辛耘清洗蚀刻设备

实验室是科学研究的重要场所，承担着推动科学进步和社会发展的重要责任。实验室全自动清洗机已经是欧美等发达国家的标配设备，很多海外归来的科研人员刚回到国内时对于国内实验室没有清洗机的情况一时都难免有些不适应。习惯了机洗很难适应手洗，就像人们用惯了洗衣机后很难再退回到所有衣服都要手洗的时代一样。科技在发展，时代在进步。相信国内实验室瓶皿清洗也终将告别手洗时代迎来机洗普及的新时代。值此国家鼓励各行各业大力淘汰落后设备落后产能之际，也为实验室瓶皿的自动化清洗带来了新的发展契机。机洗相比于手洗，有着其他自动化设备一样的天然优势。优势1. 清洗量大且不知疲累试想下，如果当天的实验多且瓶皿用量大，负责清洗瓶皿的人员内心是不是早已崩溃？做了一天的实验心神基本已被耗尽，兢兢业业终于完成了，本该迎来好好休息的时刻，面前却是堆积如小山的瓶宝子们，不洗到腰酸背痛眼冒金星怎能结束呢？崩个小溃是不是很正常。机器的最大特点之一就是不像人类一样容易感知到疲累。人类能够承受的极限，在机器这里也只是轻松拿捏。回到上述情境，实验室里有一台全自动清洗机，在实验结束时，只需把瓶瓶罐罐们好好安放进去，然后关上门启动清洗程序，就可以高枕无忧了。该休息休息，该放松放松。在不久的将来，实验室里还可以有一台智能化的清洗机。实验结束后，只需给一道指令，就会有机器人帮忙摆放瓶皿，帮忙启动清洗，洗好了再帮忙取出......最大化地保护科研人员的体力与精力，是不是很值得期待？优势2. 不仅能洗还能洗的很好像人一样，想要把事情做好，只有力气是远远不够的，还要有一颗聪明的大脑。实验室清洗机二者兼备，既有稳定的清洗力输出，也有非常好的清洗效果可以呈现。主控板相当于清洗机的大脑，各种各样的电路就像人的神经网络一样，操控着清洗机可以根据不同类型的瓶皿和不同种类的污染物输出对应的清洗流程。和人类清洗不同的是，每次输出的清洗结果都可以保质保量，不会受到今天心情不好、状态欠佳、漏掉了一步等等不确定因素的人为干扰。更不会出现前面的瓶子洗的挺干净，后面累了就随便洗洗的状况，让SOP形同虚设。怎么才能洗的更好呢？这就要从洁净度上做些文章了。清洗标准达到ppb级，同样是人工清洗难以企及的高度。优势3. 无后顾之忧长期的人工清洗会造成一些不大受欢迎的“并发症”出现。例1：瓶皿上出现划痕，在制药等对于精度要求高的实验中，微量药液吸入划痕中，都可能导致含量测量的极大误差，不仅影响实验结果，还造成贵重瓶皿的低级浪费。例2：瓶皿破损，导致人员受到不同程度的伤害，还伴有感染风险的发生，如果情况严重，会超出实验室能够承担的责任范畴。上述情况在应用实验室清洗机后都可以避免。清洗过程中将无瓶皿受损风险，无人员伤害风险出现，消除瓶皿清洗的后顾之忧。白小白实验室清洗机兼具以上优点，是实验室清洗的新选择。在此次设备更新产能升级的政策激励下，希望每一个实验室都能拥有一台全自动清洗机，希望拥有清洗机的实验室，可以拥有一台更加优质的清洗机。上海汉尧自去年开始成为白小白上海、浙江、江苏地区制药行业总代理商。汉尧一直专注于为中国的生物制药/食品/化工实验室行业用户提供高品质的产品和技术服务，秉持一贯的服务宗旨，践行“诚信、利他、感恩”的价值观，以客户满意度为前提，提供周到的服务，与我们的客户和合作伙伴共同成长的同时，努力为社会创造更多价值。

盛美上海Ultra C VI设备支持先进逻辑、DRAM和3D NAND制造所需的大多数半导体清洗工艺；产能较12腔设备提升50%盛美上海盛美半导体设备（上海）股份有限公司(以下简称“盛美上海”)（科创板股票代码：688082），作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装（WLP）应用提供晶圆工艺解决方案的领先供应商，今天宣布，其18腔300mm Ultra C VI单晶圆清洗设备已成功投入量产。该设备于2020年第二季度首次推出，目前已在中国一家主流存储芯片制造商的生产线上获得验证并进入量产。据盛美上海董事长王晖博士介绍：“随着技术节点逐渐缩小，芯片复杂性不断增加，湿法清洗工艺所需的步骤也在增长。当前对于半导体芯片的需求空前巨大，相应的产能需求也随之提高，而我们的18腔设备恰好能够满足这一需求的增长。采用Ultra C VI设备进行量产，在设备尺寸相同的情况下可提升50%的产能，以更好地满足客户需求。”盛美上海18腔300mm Ultra C VI设备简介可兼容绝大部分湿法清洗和湿法蚀刻工艺18腔300mm Ultra C VI设备可用于聚合物去除、钨或铜工艺的清洗、沉积前清洗、蚀刻后和化学机械抛光（CMP）后清洗、深沟槽清洗、RCA标准清洗等多个前道和后道工艺。高效传输，产能最大化18腔300mm Ultra C VI设备配备了由多个机械臂组成的高效硅片传输系统，最大产能超过800片/小时。对比盛美上海现有的12腔Ultra C V设备，其腔体数及产能增加了50%，而设备宽度不变只是在长度上有少量增加。关于盛美上海盛美上海从事对先进集成电路制造与先进晶圆级封装制造行业至关重要的单片晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备和立式炉管设备的研发、生产和销售，并致力于向半导体制造商提供定制化、高性能、低消耗的工艺解决方案，来提升他们多个步骤的生产效率和产品良率。

盛美半导体官方消息显示，1月8日，盛美半导体首台应用于大功率半导体器件制造的新款12英寸单晶圆薄片清洗设备已通过厦门士兰集科量产要求，提前验收。该设备于2020年5月20日作为首批设备之一搬入工厂，从正式装机到应用于产品片生产，只用了18天的时间，原定一年的验证期仅用6个月即顺利完成验收。图片来源：盛美半导体设备图片来源：盛美半导体设备据悉，盛美新款12英寸单晶圆薄片清洗设备，是一款高产能的四腔体系统，用于超薄片的硅减薄湿法蚀刻工艺，以消除晶圆应力、并进行表面清洗等。该系统的传输及工艺模块为超薄硅片的搬送及工艺处理提供了有效的解决方案，基于伯努利效应，该系统在传输与工艺中，与晶圆表面完全无接触，消除由接触带来的机械损伤，提高器件的良率。通过不同的设定，该系统可适用于Taiko片、超薄片、键合片、深沟槽片等不同厚度的晶圆；通过采用不同的化学药液组合，该系统可拓展应用于清洗、光刻胶去除、薄膜去除和金属蚀刻等工艺。此前，盛美半导体设备董事长王晖曾表示：“为了争夺市场份额，功率设备制造商需扩大MOSFET 和IGBT的产能，包括增加晶圆减薄设备，同时兼顾利用有限的工厂面积。为此，我们开发了一个四腔系统，与目前市场上的一腔或两腔系统相比，它能提供更高的产能，降低成本（COO）、增加效益。此外，我们提供了一套专用的非接触式传输与工艺系统，以防止这些薄至50微米的易碎晶圆在背面减薄与清洗过程中受到损坏，从而提高器件良率。”此次盛美半导体12英寸单晶圆薄片清洗设备的快速投入量产使用并提前成功验收是盛美与国内量产客户团队的紧密合作成果。据了解，作为盛美半导体2020年推出的重要新产品之一，该设备的顺利验收对推动该设备在功率器件新兴市场的推广具有重要意义。盛美半导体设备公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。公司坚持差异化竞争和创新的发展战略，通过自主研发的单片兆声波清洗技术、单片槽式组合清洗技术、电镀技术、无应力抛光技术和立式炉管技术等，向全球晶圆制造、先进封装及其他客户提供定制化的设备及工艺解决方案，有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。

在半导体行业，晶圆是用光刻技术制造和操作的。蚀刻是这一过程的主要部分，在这一过程中，材料可以被分层到一个非常具体的厚度。当这些层在晶圆表面被蚀刻时，等离子体监测被用来跟踪晶圆层的蚀刻，并确定等离子体何时完全蚀刻了一个特定的层并到达下一个层。通过监测等离子体在蚀刻过程中产生的发射线，可以精确跟踪蚀刻过程。这种终点检测对于使用基于等离子体的蚀刻工艺的半导体材料生产至关重要。等离子体是一种被激发的、类似气体的状态，其中一部分原子已经被激发或电离，形成自由电子和离子。当被激发的中性原子的电子返回到基态时，等离子体中存在的原子就会发射特有波长的辐射光，其光谱图可用来确定等离子体的组成。等离子体是用一系列高能方法使原子电离而形成的，包括热、高能激光、微波、电和无线电频率。实时等离子体监测以改进工艺等离子体有一系列的应用，包括元素分析、薄膜沉积、等离子体蚀刻和表面清洁。通过对等离子体样品的发射光谱进行监测，可以为样品提供详细的元素分析，并能够确定控制基于等离子体的过程所需的关键等离子体参数。发射线的波长被用来识别等离子体中存在的元素，发射线的强度被用来实时量化粒子和电子密度，以便进行工艺控制。像气体混合物、等离子体温度和粒子密度等参数都是控制等离子体过程的关键。通过在等离子体室中引入各种气体或粒子来改变这些参数，会改变等离子体的特性，从而影响等离子体与衬底的相互作用。实时监测和控制等离子体的能力可以改进工艺和产品。一个基于Ocean Insight HR系列高分辨率光谱仪的模块化光谱装置用于监测等离子体室引入不同气体后，氩气等离子体发射的变化。测量是在一个封闭的反应室中进行的，光谱仪连接光纤和余弦校正器，通过室中的一个小窗口观察。这些测量证明了模块化光谱仪从等离子体室中实时获取等离子体发射光谱的可行性。从这些发射光谱中确定的等离子体特征可用于监测和控制基于等离子体的过程。等离子体监测可以通过灵活的模块化设置完成，使用高分辨率光谱仪，如Ocean Insight的HR或Maya2000 Pro系列（后者是检测UV气体的一个很好的选择）。对于模块化设置，HR光谱仪可以与抗曝光纤相结合，以获得在等离子体中形成的定性发射数据。从等离子体室中形成的等离子体中获取定性发射数据。如果需要定量测量，用户可以增加一个光谱库来比较数据，并快速识别未知的发射线、峰和波段。监测真空室中形成的等离子体时，一个重要的考虑因素是与采样室的接口。仪器部件可以被引入到真空室中，或者被设置成通过视窗来观察等离子体。真空通管为承受真空室中的恶劣条件而设计的定制光纤将部件耦合到等离子体室中。对于通过视口监测等离子体，可能需要一个采样附件，如余弦校正器或准直透镜，这取决于要测量的等离子体场的大小。在没有取样附件的情况下，从光纤到等离子体的距离将决定成像的区域。使用准直透镜可以获得更局部的收集区域，或者使用余弦校正器可以在180度的视野内收集光线。测量条件HR系列高分辨率光谱仪被用来测量当其他气体被引入等离子体室时氩等离子体的发射变化。光谱仪、光纤和余弦校正器通过室外的一个小窗口收集发射光谱，对封闭反应室中的等离子体进行光谱数据采集（图1）。图1：一个模块化的光谱仪设置可以被配置为真空室中的等离子体测量。一个HR2000+高分辨率光谱仪（~1.1nm FWHM光学分辨率）被配置为测量200-1100nm的发射（光栅HC-1，SLIT-25），使用抗曝光纤（QP400-1-SR-BX光纤）与一个余弦校正器（CC-3-UV）耦合。选择CC-3-UV余弦校正器采样附件来获取等离子体室的数据，以解决等离子体强度的差异和测量窗口的不均匀问题。其他采样选项包括准直透镜和真空透镜。结果图2显示了通过等离子体室窗口测量的氩等离子体的光谱。690-900纳米的强光谱线是中性氩（Ar I）的发射线，400-650纳米的低强度线是由单电离的氩原子（Ar II）产生的。图2所示的发射光谱是测量等离子体发射的丰富光谱数据的一个例子。这种光谱信息可用于确定一系列关键参数，以监测和控制半导体制造过程中基于等离子体的工艺。图2：通过真空室窗口测量氩气等离子体的发射。氢气是一种辅助气体，可以添加到氩气等离子体中以改变等离子体的特性。在图3中，随着氢气浓度的增加添加到氩气等离子体中的效果。氢气改变氩气等离子体特性的能力清楚地显示在700-900纳米之间的氩气线的强度下降，而氢气浓度的增加反映在350-450纳米之间的氢气线出现。这些光谱显示了实时测量等离子体发射的强度，以监测二次气体对等离子体特性的影响。观察到的光谱变化可用于确保向试验室添加最佳数量的二次气体，以达到预期的等离子体特性。图3：将氢气添加到氩等离子体中会改变其光谱特性。在图 4 和 5 中，显示了在将保护气添加到腔室之前和之后测量的等离子体的发射光谱。 保护气用于减少进样器和样品之间的接触，以减少由于样品沉积和残留引起的问题。 在图 4中，氩等离子体发射光谱显示在加入保护气之前，加入保护气后测得的发射光谱如图5所示。保护气的加入导致了氩气发射光谱的变化，从400纳米以下和~520纳米处的宽光谱线的消失可以看出。图4：加入保护气之前，在真空室中测量氩等离子体的发射。图5：加入保护气后，氩气发射特性在400纳米以下和~520纳米处有明显不同。结论紫外-可见-近红外光谱是测量等离子体发射的有力方法，以实现元素分析和基于等离子体过程的精确控制。这些数据说明了模块化光谱法对等离子体监测的能力。HR2000+高分辨率光谱仪和模块化光谱学方法在测量等离子体室条件改变时，通过等离子体室的窗口测量等离子体发射光谱，效果良好。还有其他的等离子体监测选项，包括Maya2000 Pro，它在紫外光下有很好的响应。另外，光谱仪和子系统可以被集成到其他设备中，并与机器学习工具相结合，以实现对等离子体室条件更复杂的控制。以上文章作者是海洋光学Yvette Mattley博士，爱蛙科技翻译整理。世界上第一台微型光谱仪的发明者海洋光学OceanInsight，30年来专注于光谱技术和设备的持续创新，在光谱仪这个细分市场精耕细作，打造了丰富而差异化的产品线，展现了光的多样性应用，坚持将紧凑、便携、高集成度以及高灵敏度、高分辨率、高速的不同设备带给客户。2019年，从Ocean Optics更名为Ocean Insight，也是海洋光学从光谱产品生产商转型为光谱解决方案提供商战略调整的开始。此后，海洋光学不仅继续丰富扩充光传感产品线，且增强支持和服务能力，为需要定制方案的客户提供量身定制的系统化解决方案和应用指导。作为海洋光学官方授权合作伙伴，爱蛙科技（iFrogTech）致力于与海洋光学携手共同帮助客户面对问题、探索未来课题，为打造量身定制的光谱解决方案而努力。如需了解更多详情或探讨创新应用，可拨打400-102-1226客服电话。关于海洋光学海洋光学作为世界领先的光学解决方案提供商，应用于半导体、照明及显示、工业控制、环境监测、生命科学生物、医药研究、教育等领域。其产品包括光谱仪、化学传感器、计量检测设备、光纤、透镜等。作为光纤光谱仪的发明者，如今海洋光学在全球已售出超过40万套的光纤光谱仪。关于爱蛙科技爱蛙科技（iFrogTech）是海洋光学官方授权合作伙伴，提供光谱分析仪器销售、租赁、维护，以及解决方案定制、软件开发在内的全链条一站式精准服务。

-----铝蚀刻液成分分析—磷酸、硝酸、醋酸有多少？一、背景介绍蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于仪器镶板，铭牌等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。铝是半导体工艺中最主要的导体材料。它具有低电阻、易于淀积和刻蚀等优点。铝蚀刻液主要成分是磷酸、硝酸、醋酸及水，其中磷酸、硝酸、醋酸及水的组成比例会影响到蚀刻的速率，故需要对这种混酸溶液的成分进行分析。 二、测试原理1、硝酸：在样品中加入适量乙醇做溶剂，用四丁基氢氧化铵（TBAOH）滴定至终点，即可计算硝酸的含量。TBAOH+HNO3 → NO3-+TBN++H2O2、醋酸和磷酸：在样品中加入适量饱和氯化钠溶液做溶剂，用氢氧化钠溶液做滴定剂，出现两个滴定终点。第|一个终点是H3PO4和HNO3被耗尽时的终点，第二个终点是H2PO4-和HAc被耗尽时的终点，根据已知的硝酸含量，即可计算出磷酸及醋酸的含量。H3PO4+HNO3+2OH- → NO3-+ H2PO4-+ 2H2OH2PO4-+HAc+2 OH- → Ac-+ HPO42-+ 2H2O 三、混酸分析方法（1）硝酸含量测试：在滴定杯内加入50mL无水乙醇，准确称取一定质量的样品置于滴定杯内，用 0.01mol/L TBAOH溶液做滴定剂进行电位滴定，终点电位突跃设置为20mV/mL。图1 硝酸含量滴定曲线图2 醋酸和磷酸含量滴定曲线 （2）醋酸和磷酸含量测试：在滴定杯内加入50mL饱和氯化钠溶液。准确称取一定质量的样品置于滴定杯内，用0.5mol/L氢氧化钠溶液做滴定剂进行电位滴定，终点电位突跃设置为100mV/mL。 四、注意事项1、TBAOH标定时需要使用纯水做邻苯二钾酸氢钾的溶剂，而使用TBAOH测定硝酸时必须使用无水乙醇做溶剂，不要在滴定杯内加入水，否则不会出现显著的滴定终点。2、使用氢氧化钠测定醋酸和磷酸时，需使用饱和氯化钠溶液做溶剂，若使用纯水做溶剂会出现假终点。 五、仪器推荐ZDJ-5B型自动滴定仪 ● 7寸彩色触摸电容屏，导航式操作● 支持电位滴定● 实时显示测试方法、滴定曲线和测量结果● 可定义计算公式，直接显示计算结果● 支持滴定剂管理功能● 支持pH的标定、测量功能● 支持USB、RS232连接PC，双向通讯● 可直接连接自动进样器实现批量样品的自动测量

据广州南沙发布消息，6月28日，广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工（投产）暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工（投产），涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上，10个重点项目分两批进行现场签约，总投资额160亿元，达产产值796亿元，其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍，湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园，项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术，项目产品将拥有100%自主产权，满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出，目前，南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新，成立第三代半导体创新中心，形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表，以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链，为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。

2021年6月7日，上海芯物科技有限公司12吋中试生产线工艺设备搬入仪式在新傲工厂举行，盛美半导体设备（上海）股份有限公司首台清洗设备入驻芯物科技！据国家智能传感器创新中心负责人在致辞时介绍，12英寸先进传感器特色工艺研发中试平台超过80%的设备均采用国产设备，为国产装备提供验证平台，加速传感器产业链国产化，实现自主可控。盛美半导体董事长 王晖 先生王晖先生在致辞时说：“能够获得和芯物科技一起成长的机会，我代表盛美向芯物科技表示衷心的感谢！在这个充满机会与挑战的时代，期待未来和芯物科技一起，开发一些全球领先的差异化特色工艺和设备，把中国的MEMS做到世界前列！”设备搬入合影盛 美 前道刷洗设备盛美本次进驻芯物科技的设备为前道刷洗设备，该设备采用单片腔体对晶圆正背面依工序清洗，可进行包括晶圆背面刷洗、晶圆边缘刷洗、正背面二流体清洗等清洗工序。设备占地面积小，产能高，稳定性强，多种清洗方式灵活可选，且可用于芯片制造的中前段至后段各道刷洗工艺。据了解， 盛美主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。公司坚持差异化竞争和创新的发展战略，通过自主研发的单片兆声波清洗技术、单片槽式组合清洗技术、电镀技术、无应力抛光技术和立式炉管技术等，向全球晶圆制造、先进封装及其他客户提供定制化的设备及工艺解决方案，有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。

p 集微网消息，随着集成电路制程工艺节点越来越先进，对实际制造的几个环节也提出了新要求，清洗环节的重要性日益凸显。随着线宽微缩，晶圆制造的良率随着线宽缩小而下降，而提高良率的方式之一就是增加清洗工艺，在80-60nm制程中，清洗工艺大约100多个步骤，而到了20-10nm制程，清洗工艺上升到200多个步骤以上。/ppimg style="max-width:100% max-height:100% " src="http://s.laoyaoba.com/jwImg/news/2020/07/01/15935879448673.jpeg"//pp 对于未来的先进产线而言，为了避免利润损失，增加清洗设备的数量是必然选择。strong众所周知，全球清洗设备呈现寡头垄断的格局，但是有一家来自中国的本土设备企业，凭借着差异化技术优势正逐渐在市场中崭露头角，甚至有望打破现有清洗设备市场格局，它便是盛美半导体。/strong/ph3国产清洗设备市场机遇/h3p 近年来，在全球半导体产业重心持续向中国大陆转移的背景下，中国半导体设备企业也正迎来自己的“高光时刻”。据SEMI预计，2019-2020年韩国、中国大陆、中国台湾将分列世界前三大设备市场，2020年中国大陆有望升至全球最大设备市场。/ppimg style="max-width:100% max-height:100% " src="http://s.laoyaoba.com/jwImg/news/2020/07/08/15941727255385.jpeg"//pp style="text-align: center "盛美半导体设备（上海）股份有限公司董事长王晖/pp strong“这几年中国半导体产业的发展可以说是突飞猛进。尤其是在新建产线方面，包括长江存储、合肥长鑫、中芯国际、华虹华力都有多个晶圆厂正在扩建中，同时还有积塔半导体、士兰微、粤芯等也在新建产线中，所以我觉得现在国内的市场环境特别好。尤其是对于已经有十几年技术储备的盛美半导体来说，我们正赶上一个快速发展的好时期。”/strong盛美半导体设备（上海）股份有限公司董事长王晖博士在接受集微网记者采访时说道。/pp 实际上，除了全球半导体整体市场增长的带动，清洗机设备市场规模增长的驱动力，主要体现在技术进步的两个方面：一方面是随着芯片的制程逐渐缩小，清洗成为生产芯片过程中重复次数最多的步骤；另一方面是随着存储器从2D向3D转变，此时清洗效果不能仅仅停留在表面，还需要在无损情况下清洗内部聚合物残留、污染物及颗粒。/pp 根据TMR统计数据，预计2020年全球清洗机设备市场规模将达到35-40亿美元，2015-2020年的年均复合增速达6.8%。毫无疑问，国内的清洗设备市场必将面临更大的发展机会。/pp strong正如王晖博士所说，国内设备企业一定要牢牢抓住中国半导体产业的发展机遇，不仅要将市场做大，也要将中国的半导体设备做强，不断提升自己的核心技术水平，同时保护好自身的知识产权，敢于用法律手段维护自身的知识产权。/strong/ph3差异化路线打开市场/h3p 由于半导体设备行业具有高资本密集、高专利壁垒、初期高投入低回报的特点，使得新玩家很难切入其中。尤其是在全球清洗设备市场中，前三名日本Screen（迪恩士）、日本Tokyo Electron（东京电子）和美国Lam Research（泛林）合计占据着近80%的市场份额。此时，新玩家要想打破寡头垄断格局，必须要有独一无二差异化的技术和市场优势。/pp 为此，strong盛美半导体从一开始切入清洗设备市场便决定要走差异化路线，从而与国际厂商竞争/strong。经过二十多年的技术储备，如今的盛美半导体已成长为国内清洗设备的“领头羊”，公司研发团队先后开发出了SAPS、TEBO、Tahoe等全球领先的半导体清洗技术及设备。/pp 据王晖介绍，2009年，盛美半导体第一个兆声波清洗技术SAPS取得突破后，便进入SK海力士无锡生产线测试，而这也是国产设备第一次进入国际知名厂商；2015年，公司研发团队又开发出TEBO无损伤兆声波清洗技术；2018年，盛美半导体再下一城，发布了Tahoe高温硫酸清洗设备。/pp strong“目前在国内的国产清洗设备市场中，盛美半导体占据着80%左右的市场份额，我们是目前国内市场份额最大、产品最全的清洗设备企业。”/strong王晖告诉集微网记者。/pp 值得一提的是，盛美半导体并没有停止自己的发展脚步，除了相继研发出SPAS、TEBO、Tahoe等全球领先的半导体清洗技术以外，还推出了三款半关键清洗设备：单片背面清洗设备、槽式自动清洗设备、单片刷洗设备。另外研制出的镀铜设备也已进入产业链前道和后道，抛光设备已进入后道，未来会切入前道，并继续向5nm、3nm等先进制程工艺探索。/pp 与此同时，由湿法设备切入干法设备已从王晖的规划变为现实。他表示，盛美半导体刚刚发布了一款干法设备——立式LPCVD炉管设备。目前立式炉管设备全球市场规模有将近17亿美元，且只有东京电子、日立国际、北方华创等极少数国内外厂商有能力生产这一设备。/ph3进军全球市场寻求突破/h3p 半导体产业是一个高度全球化的产业，世界上现在没有任何一个国家可以凭借自己的力量建立一条先进的半导体生产线，即便是美日韩等半导体强国。/pp strong“之所以说半导体产业是一个全球化产业，是因为整个设备和生产线的体量是有限的，如果只能局限在某个区域或者某一个国家，那它的产量和利润就都是有限的，根本无法去支撑企业庞大的研发费用。”/strong王晖解释道。/pp 王晖认为，在全球化的趋势下，不论是国内的设备企业还是国外的设备企业，都需要共同维护全球化的概念。只有将国内的设备市场开放给国外的设备企业，同时国内的设备企业也有机会进军国外市场，才能保证全球设备产业的健康、持续发展。/pp 而strong在全球化的市场竞争格局中，针对国内设备企业，王晖建议一定要注意几点：一是要尊重国外企业的知识产权（IP），同时也要发展和保护自己的核心IP；二是要保证企业的毛利率在40%-45%之间，如果能够在45%以上更好，但如果毛利率低于30%，则意味着企业基本没有研发能力。/strong/pp 对于盛美半导体而言，公司未来的发展目标一定是向国际市场进军。据集微网了解，2019年年底，盛美半导体宣布上海临港研发及生产中心项目正式启动，而临港项目也是盛美半导体全球化发展布局中非常重要的一环。strong预计到2022年左右，临港项目能正式建成，届时它将提供盛美半导体未来接近100亿元设备生产的能力。/strong/pp 2017年，盛美半导体登陆纳斯达克交易所，成为国内首家赴美上市的半导体设备企业。现在，盛美半导体正推动公司在国内科创板上市。王晖表示，进军科创板将使盛美半导体更加深植于中国市场，与中国半导体业共同成长，未来也会保持在中美双边的上市架构，服务好中国及全球客户，为他们提供差异化半导体加工工艺解决方案，也为科创板及纳斯达克的盛美股民创造长期的回报价值。/p

正在上海举行的中国半导体国际展上，盛美半导体设备(上海)有限公司展出了一台十二英寸单片兆声波清洗设备，这也是国内首台具有自主知识产权的“零损伤”兆声波半导体清洗设备。 　　当今半导体清洗技术中的最大难题，是对机械损伤和不良率的控制。随着半导体芯片体积的不断缩小，影响硅片良率的粒子也越来越小，颗粒越小则越难清洗 同时，65纳米以下芯片的门电极与电容结构越来越脆弱，在清洗中避免损伤芯片微结构的难度也在不断加大。 　　作为一种新兴技术，近年来兆声波清洗技术在半导体清洗设备中的应用越来越广泛。盛美半导体首席执行官王晖博士说，兆声波能量之所以可以去除颗粒，是因为兆声波会产生气穴，这些气穴能在“极表面”产生高速流体，从而推动微颗粒离开硅片表面。但这项技术的关键点在于，如何控制兆声波在硅片表面上的能量，使之既能有足够的能量产生气穴，又不会产生过多能量而破坏硅片上的微结构。 　　据介绍，目前全球市场上的单片兆声波清洗设备，一般只能控制兆声波能量非均匀度在10%到20%。而由盛美半导体自主研发的SAPS兆声波技术，可以精确控制兆声波的能量，将均匀率控制在2%以内。因而盛美半导体设备公司的兆声波清洗设备使用超纯净水，在不损伤微结构的条件下，颗粒去除效率可达到98.3% 如果使用特定化学清洗液，颗粒去除效率更可高达99.2%。

实验室自动玻璃清洗设备适用于制药企业、疾控系统、科研院所、环境保护、水务系统、医院、石化系统、电力系统等各类实验室，并对进样瓶、试管、烧杯、移液管、三角瓶、容量瓶等瓶皿进行快速的清洗干燥。洗瓶机的好处非常多，也在逐渐替代手工清洗，初次操作用的用户使用时要规避这几点。1. 多种不同的器皿放在一起清洗实验室自动玻璃清洗设备清洗容量很大，一次可清洗百余只瓶皿，有的用户为了省事，就将实验完成后待清洗的瓶皿，不分结构、规格，一股脑的插在篮架上，放进清洗仓进行清洗。其实这样操作是错误的。洗瓶机采用高压喷淋清洗方式洗瓶，并搭配不同形状的清洗篮架，并且每种篮架的喷头角度、口径都是不同的，清洗时只有合适的篮架，才能发挥清洗能力。如果将瓶皿不按种类和规格，一股脑往一个篮架上扣，清洗效率不仅会打折扣，而且会洗碎瓶皿。2. 玻璃器皿清洗前不需要进行预处理实验室自动玻璃清洗设备尽管是全自动的，但是针对一些残留物，还是需要进行预处理。比如，有的瓶皿种含有遇热会凝固的蛋白质，如果不将瓶皿中的蛋白质清洗干净就直接加热清洗，就会存在蛋白质凝固后粘附在器皿表面的现象，会影响瓶皿的洁净度。还有一些类似的聚合物等物质，清洗前需要简单的预处理操作。3. 清洗液随意搭配乱用全自动清洗采用的是循环喷淋的方式，普通的清洗剂一般都含有表面活性剂成分，在清洗过程中会产生大量的泡沫，这些泡沫会越洗越多，还可能会溢出，进而导致循环泵、管路等部件的损坏。专用的清洗剂不仅含有酸、碱，还含有螯合剂、络合物等多种活性物质，这些可以通过协同作用更好地溶解和分散残留物。洗瓶机厂家会根据自身设备量身定制清洗剂，并且也会通过细致的测试和评估，不会对设备产生损坏4. 随意拆机维修有的用户遇到洗瓶机故障后，就自作主张拆机维修，结果导致小问题成大问题。我们提醒用户，设备在出现问题的情况下，不能擅自拆机维修，一定要联系售后工程师，在工程师的指导下或者工程师上门来维修。实验室自动玻璃清洗设备不但很好的解决了实验室玻璃器皿的清洗难题，而且也提高了实验员的工作效率，保障了清洗人员的安全。我们在操作设备时，一定要规范操作，这样才可以保障清洗效果，提高实验效率。

众所周知，新产品——FLIR Si124声波成像仪可以有效地发现高压设备中的局部放电/电晕，避免出现设备故障、代价高昂的损坏和意外停机等问题。具体是如何应用的呢？下面小菲就通过一则真实案例向大家详细解说下吧~SPI Inspections的创始人在公用设备系统领域（包括电力系统建设和变电站检查）拥有超过100年的全方位经验。凭借其深厚的检测经验和先进的检查技术，为客户提供公用设备系统和基础设施检查服务。该团队利用无人机、FLIR热像仪和其他高科技设备提供了高质量的检查服务，并能独立验证施工标准和监控电力系统。最近，SPI Inspections的团队测试了新产品——FLIR Si124声波成像仪。Si124内置124个麦克风，可产生精确的声像，并在数码图片上实时显示超声信息。这样用户就可以通过视觉直观地确定声音来源。FLIR Si124是一款轻巧的可单手操作的仪器，可快速发现问题，其速度比传统方法快10倍FLIR产品在电力行业中的应用在电力从发电厂到您的家中并点亮灯泡的过程中，如果基础设施维护不当，则会出现大量潜在故障。SPI凭借其丰富的经验，可在先进技术的帮助下查明系统元件何时需要维护。“我们为企业购入了许多技术工具，”SPI现场经理Elton Hunter说。他们的众多工具之一有FLIR GF77气体检测热像仪，有助于发现电气设备中六氟化硫（SF6）的泄漏并检测热点。FLIR GF77是一款多功能热像仪，仅需更换镜头即可检测多种气体。如配备HR镜头，该热像仪可以检测到六氟化硫，而LR镜头则可使热像仪观测到甲烷、乙烯、氨气和其他气体的排放。该热像仪还经过了温度标定，因此可以用作标准的热像仪，以识别各种电力问题。FLIR GF77不仅可以进行辐射温度测量，还可以通过更换镜头检测多种气体SPI团队以前依靠FLIR气体检测热像仪进行各项检测，FLIR Si124的推出让他们非常兴奋，因为它不仅可以定位压缩空气系统中的压缩空气泄漏，还可以检测高压系统局部放电/电晕的现象。Si124价格实惠，更受客户认可当故障点周围的空气被电离，从而产生一种被称为“电晕”的现象时，通过仪器可以检测到因电绝缘被击穿而产生的局部放电。声波成像技术可快速检测到电晕，其识别根据是图像声音中的“肉球”。“对于我们来说，这有着无可估量的价值”，Hunter表示。该团队以前一直是使用紫外线技术来检测电晕，现在他们惊喜地发现FLIR Si124能达到几乎相同的效果，而成本仅为五分之一。“ FLIR Si124基本上具有完全相同的功能，并且非常简便易用，” SPI Inspections公司经理Brett Fleming表示。FLIR Si124可以快速检测到几乎完全不可见的电力问题设计友好，直观易用由于大部分工作都是在现场完成，因此对于SPI Inspections团队来说，拥有得心应手的工具非常重要。“它的设计十分简洁，仅用了六个小时，我们就可以非常自如地使用这款产品了。”Hunter在谈到Si124时表示。“这款声波成像仪可以帮助我们在现场非常清晰地定位问题。” Hunter继续说道。他的团队对于FLIR Si124图像的质量、笔记本电脑或云端下载的便捷性以及用户界面的功能都大加称赞。“我们这些人在电力行业工作已有40多年，很多人都患有关节炎，手因为经常使用锤子和其他工具而变得肿大。Si124的用户界面，包括按键和触摸板，都对用户非常友好，我们发现这款产品非常容易操作”。提前发现故障，节约数千美金变电站和其他公用事业基础设施会给工人和检查人员带来许多危险。比如，当一个变电所的电容器组瘫痪，需要检测其内部特别危险的区域时，检查人员必须站在该区域四周的铁丝网栅栏外操作，但他们发现，FLIR Si124可以透过栅栏查看问题，评估状况。FLIR Si124可以检测到最远100 米（328 英尺）的故障，让检查人员可以在地面安全地检测，远离危险。在检测时，SPI的目标是在问题升级为严重故障之前及时发现问题。利用FLIR Si124之类的工具及早发现局部放电和电晕有助于他们预测故障，并使客户时刻洞悉系统状况。“它使我们能够提前预测电力线路上发生的问题，因此我们可以提前进行干预，这样就可以避免问题演变成灾难性的故障，不得不断电进行修复。” Hunter说。FLIR Si124声波成像仪在电力行业的应用已得到了市场的认可不仅价格优惠，而且检测准确

改进晶圆制造工艺，探索蚀刻终点的全光谱等离子监测解决方案满足当今技术创新的繁荣发展和复杂多变的产业环境，半导体代工厂需要定量、准确和高速的过程测量。海洋光学(Ocean Insight)与等离子蚀刻技术的领先创新者合作，探索适用于检测关键晶圆蚀刻终点的全光谱等离子监测解决方案。客户面临的挑战随着全球对半导体的需求迅速增长，该行业已做好投资于节约成本的工艺改进以及开发日益复杂的半导体设计和配方的准备。为了满足当今的技术繁荣并应对不断扩大的市场，半导体代工厂需要定量、准确和高速的过程测量。半导体和微机电系统 (MEMS) 正在达到设计极限，通过减小尺寸或提高速度来进一步改进几乎是不可能的。相反，制造商专注于晶圆质量、可重复性和整体良率，以及提高产能。目标是满足对智能电子产品不断增长的需求，同时保持生产成本和价格竞争力。我们的观点微弱等离子体或晶圆光谱的快速分析有助于完善蚀刻工艺参数，同时提高晶圆质量。基于光谱仪的等离子体测量与强大的软件相结合，可以说明等离子体、腔室和视口条件的变化状态，并对来自深蚀刻或薄设计特征的最微弱信号敏感。光谱有助于使终点检测更加精确，从而可以设计出更复杂的晶片形状和图案。由于制造商可以更准确地停止和启动生产过程，因此可以制造更小的特征，同时减少错误和减少晶圆上的不可用空间。另外，随着终点检测变得更加精确，可以使用更薄的不同材料层，即使它们产生微弱的、难以分辨的光谱特征和更紧密排列的峰值。解决方案海洋光学与半导体行业领先的设备供应商合作，共同推进终点检测技术。我们定制了光谱仪（Ocean SR2 和 Ocean HDX 是等离子监测应用的理想选择），以提供半导体制造所需的快速、高灵敏度、精确分辨率和多功能连接能力。借助海洋光学硬件和支持，设备供应商不断改进和完善其为半导体行业提供的蚀刻技术。其在等离子处理和先进封装解决方案方面的领先地位支持与无线设备、光子学、固态照明和 MEMS 设备相关的新兴技术。

半导体硅晶片生产行业过程中，蚀刻晶片需要用一定浓度的碱液（NaOH和KOH)。这个浓度需要精确的和可重复的蚀刻过程测量和控制。 德国的Rhotec传感器适用于 - 硅晶片生产电子芯片 - 测量NaOH和KOH在[w/w% ] - 蚀刻液浓度的Rhotec自动控制 测量原理 在线Rhotec-E密度传感器/传送器精确测量液体的密度，可以在极端工艺条件状态下使用。当样品经过U型管，振荡频率发生变化并测量相应的振荡频率，温度探头PT1000作温度补偿，测出的振荡频率转换为密度并显示w/w%，v/v%，Brix(白利糖度)，萃取率%或其他可测量介质的密度。使用此装置可记录分析液体的密度变化，尤其溶解性物质和非溶解性物质的混合物，如有机和无机混合物。 技术参数： 测量范围 0~3 g/cm3 过程连接 3/8&rdquo 螺纹 精度 ± 0.0001 g/cm3 传感器连接 现场总路线DP 重现性 ± 0.00001 g/cm3 输入 2*digital（24VDC） 响应时间 &le 1s 输出 3*digital（24VDC） 2*analog(4~20mA) 温度传感器 Pt1000 可选 现场总线DP 温度范围 -25~125℃ 外壳防护等级 IP65 压力 最大50bar 电源 24VDC 接触样品的材质 哈氏合金C276，蒙乃尔合金400， 耐热铬镍铁合金825， 不锈钢1.4571，钽等 爆炸防护（可选） Ex Ⅱ 2G Eex d ⅡC T6 更多信息请联系400-628-2898或电邮 redmatrix@126.com

众所周知，新产品——flir si124声波成像仪可以有效地发现高压设备中的局部放电/电晕，避免出现设备故障、代价高昂的损坏和意外停机等问题。具体是如何应用的呢？下面小菲就通过一则真实案例向大家详细解说下吧~spi inspections的创始人在公用设备系统领域（包括电力系统建设和变电站检查）拥有超过100年的全方位经验。凭借其深厚的检测经验和先进的检查技术，为客户提供公用设备系统和基础设施检查服务。该团队利用无人机、flir热像仪和其他高科技设备提供了高质量的检查服务，并能独立验证施工标准和监控电力系统。最近，spi inspections的团队测试了新产品——flir si124声波成像仪。si124内置124个麦克风，可产生精确的声像，并在数码图片上实时显示超声信息。这样用户就可以通过视觉直观地确定声音来源。flir产品在电力行业中的应用在电力从发电厂到您的家中并点亮灯泡的过程中，如果基础设施维护不当，则会出现大量潜在故障。spi凭借其丰富的经验，可在先进技术的帮助下查明系统元件何时需要维护。“我们为企业购入了许多技术工具，”spi现场经理elton hunter说。他们的众多工具之一有flir gf77气体检测热像仪，有助于发现电气设备中六氟化硫（sf6）的泄漏并检测热点。flir gf77是一款多功能热像仪，仅需更换镜头即可检测多种气体。如配备hr镜头，该热像仪可以检测到六氟化硫，而lr镜头则可使热像仪观测到甲烷、乙烯、氨气和其他气体的排放。该热像仪还经过了温度标定，因此可以用作标准的热像仪，以识别各种电力问题。spi团队以前依靠flir气体检测热像仪进行各项检测，flir si124的推出让他们非常兴奋，因为它不仅可以定位压缩空气系统中的压缩空气泄漏，还可以检测高压系统局部放电/电晕的现象。si124价格实惠，更受客户认可当故障点周围的空气被电离，从而产生一种被称为“电晕”的现象时，通过仪器可以检测到因电绝缘被击穿而产生的局部放电。声波成像技术可快速检测到电晕，其识别根据是图像声音中的“肉球”。“对于我们来说，这有着无可估量的价值”，hunter表示。该团队以前一直是使用紫外线技术来检测电晕，现在他们惊喜地发现flir si124能达到几乎相同的效果，而成本仅为五分之一。“ flir si124基本上具有完全相同的功能，并且非常简便易用，” spi inspections公司经理brett fleming表示。设计友好，直观易用由于大部分工作都是在现场完成，因此对于spi inspections团队来说，拥有得心应手的工具非常重要。“它的设计十分简洁，仅用了六个小时，我们就可以非常自如地使用这款产品了。”hunter在谈到si124时表示。“这款声波成像仪可以帮助我们在现场非常清晰地定位问题。” hunter继续说道。他的团队对于flir si124图像的质量、笔记本电脑或云端下载的便捷性以及用户界面的功能都大加称赞。“我们这些人在电力行业工作已有40多年，很多人都患有关节炎，手因为经常使用锤子和其他工具而变得肿大。si124的用户界面，包括按键和触摸板，都对用户非常友好，我们发现这款产品非常容易操作”。提前发现故障，节约数千美金变电站和其他公用事业基础设施会给工人和检查人员带来许多危险。比如，当一个变电所的电容器组瘫痪，需要检测其内部特别危险的区域时，检查人员必须站在该区域四周的铁丝网栅栏外操作，但他们发现，flir si124可以透过栅栏查看问题，评估状况。利用si124还可以在地面轻松发现高处故障，在对成像仪进行测试时，他们发现空中220英尺（约67米）高一条电源线出现故障，这是很难发现的问题。“我们可以用无人机检测到这类问题，但无法看清具体位置，” hunter说。“凭借丰富的现场经验，我们发现异常并放大它，然后就知道那里存在一些问题。“这一故障很可能导致高达2500万美元的成本损失——而这条电源线仅仅才用了五年”。他说。利用flir si124，他们能够在造成巨额损失前提早发现问题。在检测时，spi的目标是在问题升级为严重故障之前及时发现问题。利用flir si124之类的工具及早发现局部放电和电晕有助于他们预测故障，并使客户时刻洞悉系统状况。“它使我们能够提前预测电力线路上发生的问题，因此我们可以提前进行干预，这样就可以避免问题演变成灾难性的故障，不得不断电进行修复。” hunter说。flir si124声波成像仪在电力行业的应用已得到了市场的认可

吸入剂安瓿瓶灌装线专用清洗机成功交付记实验室清洗机顾名思义，一般是用于实验室器皿的清洗，可以被广泛应用于制药、食品、化妆品、高校、科研等实验室领域。用于药品罐装生产线是比较罕见的，用于安瓿瓶的罐装生产就更是难上加难。近期，白小白就完成了这个看似不太可能的应用交付。药品安全是涉及民生的大事，关乎用药人的生命安危。国家对药品的生产有着严格的管理规范和要求，以确保药品的质量和安全。因此，药品罐装生产线对罐装容器清洗也有着严格的要求。同时，安瓿瓶本身的特点也给这款专用清洗设备的研发带来了诸多困难。客户需求口服液体制剂车间生产亚硝酸异戊酯吸入剂品种，新增一台安瓿瓶洗烘一体机，需要对1ml的安瓿瓶进行清洗、烘干。罐装车间工艺流程（仅供参考）法规标准要求设备用于药品的包装生产，因此必须符合相关标准/要求：中国《药品生产质量管理规范（2010年修订）》、TJ36-79工业企业设计卫生标准、GB-52261-2002 机械安全机械电气设备第一部分：通用技术条件、GB-8196-87 机械设计防护罩安全要求、GB-12265-90 机械防护安全要求。工艺性能要求能够满足直径Ø 10mm，瓶口内径Ø 4mm，高度60mm的1ml安瓿瓶的洗烘；能够满足三班连续生产要求，设备洗烘能力≥1300瓶/柜；每柜的流程不大于1小时；洗烘瓶完好合格率应＞99.9%；设备放置在洁净区（D级区）灌装间，上瓶方式：整盘人工上瓶。连续运转要求应具备长时间持续运行能力，且设备运转稳定。机械要求（部分）设备与产品/药瓶接触部件材质为316L不锈钢，软连接/垫片等部件应采用硅胶、PTFE/EPDM等符合GMP要求的材料。其余部分采用符合GMP要求的其它材料（不锈钢至少为304）制成，并提供相关材质证明。设备内壁为镜面抛光，Ra＜0.65μm，焊接部分应有焊接相关证明材料/记录。所有附件设计及制作应符合GMP环境要求，无污染，无生锈，表面易清理。项目难点与实现在综合考虑GMP法规符合性、总成本、交付周期以及各项技术指标要求等主要因素后，白小白研发团队决定在现有制药实验室清洗机BS580D基础上进行客户所需安瓿瓶灌装线专用清洗机的专项开发。这样既可以在最短的时间内实现交付，也可以为客户节约经济成本，是最佳的选择。BS580D外观图白小白BS系列实验室清洗机经过测试、检验和认证机构SGS的合格性检测，通过IEC60068运行稳定性测试标准检验，具备长时间持续稳定运行能力。BS580D是针对制药行业定向研发的实验室清洗机，所有设计均以满足GMP的合规性要求为前提。腔体采用316L镜面不锈钢，表面粗糙度Ra＜0.2μm，采用激光焊接工艺，平整度和粗糙度可通过无线探伤仪器进行拍照检验，管路材质达到医用级和食品级，均有认证证书；内置审计追踪、权限管理、数据统计的合规性模块符合FDA法规21CFRpart11的条款要求。现有机型的上述软硬件配置为本次实现GMP要求下的安瓿瓶罐装线清洗机的研发打下了坚实基础，主要攻克对象便落在了工艺性能方面的要求满足上。清洗对象为1ml安瓿瓶，内径最小处仅为4mm，且靠近瓶口位置，清洗容量不低于1300个，在1小时内实现清洗和干燥，合格率＞99.9%。看似简单的几个数字，却在实践过程中给开发工程师们带来了极大的困难与挑战。难点一、1728个安瓿瓶清洗篮架设计现有机型针对的是实验室的应用场景，没有清洗安瓿瓶的专用篮架，需要进行全新的设计与开发。根据现有舱体的空间容量，经过工程师的测算可以实现一次最多清洗1728个安瓿瓶的结构设计，远大于客户要求的1300个。这个结果无疑是令人振奋的，但数量越多需要打破的现有平衡也就越多，意味着开发难度越大。现有设备的配套能力能够实现的是400余个安瓿瓶的清洗烘干，要增加到1728个，无疑是小马拉大车，系统性改进的难度可想而知。经过认知思索，研发部门决定接受这个高难度的挑战，这样可以地为客户提高清洗效率，这也是工程师们非常希望看到的结果。大方向确认后，经验丰富的工程师们很快就设计出了第一版安瓿瓶清洗篮架，并迅速进行了开模与加工。但是在上机测试完成后，大家却没有了最初的兴奋。清洗效果与实际要求差距太大，超出了预期设想。这该怎么办呢？工期本就很紧张，工程师们的压力一下子就上来了。经过反复的研究、探讨，终于发现了问题的症结所在。实验室清洗机清洗孔位总量通常不会超过600个，现有设备BS580D最大清洗量是400+。同时清洗1728个安瓿瓶，与其对应的是匹配1728个喷淋管和出水孔位。放眼整个行业也很难找到先例，遇到的困难自然也是从未有过。同等舱体容积前提条件下倍增量级增加的孔位数，造成的是滞空率的极大提升。滞空率越高，表示流体在流动过程中受到的阻力越大，清洗用水在喷淋过程中的流动越困难。这直接导致了流体匹配的失衡，严重打破了现有清洗水用量的平衡，需要对水路系统进行整体性的设计调整（因系统性改造过于复杂，本文略，下同），可谓牵一发动全身。从篮架设计的角度，受安瓿瓶内径尺寸4mm的限制，喷淋管内径尺寸基本固定，几乎没有可调整空间。工程师们遂将设计重点放在了对篮架底部储水箱体结构的调整上，主要是箱体的容量以及结构形态，经过一次次的测算和调整，最终找到了新的平衡，解决了滞空率大幅增加带来的喷淋失衡问题。其中非常值得一提的是，工程师们打破惯有思维，采用了斜面式的形态设计，最终成为了取得成功的关键因素。难点二、1小时内实现清洗和干燥仔细观察安瓿瓶的结构，具有颈部狭长细窄的特点。这种结构特征，会导致里面的水不易流出。因为较细的瓶口会增加水的表面张力，在瓶口处形成一个张力膜，阻碍水的流出。经过简单的测试发现，几乎无法通过正常倾倒的方式使安瓿瓶里面的水出来，需要借助一定的外力才可以实现。因此，不难得出超窄径安瓿瓶的清洗和烘干难度都非常大的结论。尤其是烘干，让工程师们几近崩溃。为了保证洁净度，工程师们选择了难度最大的注射式清洗方式，问题也随之而来。喷淋管距离瓶子底部近，利于瓶子下半部分的干燥，但是颈部的水汽很难得到烘干；距离底部稍远，则呈现相反的效果。这样经过反复测试才调整到了最佳尺寸位置。如果停留在这里就太好了，但问题还远不止如此。在1小时内实现清洗和干燥，对于现有条件下的烘干效率要求是很高的。为了使瓶子里的水可以尽可能多且快速的流出来，工程师们增加了设计的“脉冲式"烘干。为了进一步提高烘干效率，增加了相应的外路烘干系统。但完成率也仅仅从70%提升到85%左右，还是远低于预期目标。问题出在了哪里呢？经过反复测试发现，随着风路系统的增加，完成率是不增反降的。不合常理必有缘故，需要进一步深挖。此时，交付期马上就要到了，工程师们已经焦虑到几近彻夜难眠的程度。这也是考验工程师耐性的关键时刻，越是在这样的时刻越要看谁能够稳得住。大胆假设，小心求证。通过一个因素一个因素的排查，最终锁定了核心因素。原来，随着风量倍增到一个临界值时，舱体内压会升高，导致空气流动受到阻碍，原有的进出气平衡被打破，里面的气流出不去，外面的气流进不来。空气流动效率下降，烘干效率自然也就随之下降了。找到问题的症结后，工程师们随即对气路进行了系统性的改造，这一困局也在交付前得以成功打破。难点三、循环水过滤精度200目药品包装生产必须符合中国《药品生产质量管理规范（2010年修订）》要求。据此，安瓿瓶专用清洗机的过滤精度需要达到200目，即有效过滤清洗水中肉眼难以分辨的微小颗粒、悬浮物等，才能保证清洗水中的残留物达到要求。水过滤网目数是指过滤网每英寸长度上的网孔数量。它是用来衡量过滤网孔径大小的一种标准。一般来说，目数越大，网孔越小，过滤精度越高，过滤出的水就越纯净，水通过滤网的效率也就越低。200目是现有设备过滤精度的2倍，这一改变同样也打破了现有水过滤系统的平衡。随着目数的增加，水流速急剧下降，清洗水无法按照需要的速度循环，导致清洗流程无法正常进行。必须提升水通过滤网的效率，才能保证水循环系统的正常运转。滤网的孔隙变小，上面的水形成表面张力，堵塞滤网下面的空气，使得下面的气压变高，导致滤网上面的水难以下去。这就像我们日常使用带有滤网的茶杯泡茶时的经历，滤网太细，水很难倒进茶杯里。下面堵塞的空气进入水泵后还会产生大量气泡形成汽蚀现象，对水泵的叶轮、叶片等部件造成不同程度的损坏，危害性也是比较大的。在密封性能较好的舱体空间内解决这一问题的难度是巨大的。容易想到的办法是增加水泵的吸力，靠增加外力的方式把水从下面吸过来，提高水流效率，但这还远远不够。此时，发挥工程师们聪明才智的时刻又到了。他们采取了反向操作，在滤网上开一个气孔。当然不是普通的气孔，既要保证清洗水中的杂质不会从滤网上漏下去，又能改善滤网下方空气的流通性。经过精心的设计，一个较好的解决方案最终被呈现了出来，这一难题又得以顺利突破。难点小结清洗机是由多系统组成的一个相对庞杂的清洗系统，通过各个系统之间环环相扣紧密配合来完成整个清洗任务。因此，改动一个点，可能涉及的是一个线或者是一个面的联动，是系统性的改进。在本项目的实际研发过程中，还有非常多的小难点，篇幅有限不能一一列举，仅以以上三个难点作为攻克典型进行简单分享，希望大家能够对于设备厂家的工作有一个更深层面的了解。也希望在大家的支持和鼓励下，我们的工程师们能够更多的发挥所长，打磨出更多的好产品，让清洗设备的服务领域更深更广，更好的贡献社会，服务社会。验收交付工厂验收经过2个月艰苦卓绝的奋战，全新开发的吸入剂安瓿瓶灌装线专用清洗机迎来了客户的实地验收。验收当天，研发负责人和所有工程师们都信心满满，像刚打了一场胜仗从战场归来的将士等待胜利的检阅一样。虽疲惫，但内心充满了喜悦，因为他们深知所有难题都已经被解决。结果毫无疑问，顺利通过了客户的工厂验收，且获得了高度评价。交付安装随后，安装工程师们抵达客户所在药厂，完成了设备的安装与调试。至此，白小白吸入剂安瓿瓶灌装线专用清洗机成功交付。白小白的研发能力得到了进一步的提升和认可。上海汉尧自去年开始成为白小白上海、浙江、江苏地区制药行业总代理商。汉尧一直专注于为中国的生物制药/食品/化工实验室行业用户提供高品质的产品和技术服务，秉持一贯的服务宗旨，践行“诚信、利他、感恩"的价值观，以客户满意度为前提，提供周到的服务，与我们的客户和合作伙伴共同成长的同时，努力为社会创造更多价值。

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于光学器件精密加工某光学器件制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于光学器件精密加工, 通过蚀刻工艺提高光学器件的聚酰亚胺薄膜的表面光洁度.Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数Φ4 inch X 12片基片尺寸Φ4 inch X 12片Φ5 inch X 10片Φ6 inch X 8片均匀性±5%硅片刻蚀率20 nm/min样品台直接冷却,水冷离子源Φ20cm 考夫曼离子源 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:离子源型号RFICP 220DischargeRFICP 射频离子束流800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力中和器LFN 2000 采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 可以使 PV、RMS分别为1.347μm和340nm的粗糙表面, 通过蚀刻其粗糙度可降低至75nm和13nm PV、RMS分别为61nm和8nm的表面, 其粗糙度可降低至9nm和1nm. 该刻蚀工艺能有效提高光学器件聚酰亚胺薄膜的表面光洁度. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究！

吸入剂安瓿瓶灌装线专用清洗机成功交付记实验室清洗机顾名思义，一般是用于实验室器皿的清洗，可以被广泛应用于制药、食品、化妆品、高校、科研等实验室领域。用于药品罐装生产线是比较罕见的，用于安瓿瓶的罐装生产就更是难上加难。近期，白小白就完成了这个看似不太可能的应用交付。药品安全是涉及民生的大事，关乎用药人的生命安危。国家对药品的生产有着严格的管理规范和要求，以确保药品的质量和安全。因此，药品罐装生产线对罐装容器清洗也有着严格的要求。同时，安瓿瓶本身的特点也给这款专用清洗设备的研发带来了诸多困难。客户需求口服液体制剂车间生产亚硝酸异戊酯吸入剂品种，新增一台安瓿瓶洗烘一体机，需要对1ml的安瓿瓶进行清洗、烘干。罐装车间工艺流程（仅供参考）法规标准要求设备用于药品的包装生产，因此必须符合相关标准/要求：中国《药品生产质量管理规范（2010年修订）》、TJ36-79工业企业设计卫生标准、GB-52261-2002 机械安全机械电气设备第一部分：通用技术条件、GB-8196-87 机械设计防护罩安全要求、GB-12265-90 机械防护安全要求。工艺性能要求能够满足直径Ø 10mm，瓶口内径Ø 4mm，高度60mm的1ml安瓿瓶的洗烘；能够满足三班连续生产要求，设备洗烘能力≥1300瓶/柜；每柜的流程不大于1小时；洗烘瓶完好合格率应＞99.9%；设备放置在洁净区（D级区）灌装间，上瓶方式：整盘人工上瓶。连续运转要求应具备长时间持续运行能力，且设备运转稳定。机械要求（部分）设备与产品/药瓶接触部件材质为316L不锈钢，软连接/垫片等部件应采用硅胶、PTFE/EPDM等符合GMP要求的材料。其余部分采用符合GMP要求的其它材料（不锈钢至少为304）制成，并提供相关材质证明。设备内壁为镜面抛光，Ra＜0.65μm，焊接部分应有焊接相关证明材料/记录。所有附件设计及制作应符合GMP环境要求，无污染，无生锈，表面易清理。项目难点与实现在综合考虑GMP法规符合性、总成本、交付周期以及各项技术指标要求等主要因素后，白小白研发团队决定在现有制药实验室清洗机BS580D基础上进行客户所需安瓿瓶灌装线专用清洗机的专项开发。这样既可以在最短的时间内实现交付，也可以为客户节约经济成本，是最佳的选择。BS580D外观图白小白BS系列实验室清洗机经过国际公认的测试、检验和认证机构SGS的合格性检测，通过IEC60068运行稳定性测试标准检验，完全具备长时间持续稳定运行能力。BS580D是针对制药行业定向研发的实验室清洗机，所有设计均以满足GMP的合规性要求为前提。腔体采用316L镜面不锈钢，表面粗糙度Ra＜0.2μm，采用激光焊接工艺，平整度和粗糙度可通过无线探伤仪器进行拍照检验，管路材质达到医用级和食品级，均有认证证书；内置审计追踪、权限管理、数据统计的合规性模块完全符合FDA法规21CFRpart11的条款要求。现有机型的上述软硬件配置为本次实现GMP要求下的安瓿瓶罐装线清洗机的研发打下了坚实基础，主要攻克对象便落在了工艺性能方面的要求满足上。清洗对象为1ml安瓿瓶，内径最小处仅为4mm，且靠近瓶口位置，清洗容量不低于1300个，在1小时内实现清洗和完全干燥，合格率＞99.9%。看似简单的几个数字，却在实践过程中给开发工程师们带来了极大的困难与挑战。难点一、1728个安瓿瓶清洗篮架设计现有机型针对的是实验室的应用场景，没有清洗安瓿瓶的专用篮架，需要进行全新的设计与开发。根据现有舱体的空间容量，经过工程师的测算可以实现一次最多清洗1728个安瓿瓶的结构设计，远大于客户要求的1300个。这个结果无疑是令人振奋的，但数量越多需要打破的现有平衡也就越多，意味着开发难度越大。现有设备的配套能力能够实现的是400余个安瓿瓶的清洗烘干，要增加到1728个，无疑是小马拉大车，系统性改进的难度可想而知。经过认知思索，研发部门决定接受这个高难度的挑战，这样可以最大化地为客户提高清洗效率，这也是工程师们非常希望看到的结果。大方向确认后，经验丰富的工程师们很快就设计出了第一版安瓿瓶清洗篮架，并迅速进行了开模与加工。但是在上机测试完成后，大家却完全没有了最初的兴奋。清洗效果与实际要求差距太大，完全超出了预期设想。这该怎么办呢？工期本就很紧张，工程师们的压力一下子就上来了。经过反复的研究、探讨，终于发现了问题的症结所在。实验室清洗机清洗孔位总量通常不会超过600个，现有设备BS580D最大清洗量是400+。同时清洗1728个安瓿瓶，与其对应的是匹配1728个喷淋管和出水孔位。放眼整个行业也很难找到先例，遇到的困难自然也是前所未有。同等舱体容积前提条件下倍增量级增加的孔位数，造成的是滞空率的极大提升。滞空率越高，表示流体在流动过程中受到的阻力越大，清洗用水在喷淋过程中的流动越困难。这直接导致了流体匹配的失衡，严重打破了现有清洗水用量的平衡，需要对水路系统进行整体性的设计调整（因系统性改造过于复杂，本文略，下同），可谓牵一发动全身。从篮架设计的角度，受安瓿瓶内径尺寸4mm的限制，喷淋管内径尺寸基本固定，几乎没有可调整空间。工程师们遂将设计重点放在了对篮架底部储水箱体结构的调整上，主要是箱体的容量以及结构形态，经过一次次的测算和调整，最终找到了新的平衡，解决了滞空率大幅增加带来的喷淋失衡问题。其中非常值得一提的是，工程师们打破惯有思维，采用了斜面式的形态设计，最终成为了取得成功的关键因素。难点二、1小时内实现清洗和完全干燥仔细观察安瓿瓶的结构，具有颈部狭长细窄的特点。这种结构特征，会导致里面的水不易流出。因为较细的瓶口会增加水的表面张力，在瓶口处形成一个张力膜，阻碍水的流出。经过简单的测试发现，几乎无法通过正常倾倒的方式使安瓿瓶里面的水出来，需要借助一定的外力才可以实现。因此，不难得出超窄径安瓿瓶的清洗和烘干难度都非常大的结论。尤其是烘干，让工程师们几近崩溃。为了保证洁净度，工程师们选择了难度最大的注射式清洗方式，问题也随之而来。喷淋管距离瓶子底部近，利于瓶子下半部分的干燥，但是颈部的水汽很难得到完全烘干；距离底部稍远，则呈现相反的效果。这样经过反复测试才调整到了最佳尺寸位置。如果停留在这里就太好了，但问题还远不止如此。在1小时内实现清洗和完全干燥，对于现有条件下的烘干效率要求是极高的。为了使瓶子里的水可以尽可能多且快速的流出来，工程们增加了独创的“脉冲式”烘干。为了进一步提高烘干效率，增加了相应的外路烘干系统。但完成率也仅仅从70%提升到85%左右，还是远低于预期目标。问题出在了哪里呢？经过反复测试发现，随着风路系统的增加，完成率是不增反降的。不合常理必有缘故，需要进一步深挖。此时，交付期马上就要到了，工程师们已经焦虑到几近彻夜难眠的程度。这也是考验工程师耐性的关键时刻，越是在这样的时刻越要看谁能够稳得住。大胆假设，小心求证。通过一个因素一个因素的排查，最终锁定了核心因素。原来，随着风量倍增到一个临界值时，舱体内压会极具升高，导致空气流动受到阻碍，原有的进出气平衡被打破，里面的气流出不去，外面的气流进不来。空气流动效率下降，烘干效率自然也就随之下降了。找到问题的症结后，工程师们随即对气路进行了系统性的改造，这一困局也在交付前得以成功打破。难点三、循环水过滤精度200目药品包装生产必须符合中国《药品生产质量管理规范（2010年修订）》要求。据此，安瓿瓶专用清洗机的过滤精度需要达到200目，即有效过滤清洗水中肉眼难以分辨的微小颗粒、悬浮物等，才能保证清洗水中的残留物达到要求。水过滤网目数是指过滤网每英寸长度上的网孔数量。它是用来衡量过滤网孔径大小的一种标准。一般来说，目数越大，网孔越小，过滤精度越高，过滤出的水就越纯净，水通过滤网的效率也就越低。200目是现有设备过滤精度的2倍，这一改变同样也打破了现有水过滤系统的平衡。随着目数的增加，水流速急剧下降，清洗水无法按照需要的速度循环，导致清洗流程无法正常进行。必须提升水通过滤网的效率，才能保证水循环系统的正常运转。滤网的孔隙变小，上面的水形成表面张力，堵塞滤网下面的空气，使得下面的气压变高，导致滤网上面的水难以下去。这就像我们日常使用带有滤网的茶杯泡茶时的经历，滤网太细，水很难倒进茶杯里。下面堵塞的空气进入水泵后还会产生大量气泡形成汽蚀现象，对水泵的叶轮、叶片等部件造成不同程度的损坏，危害性也是比较大的。在密封性能卓越的舱体空间内解决这一问题的难度是巨大的。容易想到的办法是增加水泵的吸力，靠增加外力的方式把水从下面吸过来，提高水流效率，但这还远远不够。此时，发挥工程师们聪明才智的时刻又到了。他们采取了反向操作，在滤网上开一个气孔。当然不是普通的气孔，既要保证清洗水中的杂质不会从滤网上漏下去，又能改善滤网下方空气的流通性。经过精心的设计，一个完美的解决方案最终被呈现了出来，这一难题又得以顺利突破。难点小结清洗机是由多系统组成的一个相对庞杂的清洗系统，通过各个系统之间环环相扣紧密配合来完成整个清洗任务。因此，改动一个点，可能涉及的是一个线或者是一个面的联动，是系统性的改进。在本项目的实际研发过程中，还有非常多的小难点，篇幅有限不能一一列举，仅以以上三个难点作为攻克典型进行简单分享，希望大家能够对于设备厂家的工作有一个更深层面的了解。也希望在大家的支持和鼓励下，我们的工程师们能够更多的发挥所长，打磨出更多的好产品，让清洗设备的服务领域更深更广，更好的贡献社会，服务社会。验收交付工厂验收经过2个月艰苦卓绝的奋战，全新开发的吸入剂安瓿瓶灌装线专用清洗机迎来了客户的实地验收。验收当天，研发负责人和所有工程师们都信心满满，像刚打了一场胜仗从战场归来的将士等待胜利的检阅一样。虽疲惫，但内心充满了喜悦，因为他们深知所有难题都已经被解决。结果毫无疑问，顺利通过了客户的工厂验收，且获得了高度评价。交付安装随后，安装工程师们抵达客户所在药厂，完成了设备的安装与调试。至此，白小白吸入剂安瓿瓶灌装线专用清洗机成功交付。白小白的研发能力得到了进一步的提升和认可。

天眼查显示，江苏亚电科技股份有限公司近日取得一项名为“一种卧式晶圆清洗设备”的专利，授权公告号为CN117912992B，授权公告日为2024年7月23日，申请日为2023年12月13日。背景技术晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主。在相关领域的现有技术中，一般晶圆在加工中后需要对其表面的胶质和杂质进行清洗，以便后续进行切割以及后加工，目前的现有方案中经常采用湿式喷淋清洗，则在清洗后偶尔会发生清洗液残留的现象，则需要增加工序对清洗液残留进行处理，费时费力，且在一些超声波高频震动的设备中，还会发生晶圆损坏的情况。发明内容本发明公开了一种卧式晶圆清洗设备，包括用于对晶圆进行清洗的喷洗机构和用于配合喷洗机构对晶圆进行摆动的固定机构，喷洗机构安装在密封机构的密封盖上，喷洗机构下侧对应固定机构，晶圆固定在固定机构内部，喷洗机构外部连接密封机构。本发明利用二氧化碳的气液混合物对晶圆进行清洗，避免利用常规液体清洗时发生粘结，增加后续处理工序，采用摆动结构配合清洗，避免高频震动的参与，造成意外损坏。

丰收的锣鼓，敲响崭新的岁月；绽放的寒梅，书写坚韧的华章。2022年365个难忘的日子从人们的指缝间，悄然溜走。从年初的“炫砂糖橘”开启虎年大运，再到年尾世界杯的热情溢满屏幕，这一年，有许多值得铭记和回顾的时刻。让我们一起回首，盘点益世科生物的年度热词。 硬核 硬核原形容说唱音乐有力量感或游戏有难度，引申后常被人们用来形容一件事物“很厉害”“很彪悍”“很刚硬”。2022年，益世科生物就有这么几项“硬核”事件。 01 益世科生物完成收购 Evidence Solution02 益世科药机中国子公司正式成立03 荷兰细胞培养肉开发商Meatable宣布与Esco Aster合作，共创新发展盘它 2022这一年，益世科生物携TEPAT 电动移液器、Lexicon 超低温冰箱和ELGW 全自动器皿清洗机等新产品精彩亮相，满足客户更多需求，为使用者提供安全、洁净的工作环境，对此小编只想说：此等好物，给我盘它！冲鸭 今年受到疫情的影响，展会不断延期或取消，但是经过大家的不懈努力，EBC、IGC、BioCon Expo如约召开，益世科生物克服重重困难，以更饱满的激情和热忱向大家展示我们优质的产品和专业的服务，让更多业内同胞了解到我们在生命科学领域提供的解决方案，冲鸭！ 8.25-27EBC 2022第七届易贸生物产业大会8.30-31IGC 2022第六届免疫基因及细胞治疗大会9.6-8BioCon Expo 2022第九届国际生物药大会暨展览会守护 以前大家见面，都是友好问候一句：你吃了吗？现在大家见面，间隔2米，手持酒精喷雾，朝对面喊道：今天的你阴着吗？作为抗疫大军的一份子，益世科生物将生命科学设备及时地送到各个抗疫单位，致力给大家安全的保障，做好大家的守护者！在这里也衷心地祝愿大家都是“郭襄”，从来没阳过。明天 2022年已经进入尾声，在即将告别的日子里，我们见证了3年全民抗疫的谢幕，所有好坏，都将画上休止符了。回首过往，我们更憧憬明天，踌躇满志，我们已登上新征程。崭新的2023年，正在前方等着我们去迎接它，让我们都勇敢而坚韧地去拥抱2023吧，益世科生物将一如既往地陪伴大家！愿疫情过后，人长久，无灾无难，岁岁平安！

《Deutsche Standards 2010》（译：德意志楷模2010）现将德国Elma列为&ldquo 市场*&rdquo 重要一员。德意志经济与技术部秘书长Rainer Brü derle说，《德意志楷模2010》里面列举的这些*企业正是应当获得&ldquo 市场*&rdquo 的荣誉。作为德国经济的内在动力，&ldquo 市场*&rdquo 通过不断的研发创造、明确的市场导向和*的企业员工给德国的经济发展注入了了内在核心和发动机。Rainer Brü derle非常感谢这些&ldquo 市场*&rdquo 在经济危机的严峻形势下，依然保持了旺盛的发展力，并推动了德国经济的持续快速增长。 德国Elma从1947年成立之初就始终致力于超声波清洗工业的创新。公司不断投入的研发都是为了向客户提供*的超声波清洗解决方案而努力。Elma超声波清洗器以卓越的清洗、脱气、萃取等性能，和专业的降噪能力，体现着ELMA公司专业生产清洗设备的实力。 具体以例为证，Elma拥有的*Sweep微变频率技术就是为绝对均匀分布超声波而发明，以完全消除清洗盲点。它使达到更加卓越的清洗效果成为可能，并*化保护被清洗物品不受损害。目前Sweep技术、degas脱气技术，甚至Elma产品的外形尺寸都是业界热衷效仿的对象，但是绝对的研发提供绝对的品质，也只有Elma成为世界上*超声波清洗设备当之无愧。&ldquo *创新型企业奖&rdquo （Elma, 2009）可以从一个侧面反映Elma产品的绝对*。 德祥作为Elma产品在中国的独家总代理，为您提供全面的产品支持和服务。 德祥网站：http://www.tegent.com.cn 联系方式：021-52610159/52610099 传真：021-52610122 电子邮箱： alan_yang@tegent.com.cn 联系地址：上海市静安区北京西路1068号银发大厦18楼 欢迎随时来电来信咨询！ 更多产品请登陆德祥官网：www.tegent.com.cn德祥热线：4008 822 822 邮箱：info@tegent.com.cn

作为半导体制造与先进封装领域领先的晶圆工艺解决方案供应商盛美半导体设备(ACM)宣布，已收到全球主要半导体制造商的Ultra C SAPS前道清洗设备的DEMO订单。预计该设备将于 2022 年一季度在客户位于中国地区的工厂进行安装调试。“这个订单表明盛美有很大机会赢得该全球性半导体公司在华工厂的信任，”盛美半导体设备董事长王晖博士表示，“这家制造商选择评估盛美的 SAPS 技术，旨在提升其研发能力和生产工艺能力。我们相信，这台设备成功通过评估后，我们与这家客户以及该区域内的其他主要客户会有更多的业务与合作机会。”盛美的专利空间交变相位移 (SAPS™ )晶圆清洗技术，运用了兆声波的交替相位变化以控制兆声波发生器与晶圆之间的间距。与先前的兆声波晶圆清洗系统所采用的固定式兆声波发生器不同，SAPS 技术在晶圆旋转时会往复移动，因而即使晶圆有翘曲，所有点接收到的兆声波能量也是均匀的。SAPS 工艺的清洗效率比传统兆声波清洗工艺高，不会造成额外的材料损耗，也不会影响晶圆表面粗糙度。该设备兼容了无损兆声波清洗功能，对结构性图形清洗表现更好。现已证明，对19纳米及以下的小颗粒均有显著清洗效果。

2013年9月30日，Emerson公司（纽约证券交易所代码: EMR）所属业务品牌艾默生工业自动化子公司 - BransonUltrasonics（以下简称必能信）在中国正式发布全新一代Bransonic系列台式超声波清洗机，并分别于上海、北京、广州等地举办了新品发布及技术研讨会。 作为世界超声波清洗技术的领导者，必能信于1953 年首创发明了全球第一台超声波清洗机，并持续引领全球精密清洗技术与应用60多年。如今必能信台式超声波清洗机已经成为高质量、可靠性和精密处理的行业标准。此次必能信推出的新一代Bransonic系列超声波清洗机融合了多项创新的业界领先技术： 全新的数字化控制面板设计：其位于清洗槽上方，具有更高的防水能力并提高了操作安全性。同时全新Bransonic系列是业界唯一可完全编程控制的清洗机，一旦编辑好所需程序，只需一键便可完成相应操作。这不仅有利于减少人为操作失误，而且如此简单的操作，也让客户省时、省钱、省心。 创新的自适应技术：通过优化的电路设计，可对超声波功率进行跟踪并主动监控清洗机的负载以判断清洗机槽体内物件的增减。通过系统监测到的细微变化，功率跟踪电路技术会迅速自动调节操作频率至最佳水平。用户要做的就是根据需要调节时间和温度，此技术确保了用户每一批的清洗流程都能获得一致的优质效果。 无盲区技术（No Blind Zone）：基于必能信独有的扫频技术可以消除超声波的驻波并产生特有的球面波，使清洗无盲区，获得最佳清洗效果。 业内独家应用了高达40 KHz 的工业振子，提供了更高的能量输出并获得更优清洗效果。同时，必能信针对Bransonic系列产品启用了全新的全球网站www.bransonic.com，以方便用户更及时快捷的了解产品信息和相关动态。 Bransonic系列超声波清洗机可广泛应用于商业与消费电子、珠宝、光学、医疗、科研实验室与生化等行业应用，满足中国用户对可靠性、易用性和高效率等方面的高要求。凭借产品优异的性能，领先的本地化应用解决方案和完善的服务网络，必能信Bransonic系列超声波清洗机必将为中国市场用户带来全新的完美体验！ 关于必能信 (Branson Ultrasonics Corporation)必能信超声波是美国艾默生工业自动化所属子公司，创立于1946年，至今有60多年历史，是全球材料焊接和精密清洗行业的领导者。公司主要提供各类超声波清洗、超声波焊接、振动摩擦焊接、热板焊接、激光焊接、旋转焊接、超声波金属焊接方案和超声波细胞破碎方案。公司在全球范围内拥有70多个销售网点和近2000名员工，并在美国、加拿大、墨西哥、德国、斯洛伐克、中国、中国香港、日本以及韩国设立有研发和生产基地。成立于1993的必能信超声（上海）有限公司是必能信在亚洲最大的生产和销售配套服务基地，也是国内最大的综合性超声设备生产和技术开发企业。我们承诺为客户的切实需求提供解决方案，并与客户分享最先进的产品和工艺技术。我们全球化的营销组织确保了为全世界的客户提供各方面资源和服务。了解更多详细信息，请浏览www.bransonultrasonics.com或www.branson.com.cn。 关于艾默生工业自动化 (Emerson Industrial Automation)艾默生工业自动化是 Emerson 公司所属业务品牌，是为众多行业的客户提供具有生产力，高效及优质的全球技术提供商，产品包括发电机，马达及驱动设备，电力传输设备及机械动力传动设备、流体自动化及超声波连接解决方案等。其品牌主要包括Appleton, 世格流体，必能信超声波，Browning,艾默生CT, Kop-Flex, 利莱森玛，McGill，Morse，Numatics, O-Z/Gedney， Rollway，SealMaster以及 System Plast。更多详情，请浏览www.EmersonIndustrial.com。

盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”），作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的卓越供应商，于7月30日推出适用于扇出型面板级封装应用的Ultra C vac-p负压清洗设备，该设备利用负压技术去除芯片结构中的助焊剂残留物，显著提高了清洗效率。标志着盛美上海成功进军高增长的扇出型面板级封装市场。盛美上海宣布一家中国大型半导体制造商已订购Ultra C vac-p面板级负压清洗设备，设备已于7月运抵客户工厂。 据Yole预测，扇出型面板级封装方法的应用增长速度高于扇出市场整体增长速度，其市场份额相较于扇出型晶圆级封装而言将从2022年的2%上升至2028年的8%。预计增长背后的主要动力是成本的降低，传统硅晶圆的使用率低于85%，而面板的使用率高于95%，600x600毫米面板的有效面积是300毫米传统硅晶圆有效面积的5.7倍，面板总体成本预计可降低66%。1 面积利用率的提高带来了更高的产能、更大的AI芯片设计灵活性以及显著的成本降低。 盛美上海董事长王晖博士表示：“在人工智能、数据中心和自动驾驶汽车的推动下，新兴的扇出型面板级封装方法能够提高计算能力、减少延迟并增加带宽。此方法正在迅速成为关键解决方案，它将多个芯片、无源器件和互连集成在面板上的单个封装内，可提供更高的灵活性、可扩展性以及成本效益。面板级负压清洗设备标志着盛美上海在解决下一代先进封装技术的清洗挑战方面迈出重要一步，彰显了半导体制造领域的持续创新，兑现了盛美上海始终致力于满足不断演变的行业需求的坚定承诺。”关于Ultra C vac-p面板级负压清洗设备在底部填充之前清除助焊剂残留物是先进封装流程中消除底部填充空隙的关键步骤。由于表面张力和有限的液体渗透力，传统清洗方法在处理小凸起间距（小于40微米）和大尺寸芯片时比较困难。负压清洗可使清洗液到达狭窄的缝隙，从而有效解决这一问题。此外，由于液体经过距离较长，因此传统方法可能无法满足较大芯片单元的清洗需求。采用负压清洗功能设备后，整个芯片单元甚至是中心部位均可得到彻底清洗，有效避免残留物影响器件性能。Ultra C vac-p面板级负压清洗设备专为面板而设计，该面板材料可以是有机材料或者玻璃材料。该设备可处理510x515毫米和600x600毫米的面板以及高达7毫米的面板翘曲。

据物理学家组织网近日报道，美国斯坦福大学的科学家开发出一种荧光成像技术，能够使活体动物血管脉动以前所未有的清晰度呈现。与传统的影像技术相比，其增加的清晰度类似于擦拭掉眼镜前的迷雾一般。该研究结果发表在最新一期的《自然医学》杂志在线版上。 　　该技术被称为近红外-Ⅱ成像，或NIR-Ⅱ。研究人员首先将水溶性碳纳米管注射到活体的血液中，然后用激光照射要观察的对象，如小白鼠。激光的波长在近红外范围内，约为0.8微米，可导致专门设计的碳纳米管发出1微米至1.4微米的波长更长的荧光，用于检测确定血管的结构。 　　碳纳米管发出的荧光波长要比传统成像技术更长，这是实现令人惊叹的微小血管清晰图像的关键。由于更长波长光散射较少，因此形成了更清晰的血管图像。此外，这种技术使图像呈现更精致的细节，允许研究人员能够获得一个快速的图像采集速度，近乎实时地测量血流量。 　　同时获得血流信息和看到清晰血管对于动脉疾病动物模型的研究将特别有用，如血流是如何受到动脉阻塞和收缩诱发的影响，还有其他事项如中风和心脏病发作的影响。 　　研究人员说：“对于医学研究而言，这是一个非常好的观察小动物特征的工具。其将有助于我们更好地理解一些血管疾病，以及其对于治疗的反应和如何可以设计出更好的治疗。” 　　由于NIR-Ⅱ至多只能穿透身体1厘米，所以它不会取代其他成像技术，而是X射线、CT、MRI和激光多普勒技术的补充。不过，它却是一个用于研究动物模型的强大方法。 　　研究人员说，下一步将使这项技术在人体内更容易接受应用，并探索可替代的荧光分子。他们希望找到小于碳纳米管又能够发出同样波长光的物质，以便使其可以很容易地从体内排出，消除任何毒性的担忧。

在实验室日常运作中，液相小瓶的清洗工作不仅繁琐而且至关重要。正确的清洗流程能够确保实验结果的准确性和可靠性。爱涤生洗瓶机作为全自动洗瓶设备的佼佼者，专为提升实验室清洗效率和质量而设计。本文将详细介绍爱涤生洗瓶机如何优化液相小瓶的清洗过程。爱涤生洗瓶机的核心优势：高效清洗能力：爱涤生洗瓶机采用先进的喷淋技术和循环泵系统，能够对液相小瓶进行360度无死角的清洗，确保彻底去除残留物。智能操作界面：10寸大屏幕，用户友好的操作界面使得设定清洗程序变得简单快捷，即使是初次使用者也能轻松上手。定制清洗方案：根据不同的实验需求和瓶子的种类大小型，爱涤生洗瓶机提供多种清洗方案，用户可以根据实际情况进行选择或自定义。节能环保：采用节能设计，减少水和清洗剂的使用量，降低实验室的运行成本，同时符合环保标准。安全可靠：爱涤生洗瓶机配备多重安全保护措施，如漏液保护、过热保护等，确保设备和操作人员的安全。清洗液相小瓶的步骤：预清洗：首先对液相小瓶进行预处理，去除大颗粒杂质和明显的污染物。装载：将预处理后的液相小瓶按照正确的方式放置到洗瓶机的篮架中。选择程序：根据瓶型的材质和污染程度，选择合适的清洗程序。启动清洗：启动爱涤生洗瓶机，设备将自动完成预洗、主洗、漂洗和干燥等步骤。后处理：清洗烘干完成后，取出干燥的液相小瓶，准备进行后续实验操作。客户见证与案例分享： 分享几个使用爱涤生洗瓶机的实验室案例，展示它们如何通过使用爱涤生洗瓶机提高了工作效率，改善了清洗质量，以及客户对设备的正面反馈。结语： 爱涤生洗瓶机不仅提升了实验室清洗液相小瓶的效率和质量，还为实验室工作人员提供了一个更加安全、便捷的工作环境。选择爱涤生洗瓶机，让实验室的清洗工作变得更加轻松和高效。

产品型号：B-5510E-MT，数量：3台，售完为止。促销原因：因机器属于展会样品，存放时间较长。 上海恒奇仪器仪表有限公司促销价：￥8340.00所有机器均是展会样机，在参展运输过程中外包装有所破损，机器可正常使用，促销套装包括：主机、盖。 B-5510E-MT超声波清洗机产品的规格参数：本型号属于机械定时、无加热功能。清洗槽容积9.46 L频率40KHz清洗槽尺寸(mm)292×241×152外形尺寸（mm）406×394×368重量6.4kg快速排水接口有产品图片：美国Branson公司简介： 美国必能信(BRANSON)是美国艾默生电气集团所属子公司，创立于1946年，至今有60多年历史。公司主要生产各类超声波清洗设备、超声波焊接设备、超声波金属焊接设备和超声波细胞粉碎设备等超声波仪器设备。公司在全球范围内拥有70多个销售网点和近2000名员工，并在美国、加拿大、墨西哥、德国、斯洛伐克、中国、中国香港、日本以及韩国设立有研发和生产基地。上海恒奇仪器仪表有限公司简介：上海恒奇仪器仪表有限公司是一家实验室产品集成商，专业从事进口实验室仪器，试剂，耗材和环保水质测试仪器销售服务。作为美国Branson超声波清洗机和细胞破碎仪的华东区总代理，恒奇公司连续多年成为Branson公司销售额最大的合作商。联系方式冯惠然 13916314945上海恒奇仪器仪表有限公司上海市长宁区金钟路658弄1号楼甲4层TEL：021-51693889FAX：021-61304216

日前，由“国产科学仪器腾飞行动”项目组联合仪品汇举办的大规模“好仪器”免费试用活动正在如火如荼地进行中，当前正处于试用用户审核阶段。　　自11月1日仪品汇官网开通用户申请报名渠道，到11月11日报名截止，共收到来自全国各地用户的338份试用申请。“好仪器”免费试用得到了广大用户的关注与认可。　　据项目组统计，此次报名参与“好仪器”免费试用活动的用户主要以生产型企业和商业检测机构为主，高校、科研院所和政府检测机构中也有不少用户申请了本次试用活动，试用用户单位分布十分广泛。　　在所提供的八类前处理设备中，清洗/消毒设备当仁不让地成为了用户热抢的“香饽饽”，申请试用的用户人数遥遥领先。此外，纯化设备、天平、粉碎设备以及液体处理设备等也受到了众多用户的“追捧”，纷纷呈现出供不应求的状态。　　本次参与免费试用活动的仪器均为入选第二届“国产好仪器”产品，由12家国产科学仪器厂商倾情提供，共计14款产品型号，67台仪器，总价值267万元。如下所示：序号单位名称试用仪器类型试用仪器名称1昆山市超声仪器有限公司清洗/消毒设备KQ-250DE 数控超声波清洗器2上海舜宇恒平科学仪器有限公司天平、电子天平、分析天平AE224触摸式彩屏电子分析天平3济南盛泰电子科技有限公司纯化设备盛泰STEHDB-106蒸馏仪4天津语瓶仪器技术有限公司清洗/消毒设备Q720实验室洗瓶机5天津语瓶仪器技术有限公司清洗/消毒设备Acide1000自动酸逆流清洗仪6郑州克莱克特科学仪器有限公司自动进样器（多功能）克莱克特AS-2912自动进样器7上海伍丰科学仪器有限公司自动进样器（多功能）伍丰Arcus 5自动进样器8北京鼎昊源科技有限公司粉碎设备TL2010S中通量组织研磨仪9天津市恒奥科技发展有限公司混合/分散设备恒奥HBM-400B拍击式均质器10北京同信天博科技发展有限公司液体处理设备同信天博ALSP-01自动液体样品处理平台11上海思达分析仪器有限责任公司顶空进样器思达HS-16A全自动顶空进样器12上海和泰仪器有限公司纯化设备Master-Q去离子纯水机13北京格瑞德曼仪器设备有限公司粉碎设备臼式研磨仪MG10014北京格瑞德曼仪器设备有限公司粉碎设备行星式球磨仪BM4 由于提供免费试用的仪器台数有限，项目组根据申请先后顺序、用户试用意愿以及就近原则等筛选出部分典型用户进行仪器试用，共计50余家用户单位获得本次免费试用名额。 当前，仪器企业和试用用户的对接正在紧张的筹划安排中。对接成功后，各大仪器厂商将如期为试用用户发放心仪的“好仪器”，供用户免费体验。　　“好仪器”免费试用活动本着“用户说好才是真的好”的原则，让“国产好仪器”接受广大用户的实际使用检验，以国产科学仪器良好用户口碑来树立“国产好仪器”的品牌形象。更多活动信息，请随时关注“国产好仪器专题网站”和仪品汇活动页面。 活动详情请查看：重磅：第二届“国产好仪器”免费试用活动即将启动 国产科学仪器腾飞行动介绍　　“国产科学仪器腾飞行动”由中国仪器仪表行业协会为指导，仪器信息网主办，中国仪器仪表学会、北京科学仪器装备协作服务中心、全国实验室仪器及设备标准化技术委员会单位支持，我要测、仪品汇网协办。腾飞行动旨在扭转用户对国产科学仪器的偏见，筛选和扶持一批优秀的科学仪器产品和企业，解决用户对国产科学仪器选购难的问题 组织优秀的国产科学仪器产品进行大规模的国内外用户推广及海外拓展，在用户中，树立优秀的科学仪器企业品牌形象 与政府采购单位及高端实验室等开展多方合作，促进国产科学仪器与用户单位深入合作，向政府建言献策等，从而帮助国产厂商找到和解决问题所在，提升市场占有率。　　第二届国产好仪器项目介绍　　第二届国产好仪器项目作为腾飞行动的核心子项目，坚持“自愿”、“免费”的方式，征集企业参与国产好仪器筛选全流程 并增添“用户推荐”的新渠道，最广泛地征集潜在优秀的国产样品前处理设备代表。国产好仪器坚持以“用户说好才是真的好”为宗旨，收集大量用户对每一台仪器长时间使用后的真实体验，用户从5个维度“需求满足度、质量满意度、推荐意愿度、仪器性价比、售后服务满意度”对其所使用的仪器进行综合评价，从而筛选出优秀的国产样品前处理设备代表。首届“国产好仪器(2013-2014)”持续近2年，吸引近200万次的用户关心和支持，从8000多份调研问卷中甄别出近3000位入围仪器用户的使用体验和反馈，最终筛选出70台优秀国产科学仪器代表。

h3 style=" text-indent: 2em " 产业链——应用单一构造复杂 /h3 p style=" text-indent: 2em " 一般来说，为保证半导体芯片的品质和高可靠性，在封装前需要引入清洗工序，半导体的清洗也是半导体生产环节中十分重要的一环。 /p p 半导体清洗需要通过半导体清洗设备来实现，一般半导体清洗设备由气路系统、管路系统、控制系统、照明系统等组成，其也主要应用于半导体的生产。 /p p img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-bfe5c8da5baa21fb.png" / /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-f7b5a8d45c2c2201.png" / /p h3 style=" text-indent: 2em " 产业政策——围绕半导体设备开展 /h3 p style=" text-indent: 2em " 我国对于半导体清洗设备的相关政策基本上围绕促进半导体设备技术发展与应用开展。如《中国制造2025》提出要形成集成电路专业制造设备的供货能力 《我国集成电路产业“十三五”发展规划建议》规划到2020年，我国半导体关键装备要进入国际采购体系等。 /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-3890fe3b65891396.png" / /p h3 style=" text-indent: 2em " 技术工艺——主要分为湿法和干法 /h3 p style=" text-indent: 2em " 半导体清洗工艺主要分为湿法和干法。其中湿法包括溶液浸泡法、机械刷洗法等，干法则包括等离子清洗、气相清洗等。根据半导体清洗工艺与适用场景的不同，半导体清洗设备也发展出了许多不同的种类，如单晶圆清洗设备、超声波清洗设备等等。 /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-44cff3070dd9586a.png" / /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-65526584d6553dd6.png" / /p h3 style=" text-indent: 2em " 企业竞争——迪恩士独占鳌头 /h3 p style=" text-indent: 2em " 全球半导体清洗设备行业的龙头企业主要是迪恩士(Dainippon Screen)、东京电子(TEL)、韩国SEMES、泛林半导体等等。其中，迪恩士占据了全球半导体清洗设备45.1%的市场份额，东京电子、SEMES和泛林半导体分别占据约25.3%、14.8%和12.5%。 /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-241ba3b84b410e6c.png" / /p h3 style=" text-indent: 2em " 市场容量——市场容量不断增长 /h3 p style=" text-indent: 2em " 据SEMI数据披露，2015-2019年全球半导体清洗设备市场容量不断增长。2019年，全球半导体设备市场容量约为32.8亿美元，较2018年增长了5.81%。预计到2020年，全球半导体设备市场容量将达到36亿美元。 /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-0652d8facca469a2.png" / /p h3 style=" text-indent: 2em " 国产化分析——国产化率不断提升 /h3 p style=" text-indent: 2em " span style=" text-indent: 2em " 近年来，我国半导体清洗设备产业迅速发展，国产化率不断提升。从2019年中国半导体清洗设备招标采购份额来看，我国半导体清洗设备的国产化率已经超过了20%。这个数值远远超过了其他大部分半导体设备的国产化率。 /span /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-c023e618d36c36ef.png" / /p p style=" text-indent: 2em " 与此同时，我国半导体清洗设备产业也涌现出了一批优秀的龙头企业，如盛美半导体、北方华创、沈阳芯源等等，其中盛美半导体的半导体清洗设备制造技术最为靠前，其所占市场份额也远超其他国内企业。 /p p style=" text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-b2493ac6dc065bfe.png" / img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img3.qianzhan.com/news/202008/19/20200819-38c011d5d49e20ba.png" / /p p style=" text-indent: 2em " 以上数据来源于前瞻产业研究院《中国半导体产业战略规划和企业战略咨询报告》，同时前瞻产业研究院提供产业大数据、产业规划、产业申报、产业园区规划、产业招商引资等解决方案。 /p

揭示生物学样本和材料样本原本无法观察到的内部结构冷冻断裂是一种将冰冻样本劈裂以露出其内部结构的技术。冷冻蚀刻是指让样本表面的冰在真空中升华，以便露出原本无法观察到的断裂面细节。金属/碳复合镀膜能够实现样本在SEM（块面）或TEM（复型）中的成像，主要用于研究如细胞器、细胞膜，细胞层和乳胶。这项技术传统上用于生物学应用，但现在逐渐在物理学和材料科学中展现出重要意义。近年来，研究人员通过冷冻断裂电子显微镜，尤其是冷冻复型免疫标记（FRIL），对膜蛋白在动态细胞过程中所发挥的作用有了新的见解。作者：Gisela Höflinger图1：麦叶上的蚜虫适合于电子显微镜的环境电子显微镜的样品室通过抽真空处理降至极低压力。置于这种环境下的活细胞无法有效保全结构，因为细胞构成中的大部分水分会快速蒸发。生物样本的制备方法有很多种。样品材料被（固定）保存，这样后续脱水对原位结构的破坏最小，同时可以使用环境扫描电镜（SEM）或者将水冷冻。高压冷冻是观察自然状态下含水结构的唯一方法。高压冷冻所形成的冰不是六边形冰（从水变为六边形冰时体积会增加）而是无定形冰，因此体积保持不变。所以，对渗透和温度变化敏感的结构得以保留（见文章“高压冷冻基础介绍”）。要观察诸如细胞器、细胞膜、乳胶或液体的表面界面等结构，冷冻断裂是唯一的方法。通过刀片（或类似物）或释放弹簧负载的外力来破开冷冻样本，并沿着最小阻力线断裂样本。图2：冷冻断裂（来源：http://en.wikibooks.org/wiki/Structural_Biochemistry/Lipids/Membrane_Fluidity） 水的升华与凝结 – 冷冻蚀刻与污染要暴露冷冻断裂面，需要把冰去除。这就需要通过把断裂面的冰升华去除以保存样品的结构。升华的过程是冰不经过液态过程直接转化为气态。而液态过程会导致样品体积和结构的破坏。图3：ES，细胞外表面；PF，细胞膜冷冻断裂面；EF，细胞膜外层冷冻断裂面；FS，细胞膜内表面；Cyt，细胞质水的升华/冷凝过程取决于特定温度下的饱和压力，以及水或冰在室内的有效水分压。注意：良好的真空度会降低水分压。例如：温度为-120℃的冰或冰冻样本饱和压力约为10-7 mbar。如果样品室内达到这个压力，则冷凝和蒸发处于平衡状态。蒸发的分子数量等于冷凝的分子数量。在更高压力下，冷凝速度要快于升华速度 – 因此冰晶会在样本表面上生长。必须采取一切手段来避免这种情况。样本上方一个较冷（比样本更冷）的冷阱会降低局部压力，从而起到了冷凝阱的作用。从样本中带出的水分子优先附着在较冷的表面上。在低于饱和压力的压力下，更多的分子升华而不是冷凝，同时会发生冷冻蚀刻。执行冷冻蚀刻直到样本完全无冰，这一过程称为冷冻干燥。仅适用于合理时间内执行的小样本。该过程分为几个步骤，需要从大约-120℃加热到-60℃，同时在每个步骤上使温度保持一定时间。该过程需要几天的时间来完成。图4：饱和蒸汽压力（感谢Umrath 1982提供的图片）样本温度低于-120℃时，蚀刻速度非常慢，蚀刻持续时间会增加到不切实际的程度。如果真空室的压力固定，则可以通过提高样本温度来提高蚀刻速度。对于生物样本，要特别小心温度高于-90℃。蚀刻速度会大幅提高。另外，要注意玻璃态冰中形成六边形冰晶从而导致脱水伪像。纯水的理论升华速度会降低，因为：• 样本深处的水升华速度比表面的水更慢。• 盐和大分子溶剂会降低升华速度。• 生物样本中大量存在的结合水会降低升华速度。通过冷冻断裂生成图像冷冻断裂和冷冻蚀刻技术往往采用高真空精细镀膜技术，将超细腻重金属和碳薄膜沉积于断裂表面。冷冻断裂样本在一定角度下用金属覆盖，然后在碳背衬膜（徕卡EM ACE600冷冻断裂或徕卡EM ACE900与徕卡EM VCT500）上生成复型进行TEM成像或在SEM的试块面上进行成像。对于这两种方法，冷冻断裂表面经过一定的蚀刻时间后以相同的方式进行镀膜。首先在一定角度下进行一层薄的（2-7nm）重金属镀膜，以形成地形对比度（阴影）。其次再针对重金属薄膜，在90°下进行一层厚的碳层（15-20nm）镀膜，以稳定超薄电子束蒸发。此时的蚀刻处理会停止。要对极小的结构进行成像，需要在极低的角度（2–8°）镀膜重金属并在镀膜期间旋转样本。这样可增加细丝状及其它细小结构的对比度。此项技术又称为小角度旋转投影。蒸镀重金属薄膜需要采用电子束蒸发镀膜技术。这种镀膜技术可实现精细定向沉积。碳的支撑层稳定了未被金属覆盖的结构。随着温度的升高，这些结构会改变它们的轮廓，样本不会完全导电，复型也不会粘在一起。冷冻断裂酵母的单向投影图5：低温SEM，BSE（背散射电子）图像。Walther P, Wehrli E, Hermann R, Müller M.（1995）双层镀膜获取高分辨率低温SEM。J Microsc. 179, 229-237。图6：复型，TEM图像（感谢Electronmicroscopy ETH Zürich提供图片）。Walther P, Wehrli E, Hermann R, Müller M.（1995）双层镀膜获取高分辨率低温SEM。J Microsc. 179, 229-237。图7：徕卡高压冷冻，真空冷冻传输至冷冻断裂系统中，利用电子束发射枪和旋转样本底座来进行冷冻蚀刻和低温镀膜。徕卡真空冷冻传输至低温SEM。油/水基样品，–100℃（升华）3分钟暴露油脂结构。图8：徕卡高压冷冻，真空冷冻传输至冷冻断裂系统中，利用电子束发射枪和旋转样本底座来进行冷冻蚀刻和低温镀膜。徕卡真空冷冻传输至低温SEM。原生生物游仆虫混合培养的羽纹硅藻。感谢英国波特斯巴NIBSC的Roland Fleck博士提供图片图9：徕卡冷冻断裂系统及徕卡真空冷冻传输至低温SEM的HPF、冷冻断裂、冷冻蚀刻和低温镀膜。油/水基乳液破裂，露出洋葱状薄片结构，形成液滴。感谢汉堡拜尔斯多夫Stefan Wiesner博士提供的图片。图10：TEM中的酵母细胞复型。经徕卡高压冷冻和徕卡冷冻断裂复型制备。感谢Elektronenmikroskopie ETH Zürich提供的图片。图11：大麦叶上的真菌。安装于徕卡冷冻断裂仪样本台上，并通过冷却样本台在液氮下进行冷冻。徕卡冷冻断裂仪对样品进行部分冷冻干燥（在更高的样本温度下冷冻干燥）。使用钨镀膜。徕卡真空冷冻传输至低温FESEM 5keV。相关产品徕卡EM ACE900 高端EM样本制备冷冻断裂系统徕卡EM VCT500了解更多：徕卡官网

据微讯广丰消息，6月19日，半导体刻蚀设备生产项目签约仪式举行。半导体刻蚀设备生产项目由昆山基侑电子科技有限公司（以下简称“基侑电子”）投资，总投资10亿元，位于上饶高新区霞峰电子信息产业园，用地面积约30亩，主要生产晶圆刻蚀机、清洗机等设备。项目达产达标后，预计年产值可达15亿元人民币。资料显示，基侑电子成立于2011年，是一家以生产半导体湿法蚀刻清洗相关设备的企业。