号输出£ DC4-20mA、£ RS485/232数字量、£ 开关量（异常报警,上下限2路输出）防护等级IP67耐压范围≤1MPa防爆等级£ MAY-3001常规款 £ MAY-3001EX本安型防爆 Ex ia IIB T6 Ga 整机净重≈1050g≈1250g清洗选项MAY-C12超声波清洗组件安装选项MAY-C11卡箍弧形安装底座、MAY-C13三通管道，MAY-C14四通管道，材质为316L其他选项MAY-LST历史数据存储功能、MAY-LOT数据远传模块特殊标度非标定制，按客户需求建立数据模型

远程控制等离子清洗机型号：EM-KLEEN用于电子显微镜等分析仪器如SEM、FIB、TEM样品室的清洁、XPS和SIMS、ASE 系统源于劳伦斯伯克利国家重点实验室的SmartCleanTM技术，设计精巧，智能，功能强大EM-KLEEN 构成：Pirani压力传感器 ：实时监测样品室压力，可以作为安全模式的安全联锁触发器，并未功能计数器加载事件自动气体流量控制器 ：很容易真空抽到10-7 Torr，自动调节气体流量等离子强度传感器 ：用户可实时监测等离子强度状态温度传感器 : 提供联锁保护，防止长时间工作电源工作温度过高冷却风扇 ：大功率风冷冷却，而不会导致电源过热液晶触摸屏控制器 ：嵌入式微处理器，串联工作，自动控制系统，并为客户提供保护如何在真空环境中清除碳氢化合物污染物？应用领域 SEM腔体清洗10分钟前后的变化对比 6分钟快速去除碳标记

产品详情紫外UV清洗机 LXY-PL17-110 详细介绍 紫外臭氧清洗机型号Model：PL17-110 应用Objects光清洗改质实验装置UV/O3 cleaning and modifying experiments尺寸Dimensions： 约350W*350D*380H(mm)电源Power supply： 220V 50/60Hz功率Power consumption ：140W照射面积Irradiation area： 170*170MMUV 能量Uv intensity： 25-35mW/cm2灯总功率Total lamp wat.： 110W灯型号Lamp model 日本SEN 原装进口：SUV110GS-36灯数量Number of lamps ：1PCS 特点: 本装置是为了运用短波长紫外线254NM 和185NM 双波段进行表面处理、干式清洗的效果而设计制作的试验机。所使用的光源为日本原装进口SEN 特殊光源, 110W 合成石英玻璃的面光源。本机的正面为单开门，试验品可以很容易的放取。试验台到光源使用特定的升降机可以任意改变高度，照度可以使用照度计测定。机器内部产生的臭氧经过特别设置的排出口排出。同时我们还有例如200mm 角300mm 角面光源，两面照射，抽出式试验台，旋转式照射台等多种姊妹产品供您选择。构成和构造:光源到试验台之间最大有80mm 距离，因此无论是玻璃/胶片型还是立体物品都可以处理。照射距离可使用手动升降机调节高度。在门上设有观察窗，可以通过观察窗随时确认被照射物体的状态。 紫外光UV清洗原理紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，彻底清除物体表面的污染物。应 用紫外线UV光清洗技术的应用范围:1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理 2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。 8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。13。彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。

产品详情日本SEN紫外光UV清洗机PM1103C 详细介绍紫外光UV清洗原理 紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，彻底清除物体表面的污染物。应 用紫外线UV光清洗技术的应用范围: 1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理 2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。 8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。13。彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。

仪器简介：KY-300碳氢分析仪：KY-300型分析仪集中体现了国内多种碳氢分析仪的优点，其分析结果的精密度、准确度均符合国标GB/T 476和GB/T 15460的要求，可广泛应用于煤炭、动力燃料、电力。技术参数：技术及性能特点： 测量范围：　碳：1-99%自动数据处理 测量范围：　氢：0.1-99.9%自动打印分析结果 重复性误差：碳：&le 0.50%测量范围宽 重复性误差：氢：&le 0.15%测量精密度、准确度高 控温范围：燃烧炉：室温-1000° C分析速度快 控温范围：转化炉：室温-500° C自动控温、计时 控温范围：转换炉：室温-500° C温度补偿 控温精度：温度设定值± 10° C超温报警 电源：AC 220V± 10%，50Hz反应温度根据需要自由设定 功率：3200W实现一机多用 外形尺寸：780mm× 430mm× 310mm自备电解池冷却装置主要特点：KY-300型碳氢分析仪是国内先进的全自动碳氢分析仪，它以库仑法为基本方法，利用单片微机技术，实现碳氢分析的智能化、自动化。

德国Bandelin SONOREX RK1028超声波清洗机特点：SONOREX超声波浴的工作频率为35千赫。要清洗的物体的大小和数量决定了超声波浴的大小。在选择装置时，也需要考虑附件的尺寸，例如载物篮。为了避免过载，建议选择稍大一点的型号。方便在后期使用时其他应用的可能。• 固定主电缆:预防短路风险• 焊接一体式出水管，密封性好• 轻微转动旋钮Bandelin SONOREX产品系列包括：DIGITEC - DT数字型DIGIPLUS - DL高功率型SUPER RK- 超级型Bandelin SONOREX RK1028超声波清洗机技术参数：Bandelin SONOREX RK1028超声波清洗机应用范围:• 啤酒样品脱气分析酒精含量，原汁，颜色，pH值• 高效液相色谱溶剂脱气• 用于分析锡含量的罐头食品样品的脱气• 木材季铵化合物(QAC)的提取• 用于草药样品的微生物提取• 提取土壤样本以测定碳氢化合物• 乳剂的生产，血浆和血清的混合• 对素食食品中残留分析的样品进行均质化• 加速化学反应• 暂停进程的加速• 饮用水或排水的污染物分析准备• 化妆品和制药中脂质体的制备• 分析样品的准备，例如头发分析

紫外臭氧清洗机原理：通过紫外灯发出适当强度的 185nm 和 254nm 波长高能紫外线破坏有物分子 ( 污染物 )。185nm 波长紫外光的光能 量能将空气中的氧气 (O2) 分解成臭氧 (O3)，而 254nm 波长的紫外光的光能量能将 O3 分解成 O2 和原子氧 (O)， 254 nm 紫外线同时激发表面的有机物分子，提高其敏感性，可以被臭氧分子团破坏。在连续进行的光敏氧化反应中，生成的 活性原子氧 (O) 与活化了的有机物 ( 即碳氢化合物 ) 分子发生氧化反应，生成挥发性气体 ( 如 CO2，CO, H2O,NO 等 ) 逸 出材料表面，从而清除粘附在材料表面上的碳和有机污染物，达到清洗的目的。 产品特点◆ UVO 基础型系列采用可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。UVOP、UVOT 系列采用 5 寸彩色触摸屏 中英文互动操作界面，设置显示计时时间及加热温度。◆ 自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。◆ 数字倒计时显示清洗时间，1-999 分钟之间可自行设置清洗时间。◆ 任何时间可以手动中断处理过程。◆ 自动记录之前清洗参数设置。◆ 样品台可控温（可选），控温范围 RT-200℃,控温精度 0.1℃。◆ 顶置下压式铰链开关盖方式，操作简单方便。◆ 上置式样品台设计，360 度自由放置样品，操作方便。◆ 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，并可锁定。◆ UV 石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为 8000 小时。◆ 高强度 UV 灯源，波长 185nm 和 254nm。◆ 可累计计时 UV 格栅灯使用时长，更换提示。◆ UV 反射罩（长 X 宽）比 UV 格栅灯大 25mm。◆ 双重安全保护，带有安全锁，当清洗腔打开时，系统自动关掉 UV 灯，并有灯光通断提示。◆ 带进 & 出气口双气路设计。◆ 可接入氧气或者臭氧，增加臭氧产量。◆ UVO5 可选外置臭氧中和器，UVO9、UVO13 系列可选外置或者内置臭氧中和器，用于臭氧清除。◆ 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。 技术参数 产品型号UVO5/UVO5P/UVO5TUVO9/UVO9P/UVO9TUVO13/UVO13P/UVO13TUV 灯尺寸130x130mm230x230mm330x330mm样品台高度0-50mm 可调0-50mm 可调0-50mm 可调电 源AC220V 50/60Hz140/190/690WAC220V 50/60Hz140/190/690WAC220V 50/60Hz140/190/1160W外型尺寸L260xW320xH200mmL370xW470xH200mmL465xW575xH200mm包装尺寸L375xW470xH390mmL490xW600xH320mmL575xW680xH320mm整机重量8kg15kg18kg

一、设备介绍NE-Q05是一款石英真空等离子处理系统，广泛应用于科研院校，企业研发单位和小批量生产打样。小型石英等离子清洗机结构主要包括控制单元、石英真空腔体、真空泵三部分。等离子清洗机的工作流程为：腔体抽真空—充入工艺气体—电离工艺气体并清洗—去除工件。清洗首先在真空腔体内单种或者多种清洗所需气体，一般为Ar、O2、N2等，外加射频功率在平行电极之间形成交变电场，电子通过电场加速对工艺气体进行冲击使气体发生电离形成离子，作用在被清洗表面，电离产生的粒子与电子数量达到一定规模，便形成了等离子体。等离子体高速撞击材料表面，与被清洗表面污染物发生理化反应，实现材料的清洗，并利用气流将污染物排出腔体。通过等离子清洗可以有效清除被清洗表面污染物、改善表面状态、增加材料的粘附性能、提高材料表面的浸润性能。 NE-Q05 系统功能特点： &bull 真空腔体材质采用石英玻璃，不易与材料表面发生反应，污染清洗样品&bull 等离子发生器采用13.56MHz射频发生器，自动阻抗匹配调谐&bull 触摸屏用户界面+PLC控制，可储存多条工艺程序，全自动运行&bull 配备两路气路通道，气体流量可调，无需再搭配气体混合仪&bull 整体外观处理工艺、机架门板烤漆、耐用、防刮&bull 铝合金自动门：氧化处理、喷砂&bull 电路设计电流过载保护，模块式电路、维修方便快捷&bull 手动、自动、真空保压均可操作，不倒翁橡胶脚杯，自动平衡机器、减震二、设备参数序号项目型号规格参数1等离子体发生器功率0-200W可调频率13.56MHz 固态射频电源2真空反应腔室腔体材质石英耐热玻璃腔体容积5L载物托盘玻璃托盘，平行放置腔体直径（圆形）Φ150×270（D）mm3气路控制气体流量控制器浮子针阀流量控制器， 0-1000ML气路数量最小2路气体，支持氧气，氩气，氮气，氢气，四氟化碳等4真空测量真空计SMC 真空计5抽气系统真空泵飞越 8m3/H极限真空度0.1PA6控制系统触摸屏4.3寸PLC松下PLC模块软件程序自主专利设计等离子控制系统7场务条件电源供应220V气管接口直径8mm气体纯度99.99%气体压力0.3-0.6Mpa排气口KF258整机参数整机功率1000W外形尺寸600mm(L)×450mm(W) ×500 mm(H)重量40kg

小型真空等离子清洗机，等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态 气相物质被吸附在固体表面 被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子 产物分子解析形成气相 反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。小型真空等离子清洗机供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率150W射频频率13.56MHz频率偏移量＜0.2MHz特性阻抗50欧姆，手动匹配耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)观察窗内径Φ50气体流量0—50ml/min（其他量程可选）过程控制过程手动控制清洗时间手动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸450x450x360mm重量23Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

诚峰智造是一家专业致力于提供等离子设备及工艺流程解决方案的高新技术企业。源于美国&德国30年Plasma生产制造及研发技术，公司全资拥有CRF品牌下等离子设备研发，生产，制造技术，设备范围涵盖汽车制造业。手机制造业，医疗行业，织物印染行业，重工业，半导体封装行业，新能源行业，IC半导体领域，FPC/PCB领域，LED显示屏组装等行业。CRF诚峰智造，现已成为中国专业的等离子处理系统解决方案等离子设备供应商。在线式真空等离子清洗机厂家直销：在线式真空等离子处理系统CRF-VPO-8L-S名称（Name）真空式等离子处理系统型号（Model）CRF-VPO-8L-S控制系统（Control system）PLC+触摸屏电源（Power supply）380V/AC,50/60Hz,3kw中频电源功率（MF Power）600W/13.56MHz容量（Volume）80L（Option）层数（Electrode of plies）8（Option）有效处理面积（Area）400（L）*300（W）（Option）气体通道（Gas）两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2产品特点：超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。保养维修成本低，便于客户成本控制。高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 等离子体的”活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。 等离子清洗设备的原理是在真空下,然后利用交流电场使工艺气体成为等离子体,并与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质, 由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去, 从而使工件达到表面清洁活化。等离子清洗是剥离式清洗, 等离子清洗的特点是清洗之后对环境无污染。在线式等离子清洗设备是在成熟的等离子体清洗工艺技术和设备制造基础上, 增加上下料、物料传输等自动化功能。针对IC封装中引线框架上点胶装片、芯片键合及塑封等工艺前清洗, 大大提高粘接及键合强度等性能的同时, 避免人为因素长时间接触引线框架而导致的二次污染以及腔体式批量清洗时间长有可能造成的芯片损伤。 在线式真空等离子清洗机的主要结构包括:上下料推料机构、上下料置取料平台、上下料提升系统、上下料传输系统、上下料拨料机构、反应仓、设备主体框架和电气控制系统等。 在线式真空等离子清洗机自动搬运物料的设计理念,与常规等离子清洗系统相比,降低了人工搬运过成,提高了设备自动化水平。 等离子清洗属于一种高精密的干式清洗方式,原理是在真空状态下利用射频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢等工艺气体激发成具有高反应活性或高能量的离子,通过化学反应或物理作用对工件表面进行处理,实现分子水平的沾污去除,提高表面活性。对应不同的污染物,应采用不同的清洗工艺,达到很好清洗效果。 随着在线式真空等离子清洗机及工艺在IC封装领域内的应用越来越广泛,并以其优良的工艺性能促进了微电子行业技术的快速发展,成为21世纪IC封装领域内关键生产装置,成为提高产品可靠性和成品率的重要手段,是生产中不可缺少的步骤。 性能优势: 1、原装进口电源：采用原装进口高压激励电源电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果。 2、全面安全防护：温度安全防护功能，过载防护功能，短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。 3、独有放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体。 4、密封性卓越的真空腔体设计：军工级的高真空度真空腔体设计及制造工艺，配置进口真空泵。 5、优质产品部件：产品全部部件采用国内外优质部件，确保设备性能优越 6、超低清洗温度：满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响。 7、精密数控加工：进口精密CNC数控机床加工工艺，并配备进口三坐标测量仪进行质量监控。 8、适用形状复杂样品：清洗各种复杂形状的产品，包括内孔内壁，均匀清洗。

产品详情日本SEN紫外UV清洗机SUV110X26 主要特性用途：UV清洗灯同时发出185NM，254NM光波，UV光照度(254NM)：15-25MW/CM2， 可以清洗PCB/FPC/塑胶/金属/玻璃/陶瓷硅/电子器件等表面有机污染物及轻微改质，增强表面附着力，达因值45以上，适合生产过程流水线批量作业。典型客户案例：住友电工（深圳），松下半导体（苏州），张家港康得新材料，杭州纳晶科技，HITACHI, SANYO, TOSHIBA,JDC, 技研新阳，中科院研究所，浙江大学，南京工业大学，北京理工大学，上海大众汽车电子，上海延锋伟世通汽车电子， 南玻，京东方等。1.0 设备构造概述:型号UV清洗机LXY-SUV110X26规格L3500mm*W950mm*H1840mm序号名称规 格1机架外形部分：外形材质采用T1.2 冷板折弯，箱体静电喷塑（不同一般喷漆，高档、易清洗、耐腐蚀）电脑白，箱底配4个3〞万向轮。进料、出料部分各长500mm，光源及遮光部分长2500mm，进料口高度50mm，前后配挡板可调高低。2UV区采用26 套日本SEN进口110W UV 清先光源，灯管有效发光长为560 mm，波长254nm及185nm， 灯箱长度约为1500MM，灯管自左至右并列分布在炉腔，加装UV 镜面反光灯罩，有效提高紫外线的使用率。UV 灯可单独控制，灯管高度可上下调节。灯管上方装有抽风装置，有效散发UV灯管照射带来的热量，以及把UV灯产生的臭氧排到室外；UV光照部分铺304#镜面板。3传动部分采用180W 电子调速马达速度数字显示器，速度0.5~3M/min 可调，采用动力滚筒配黑色耐热特氟龙网带，带宽600mm。4循环风部分设备顶部加装高效净风系统FFU，采用强制冷风，UV 区设有维修门，方便打开清理及维护。底部配大风量台湾离心风机，风量可调，有效降低产品及UV 炉内的温度，提高灯管寿命。5电器部分电源采用三相五线制，总功率约4KW，380V，每盏灯可独立控制、每盏灯配有计时器，总电源开关，设有紧急停止，主要电器元件为正泰品牌。设备控制系统采用信捷PLC+人机界面，可记录每支灯管的使用时长。 紫外光UV清洗原理紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，彻底清除物体表面的污染物。 应 用紫外线UV光清洗技术的应用范围:1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理 2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。 8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。13。彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。