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辛耘清洗蚀刻设备
仪器信息网辛耘清洗蚀刻设备专题为您提供2024年最新辛耘清洗蚀刻设备价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括辛耘清洗蚀刻设备参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的辛耘清洗蚀刻设备您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合辛耘清洗蚀刻设备相关的耗材配件、试剂标物,还有辛耘清洗蚀刻设备相关的最新资讯、资料,以及辛耘清洗蚀刻设备相关的解决方案。
辛耘清洗蚀刻设备相关的方案
铝蚀刻液成分分析—磷酸、硝酸、醋酸有多少?
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于仪器镶板,铭牌等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
Hakuto 离子蚀刻机20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄
某陶瓷基片制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于 5G 陶瓷基片银薄膜减薄, 通过蚀刻工艺把基片涂层银薄膜刻蚀减薄, 并降低工差, 提高薄膜均匀性.
MT-V6电位滴定仪测定蚀刻液混酸(盐酸/硫酸/氢氟酸/氟硅酸)浓度
本方案主要适用于蚀刻液混酸中各组分的测试,特别是四种混酸(盐酸/硫酸/氢氟酸/氟硅酸)的蚀刻液体系。本次实验通过MT-V6自动电位滴定分析仪来测定蚀刻液混酸各组分浓度,如有工业在线分析以及智能化工厂需求则可以通过ALT工业在线分析设备来实现本方案需求。
等离子技术在蚀刻领域的应用
等离子技术蚀刻的应用范围-任何需要进行精确且高效修改的材料表面。 -用于蚀刻塑料、 半导体、玻璃
铝蚀刻液混酸(硝酸、磷酸、醋酸)的测定 应用资料
铝蚀刻液混酸(硝酸、磷酸、醋酸)的测定 应用资料在半导体制程上,铝蚀刻液主要成分是硝酸、磷酸、醋酸和水,其中硝酸、磷酸、醋酸和水的组成比例会影响到蚀刻的速率,故需要对这种混酸溶液的成分进行分析。在本应用说明中,描述了通过中和滴定法测定非水溶剂中的硝酸、磷酸和醋酸的浓度。每种酸在水中的强度不能单独检测,但是在有机溶液中,它可以单独检测到。采用该滴定法,同时检测到三个终点。
蚀刻剂中三氯化铁含量的测定 应用资料
蚀刻剂中三氯化铁含量的测定 应用资料测量蚀刻剂中三氯化铁浓度的方法如下所示。作为预处理,在锥形烧瓶中向精确称重的样品中加入盐酸、纯水和碘化钾,并用塞子密封。将烧瓶置于冷暗室中5分钟以上后,用0.1mol/L硫代硫酸钠滴定游离碘(I2),以测定三氯化铁浓度。
等离子设备用于清洗行业解说
等离子设备用于清洗几乎所有的材料都能使用等离子进行精密清洗。工艺部件的表面通过离子来的物理轰击而被清洗。 工艺部件的表面也可与特定气体发生化学反应从而被清洗。工艺污染物转化为气相被排出。
蚀刻剂中氯化亚铁含量的测定 应用资料
蚀刻剂中氯化亚铁含量的测定 应用资料(英文版)当蚀刻剂样品不含氯离子时,向样品中加入硫酸后,通过用0.01mol/L高锰酸钾溶液滴定来测量氯化亚铁浓度。在本应用中,由于样品含有氯离子,在滴定前加入硫酸锰以避免干扰反应。如果样品含有过多的氯离子,通过真空蒸发浓缩除去大部分氯化氢。
蚀刻剂中盐酸含量的测定 应用资料
蚀刻剂中盐酸含量的测定 应用资料稀释后的样品用1mol/L氢氧化钠进行滴定。终点是滴定曲线上的最大拐点。盐酸浓度由氢氧化钠溶液的滴定体积计算得出。
可睦电子(KEM):全自动滴定仪测定蚀刻剂中的铜离子含量
全自动滴定仪测定蚀刻剂中的铜离子含量使用日本京都电子公司(KEM)-自动电位滴定仪(AT-510),测定蚀刻剂中铜离子含量的应用资料。
蚀刻液中乙酸(冰醋酸)含量的测定 应用资料
蚀刻液中乙酸(冰醋酸)含量的测定 应用资料样品加入纯水后,用0.5mol/L氢氧化钠滴定溶液测定蚀刻剂中的乙酸(冰醋酸)含量。滴定上升到终点,即滴定曲线上的最大拐点。乙酸(冰醋酸)浓度由氢氧化钠的滴定体积计算。
利用扫描电镜观察氢氧化钾蚀刻制备的硅微观结构
氢氧化钾蚀刻 (KOH)是制造微型器件的一个重要工艺,用于从硅片上去除材料。选择性地蚀刻硅片的某些部分,用一层二氧化硅或掩膜来保护剩下的部分。然而,残留物的存在成为这种技术的一个缺点,因为它会对器件的制造过程产生负面影响。在这篇博客中,我们提出了一种利用蚀刻残留物的方法,将其作为后续蚀刻的掩膜,以制造两层微结构。我们还提供了如何有效地利用扫描电镜SEM对这些微结构进行成像的例子。
全自动滴定仪测定蚀刻剂中的铜离子含量
全自动滴定仪测定蚀刻剂中的铜离子含量使用日本京都电子公司(KEM)-自动电位滴定仪(AT-510),测定蚀刻剂中铜离子含量的应用资料。
上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀
深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主
解决方案|离子色谱法测定蚀刻液中的氯离子、硝酸根离子和硫酸根离子
目前,测定溶液中的离子常用的方法为离子色谱法,本文作者根据以往经验通过对样品前处理及实验条件的摸索,建立了离子色谱法测定蚀刻液中氯离子、硝酸根离子和硫酸根离子方法,供相关人员参考。
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅
长春某研究所在制作闪耀罗兰光栅的研究中采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE,制造出的闪耀罗兰光栅比其他工艺制造的光栅产品整体衍射效率高25%, 实现高衍射效率闪耀罗兰光栅制作, 且工艺可控、稳定, 所制作的闪耀罗兰光栅衍射效率高于市场同类产品.
颗粒计数器专用洁清洗剂的应用
颗粒计数器专用清洗剂:让仪器焕然一新在实验室中,颗粒计数器是不可或缺的重要仪器。然而,长时间使用后,仪器内部容易积累各种颗粒和污垢,影响测量的准确性和稳定性。此时,一款高效的颗粒计数器专用清洗剂就显得尤为重要。它不仅能彻底清洁仪器内部,还能保护仪器,延长使用寿命。使用时,只需按照说明将清洗剂倒入仪器,按照正常程序进行清洗即可。清洗后,仪器焕然一新,测量结果更准确。再也不用担心仪器污垢问题,让实验更高效、更准确。选择颗粒计数器专用清洗剂,让您的仪器始终保持最佳状态!
等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀
提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻(ALE)是一种技术允许每次精确除去一个原子层,是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
圆晶湿法刻蚀清洗工艺中采用耐腐蚀电动针阀的流量控制解决方案
化学药液流量的精密控制是半导体湿法清洗工艺中的一项关键技术,流量控制要求所用调节针阀一是开度电动可调、二是具有不同的口径型号、三是高的响应速度,四是具有很好的耐腐蚀性,这些都是目前提升半导体清洗设备性能需要解决的问题。为此,本文提出了相应的解决方案,解决方案的核心是采用具有系列口径的高速和耐腐蚀的电动针阀。
高清洁清洗剂的应用案例
在繁忙的工业现场,清洁工作一直是确保设备正常运行、维护生产环境的重要环节。今天,我们就来聚焦一款高清洁清洗剂在实际应用中的卓越表现。在一间大型机械加工厂,车间内机器轰鸣,工人们忙碌地穿梭在各式设备之间。然而,随着生产的进行,设备表面不可避免地会沾染上油污、尘埃等杂质,这不仅影响了设备的外观,更可能对设备的性能造成潜在威胁。为了解决这个问题,该厂引入了高清洁清洗剂。这款清洗剂以其独特的配方和高效的清洁能力,迅速在车间内赢得了好评。工人们只需将清洗剂喷洒在需要清洁的设备表面,稍等片刻,再用清水冲洗干净,原本顽固的油污和尘埃便一扫而光,设备焕然一新。更值得一提的是,这款高清洁清洗剂不仅清洁效果显著,而且在使用过程中对环境友好,不会产生有害气体或残留物。同时,它的温和配方也不会对设备表面造成损伤,确保了设备的长期稳定运行。
晟鼎精密大气等离子清洗机-走速对比试验
采用大气旋转等离子表面处理设备,在除处理速度不同其他参数全部一致的条件下对比不同处理速度下对样品处理的效果,单从实验数据来看,处理效率相同的情况下,清洗速度越快清洗效果越好,且均匀性也稍强于前者。
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板
本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制作面阵石英 DNA 芯片模板中的应用。该设备配备 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700,确保了高真空度和刻蚀过程的高均匀性。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的芯片模板表面微结构形貌有利于 DNA 序列样本与芯片模板的吸附耦合,提高了实验效率和准确性。
等离子清洗机的八大应用
等离子清洗机在半导体、电子材料干式清洗中的应用越来越广泛,如硅胶片的光刻胶剥离、除去有机膜、界面活性化、微细研磨、除去碳化膜等领域,等离子产品都发挥了积极的作用。 从研究开发到工艺生产使用,从表面微细加工到表面处理改质,等离子设备有着很广的社会应用需求。在多个领域也都有普遍应用。
语瓶实验室洗瓶机油类污染物清洗解决方案
相信大家都有处理油污的经验,本身油污非常难以清洗,如果遇到冬天低温,油脂就跟难以清洗了,这里洗瓶机高温外加化学清洗剂的清洗优势就体现出来了,高温使布朗运动增强,清洗剂加速油脂乳化分离,使洗出来的器皿光亮如新,可直接用于实验当中。
北京时代新维油品分析仪新油(绝缘油)注入设备的试验方案
新油(绝缘油)注入设备的试验检验分为三步:1)新油(绝缘油)在脱气注入设备前的检验2)新油注入设备时进行热循环后的检验3)新油注入设备后通电前的检验 北京时代新维是专业做水和油分析仪器的生产厂家 www.timepower.cn
食品企业微生物器皿机器清洗方案
食品企业微生物化验室大量器皿需要手工清洗,存在清洗量大,人工清洗效果不稳定,人员和场地管理困难等难点。客户迫切要求一个解决主要器皿的清洗需求,但同时对可靠性和运营成本提出极高的需求的机器清洗方案。我公司推荐德国Miele两台实验室小型机机器清洗方案,能够满足客户目前及可预期3-5年的清洗需求。
液体颗粒计数器对电子级硫酸颗粒管控的应用方案
电子级硫酸广泛应用于半导体、超大规模集成电路的装配和加工过程,主要用于硅晶片的清洗和蚀刻,可有效除去晶片上的杂质颗粒,无机残留物和碳沉积物。
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度
衍射光学元件因其独特的光学性能在多个高技术领域中得到广泛应用。随着技术的发展,对衍射光学元件的制造工艺提出了更高的要求。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的应用,为实现高精度和高均匀性的光学元件制造提供了新的解决方案。
生物实验室培养皿清洗方案
培养皿虽然结构简单,但每个培养皿都有大量培养基,日常实验室培养皿的清洗方法一般要经过浸泡、涮洗、纯化水冲洗等步骤,手工清洗长期接触酒精、酸液浸泡,还有可能未灭活的活菌,长期以往危害健康。而且培养皿的清洗量往往比较大,清洗任务很繁重。像培养皿这种结构比较单一,清洗量又特别巨大的器皿是非常适合采用全自动实验室洗瓶机进行器皿清洗。标准化清洗可尽早解放双手,洁净度、清洗效率上都可以得到提高。清洗记录可记录、可查询、可追溯的要求,使实验室器皿清洗标准化、智能化。
等离子清洗机处理手机PC壳案例,等离子处理后达因值56
清洗过程:PC壳放托盘由PLC控制好丝杆速度,调整高度3.两托盘并排放流水线上过等离子4.两枪头左右进行清洗,提高清洗效果
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