氩离子截面抛光仪

氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher，简称CP)，凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践，是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来，在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来，在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工，用其他方法难以制备的样品，软硬材质混合的复合材料，都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外，被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品，型号IB-19530CP，加工质量和方便性大大提高。

【Gatan】697 Ilion II Datasheet 宽束氩离子抛光系统 品牌： GATAN 名称型号：氩离子抛光系统Ilion II 697制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司产品综合介绍 产品功能介绍氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，Gatan品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。 产品主要技术特点氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到最优化。 集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。 涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan专利的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换（ 1分钟），省去了换样过程中必须完全泄真空至大气的烦恼。1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测3. 配方模式的控制界面，用于一键操作4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制5. 枪电压范围为100V到8000V的三元（阴极、阳极与聚焦极）构造潘宁离子枪6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度，增量为0.1度7. 扇形抛光角度可变且可程序化，范围从10度~90度8. 离子枪无需零件更换，寿命超过30,000小时9. Gatan专利的样品/挡板配置，装样简单，再次抛光位置准确10. 独特的离子束调制功能，可进行扇形抛光和平面抛光11. 洁净的真空系统，分子泵与隔膜泵搭配12. 操作简单，维护方便 抛光前- 俯视SEM图CuInSe2样品 抛光90S后SEM 图 CuInSe样品 产品主要技术参数： 1、 离子枪：两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与聚焦极）潘宁离子枪，聚焦离子束设计,高性能无耗材2、 抛光角度： +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节3、 离子束能量：100 V 到 8.0 kV4、 离子束流密度：10 mA/cm2 峰值5、 抛光速度：300 μm/h（8.0 kV条件下对于硅试样）4.2样品台6、 样品装载： Ilion专利的样品挡板, 装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用，配合Sample Stub可直接转至SEM中观察 7、样品旋转：0.5到6 rpm连续可调8、束流调制：独特的离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光。9、样品观察：数码变焦显微镜，配有PC及Digital Micrograph软件采集图像，通过Gatan Digital Micrograph软件可进行实时成像（300x–2,200x）与图像存储和分析10、液氮冷台：配置液氮冷台，样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤 4.3真空系统11、干泵系统：两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵12、压力：5x10-6 托基本压力，8.5x10-5托工作压力13、真空规：冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵14、样品空气锁： 独特的Whisperlok设计，样品更换时间1Min，无需破样品室真空4.4用户界面15、10 英寸触摸屏： 操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。16、配方操作模式：自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。 产品主要应用领域： EBSD样品制备截面样品制备金属材料（合金，镀层）石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料电子半导体器件PCB电路版截面抛光SEM图镀锌钢板截面抛光Zn晶粒 Fe晶粒

氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher，简称CP)，凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践，是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来，在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来，在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工，用其他方法难以制备的样品，软硬材质混合的复合材料，都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外，被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品，型号IB-19530CP，加工质量和方便性大大提高。

一、产品特点： 1、加工面积大：样品尺寸：0~?25mm； 2、样品表面更均匀； 3、加工时样品表面能量低，特别对于薄膜、高分子样品（对温度敏感性高的样品）损伤小； 4、控制精度高，实验结果精准可控重复性高； 5、配备专用截面样品台； 6、可实现多种功能：离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备； 7、专用挡板； 8、制备单个样品可实现不同能量自动调整； 9、数字化自动控制系统。二、技术参数： 1、真空度：极限真空度5*10-3Pa （不通氩气）； 2、*高压：（1）200~10000V； 3、样品台可旋转； 4、具有自保护功能； 5、双离子枪可独立控制； 6、样品冷却：半导体冷却（ 选配件）。

产品详情IB-19530CP　截面样品制备装置 为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。 主要技术指标离子加速电压2～8kV刻蚀速率500μm/h承载样品的最大尺寸11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度)样品摆动功能刻蚀过程中，样品自动摆动±30° (专利：第4557130号)自动加工开始模式达到设定的压力值后可自动开始加工。间歇加工模式脉冲控制离子束流照射，可以抑制加工时产生的热量。精抛加工模式主加工结束后，自动开始精抛加工。 *产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。 产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。 ◇ 高通量 通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能，不需花费时间等待加工开始，短时间内就能刻蚀。◇ 自动加工程序 快速加工和精抛加工可以程序化，短时间内就能制备出高质量的截面。此外，利用间歇加工模式，还能抑制加工温度。◇ 设置简单 功能性样品座采用模块化设计，在光学显微镜（另售）下也能调整加工位置。◇ 多用途样品台 通过选择各种功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。◇ 高耐久性遮光板 遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右，能支持高速率加工和长时间刻蚀。

COXEM CP-8000+ 氩离子抛光是一种先进的样品制备工具，可使用氩离子束蚀刻样品的横截面。 该过程避免了物理变形和结构损坏，不需要复杂的化学过程。此外，该系统通过处理从几十微米到几毫米的大面积，简化了样品的横截面分析。 特 点● 每小时 700 μm 的高蚀刻速率（基于 Si，8 kV）● 能够保存/加载常用的配方● 具有自动执行功能的逐步操作配方● 使用智能样品架轻松装载样品● 通过腔室摄像头实时观察离子束状态和蚀刻状态● 便捷的操作——直观的GUI和简单的触摸屏● 通过离子束自动开/关功能减少热损伤● 使用内置数字显微镜通过离子束快速方便地对准样品● 配备低噪、隔振、无油隔膜泵● 具备平面铣削功能，可进行大面积平面蚀刻 CP抛光基本原理机械抛光 VS CP抛光 如果使用机械抛光装置进行抛光，由于物理损伤和污染，很难检查横截面的确切状态，但当使用离子束通过 CP 进行横截面加工时，可以观察微表面结构，样品无结构损坏和污染。 FIB 抛光 VS CP抛光 与聚焦离子束 (FIB) 相比，使用 CP-8000+ 蚀刻同一样品的截面时，您可以在更短的时间内蚀刻更宽的横截面，从而极大地节省时间和成本。 以下图像是同一样本在同一时间段内以两种不同方式（FIB 和 CP）铣削的结果。 数码显微镜 使用数字显微镜，可以通过屏幕轻松对准离子束的位置和样品的位置。仓室内摄像头 您可以通过腔室内的摄像头检查离子束的状态，并实时检查截 面蚀刻的程度。自动离子束开/关模式 该功能旨在通过根据设置的离子束开/关计时器打开和关闭离子束，减少离子束造成的热损伤。在蚀刻聚合物和纸张等热敏样品时，它对于获得准确的横截面条件非常有用。配方模式 常用的蚀刻条件可以存储在配方列表中，以便在需要时轻松应用设置值。此外，还可以使用分步模式来存储多个配方并自动执行它们来蚀刻样品。 平面抛光模式 CP-8000+ 可以使用专用支架在平面上处理样品。 当样品安装在专用支架上并使用平面铣削功能时， 离子束会基于旋转中心轴蚀刻几个平方毫米的区域。 在此刻，由于抛光速度、面积和深度根据离子束 撞击样品表面的入射角而变化，因此应通过旋转和调整样品的角度来实现均匀的表面抛光。 由于离子束照射的面积较大，可以蚀刻氧化层或异物，因此可用于大面积样品的预处理。 产品参数 加速电压2 to 8kV抛光速率700㎛ /h (at 8kV on Si wafer)样品台摆动角度±35° 尺寸20(W) × 10(L) × 5.5(T)mm16(W) × 10(D) × 9.5(H)mm样品移动范围X axis movement : ±1.5mm / Y axis movement : ±2mm平面样品台倾斜角度范围40° to 80°平面台样品尺寸Ø 30 × 11.4(H)mm操作方式7 inch 触控屏用于样品定位的数码显微镜Mag. x5, x10, x20, x40 用于监控的室摄像机Mag. x5, x10, x20, x404档亮度调节离子束观察模式(LED Off离子枪气体Argon gas (99.999%)气压0.1 Mpa (14.5psi)气压控制Mass Flow Control真空系统分子泵, 隔膜泵外形尺寸607(W) × 472(D) × 277.5(430.5)(H) mm重量主机 36kg / 隔膜泵 6.5kg 特点Auto Beam On/Off modeStep by step mode

1、离子平面抛光和离子切割一体化技术，一套系统实现两种模式，无需复杂的切换流程，简洁方便。2、动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，最大切割长度达10mm，有效减少投影/遮挡效应。3、超大的平面抛光装载尺寸50X25mm(直径x高)，为原位实验等大尺寸样品提供可能。4、能量0.5-10kv连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区大幅提高制样效率。粗校准 → 样品抛光 → 观察抛光结果 01将样品装入切割样品台，放入粗校准仪中进行校准，使样品平面与挡板平行，样品待切割面比离子束挡板上沿高出 10-200𝜇 𝑚 。 02校准成功后将样品放入工作仓中，选择切割模式，点击每个离子枪的“步骤设置”，设置电压、电流和持续时间；选择“线性距离”，数值为样品半径或半宽。各参数均确认无误后，开启离子枪。 03 待设置的时间结束后，样品抛光完成，点击“返回常压“，取出样品即可进行后续电镜实验观察。

动态库存，如有需要，欢迎咨询二手-日本电子截面抛光仪 -JEOL IB-09010CP质量过硬 售后完善 品质高

技术特色： 专利电磁聚焦离子枪设计 超宽加速电压范围（可达10keV），抛光效率高 电压范围不高于100eV，修复后近乎无损 配备液氮冷台（可持续制冷超过18小时），去除热损伤 同时具备截面切割和平面抛光功能 可选配真空转移

【Gatan】697 Ilion II Datasheet 宽束氩离子抛光系统 品牌： GATAN 名称型号：氩离子抛光系统Ilion II 697制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司产品综合介绍 产品功能介绍氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，Gatan品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。 产品主要技术特点氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到最优化。 集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。 涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan专利的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换（ 1分钟），省去了换样过程中必须完全泄真空至大气的烦恼。1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测3. 配方模式的控制界面，用于一键操作4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制5. 枪电压范围为100V到8000V的三元（阴极、阳极与聚焦极）构造潘宁离子枪6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度，增量为0.1度7. 扇形抛光角度可变且可程序化，范围从10度~90度8. 离子枪无需零件更换，寿命超过30,000小时9. Gatan专利的样品/挡板配置，装样简单，再次抛光位置准确10. 独特的离子束调制功能，可进行扇形抛光和平面抛光11. 洁净的真空系统，分子泵与隔膜泵搭配12. 操作简单，维护方便 抛光前- 俯视SEM图CuInSe2样品 抛光90S后SEM 图 CuInSe样品 产品主要技术参数： 1、 离子枪：两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与聚焦极）潘宁离子枪，聚焦离子束设计,高性能无耗材2、 抛光角度： +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节3、 离子束能量：100 V 到 8.0 kV4、 离子束流密度：10 mA/cm2 峰值5、 抛光速度：300 μm/h（8.0 kV条件下对于硅试样）4.2样品台6、 样品装载： Ilion专利的样品挡板, 装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用，配合Sample Stub可直接转至SEM中观察 7、样品旋转：0.5到6 rpm连续可调8、束流调制：独特的离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光。9、样品观察：数码变焦显微镜，配有PC及Digital Micrograph软件采集图像，通过Gatan Digital Micrograph软件可进行实时成像（300x–2,200x）与图像存储和分析10、液氮冷台：配置液氮冷台，样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤 4.3真空系统11、干泵系统：两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵12、压力：5x10-6 托基本压力，8.5x10-5托工作压力13、真空规：冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵14、样品空气锁： 独特的Whisperlok设计，样品更换时间1Min，无需破样品室真空4.4用户界面15、10 英寸触摸屏： 操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。16、配方操作模式：自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。 产品主要应用领域： EBSD样品制备截面样品制备金属材料（合金，镀层）石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料电子半导体器件PCB电路版截面抛光SEM图镀锌钢板截面抛光Zn晶粒 Fe晶粒

三脚抛光器（Tripod Polisher又名楔入式抛光器、抛光具）由IBM公司科学家设计，是一款用于SEM和TEM电镜制样的精密仪器。它大大降低了样本对离子减薄的依赖，缩短了制备时间，某些时候它可以省去离子减薄工序。Model 590三脚抛光器（tripod polisher）即可用于平面样本的制作，也可用于截面样本。适用于多种材料，比如陶瓷、高分子、金属、地矿物质材料等。EMS公司推出三款三脚抛光器，Model 590TEM、Model 590SEM、Model 590TS。产品信息：货号产品名称规格50115-10Tripod Polisher , Model 590 TEM个50115-20Tripod Polisher , Model 590 SEM个50115-30Tripod Polisher , Model 590TS (SEM &TEM)个主件介绍：主机：含有3个测微计带delrin脚，无论是圆形样品还是L形架在抛光时都可以与主机连接。 圆形样品安装器：圆形样品安装器中心有一个pyrex棒，用于使TEM样品平行抛光，pyrex插件使样品可在透射光下进行观察，以测量其厚度。 L形架：L形架可容纳SEM柱及pyrex插件。 SEM拄：SEM螺柱适用于大部分SEM的样品。 Pyrex插件：用于更换SEM柱，pyrex插件使样品可在透射光下进行观察，以测量其厚度。 平直工具：平直工具与60μm金刚砂研磨胶片一起使用，用于将delrin脚与抛光主机平行。还出售各类金属抛光膏。

价格货期电议KRI 考夫曼离子源典型应用 IBF 离子束抛光工艺 离子束抛光加工 Ion Beam Figuring, IBF 已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的最后一道工艺, 离子源是离子束抛光机的核心部件. 上海伯东美国 KRI 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机 IBF Optical coating 及晶体硅片离子束抛光机 IBF Clrystalline )工艺.考夫曼离子源通过控制离子的强度及浓度, 使抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 均匀性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼离子源内置型的设计更符合离子源于离子抛光机内部的移动运行. 上海伯东是美国 KRI 考夫曼离子源中国总代理.KRI 离子源离子束抛光实际案例一:1. 基材: 100 mm 光学镜片2. 离子源条件: Vb: 800 V ( 离子束电压 ), Ib: 84 mA ( 离子束电流 ) , Va: -160 V ( 离子束加速电压 ), Ar gas ( 氩气 ).离子束抛光前平坦度影像呈现图离子束抛光后平坦度影像呈现图KRI 离子源离子束抛光实际案例二:1. 基材: 300 mm 晶体硅片2. 离子源条件: Vb: 1000 V ( 离子束电压 ), Ib: 69 mA ( 离子束电流 ), Va: -200 V ( 离子束加速电压 ) Ar gas ( 氩气 )离子束抛光前平坦度影像呈现图离子束抛光后平坦度影像呈现图 KRI 离子源实际安装案例一: KDC 10 使用于光学镀膜离子束抛光机KRI 离子源实际安装案例二: KDC 40 使用于晶体硅片离子束抛光机上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:型号KDC 10KDC 40KDC 75KDC 100KDC 160电压DC magnetic confinement - 阴极灯丝11222- 阳极电压0-100V DC电子束电子束- 栅极专用,自对准- 栅极直径1 cm4 cm7.5 cm12 cm16 cm 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 考夫曼离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

徕卡三离子束切割仪您是否需要制备硬的，软的，多孔，热敏感，脆性和/或非均质多相复合型材料，获得高质量样品表面，以适宜于扫描电子显微镜(SEM)分析和原子力显微镜(AFM)检测。 Leica EM TIC 3X 的宽场离子束研磨系统非常适合能谱分析EDS、波谱分析WDS、俄歇分析Auger、背散射电子衍射分析EBSD。离子束研磨技术是一个适用于任何材质样品，获得高质量切割截面或抛光平面的解决方案。使用该技术对样品进行处理，样品受到形变或损伤的可能性低，可暴露出样品内部真实的结构信息。徕卡三离子束切割仪 可以灵活选择多种样品台，不仅适用于高通量实验，也适合于特定制样需求实验室。依据您具体需求，每一台Leica EM TIC 3X都可装配多种可切换样品台，如标准样品台、三样品台、旋转样品台或冷冻样品台，应用于常规样品制备，高通量样品制备，以及某些高分子聚合物，橡胶或生物材料等温度极敏感样品制备。其与Leica EM VCT环境传输系统相连接，可以实现将冷冻的生物样品表面受保护地被真空冷冻传输进入镀膜仪或冷冻扫描电镜(Cryo-SEM中，或者应用于地质或工业材料样品，实现真空传输。操控性能方面创新特点：★★★ 可获得高质量切割截面，区域尺寸可达4x1mm★★★ 多样品台设计可一次运行容纳三个样品★★★ 可容纳大样品尺寸为50x50x10mm或直径38mm★★★ 可简易准确地完成将样品安装到载台上以及调节与挡板相对位置的校准工作★★★ 通过触摸屏进行简单操控，不需要特别的操作技巧★★★ 样品处理过程可实时监控，可以通过体视镜或HD-TV摄像头观察★★★ LED4分割照明，便于观察样品和位置校准★★★ 内置式，解耦合设计的真空泵系统，提供一个无振动的观察视野★★★ 可在制备好的平整的切割截面上可再进行衬度增强作用，即离子束刻蚀处理★★★ 几乎适用于任何材质样品，使用冷冻样品台，挡板和样品温度可降至-160℃★★★ 通过USB即可进行参数和程序的上传或下载★★★ 一体化解决方案，大大节约用户的干预时间高效所谓真正的高效是一台离子束研磨仪既可以获得高质量结果，又可高通量制样。除了散焦三离子束超越传统，使样品制备结果优化并有效缩减工作时间，我们将离子束研磨速率提高至原来的2倍。一次运行可容纳三个样品。使用一款样品台就既可实现离子束切割又可离子束抛光。一体化解决方案确保样品被安全而高效地转移至后续制备设备或分析仪器中。灵活：装配您的系统现在的科研实验室往往寻求快速简单的样品制备方法同时又不放弃高质量高标准要求。Leica EM TIC 3X三离子束切割仪的创新技术正为这一类有着高期望值的实验室提供解决方案，以实现你们的目标。根据应用需求，Leica EM TIC 3X可以由您装配用于标准类型样品制备，高通量样品制备以及特殊的热敏感型样品在低温下样品制备（如聚合物、橡胶，甚至生物材料等）。样品可被真空冷冻传输进入冷冻扫描电镜Cryo-SEM为满足个性化应用需求，共提供五种可切换样品台:★★ 旋转样品台 ★★ 三样品台 ★★ 标准样品台 ★★ 冷冻样品台 ★★ 真空冷冻传输对接台与制样流程的兼容性使用一款样品载台，样品可以从Leica EM TXP精研一体机中机械预制备，Leica EM TIC 3X中离子束研磨，再到SEM中检测都保持原位。另外，Leica EM TIC 3X可以用来制备环境敏感型样品，例如将Leica EM VCM放置于手套箱中，这类预制备好的样品可以不更换样品载台，通过Leica EM VCT传输舱被直接传输进入带有VCT接口的离子研磨仪Leica EM TIC 3X中。经过离子束加工后，样品可以不暴露到空气环境中，再直接被转移进入后续步骤技术手段。例如进Leica EM ACE600进行镀膜，和/或SEM检测。可复制的结果Leica EM TIC 3X 三离子束切割仪可制备横切面和抛光表面，用于扫描电子显微镜 (SEM)、微观结构分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。使用 Leica EM TIC 3X，您几乎可以在室温或冷冻条件下，对任何材料实现高品质的表面处理，尽可能显示样品近自然状态下的内部结构。

科正600A等离子电桨抛光机去毛刺设备主要用于眼镜、卫浴、手表、饰品、精密五金等产品的加工。等离子抛光技术主要是针对上前市场上不锈钢，锌合金，铜合金及铝合金等抛光的难题耐研发的，该技术可以去除产品表面毛刺，不锈钢产品可达到表面镜面抛光效果。抛光样品图：等离子抛光去毛刺设备特点如下：一、等离子电浆抛光机适合6种以上金属材质抛光传统的设备只能抛光不锈钢材质产品，但是如今，不仅仅可以抛光不锈钢产品，还可以抛光铜，镁合金，锌合金，不锈铁，铝合金，金银等金属材质产品。一台设备就可以完成多种材质产品的抛光处理。为企业剩下了高昂的购机成本。二、等离子抛光去毛刺设备应用行业广泛1、卫浴餐具行业2、眼镜行业3、钟表行业/五金饰品行业4、手机电子行业5、小家电行业6、航天航空行业7、等其他要求精度高标准的行业 三、抛光去毛刺设备机8大优势技术突破后的等离子抛光设备效率极高。传统人工抛光的方式对于小五金件，一个熟手一天也难处理好100件，但是，本设备一分钟即可抛光100多件产品。优势一、抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm，粗糙度（RMS)可达0.01微米优势二、生产效率100件/分钟优势三、低耗电70度/小时优势四、一机多用可抛光：锌合金，镁合金，黄铜，不锈钢，金银等材质产品优势五、三重 保障1. 电压电流过载预警保护2. 温度实时检测和补偿保护3. 防漏电触电门保护优势六、环保 无污染优势七、不伤产品不会伤害产品优势八：生产效率有很大的提升1台设备每天产量超过100个人工作产量咨询：13724587140设备图供参考：

电镜制样设备台式离子研磨抛光仪 SEMPrep2智能便捷的使用体验先进的操作界面提供了从初学者到专家用户的最佳操作模式。并且 SEMPrep2 提供了全自动的预设参数，使得用户可以一键进行几乎无需干预的样品制备。用户也可以无限制地创建、编辑、保存和加载众多参数文件（可与您的合作方共享这些参数文件！）。出厂的软件中可根据您的样品需求包含适配的预设参数。“快速且无损” 基于 Technoorg Linda 独家的离子枪技术，SEMPrep2 的两支离子枪提供了市面上最广的能量范围。在超高能量范围中(10 keV 以上)，该系统可达到极高的溅射速率。进行快速高能量研磨之后，专利性的低能离子枪可用来轻柔地清洁样品表面，以获得完全光滑无损的样品表面。样品冷却 为了满足所有可能存在的需求，SEMPrep2 提供了两种不同的冷却方式选项：建议对热敏感或冷冻样品进行液氮冷却。使用此选项，可以大大降低样品温度并将其控制在零度以下范围内。 珀耳帖冷却（电制冷）是防止过热的轻柔保护，它有助于将样品保持在室温附近。快速自动的换样过程 独特的真空锁和电动样品台设计提供了快速、简便的换样操作，且不需要太多的人为操作。 真空锁可保护工作腔中的真空度，从而为用户节省大量时间和精力。独特的样品台范围为了提供最佳的配置便于使用，SEMPrep2 提供了各种各样的样品台。 对于截面抛削，可以使用 30°、45° 和 90° 的预倾角样品台。专业用户和特殊应用可使用精度为 2 μm 的电动样品台。 新一代的平面抛光样品台可提供令人印象深刻的研磨面积，其研磨面积即使是工业用户也满足需求。

PELCO® Tripod PolisherTM 590由IBM East Fishkill实验室的研究人员设计，以准确地制备预先指定的微米尺度区域的透射电镜和扫描电镜样品。对于TEM样品，该技术已成功地用于将离子研磨时间限制在15分钟以内，并且在某些情况下，消除了离子研磨的需要。尽管这项技术是为制备半导体横截面而设计的，但它已被用于从陶瓷、复合材料、金属和地质样品等不同材料制备平面图和横截面样品。590 TEM – 用于TEM样品减薄，避免用手裸磨而容易造成的样品破碎；同时提升研磨薄度，有效减少后续离子减薄所需的制备时间 590 SEM - 用于SEM样品制备，避免手磨容易造成的歪斜问题，有效提供制备精度、减少制备所需时间，从而大大提高效率 590 TS – 结合590 TEM与590 SEM 双重功能，达到一机多用操作-标准法PELCO® Tripod PolisherTM 590可制备用于扫描电镜和透射电镜横截面分析的样品。为此，在PELCO® Tripod PolisherTM 590的带槽的L形支架上夹放一个特殊的扫描电镜样品座，将样品置于其上。首先，在15μm粘合金属的金刚石盘上进行初步研磨，再依次使用30μm到0.5μm系列尺寸的金刚石膜进行研磨和抛光，最后用二氧化硅悬浮液完成抛光过程。在研磨过程中，通过后面的两个千分尺调整抛光面。使用倒置显微镜进行定期检查，调整抛光面，直至其与感兴趣面平行。此时，可将扫描电镜样品座移至离子研磨机中进行快速研磨，以去除细微的划痕、抛光碎屑，在扫描电镜分析前得到样品表面形貌。扫描电镜样品座可直接放入扫描电镜分析。分析完成后，制作同一区域的透射电镜样品。从扫描电镜样品座上取下样品，贴在单孔TEM栅网上。拆下带槽的L形支架，将TEM栅网置于抛光机中心的圆形样品支架上。使用金刚石研磨膜（Diamond Lapping Film）对样品进行机械减薄。在此过程中，使用倒置显微镜定期检查，并通过调节千分尺使抛光面处于正确位置。样品最终抛光至1μm或更薄，然后离子研磨15分钟。操作-楔形法快速离子研磨中产生的择优减薄和形貌使不同材料间界面的研究变得困难。可通过完全消除离子研磨步骤和采用楔形技术将样品机械抛光到电子透明厚度来较少这些问题的发生。采用这种技术时，用Pyrex® 插件替换带槽的L型支架中的SEM样品座，将样品置于插头端面上。 在得到感兴趣面后，取下样品并置于Pyrex® 插件的底端。调整两个后千分尺，，回撤近样品的那个千分尺，以使样品减薄至楔形。从背侧对楔形样品顶端感兴趣特征区减薄，直到感兴趣区边缘厚约1μm。然后，使用抛光布（如MultiTex Cloth（产品编号816-12）和硅质悬浮液对样品进行最后的抛光处理，直到可以看到厚度条纹（低于几千埃）。最后将样品从Pyrex® 插件中取出，置于单孔TEM栅网上进行分析。 l 适用TEM分析的精细的横截面l 快速、可重现地制备TEM样品l 将离子研磨时间从数小时缩短至数分钟。l 由整个样品可制备得到大的薄区。产品编号描述59100 PELCO® Tripod Polisher 590TEM 透射电镜精密样品制备59200 PELCO® Tripod Polisher 590SEM 扫描电镜精密样品制备59300 PELCO® Tripod Polisher 590TS 用于SEM和TEM样品制备

德国NTG公司有30年的离子束设备研发和生产经验，是专业的离子束抛光机制造商，在世界范围拥有众多的知名用户。产品型号IBF100，IBF200，IBF300，IBF450，IBF500，IBF700以及超大型IBF1500，IBF2000等。加工精度PV值最高达1/100波长，RMS 1nm,最大加工直径2000mm.详细信息：0216148208013501902109w.zhang@oec-shangh.com

请联系：张先生通过抛光液和抛光垫的配合使用，对晶圆的表面进行抛光加工。

抛光车间加湿器 工业加湿器厂家新闻记者报道：在许多工厂企业的工作场所如手机外壳，汽车轮毂等产品的打磨抛光车间，都迫切的需要一种能够抑制粉尘的控制设备；在倡导环保低碳生产的今天，抑制粉尘已成为迫切需要解决的问题，不解决车间生产环境中存在的粉尘问题，不但违反相关的环境法规，引发粉尘爆炸等安全事故；而且还会严重影响员工的身体健康和工作状态，吸入过多的粉尘颗粒容易导致员工患有呼吸系统疾病。 在今天，加湿器的广泛应用，工业生产车间内的静电和粉尘问题已经能够完美的得到解决。正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器所产生的超细颗粒水雾，直径大概只有毛发的十分之一，如此细小的水雾颗粒有能力捕捉空气中存在的粉尘及其他尘埃粒子，通过粘附在粉尘上面，从而使得粉尘降落在地面，获得降尘的目的。 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器产品，对于其他加湿方式的加湿器而言，具有【雾化颗粒细】 、【使用能耗低】 、【雾化能效高】，【加湿速度快】的显著优势。 正岛电器生产的ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器是采用超声波高频振荡的原理，从而达到均匀加湿的目的；具有空气加湿、净化、防静电、降温、降尘等多种用途；既可以较大空间进行均匀加湿，也可对特殊空间进行局部湿度补偿，具有较高的使用灵活性。 点击此处查看抛光车间加湿器全部新闻图片 电话： 正岛ZS系列超声波工业用加湿器生产厂家：正岛电器，产品优势区别与对比，谨防假冒！备注目前市场部分加湿器厂家仿冒正岛加湿器ZS系列型号低配置低价格在销售请客户区别以下：品 牌电 源风 机外 壳正 岛变频电源 防水等级IP68(低能耗、低故障)特制防水风机全不锈钢外壳及内胆仿冒变压器(高耗能、高故障高、维修频率高)普通风机(易烧毁)普通钣金(易锈)正岛电器郑重承诺：整机保修一年，完善售后服务体系；以质量第一，诚信至上为企业宗旨。 欢迎您来电咨询抛光车间加湿器，车间降尘加湿器，工业加湿器厂家的详细信息！工业用加湿器种类有很多,不同品牌工业用加湿器价格及应用范围也会有所不同,而我们将会为您提供全方位的售后服务和优质的解决方案。 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器控制方式，技术参数： 控制方式加湿量1.8kg/h加湿量3kg/h加湿量6kg/h加湿量9kg/h加湿量12kg/h加湿量18kg/h开关控制ZS-06ZS-10ZS-20ZS-30ZS-40ZS-F60时序控制ZS-06SZS-10SZS-20SZS-30SZS-40SZS-F60S湿度控制ZS-06ZZS-10ZZS-20ZZS-30ZZS-40ZZS-F60Z出雾方式单管单管单管双管双管三管湿度标准适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）50%RH以下250500100015002000250055-65%RH20040080012001600200065-75%RH1503006009001200150075-85%RH100200400600800100085-95%RH7515030045060075095%RH以上50100200300400500消耗功率180W300W600W900W1200W1500W净重15kg18kg22kg30kg38kg55kg 查看更多抛光车间加湿器，车间降尘加湿器，工业加湿器厂家的详细信息尽在:正岛电器 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器产品六大核心配置优势： 优势一：【全不锈钢箱体】机组采用全不锈钢箱体结构，喷塑处理，美观耐用；自动进水，设有溢水保护，可自动控制水位；底部装有万向轮，可自由移动。 优势二：【集成式雾化器】机组采用集成式超音波钢化机芯，自带缺水保护装置，无机械驱动、无噪音、雾化效率高，杜绝易堵塞、维修繁锁等问题。 优势三：【IP68级防水电源】机组采用独家专利的全密封防水变频电源和全密封集成电路，防水等级为IP68（可置于水下1米深处也不会短路）。 优势四：【轴承式防水风机】机组风动装置采用防水等级为IP68的滚珠轴承式36V防水风机，具有启动快、风量大、振动小，耐腐蚀、运转稳定。 优势五：【耐碱酸陶瓷雾化片】机组选用的陶瓷雾化片适合较硬水质和耐碱酸的使用环境，且正常使用寿命长达3000－5000小时，更换方便快捷。 优势六：【高精度湿度传感器】机组配有微电脑自动控制器&日本神荣高精度湿度传感器，全自动控制面板，人机对话界面，智能化轻触式按键操作。您可能还对以下内容感兴趣...1. 洁净型湿膜加湿器(QS-9)2. 移动式水桶加湿器(CS-20Z)3. 微调型工业加湿机(ZS-20Z )4. 大型工业用加湿机(ZS-F60Z)工业加湿器厂家记者核心提示：使用正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器来降尘是一种比较经济的选择，因为高压微雾系统使用的电量有限，而且耗水量也较小，在使用过程中可以自由控制喷雾用水的水量。十分方便。在长期的使用过程中，不但节约企业资金而且符合社会所倡导的低碳环保的需求。以上关于抛光车间加湿器，车间降尘加湿器，工业加湿器厂家的最新相关新闻报道是正岛电器为大家提供的！ 您可以在这里更详细地了解抛光车间加湿器的最新相关信息： 2014年8月2日,昆山中荣金属制品有限公司汽车轮毂抛光车间发生爆炸,截至8月4号为止，已造成71人死亡,近200人受伤.经初步调查，此次事故原因可能是生产过程中产生的粉尘遇明火导致爆炸。按照相关规定，粉尘车间严禁明火。那么，汽车轮毂抛光车间缘何会遭遇爆炸？ 南京工业大学教授张礼敬说，当粉尘悬浮于空中，达到爆炸浓度极限时，遇到火源(包括明火、静电、摩擦等)就会发生爆炸。至于造成伤害大小，和粉尘量、空间及作业现场人员密集程度等都有关。 　　相关专家表示，粉尘爆炸属于工厂爆炸事故里最具危害的爆炸之一，作业车间越是密闭爆炸威力越大。早在1987年，黑龙江哈尔滨就曾发生了一起造成58死、170多人受伤的粉尘爆炸事故。 　　现场一位专业人士表示，粉尘爆炸需要两个条件，一是要达到一定的浓度，二是要有明火。按照规定，这种车间的安全要求极高，无论是粉尘浓度、通风还是明火方面都有严格规定。 　粉尘爆炸 　　●什么是粉尘爆炸？ 　　粉尘爆炸：是由于悬在空气中的可燃粉尘燃烧而形成的高气压所造成的。粉尘是固体物质的微小颗粒，它的表面积与相同重量的块状物质相比要大得多，故容易着火。如果它悬浮在空气中，并达到一定的浓度，便形成爆炸性混合物。 　　七类粉尘具爆炸性：金属(如镁粉、铝粉)；煤炭；粮食(如小麦、淀粉)；饲料(如血粉、鱼粉)；农副产品(如棉花、烟草)；林产品(如纸粉、木粉)；合成材料(如塑料、染料) 　　●事故发生的条件 　　多发企业：煤矿，面粉厂，糖厂，纺织厂，硫磺厂，饲料、塑料、金属加工厂及粮库等厂矿企业。 　　爆炸条件：1.可燃物。可燃性粉尘以适当的浓度在空气中悬浮，形成人们常说的粉尘云；2.助燃物。有充足的空气和氧化剂；3.点火源。有火源或者强烈振动与摩擦（通常认为，易爆粉尘只要满足条件1和条件2，就意味着具备了可能发生事故的苗头）。 ●如何预防粉尘爆炸？ 　　1.减少粉尘在空气中的浓度。采用密闭性能良好的设备，尽量减少粉尘飞散，同时要安装有效的通风除尘设备，加强清扫工作。 　　2.控制室内温湿度。 　　3.改善设备，控制火源。有粉尘爆炸危险的场所，都要采用防爆电机、防爆电灯、防爆开关。 　　4.应事先控制爆炸的范围。 　　5.要控制温度和含氧程度。凡有粉尘沉积的容器，要有降温加湿措施，必要时还可以充入惰性气体，以冲淡氧气的含量。

一、仪器介绍MT-PM100电极探针精密抛光仪是一款满足石英及玻璃材质探针以及超微电极抛光需求的精密抛光仪，配备高精密电动直线滑台控制探针（或超微电极）的上下移动，通过可调速微型电机驱动磨盘均匀且稳定地旋转，实现探针（或超微电极）针尖的精密抛光。还配备了电子显微镜和高清显示器，实时监控抛光过程，确保针尖抛光的精确性。另外，配置了高灵敏度阻抗检测单元，可以用来原位监测玻璃封装（尖端绝缘）的金属纳米电极的导电暴漏。二、主要参数抛光范围空心石英管/玻璃管、玻璃封装金属电极、碳纳米电极等磨盘面型λ/4@633 nm磨盘转速0-300 r/min可调 阻抗检测响应时间1 ms制备直径范围实心电极（≥20 nm）；空心管（≥1 um）步进速度0.001~30 um/s可调显微镜HDMI接口，含位置测量软件，可观测10 um的物体三、仪器构成及使用方法电极探针精密抛光仪整体构成如上图所示，主要由以下部分构成：电子显示屏（1）；电源开关（2）；磨盘正反向旋转按钮（3）；磨盘转速显示器（4）；磨盘转速调节器（5）；磨盘停止旋转按钮（6）；触屏显示器（7）；皮带（8）；光源（9）；步进电机（10）；电动直线滑台（11）；探针固定器（12）；抛光磨盘（13）；滤纸（14）；滤纸固定器（15）；电极夹（16）；电子显微镜（17）。电极探针精密抛光仪的触屏显示器页面如上图所示，包括手动模式和阻抗模式两种模式。“手动模式”使用系统配备的测量工具，手动测量探针需抛光的长度，设定步进距离控制探针的抛光，主要用于空心石英管/玻璃管的抛光。“阻抗模式”使用系统检测并响应阻抗的变化以控制超微电极的抛光，主要用于玻璃封装的金属电极、碳纳米电极的抛光。“Z轴回原”使探针/超微电极回到系统设定的初始高度。手动模式的使用方法：打开仪器和灯源开关，通过按钮使磨盘开始正向旋转，将配套的滤纸用去离子水润湿（通过虹吸作用在磨盘上形成一层水膜，并阻拦抛光过程中产生的碎屑），再通过按钮使磨盘停止转动以便于后续观察。将探针尾部插入通有氩气的通气管，固定在探针固定器凹槽内，设置步进距离，通过高精密电动直线滑台控制探针向下移动，直到在显微镜下观察到探针针尖及其在磨盘上的影像。使用显微镜工具页面中的“测量工具”测量并计算步进距离，下移探针至探针尖端与磨盘接触。启动磨盘转动，根据需求调节磨盘转速、探针移动速度以及步进距离，开始抛光。待剩余距离和时间归零，探针停止下移，抛光结束。阻抗模式的使用方法：打开仪器和灯源开关，将待抛光的超微电极和镍丝固定并连接电极夹，设置步进距离，步进电机向下移动，直到在显微镜下可以观察到超微电极尖端及其在磨盘上的影像。当超微电极尖端与其影像的距离接近5 um时，滴加KCl电解质溶液以覆盖超微电极和镍丝尖端。根据需求调节磨盘转速、超微电极移动速度以及步进距离，开始抛光。当仪器检测到超微电极阻抗时，会立即停止抛光并自动回原。

KEP-3000X 电解抛光腐蚀仪一、产品概述KEP-3000X型电解抛光腐蚀仪是一台集电解抛光、腐蚀功能为一体的金相试样制备仪器。适合于工厂、大专院校、科研机构等实验室使用。该设备利用电化学原理进行金相试样的制备，避免了机械抛光所带来的变形层，具有制样速度快，重复性好、等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的好设备。特别适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室，是金相试样腐蚀的好设备。二、功能和特点1、触摸屏操作控制；2、电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；3、可选择电压电流曲线实时显示；4、实现恒定电流和恒定电压工作方式；5、直流0~100V / 0~6A，其他范围电流/电压值可定制；6、电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；7、电压电流调节、显示精度小数点后两位；8、电信号低纹波，稳定性高；9、电源过压、过热以及输入电源过欠压保护；10、扫描功能：通过设定电压范围可得到电流强度曲线，可用于定义抛光与蚀刻电压的近似值；11、可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm可定制）；12、控制抛光/腐蚀工作时间；13、搅拌装置确保抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；14、实时显示溶液温度，当溶液温度高于设定温度自动打开水阀进行冷却；15、数据库功能：具有密码保护，可储存20种自定义方法；16、可以通过U盘读取工作电压、电流，可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究；17、用户可以通过计算机直接操作，直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、存档、打印处理。（选配）三、技术参数项目规格工作电压 AC220V 50/60Hz输出电压电流 抛光0-100V 6A 蚀刻0-100V 6A (一般0-25V) 外部蚀刻0—100V 6A输出电流显示精度电压0.01V/电流0.001A时间显示工作时间可自行设定0-999s扫描功能定义抛光和蚀刻近似电压值数据库用户可自定义储存20条方法，密码保护冷却系统冷却盘管，外接自来水自动冷却（可选配循环冷却）电脑软件操作可连接电脑软件进行操作、储存、打印处理控制单元尺寸350*300*150mm抛光单元置尺寸270*280*250mm总功率1000W仪器重量25kg操作环境环境温度5-40℃湿度0 - 85 % RH, 不凝结四、操作界面五、技术参数名称规格数量控制单元KEP-3000X1台抛光与蚀刻单元面罩3个（标准孔尺寸Φ15 Φ20 Φ30其他可定制1套外部蚀刻单元烧杯800ML铁架台、支撑块（选配）1套国标电源线1.5米1根冷却进水管3米（含快速水龙头接头）1套排水管2米（含固定喉箍）1套说明书/合格证/保修单1份电脑联机操作（选配）专用软件和数据通讯线（选配）1套

电解抛光腐蚀仪 OC-EP100一、 产品介绍OC-EP100电解抛光腐蚀仪，利用电化学原理进行金相样品的制备，该设备工作电压、电流范围大，功能齐全，既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快、重复性好等优点，是钢铁，尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备，广泛用于各大中院校、环保、科研、卫生、防疫、石油、治金、化工、医疗等设备，本仪器性能好，无噪声。二、 产品特点1、7寸触摸屏控制操作；2、电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；3、可选择电压电流曲线实时显示；4、实现恒定电流和恒定电压工作方式；5、直流0~100V / 0~6A，电流/电压值可定制；6、电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；7、电压电流调节、显示精度小数点后两位；8、电信号低纹波，稳定性高；9、电源过压、过热以及市电输入过欠压保护；10、可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm）；11、控制抛光/腐蚀工作时间；12、搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；13、工作电压、电流可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究(选配项：RS485连接 方式任选与计算机通讯)。三、主要功能1、连接RS485通讯连接方式任选与计算机通讯； 2、可按设定电压或电流增加速率和保持时间，并准确测量相对应的电流或电压值； 3、电流、电压精度高，精确到小数点后两位； 4、实时测量5、电压、电流随时间变化的曲线； 6、样品电流-电压的极化曲线； 7、 温度随时间变化的曲线； 8、 用户的计算机可直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、存档、打印处理。四、 技术参数项目规格工作电压 AC220V 50Hz输出电压 直流0~100V / 0~6A，连续可调，数字显示；输出电流 电压0.01V/电流0.001A恒温范围 常温~100℃±1℃时间显示 工作时间可自行设定容器容量 800ml冷却系统 冷却盘管，外接自来水冷却电箱尺寸 350*300*200mm磁力搅拌器尺寸 240*190*130mm总功率 900W仪器重量 15kg 五、装箱清单

KEP-5000 电解抛光腐蚀仪一、产品简介：KEP-5000 型 电解抛光腐蚀仪，利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快，重复性好、没有机械加工的变形层等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的理想设备。该设备标配软件和记录仪，可实时显示电压、电流、时间、温度等关系曲线，以便于进一步数据分析和研究，是科研院校和工厂实验室研究电解过程极化曲线的专用设备。二、产品特点：&bull 7 寸触摸屏操作控制。&bull 电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；&bull 可选择电压电流曲线实时显示；&bull 实现恒定电流和恒定电压工作方式；&bull 直流 0~100V / 0~6A，电流/电压值可定制；&bull 电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；&bull 电压电流调节、显示精度小数点后两位；&bull 电信号低纹波，稳定性高；&bull 电源过压、过热以及市电输入过欠压保护；&bull 可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径 15mm，20mm，30mm）；&bull 控制抛光/腐蚀工作时间；&bull 搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；&bull 工作电压、电流可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究（选配项： RS485 链接方式任选与计算机）。三、主要功能：◆ 连接 RS485 通讯连接方式任选与计算机通讯；◆ 可按设定电压或电流增加速率和保持时间，并准确测量相对应的电流或电压值；◆ 电流、电压精度高，精确到小数点后两位；◆ 实时测量电压、电流随时间变化的曲线；◆ 样品电流-电压的极化曲线；◆ 温度随时间变化的曲线；◆ 用户的计算机可直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、存档、打印处理。四、主机触摸屏界面（标配）：五、电脑软件操作界面（选配）： 图1：电压-时间曲线 电流-时间曲线 图2：电流-电压极化曲线 图3：电流电压数据存储界面六、主要参数：型号KEP-5000工作电压AC220V 50Hz输出电压直流 0~100V / 0~6A，连续可调，数字显示；输出电流电压 0.01V/电流 0.001A恒温范围常温~100℃±1℃时间显示工作时间可自行设定容器容量800ml冷却系统冷却盘管，外接自来水冷却数据导出U 盘导出电箱尺寸292*380*120mm磁力搅拌器尺寸240*190*130mm总功率900W仪器重量15kg六、标准配置：序号名称数量图片1标准抛光/腐蚀组件：含冷却盘管、阴极等软管样品罩：控制样品抛光面积，直径15、20、30mm1 台2简易抛光/腐蚀组件（铁架台、阳极支架板，阳极夹、阴极等）1 套3搅拌器和加热控制单元1 套4电解抛光腐蚀仪专用软件（选配）1 套5说明书1 份6合格证1 份

电解抛光腐蚀仪 OC-EP100X 一、 产品介绍OC-EP100X型电解抛光腐蚀仪是一台集电解抛光、腐蚀功能为一体的金相试样制备仪器。适合于工厂、大专院校、科研机构等实验室使用。该设备利用电化学原理进行金相试样的制备，避免了机械抛光所带来的变形层，具有制样速度快，重复性好、等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的理想设备。特别适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室，是金相试样腐蚀的好设备。二、 功能和特点1、触摸屏操作控制；2、电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；3、可选择电压电流曲线实时显示；4、实现恒定电流和恒定电压工作方式；5、直流0~100V / 0~6或者0~60V/0~20A，其他范围电流/电压值可定制；6、电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；7、电压电流调节、显示精度小数点后两位；8、电信号低纹波，稳定性高；9、电源过压、过热以及输入电源过欠压保护；10、扫描功能：通过设定电压范围可得到电流强度曲线，可用于定义抛光与蚀刻电压的近似值；11、可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm可定制）；12、控制抛光/腐蚀工作时间；13、搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；14、实时显示溶液温度，当溶液温度高于设定温度自动打开水阀进行冷却；15、数据库功能：具有密码保护，可储存20种自定义方法；16、可以通过U盘读取工作电压、电流，可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究；17、用户可以通过计算机直接操作，直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、 存档、打印处理。（选配）三、 技术参数项目规格工作电压 AC220V 50/60Hz输出电压电流抛光0-100V 6A 蚀刻0-100V 6A (一般0-25V) 外部蚀刻0—100V 6A输出电流显示精度电压0.01V/电流0.001A时间显示工作时间可自行设定0-999s扫描功能定义抛光和蚀刻近似电压值数据库用户可自定义储存20条方法，密码保护冷却系统冷却盘管，外接自来水自动冷却（可选配循环冷却）电脑软件操作可连接电脑软件进行操作、储存、打印处理控制单元尺寸350*300*150mm抛光单元置尺寸270*280*250mm总功率1000W仪器重量25kg操作环境环境温度5-40℃湿度0 - 85 % RH, 不凝结 四、 包装清单名称规格数量控制单元OC-EP100X1台抛光与蚀刻单元面罩3个（标准孔尺寸Φ15 Φ20 Φ30其他可定制1套国标电源线1.5米1根冷却进水管3米（含快速水龙头接头）1套排水管2米（含固定喉箍）1套说明书 1份合格证1份保修单1份

一、产品介绍OC-EP100X型电解抛光腐蚀仪是一台集电解抛光、腐蚀功能为一体的金相试样制备仪器。适合于工厂、大专院校、科研机构等实验室使用。该设备利用电化学原理进行金相试样的制备，避免了机械抛光所带来的变形层，具有制样速度快，重复性好、等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的理想设备。特别适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室，是金相试样腐蚀的好设备。二、 功能和特点1、触摸屏操作控制；2、电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；3、可选择电压电流曲线实时显示；4、实现恒定电流和恒定电压工作方式；5、直流0~100V / 0~6或者0~60V/0~20A，其他范围电流/电压值可定制；6、电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；7、电压电流调节、显示精度小数点后两位；8、电信号低纹波，稳定性高；9、电源过压、过热以及输入电源过欠压保护；10、扫描功能：通过设定电压范围可得到电流强度曲线，可用于定义抛光与蚀刻电压的近似值；11、可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm可定制）；12、控制抛光/腐蚀工作时间；13、搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；14、实时显示溶液温度，当溶液温度高于设定温度自动打开水阀进行冷却；15、数据库功能：具有密码保护，可储存20种自定义方法；16、可以通过U盘读取工作电压、电流，可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究；17、用户可以通过计算机直接操作，直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、 存档、打印处理。（选配）三、 技术参数项目规格工作电压 AC220V 50/60Hz输出电压电流抛光0-100V 6A 蚀刻0-100V 6A (一般0-25V) 外部蚀刻0—100V 6A输出电流显示精度电压0.01V/电流0.001A时间显示工作时间可自行设定0-999s扫描功能定义抛光和蚀刻近似电压值数据库用户可自定义储存20条方法，密码保护冷却系统冷却盘管，外接自来水自动冷却（可选配循环冷却）电脑软件操作可连接电脑软件进行操作、储存、打印处理控制单元尺寸350*300*150mm抛光单元置尺寸270*280*250mm总功率1000W仪器重量25kg操作环境环境温度5-40℃湿度0 - 85 % RH, 不凝结 四、包装清单名称规格数量控制单元OC-EP100X1台抛光与蚀刻单元面罩3个（标准孔尺寸Φ15 Φ20 Φ30其他可定制1套国标电源线1.5米1根冷却进水管3米（含快速水龙头接头）1套排水管2米（含固定喉箍）1套说明书 1份合格证1份保修单1份

A7000 AD 抛光液检测仪 产品介绍：AccuSizer A7000 AD 采用拥有的单颗粒激光测量技术（SPOS）和动态自动稀释技术实现单颗粒依次检测分析，具有极佳的灵敏度、解析度和精确度，不存在颗粒间相互干扰问题（如：激光衍射整体测量方法）。由于获得的是真实粒度分布，因此测量结果重复性好、准确可靠、统计精度高，特别适于检测分析亚微米颗粒体系中较大颗粒的分布信息。动态自动稀释和清洗系统使得测试方便快捷。 A7000 AD 抛光液检测仪 工作原理：单颗粒光学传感技术（SPOS）经过光感区域的粒子由于大小不同，光强随之产生相应的变化。将探测器收集的光信号转换成电压信号，不同的电压信号对应不同的粒径大小，从而得到微粒的粒径。SPOS技术将光消减和光散射两种物理作用有机的结合起来，通过光消减获得较大的动态粒径范围，通过光散射增加对小粒子的灵敏度，成为一项技术。 A7000 AD 抛光液检测仪 仪器参数：粒径测量范围(可选)0.5 – 400μm1.0 – 400μm3.0 – 1000μm分析方法单颗粒激光测量技术（SPOSPAT）可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池(可选)50 mL、60 mL 、100mL、250mL（动态稀释）磁力搅拌器转速可自由调控 流速（稀释系统）30 – 120 mL/min分析软件（可选）Windows 运行环境，标准软件或符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz外形尺寸主机1（计数器）：20 cm *45 cm * 20cm；主机2（自动稀释系统）：25cm * 45 cm * 56cm；重量约28kg安装条件稀释流体供给系统，废液池 A7000 AD 抛光液检测仪 配件：传感器LE400-05、LE400-1、LE1000-3测试模块水相和有机相模块选配 A7000 AD 抛光液检测仪 应用领域：混悬剂，乳剂， CMP 化学抛光液， 粉体。 混悬剂颗粒计数检测仪 工作原理：单颗粒光学传感技术（SPOS）经过光感区域的粒子由于大小不同，光强随之产生相应的变化。将探测器收集的光信号转换成电压信号，不同的电压信号对应不同的粒径大小，从而得到微粒的粒径。SPOS技术将光消减和光散射两种物理作用有机的结合起来，通过光消减获得较大的动态粒径范围，通过光散射增加对小粒子的灵敏度，成为一项技术。 混悬剂颗粒计数检测仪 仪器参数：粒径测量范围(可选)0.5 – 400μm1.0 – 400μm3.0 – 1000μm分析方法单颗粒激光测量技术（SPOSPAT）可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池(可选)50 mL、60 mL 、100mL、250mL（动态稀释）磁力搅拌器转速可自由调控 流速（稀释系统）30 – 120 mL/min分析软件（可选）Windows 运行环境，标准软件或符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz外形尺寸主机1（计数器）：20 cm *45 cm * 20cm；主机2（自动稀释系统）：25cm * 45 cm * 56cm；重量约28kg安装条件稀释流体供给系统，废液池 混悬剂颗粒计数检测仪 配件：传感器LE400-05、LE400-1、LE1000-3测试模块水相和有机相模块选配 应用领域： 医药领域：乳剂，注射剂，脂质体，胶体，混悬剂，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等； 半导体： CMP Slurry，芯片，晶圆加工等； 特殊化工品：墨水&喷墨，纳米材料，化工染料，润滑剂，清洗剂等。其他：过滤产品，清洁度方面，食品饮料，化妆品等

KEP-60Q电解抛光腐蚀仪一、产品概述KEP-60Q型电解抛光腐蚀仪是一台集电解抛光、腐蚀功能为一体的金相试样制备仪器。适合于工厂、大专院校、科研机构等实验室使用。该设备利用电化学原理进行金相试样的制备，避免了机械抛光所带来的变形层，具有制样速度快，重复性好、等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的理想设备。特别适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室，是金相试样腐蚀的好设备。二、主要功能和特点1、采用触摸屏进行控制和显示。2、可输出直流（0~60V/0~20A），电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀（电流/电压值可定制）。3、带冷却系统。4、采用恒定电流和恒定电压工作方式。5、电流、电压输出连续、平稳可调。6、水泵速度可无极调速满足多种需求。7、抛光（腐蚀）面积可调，可根据试样实际情况作灵活调整，适合于各种材料、形状、大小的金相镶嵌样品的制备（样品罩开孔直径10mm，15mm，25mm）。8、抛光/腐蚀工作时间可自行设定。 9、抛光/腐蚀时间可定时可连续实时显示工作时间。 10、搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致。11、外壳采用全不锈耐酸钢加表面喷塑的双重防腐蚀结构，储液罐等采用耐酸材料制造，保证仪器长期可靠使用。 12、电源过压、过热以及市电输入过欠压保护。13、高温报警输出保护。三、触摸屏界面四、技术参数样品孔板规格φ10、φ15、φ20可定制电解输出直流0-60V / 0-20A，连续可调，数字输入输出电源电压：220V 频率：50HZ电解液容量300-1000ml控制箱尺寸400×400×135mm腐蚀工作台尺寸270×230×320 mm重量10Kg五、配置清单产品附件单位数量备注控制箱套1腐蚀工作台套1样品孔板个3φ10、φ15、φ20各一片电源线根1进水管根1出水管根1技术文件1.产品说明书1份 2.产品合格证1份

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、金属等片状材料的双面精密研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样行星齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。UNIPOL-160D双面研磨抛光机可以选择用研磨盘加磨料研磨样品，也可以选择抛光盘贴砂纸的方式研磨样品。抛光盘贴砂纸是将砂纸贴在研抛底片上然后将研抛底片吸附在抛光盘上在进行研磨抛光。可以同时对多个样品一起进行研磨，研磨抛光的效率高，适合大量试样的研磨或工厂的小批量生产。1、转速采用手动调整变频器频率的控制方式。2、可同时对4片最大尺寸为Ø 2" 的基片进行双面研磨抛光。3、可进行薄片的双面减薄。4、是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具。产品名称 UNIPOL-160D双面研磨抛光机产品型号 UNIPOL-160D安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz2、功率：550W3、磨抛盘：Ø 225mm4、磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调5、最大样件尺寸：Ø 50mm，厚度≤15mm6、上磨抛盘重量：3.5kg产品规格 尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1研磨盘1个2抛光盘1个3修盘行星轮1个-4载样行星轮（电木）1个-5配重环1个6磁力片2片7研抛底片2片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片9金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。（可选）-

規格：Φ200mm Φ220mm Φ230mm Φ250mmΦ300mm带背胶，(对于无粘贴胶的织物，其规格可定做）。下面是选不带胶抛光布请参考：抛光盘直径Φ200mm (使用无粘贴后背的抛光布，其直径为240~250mm)抛光盘直径Φ230mm (使用无粘贴后背的抛光布，其直径为270mm) 抛光盘直径Φ250mm (使用无粘贴后背的抛光布，其直径为290~300mm)使用方法1.无胶普通使用时，直接放置在抛光盘上，用压圈扣住即可 2.带胶粘贴抛光盘使用，可将拋光织物直接固定在拋盘上，采用高档压敏胶制成，抛光布平整，样品不会产生倒角现象。

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、金属等片状材料的精密双面研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。技术参数主要特点转速采用手动调整变频器频率的控制方式可同时对4片最大尺寸为Φ2" 的基片进行双面研磨抛光可进行薄片的双面减薄是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具技术参数电源：220V 50Hz功率：550W磨抛盘：Φ225mm磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调最大样件尺寸：Φ50mm，厚度≤15mm上磨抛盘重量：3.5kg产品规格尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg标准配件1研磨盘1套2抛光盘1套3修盘行星轮4个4载样行星轮（电木）8个5配重环3个6磁力片4片7研抛底片4片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各2片9研磨膏（W2.5）1支操作视频点击查看可选配件可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。