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扫描显微分析装置

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扫描显微分析装置相关的论坛

  • 【资料】黄孝瑛电子显微分析图书4本，欢迎下载。

    我收集到黄孝瑛的四本书，还有一本《透射电子显微学》上海科学技术出版社出版，1987年，没有，我扫描上去后，在传给大家。[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=46470]黄孝瑛电子显微分析图书[/url]

  • [好书]X射线衍射与电子显微分析

    本书是介绍X射线衍射与电子显微分析这两种重要的材料物理测试方法的基础教材,全书依上述内容分为两篇。第一篇包括X射线衍射的基本理论、方法及应用；第二篇包括透射电子显微镜、扫描电镜和电子探针的工作原理、构造和分析方法。全书共12章，附录中列出了常用的数据表，供计算分析时查阅。本书对基本原理的阐述力求深入浅出，方法介绍亦较为详尽，对从事该工作的科技人员很有参考价值！为此上传[color=blue]PDF格式的电子档供大家下载学习，也可丰富本版块的资源！[/color]全书已经上传完毕，有需要的科技人员可到资料中心下载！[url=http://www.instrument.com.cn/show/search.asp?sel=admin_name&keywords=lfsming]进入资料下载页面[/url]你的支持就是我的动力!

  • 【原创大赛】（综述）电子显微分析技术在高分子材料中的应用

    【原创大赛】（综述）电子显微分析技术在高分子材料中的应用

    ======================================================================= （综述）电子显微分析技术在高分子材料中的应用 Applications of Electron Microscopy for Polymers~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~摘要透射电子显微镜（TEM）已经逐渐成为材料研究领域最重要的成像和表征手段之一。这篇综述主要介绍了近年来出现的几种电子显微分析技术，并结合高分子聚合物材料的特点列举了这些技术在实际研究中的应用。这些技术包括：高分辨透镜（HRTEM）成像，扫描透镜（STEM）成像，能量过滤透镜（EFTEM）成像以及电子能量损失谱（EELS）分析。综合运用这些成像和分析工具，可以更全面了解高分子材料在各个微观尺度下的性质。AbstractThe transmission Electron Microscope (TEM) has been used extensively as one of the most versatile and powerful tools for materials characterization. This review highlights important development of several microscopy and analysis techniques in the field of polymers. These techniques include High Resolution TEM (HRTEM), Scanning TEM (STEM), Energy Filtered TEM (EFTEM), and Electron Energy-loss Spectroscopy (EELS). By combining multiple microscopy techniques, we are able to gain a better understanding of polymers properties in various scales.http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509252216_567945_1982636_3.png~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~1. 前言 从Ernst Ruska在1931年发明了第一台透射电子显微镜（TEM）开始，电子显微分析已逐渐成为材料科学领域特别是材料微观表征的重要方法之一。经过80多年的发展，现代透射电镜在传统的TEM模式之外又相继衍生出了高分辨（HRTEM）和扫描透射（STEM）两种不同的电子成像模式。结合附加的X射线能谱仪（EDS）和电子损失能谱仪（EELS）等，TEM又可以拓展为功能强大的结合了成像和化学分析能力的分析级电子显微镜(AEM)。近20年来TEM和相应的成像分析技术都得到了长足的进步，在分辨率已经突破亚埃级（0.5埃=0.05纳米）的基础上又陆续发展出冷冻电镜 (Cryo-TEM) ，三维成像 (Tomography) ，低电压电镜（LVEM），能量过滤电镜 (EFTEM) 等新兴技术。伴随着这些新技术的发展，TEM的应用领域也不仅仅局限于传统的硬材料(金属，半导体，陶瓷等）而是一直延伸到各种软材料（高分子，生物和复合材料）（参见5）。这篇综述简要介绍了各种显微分析技术的特点和原理，针对高分子样品的制备手段并介绍了各种分析手段在实际研究中的应用。2. 样品制备 在电子显微分析中，样品制备往往是决定图像质量，保证分析准确的最重要一步。不同于常规硬材料，高分子材料普遍存在着硬度较低，物理化学性质不稳定的特点。这些特点决定了它们需要使用不同于常规硬材料的减薄方法来制样才能满足不同的表征要求。制样的第一原则就是在保证不破坏材料原有性质的情况下得到尽可能薄的样品。由于高分子材料大多由碳氢氧等轻元素组成，传统的制样过程一般会采用类似于生物样品的重金属染色方法。利用电子散射能力较强的金属制剂对样品进行染色。金属原子可以与样品里特定的分子键合来提高图像的衬度。然而使用这种方法需要人为的加入样品以外的成分，这样做往往会破环样品原始的特性。特别当需要对样品进行原子级别的分析时，来自金属染色剂的大量的背景信号会影响最终化学元素分析的准确性。现在，即使在不使用染色剂的情况下，利用多种新型成像技术（包括STEM，LVEM，EFTEM 和Cryo-TEM）我们也可以有效地提升图像衬度并减少样品在电子束辐射下的损伤。这就要求我们找到合适的制备方法来得到保持材料原有特性的超薄样品。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509252223_567948_1982636_3.png图一. 制备固体或溶液形态的高分子样品的不同步骤 （参见6）。针对两种常见的高分子材料形态（固态和溶液态）有两种不同的处理样品方法（参见6），见图一：1）块状或薄膜状的材料可以首先用树脂包埋，预切后在冷冻超薄切片机中调节合适的温度切片。使用的冷却温度可以根据高分子材料的Tg温度来调节，一般设置在起始温度在-80度左右。得到的切片可以直接用铜网收集，厚度大致在20-80nm； 2）高分子的溶液（也可以为水溶液）可以用Solution Casting方法。在覆盖碳膜的铜网上滴上5-20微升的样品溶液。然后使用Cryo-plunger自动吸出多余的溶液后浸入液体乙烷中快速冷冻。第一种方法保证了固体高分子材料的原有特征不被破坏，同时保证了样品合适的厚度。第二种方法特别适用于观察高分子物质在液态中的特征，整个冷冻过程保证了材料在溶液中的形态。利用集成的湿度控制装置可以直接对亲水性高分子材料进行制备。3. 分析电镜技术简介及其在高分子材料中的应用 3.1 电子成像和分析原理在透射电镜中，平行电子束在透过样品时会与样品内部发生一系列相互作用。透过样品的散射电子和产生的其他信号在收集后可以被用来进行成像和不同类型的显微分析。图二中简单概括了电子束和样品之间的相互作用。根据是否有能量损失，散射电子又分为弹性散射电子(elastically scattered electrons)和非弹性散射电子(inelastically scattered electrons)。部分入射电子束在与原子核作用后发生弹性散射，并最终被CCD捕捉形成传统的明场（Bright Field简称BF）TEM图像。与此同时，入射电子可以与原子核外电子云作用。在损失一部分能量后，经过非弹性散射的电子束可以用来形成电子能量损失谱（Electron Energy Loss Spectroscopy简称EELS)。而另一部分被激发的外层电子会填入内层电子的空位，这之间的能量差所产生的特征X射线可以通过X射线能谱仪(Energy-dispersive X-ray spectroscopy 简称EDS)来探测。结合图像和能谱，还可以实现能谱成像(Spectrum Imaging 简称SI)和能量过滤成像（Energy Filtered TEM 简称EFTEM)（参见7）。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509252225_567949_1982636_3.png图二. 电子束与样品间相互作用以及产生的多种电子和能量信号(参见7)。3.2 高分辨成像（HRTEM）及其应用 除常规的TEM成像，高分辨成像(HRTEM)可以用来直接观察高分子材料内部的原子排列特别适用于对高分子晶体结构的研究。尽管HRTEM在硬材料方面的研究应用已经很普遍，但局限于样品制备和电子辐射损伤的影响，对于高分子结构的高分辨成像和解析还不多。图三是聚四氟乙烯(PTFE)晶体的高分辨HRTEM图像，右侧相对应的是PTFE高分子链的重复单元结构示意图。通过高分辨成像，可以清晰地辨别出分子链上紧密排布的原子和相对应的157螺旋结构。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509252237_567950_1982636_3.png图三. 聚四氟乙烯(PTFE)晶体的高分辨图像和分子链重复单元结构（参见3）。3.3 扫描透射电镜 (STEM) 成像及其应用 如图四所示，STEM模式下聚焦的电子束在材料表面扫描，透过的电子信号根据散射角度的不同被不同位置的探测器收集后分别形成STEM-BF明场，STEM-ADF暗场以及STEM-HAADF高角度环形暗场图像。因为图像的明暗程度直接和所观察区域内的原子序数有关，高角度环形暗场（High-angle Annular Dar

  • [分享]扫描电镜在失效分析中应用(金属材料）

    资源共享[em01] 扫描电子显微镜在失效分析中的应用 自从1965年12月商品扫描电子显微镜问世以来，扫描电子显微镜得到了极为迅速的发展，是目前应用最成熟、最广泛、最实用的显微分析仪器，它在冶金、生物、地理、化工、农业等各方面均有极为广泛的用途。本文只简要地介绍一下扫描电子显微镜在失效分析中的应用。扫描电子显微镜最大特点是：焦深大，分辨率高，放大倍数变化范围广，对试验样品要求底，可直接观察，特别适合对粗糙表面的观察研究。扫描电镜的焦深要比光学显微镜的焦深大数百倍，可以观察粗糙的样品表面清晰细致的三维图象。分辨率是光学显微镜的40倍，配置X射线能谱仪，可直接探测样品表面的微区成分。已经被普遍应用于断口、磨损及腐蚀表面分析，特别适合做产品失效分析工作，因为人们可以首先在低倍下找好所感兴趣的区域，然后再调到高倍进行仔细观察分析，非常实用方便。

  • 几个资料及扫描电子显微镜的安装与验收

    [color=red]资料包括：[/color]1　扫描电子显微镜： 介绍了采用半导体检测器、YA；检测器和鲁宾逊检测器等反射电子检测器，于，以低真空方式进行观察的低真空扫描电子显微镜及其在耐火材料上的应用例。2　扫描电子显微镜的应用3　扫描隧道显微镜在生物医学中的应用4　国内外扫描电镜发展的特点5　高性能多用途的扫描电子显微镜JSM—58006　常规扫描电子显微镜的特点和发展[url=http://www.instrument.com.cn/download/shtml/014678.shtml]下载资料[/url]这是《湖南冶金》杂志上的一篇文章，对我们搞电镜的很有用，等全文转载于此，希望对大家有用！并向作者张益谨、杨迈莉表示感谢！[color=red][b]扫描电子显微镜的安装与验收[/b][/color][提要]本文对如何安装调试与验收扫描电子显微镜作了简单介绍，并以日立S—570型号为例，对验收技术指标、方法及误差计算进行了具体说图。随着我国科学技术与教育事业的发展，电子显微分析技术已在各个领域得到广泛的应用。现已有各种类型及规格近千台，其中半数以上为扫描电子显微镜。由于它具有制样简单，图象直观，且易掌握及理解等优点，因此，将有更多科研单位，高等院校及工厂实验宝购置这种先进仪器。这样，如何进行安装、调试及验收就成为很多人关心及要求了解的问题。一． 安装调试程序安装调试工作包括下述五个环节。1．安装前的准备 (1)安装条件：主要捡查水电供应，接地电阻，防震，防电磁干扰等条件是否满足仪器说明书的要求。可参阅《实验技术与管理》 (2)1986。(2)翻译说明书及操作人员的预先培训。 (3)安装调试除准备一套开箱、运输工具外，还要求准备下列仪器材料如示波器、数字万用表、电离真空计、超声波清洗器、恒温干燥箱、放大冲洗设备、化学药品(如酒精、丙酮)等等。

  • 【资料】激光共聚焦扫描显微镜一些介绍

    激光共聚焦扫描显微镜简介一、 激光共聚焦显微镜的基本组成激光扫描共聚焦显微镜(laser scanning confocal microscope LSCM)是20世纪80年代发展起来的一项具有划时代意义的高科技新产品，是当今世界最先进的细胞生物学分析仪器。激光共聚焦显微镜利用激光作为光源，在传统光学显微镜基础上采用共轭聚焦的原理和装置，以及通过针孔的选择和PMT的收集，并带有一套对其所观察到的对象进行数字图像分析处理的系统软件。与传统光学显微镜相比，它具有更高的分辨率，实现多重荧光的同时观察并可形成清晰的三维图象等优点。所以它问世以来在生物学的研究领域中得到了广泛应用。激光共聚焦显微镜主要有四部分组成：1、显微镜光学系统。2、扫描装置。3、激光光源。4、检测系统。整套仪器由计算机控制，各部件之间的操作切换都可在计算机操作平台界面中方便灵活地进行。1.1 显微镜光学系统　　显微镜是LSCM的主要组件，它关系到系统的成象质量。显微镜光路以无限远光学系统可方便地在其中插人光学选件而不影响成象质量和测量精度。物镜应选取大数值孔径平场复消色 差物镜，有利于荧光的采集和成象的清晰。物镜组的转换，滤色片组的选取，载物台的移动调节，焦平面的记忆锁定都应由计算机自动控制。1.2 扫描装置　　LSCM使用的扫描装置在生物领域一般为镜扫描。由于转镜只需偏转很小角度就能涉及很大的扫描范围，图象采集速度大大提高，512×512画面每秒可达4帧以上，有利于那些寿命短的离子作荧光测定。扫描系统的工作程序由计算机自动控制。1.3 激光光源　　LSCM使用的激光光源有单激光和多激光系统。多激光器系统在可见光范围使用多谱线氩离子激光器，发射波长为457nm、488nm和514nm的蓝绿光，氦氖绿激光器提供发射波长为543nm的绿光，氦氖红激光器发射波长为633nm的红光，新的405nm半导体激光器的出现可以提供近紫外谱线，但是小巧便宜而且维护简单。1.4 检测系统　　LSCM为多通道荧光采集系统，一般有三个荧光通道和一个透射光通道，能升级到四个荧光通道，可对物体进行多谱线激光激发，样品发射荧光的探测器为感光灵敏度高的光电倍增管PMT，配有高速12位A/D转换器，可以做光子计数。PMT前设置针孔，由计算机软件调节针孔大小，光路中设有能自动切换的滤色片组，满足不同测量的需要,也有通过光栅或棱镜分光后进行光谱扫描功能的设置。二、激光共聚焦显微镜的特点以及在生物领域的应用传统光学显微镜相比，激光共聚焦显微镜具有更高的分辨率，实现多重荧光的同时观察并可形成清晰的三维图象等优点，在对生物样品的观察中，激光共聚焦显微镜有如下优越性：1、对活细胞和组织或细胞切片进行连续扫描，可获得精细的细胞骨架、染色体、细胞器和细胞膜系统的三维图像。2、 可以得到比普通荧光显微镜更高对比度、高解析度图象、同时具有高灵敏度、杰出样品保护。3、***图象的获得，如7 维图象(XYZaλIt): xyt 、xzt 和xt 扫描,时间序列扫描旋转扫描、区域扫描、光谱扫描、同时方便进行图像处理。 4、细胞内离子荧光标记，单标记或多标记，检测细胞内如PH和钠、钙、镁等离子浓度的比率测定及动态变化。5、荧光标记探头标记的活细胞或切片标本的活细胞生物物质，膜标记、免疫物质、免疫反应、受体或配体，核酸等观察；可以在同一张样品上进行同时多重物质标记，同时观察； 6、对细胞检测无损伤、精确、准确、可靠和优良重复性；数据图像可及时输出或长期储存。 由于共聚焦显微镜的以上优点，激光共聚焦显微镜在以下研究领域中应用较为广泛：1、细胞生物学：如：细胞结构、细胞骨架、细胞膜结构、流动性、受体、细胞器结构和分布变化、细胞凋亡机制；各种细胞器、结构性蛋白、DNA、RNA、酶和受体分子等细胞特异性结构的含量、组分及分布进行定量分析；DNA、RNA含量、利用特定的抗体对紫外线引起的DNA损伤进行观察和定量；分析正常细胞和癌细胞细胞骨架与核改变之间的关系；细胞黏附行为等 2、生物化学：如：酶、核酸、受体分析、荧光原位杂交、杂色体基因定位等，利用共聚焦技术可以取代传统的核酸印迹染交等技术，进行基因的表达检测，使基因的转录、翻译等检测变的更加简单、准确。3、药理学：如：药物对细胞的作用及其动力学；药物进入细胞的动态过程、定位分布及定量 4、生理学、发育生物学：如：膜受体、离子通道、离子含量、分布、动态；动物发育以及胚胎的形成，骨髓干细胞的分化行为；细胞膜电位的测量.荧光漂白恢复（FRAP）、荧光漂白丢失（FLIP）的测量等。 5、遗传学和组胚学：如：细胞生长、分化、成熟变化、细胞的三维结构、染色体分析、基因表达、基因诊断； 6、神经生物学：如：神经细胞结构、神经递质的成分、运输和传递； 7、微生物学和寄生虫学：如：细菌、寄生虫形态结构； 8、病理学及病理学临床应用：如：活检标本的快速诊断、肿瘤诊断、自身免疫性疾病的诊断； 9、免疫学、环境医学和营养学。如：免疫荧光标记（单标、双标或三标）的定位，细胞膜受体或抗原的分布,微丝、微管的分布、两种或三种蛋白的共存与共定位、蛋白与细胞器的共定位；对活细胞中的蛋白质进行准确定位及动态观察可实时原位跟踪特定蛋白在细胞生长、分裂、分化过程中的时空表达，荧光能量共转移（FRET）。

  • 【转帖】扫描电子显微镜的应用

    新设备简介扫描电子显微镜的应用扫描电子显微镜是一种多功能的仪器、具有很多优越的性能、是用途最为广泛的一种仪器．它可以进行如下基本分析：（1）三维形貌的观察和分析；（2）在观察形貌的同时，进行微区的成分分析。①观察纳米材料，所谓纳米材料就是指组成材料的颗粒或微晶尺寸在0.1-100nm范围内，在保持表面洁净的条件下加压成型而得到的固体材料。纳米材料具有许多与晶体、非晶态不同的、独特的物理化学性质。纳米材料有着广阔的发展前景，将成为未来材料研究的重点方向。扫描电子显微镜的一个重要特点就是具有很高的分辨率。现已广泛用于观察纳米材料。②进口材料断口的分析：扫描电子显微镜的另一个重要特点是景深大，图象富立体感。扫描电子显微镜的焦深比透射电子显微镜大10倍，比光学显微镜大几百倍。由于图象景深大，故所得扫描电子象富有立体感，具有三维形态，能够提供比其他显微镜多得多的信息，这个特点对使用者很有价值。扫描电子显微镜所显示饿断口形貌从深层次，高景深的角度呈现材料断裂的本质，在教学、科研和生产中，有不可替代的作用，在材料断裂原因的分析、事故原因的分析已经工艺合理性的判定等方面是一个强有力的手段。③直接观察大试样的原始表面，它能够直接观察直径100mm，高50mm，或更大尺寸的试样，对试样的形状没有任何限制，粗糙表面也能观察，这便免除了制备样品的麻烦，而且能真实观察试样本身物质成分不同的衬度（背反射电子象）。④观察厚试样，其在观察厚试样时，能得到高的分辨率和最真实的形貌。扫描电子显微的分辨率介于光学显微镜和透射电子显微镜之间，但在对厚块试样的观察进行比较时，因为在透射电子显微镜中还要采用复膜方法，而复膜的分辨率通常只能达到10nm，且观察的不是试样本身。因此，用扫描电子显微镜观察厚块试样更有利，更能得到真实的试样表面资料。⑤观察试样的各个区域的细节。试样在样品室中可动的范围非常大，其他方式显微镜的工作距离通常只有2-3cm，故实际上只许可试样在两度空间内运动，但在扫描电子显微镜中则不同。由于工作距离大（可大于20mm）。焦深大（比透射电子显微镜大10倍）。样品室的空间也大。因此，可以让试样在三度空间内有6个自由度运动（即三度空间平移、三度空间旋转）。且可动范围大，这对观察不规则形状试样的各个区域带来极大的方便。⑥在大视场、低放大倍数下观察样品，用扫描电子显微镜观察试样的视场大。在扫描电子显微镜中，能同时观察试样的视场范围F由下式来确定：F=L/M式中 F——视场范围；M——观察时的放大倍数；L——显象管的荧光屏尺寸。 若扫描电镜采用30cm（12英寸）的显象管，放大倍数15倍时，其视场范围可达20mm，大视场、低倍数观察样品的形貌对有些领域是很必要的，如刑事侦察和考古。⑦进行从高倍到低倍的连续观察，放大倍数的可变范围很宽，且不用经常对焦。扫描电子显微镜的放大倍数范围很宽（从5到20万倍连续可调），且一次聚焦好后即可从高倍到低倍、从低倍到高倍连续观察，不用重新聚焦，这对进行事故分析特别方便。⑧观察生物试样。因电子照射而发生试样的损伤和污染程度很小。同其他方式的电子显微镜比较，因为观察时所用的电子探针电流小（一般约为10-10 -10-12A）电子探针的束斑尺寸小（通常是5nm到几十纳米），电子探针的能量也比较小（加速电压可以小到2kV）。而且不是固定一点照射试样，而是以光栅状扫描方式照射试样。因此，由于电子照射面发生试样的损伤和污染程度很小，这一点对观察一些生物试样特别重要。⑨进行动态观察。在扫描电子显微镜中，成象的信息主要是电子信息，根据近代的电子工业技术水平，即使高速变化的电子信息，也能毫不困难的及时接收、处理和储存，故可进行一些动态过程的观察，如果在样品室内装有加热、冷却、弯曲、拉伸和离子刻蚀等附件，则可以通过电视装置，观察相变、断烈等动态的变化过程。⑩从试样表面形貌获得多方面资料，在扫描电子显微镜中，不仅可以利用入射电子和试样相互作用产生各种信息来成象，而且可以通过信号处理方法，获得多种图象的特殊显示方法，还可以从试样的表面形貌获得多方面资料。因为扫描电子象不是同时记录的，它是分解为近百万个逐次依此记录构成的。因而使得扫描电子显微镜除了观察表面形貌外还能进行成分和元素的分析，以及通过电子通道花样进行结晶学分析，选区尺寸可以从10μm到3μm。由于扫描电子显微镜具有上述特点和功能，所以越来越受到科研人员的重视，用途日益广泛。现在扫描电子显微镜已广泛用于材料科学（金属材料、非金属材料、钠米材料）、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害（火灾、失效分析）鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=79549]扫描电子显微镜的应用[/url]

  • 【原创大赛】2015年度显微镜和显微分析(M&M)大会（多图现场报道+分析总结）

    【原创大赛】2015年度显微镜和显微分析(M&M)大会（多图现场报道+分析总结）

    【原创】首发仪器信息网，转载注明来源 2015年度显微镜和显微分析(M&M)大会 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281037_557490_1982636_3.jpg【M&M大会简介】M&M大会（Microscopy and Microanalysis Meeting）是由美国显微学会 MSA（Microscopy Society of America）主办的全球最大的显微技术和分析科学大会。作为全球最重要的显微设备展览之一，每年都会吸引超过100家厂商参展。在连续五天的会议中，大会将组织超过40个不同主题的研讨会，包括了显微前沿科学和技术的各个领域。各大显微设备厂商也都会带着最新的产品参展。这不光是学术界也是产业界的一次大聚会。你可以看到学术界的最新进展，也可以实地试用最新的仪器设备，还有不错的培训讲座和很丰富的社交活动。我已经连续参加了四届，每次都会收获良多。今年的大会于8/2-8/6在玫瑰之城波特兰Portland举行，而这里也正是著名的半导体大厂Intel和电镜大厂FEI总部的所在地。过去一年中电镜行业出现很多新技术和新趋势，结合这次大会的现场体验和在这里大家分享一下我的感受。 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281039_557491_1982636_3.jpg【最新应用趋势】 近年来对材料进行超微尺度的研究依然热门，对于同时拥有高分辨和微分析能力的透射电镜和扫描电镜的需求持续强劲。各大研究所和高校在电镜的投入上也越来越大，高分辨率冷场带球差矫正的TEM/STEM已经可以在很多地方见到。在物理/材料领域，美国国内有大量的研究都集中在新能源材料领域特别是对电池材料的探索。这很大程度上得益于美国能源部DOE近年来在各大国家实验室的大力投入。这个带来的相应结果是，原位电镜技术Insitu-TEM已经成为了在材料学应用中的热点。去年的展会中出现了很多可用于单一或多体系气相，液相，电化学，力学和热学实验的原位样品杆以及配套设备。生物和生物材料交叉领域也出现了两个热点，一个是改进的冷冻电镜技术(cryoTEM)结合三维重建在结构生物学中的应用，另一个就是逐渐成熟的可完成多尺度分析的相关显微技术(correlative microscopy)。原来在生物样品中存在的低衬度，易受电子损伤等问题在冷冻技术下都得到了一定程度的改善。新的tomography三维成像样品杆和改进的软件和算法让三维重建变的更加便捷和有效，高分辨原子尺度的三维冷冻电镜已经可以实现。对于多尺度的研究，许多电镜厂商已经开始提供完整的相关显微方案以实现在同一样品上结合光学和电子信息的收集和分析。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281045_557495_1982636_3.gifhttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281045_557496_1982636_3.jpg【2014年大会回顾】 1）TEM/SEMTEM方面，FEI作为全球最大的电镜供应商依然占据着很大一部分电镜市场。经过2013年产品线的重新排布，现在已经由经典的Tecnai和Titan系列又延伸出了加强了3D和元素分析功能的紧凑型Talos系列和针对半导体行业的Metrios系列。再根据材料学和生物学的不同要求演化出了Titan Themis和Titan Krios这样的细化型号。同时还有特殊的环境电镜Titan ETEM，拥有脉冲电子束实现4D数据观察的Tecnai Femto UEM，以及全球唯一的内置荧光显示CLEM系统的Tecnai iCorr生物电镜。FEI的产品线已经非常全面，也针对不同用户都有相应的解决方案。日本电子JEOL拥有性价比极高的2100系列和高端的ARM200F及最新发布的ARM300F，一直在中端市场表现不错，依然是电镜分析实验室日常应用的首选。日立Hitachi在TEM方面没有什么新的机型，俨然重点已经转向SEM，集中加强自己在冷场SEM中的优势。蔡司Zeiss在2013年选择全面退出TEM的市场，开始专注经营自己的SEM/Dual Beam市场。早先Zeiss 的libra系列有着不错的设计和性能，内置的omega filter和kohler照明系统更是独门利器，着实可惜。Zeiss现在依然在开发独家的氦离子电镜和X光电镜，未来都可能成为亮点。SEM方面各家竞争愈发激烈，战线都已经延长到了dual beam FIB/SEM 和特殊的correlative SEM。Tescan全面发力，在美国设置独立服务机构的同时开发了许多新型号的SEM。最引人注目的是和Witec合作开发的全球首款集合了Raman和SEM的RISE系统，去年在MM大会首发并得到了今年光学界大奖Photonics Prism Award。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281045_557497_1982636_3.jpg2）STEM 对于国内不太熟悉的Dedicated STEM, 去年的NION着实让业界惊叹。配合多级球差校正系统，传统UltraSTEM系列早已拥有了超高的分辨率和稳定性。可惜对于电子能量损失谱EELS的分辨率一直不够理想,普遍仅仅能维持在1eV左右。而目前装了单色器monochromator的TEM已经可以轻松达到0.15eV甚至0.1eV。传奇人物Krivanek（Nion和Gatan的创始人，EELS谱仪的发明人之一），他重新设计了monochromator并实现了在新的Nion HERMES上的惊人的20meV(0.02eV，传言说目前已经逼近6meV)EELS分辨率!记得在去年大会中，NION远程操作位于ASU的UltraSTEM100，现场演示了0.02 eV的分辨率，十分惊人。这意味着EELS已经可以拥有了和XAS类似的分辨率，可以捕捉到更加丰富的价态信息和对轻元素的定量分析，包括各种coreloss范围的键态信息，low-loss范围的surface plasmon，甚至exiton等信息。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281046_557498_1982636_3.jpg3）其他EM设备去年伴随着Insitu，cryo和correlative类技术的发展，各大EM设备供应商都推出了很多有特色的产品。第一个值得注意的是EM设备的大厂Gatan推出了适应于serial block-face SEM (SBSEM)的3View系统，结合了一个装在SEM内部的超薄切片机可以更方便的实现各个尺度的三维重建。Zeiss已经是第一个支持这个系统的厂家，未来将在更多厂家上支持。第二个是Protochips推出的最新insitu样品杆，可以提供精确控制气压，气体组成和温度，对于需要研究原子尺度的反应大有帮助。另外，Fischione推出了最新的cryo holder让人眼前一亮。全新的样品装载装置比传统样品杆更为简便快捷，打破了原来Gatan的垄断的cryo holder市场。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281050_557499_1982636_3.png【2015大会总结】 今年的M&M从重量级的开场嘉宾开始，华人诺贝尔化学奖得主钱永建的在会议第一天作了题为" New Molecular Tools for Light and ElectronMicroscopy"的报告。报告着重提到了CorrelativeEM在生物领域的最新进展和传统EM的最新引用。会议依旧按照三大主题安排：显微新技术，物理类显微分析和生物类显微分析。在TEM新技术方面，主要是围绕in-situ，low-voltage还有dynamic 4D技术展开。在SEM方面，多种新技术包括新的光学关联显微技术，空气SEM和连续切片显微技术都吸引了很多关注。物理应用方面大量的研究依旧集中在新能源材料和二维碳基材料领域。生物方面并没有太多的亮点，cryo和3D依然是中心。另外，会议还特别开辟了针对EELS分析和模拟实验结合的议题。产品方面，SEM依然是厂商火力最集中的地方。新发布的SEM系统和设备包括Zeiss Gemini500系列和特殊的MultiSEM多电子束快速SEM，JEOL的JSM7200和最新的Soft X-ray探测器，Hitachi在SU92

  • 【求助】想请教一下3D雷射扫描量测显微镜与SEM差很多吗?

    3D雷射扫描量测显微镜特色：透过雷射光断面扫描得到清晰的立体图像是集合光学显微镜及雷射扫描于一身的表面精密检查3D量测设备，采用最先进的universal无限远光学系统，并针对雷射光波长408nm作对应的光学收差补偿，倍率范围广可任意选择，最高可达到14,400倍的高倍观察，并可依需求采用明暗视野、微分干涉、偏光等各种镜检法；配合影像处理及精密量测系统，除了同一般显微镜可实时观察外，也同时具备了电子扫描显微镜3D影像清晰、层次分明之特性 (平面解析力达0.12μm，Z方向解析力达0.01μm) ，此一全方位精密量测观察设备，可将扫描影像及光学影像作结合，得到真实的色彩表现扫描影像。想请教一下各位大大，上面所说的雷射显微镜跟SEM差异在哪?以倍率来说雷射的没比SEM高，可是价格却比较贵?

  • 半导体器件/材料焊接层\填充层空洞分析手段-超声波扫描显微镜

    半导体器件芯片内部失效分析 超声波扫描显微镜（扫描频率最高可以达到２Ｇ）． 其主要是针对半导体器件 ,芯片，材料内部的失效分析．其可以检查到:１.材料内部的晶格结构，杂质颗粒．夹杂物．沉淀物．2. 内部裂纹. 3.分层缺陷.4.空洞,气泡,空隙http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1002.gif请点激链接:半导体器件芯片失效分析 芯片内部分层，孔洞气泡失效分析C-SAM的叫法很多有，扫描声波显微镜或声扫描显微镜或扫描声学显微镜或超声波扫描显微镜(Scanning acoustic microscope）总概c-sam(sat)测试。ＸRAY 与C-SAM区别ＸRAY：X射线可以穿过塑封料并对包封内部的金属部件成像，因此，它特别适用于评价由流动诱导应力引起的引线变形　在电路测试中，引线断裂的结果是开路，而引线交叉或引线压在芯片焊盘的边缘上或芯片的金属布线上，则表现为短路。X射线分析也评估气泡的产生和位置，塑封料中那些直径大于1毫米的大空洞，很容易探测到. 而小于1毫米的小气泡空洞,分层.就非常难检测到.用X射线检测芯片焊盘的位移较为困难，因为焊盘位移相对于原来的位置来说更多的是倾斜而不是平移，所以，在用X射线分析时必须从侧面穿过较厚的塑封料来检测。检测芯片焊盘位移更好的方法是用剖面法，这已是破坏性分析了。C－SAM：由于超声波具有不用拆除组件外部封装之非破坏性检测能力，根据其对空气的灵敏度非常强的特性.故C-SAM可以有效的检出IC构装中因水气或热能所造成的破坏如﹕脱层、气孔及裂缝…等。 超声波在行经介质时，若遇到不同密度或弹性系数之物质时，即会产生反射回波。而此种反射回波强度会因材料密度不同而有所差异.C-SAM即最利用此特性来检出材料内部的缺陷并依所接收之讯号变化将之成像。因此，只要被检测的IC上表面或内部芯片构装材料的接口有脱层、气孔、裂缝…等缺陷时，即可由C-SAM影像得知缺陷之相对位置C-SAM服务超声波扫描显微镜(C-SAM)主要使用于封装内部结构的分析，因为它能提供IC封装因水气或热能所造成破坏分析，例如裂缝、空洞和脱层。C-SAM内部造影原理为电能经由聚焦转换镜产生超声波触击在待测物品上，将声波在不同接口上反射或穿透讯号接收后影像处理，再以影像及讯号加以分析。C-SAM可以在不需破坏封装的情况下探测到脱层、空洞和裂缝，且拥有类似X-Ray的穿透功能，并可以找出问题发生的位置和提供接口数据。主要应用范围：· 晶元面处脱层· 锡球、晶元、或填胶中之裂缝· 晶元倾斜· 各种可能之孔洞（晶元接合面、锡球、填胶…等）· 覆晶构装之分析C-SAM的主要特性： 非破坏性、无损伤检测内部结构 可分层扫描、多层扫描 实施、直观的图像及分析 缺陷的测量及百分比的计算 可显示材料内部的三维图像 对人体是没有伤害的 可检测各种缺陷（裂纹、分层、夹杂物、附着物、空洞、孔洞、晶界边界等）C-SAM的主要应用领域： 半导体电子行业：半导体晶圆片、封装器件、红外器件、光电传感器件、SMT贴片器件、MEMS等; 材料行业：复合材料、镀膜、电镀、注塑、合金、超导材料、陶瓷、金属焊接、摩擦界面等； 生物医学：活体细胞动态研究、骨骼、血管的研究等；

  • 【资料】X射线衍射与电子显微分析

    X射线衍射与电子显微分析[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=48585]X射线衍射与电子显微分析[/url]

  • 扫描电子显微镜，这个资料我给100分

    [b][color=#000000]扫描电子显微镜价格[/color][/b][color=#000000]扫描电子显微镜的价格？这个是很多科研人关心的问题之一，我们想知道电子显微镜多少钱（大概一个范围）；其实，我们知道显微镜的价格是不便宜的，基本的一个范围就是30-100万，特别是高端的扫描电子显微镜价格200-300万也是什么不可能的事。下面小冉就给大家说说扫描显微镜的工作原理和价格以及其用途，给大家做一个了解和参考！[/color][color=#000000][/color][color=#000000][/color][align=center][color=#000000][img=扫描电子显微镜原理及功能用途,400,412]http://www.gdkjfw.com/images/image/99161528266162.jpg[/img][/color][/align][color=#000000][/color][color=#000000][color=#000000]　　[/color][b][color=#000000]扫描电子显微镜多少钱？[/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000][b][color=#000000][/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000]　　FEI Inspect S50扫描电子显微镜参考成交价格：200万元[/color][color=#000000]　　FEI Inspect F50场发射扫描电子显微镜参考成交价格：300万元[/color][color=#000000]　　FEI Quanta 650 FEG环境扫描电镜参考成交价格：43万元[/color][color=#000000]　　FEI Quanta 250环境扫描电子显微镜参考成交价格：200万元[/color][color=#000000]　　FEI Magellan 400L XHR场发射扫描电子显微镜参考成交价格：200万元[/color][color=#000000]　　注：价格来源于网络，仅供参考[/color][color=#000000][/color][color=#000000][color=#000000]　　[/color][b][color=#000000]扫描电子显微镜结构图[/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000][b][color=#000000][/color][color=#000000][/color][/b][/color][align=center][color=#000000][b][color=#000000][img=扫描电子显微镜原理及功能用途,350,456]http://www.gdkjfw.com/images/image/28441528266163.jpg[/img][/color][/b][/color][/align][align=center][color=#000000]扫描电子显微镜结构图[/color][/align][color=#000000][/color][color=#000000][color=#000000]　　[/color][b][color=#000000]扫描电子显微镜工作原理[/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000][b][color=#000000][/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000]　　扫描电子显微镜可粗略分为镜体和电源电路系统两部分。镜体部分由电子光学系统（包括电子枪、扫描线圈等）、试样室、检测器以及真空抽气系统组成[/color][color=#000000][/color][align=center][color=#000000][img=扫描电子显微镜原理及功能用途,454,389]http://www.gdkjfw.com/images/image/24361528266163.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#000000]扫描电子显微镜原理图[/color][/align][color=#000000]　　从图可以看出，由三极电子枪所发射出来的电子束（一般为50μm），[/color][color=#000000]　　在加速电压的作用下（2～30kV），经过三个电磁透镜（或两个电磁透镜），汇聚成一个细小到5nm的电子探针，在末级透镜上部扫描线圈的作用下，使电子探针在试样表面做光栅状扫描（光栅线条数目取决于行扫描和帧扫描速度）。由于高能电子与物质的相互作用，结果在试样上产生各种信息如二次电子、背反射电子、俄歇电子、X射线、阴极发光、吸收电子和透射电子等。因为从试样中所得到各种信息的强度和分布各自同试样表面形貌、成分、晶体取向、以及表面状态的一些物理性质（如电性质、磁性质等）等因素有关，因此，通过接收和处理这些信息，就可以获得表征试样形貌的扫描电子像，或进行晶体学分析或成分分析。[/color][color=#000000]　　为了获得扫描电子像，通常是用探测器把来自试样表面的信息接收，再经过[/color][color=#000000]　　信号处理系统和放大系统变成信号电压，最后输送到显像管的栅极，用来调制显像管的亮度。因为在显像管中的电子束和镜筒中的电子束是同步扫描的，其亮度是由试样所发回的信息的强度来调制，因而可以得到一个反映试样表面状况的扫描电子像，其放大系数定义为显像管中电子束在荧光屏上扫描振幅和镜筒电子束在试样上扫描振幅的比值，即[/color][color=#000000]　　M＝L/l＝L/2Dγ[/color][color=#000000]　　式中M－放大系数；[/color][color=#000000]　　L－显像管的荧光屏尺寸；[/color][color=#000000]　　l－电子束在试样上扫描距离，它等于2Dγ，其中D是扫描电子显微镜的工[/color][color=#000000]　　作距离；[/color][color=#000000]　　2γ－镜筒中电子束的扫描角。[/color][color=#000000][/color][align=center][color=#000000][img=扫描电子显微镜原理及功能用途,400,363]http://www.gdkjfw.com/images/image/56411528266163.jpg[/img][/color][/align][color=#000000][/color][color=#000000][color=#000000]　　[/color][b][color=#000000]扫描电子显微镜用途[/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000][b][color=#000000][/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000]　　最基本的功能是对各种固体样品表面进行高分辨形貌观察。大景深图像是扫描电子显微镜观察的特色，例如：生物学，植物学，地质学，冶金学等等。观察可以是一个样品的表面，也可以是一个切开的面，或是一个断面。冶金学家已兴奋地直接看到原始的或磨损的表面。可以很方便地研究氧化物表面，晶体的生长或腐蚀的缺陷。它一方面可更直接地检查纸，纺织品，自然的或制备过的木头的细微结构，生物学家可用它研究小的易碎样品的结构。例如：花粉颗粒，硅藻和昆虫。另一方面，它可以拍出与样品表面相应的立体感强的照片。[/color][color=#000000]　　在扫描电子显微镜应用中，很多集中在半导体器件和集成电路方面，它可以很详细地检查器件工作时局部表面电压变化的实际情况，这是因为这种变化会带来象的反差的变化。焊接开裂和腐蚀表面的细节或相互关系可以很容易地观察到。利用束感生电流，可以观测半导体P—N结内部缺陷。[/color][color=#000000]　　电子束与样品作用区内，还发射与样品物质其他性质有关信号。例如：与样品化学成分分布相关的，背散射电子，特征X射线，俄歇电子，阴极荧光，样品吸收电流等；与样品晶体结构相关的，背散射电子衍射现象的探测；与半导体材料电学性能相关的，二次电子信号、电子束感生电流信号；在观察薄样品时产生的透射电子信号等。目前分别有商品化的探测器和装置可安装在扫描电子显微镜样品分析室，用于探测和定性定量分析样品物质的相关信息。[/color][color=#000000]　　扫描电子显微镜对于固体材料的研究应用非常广泛，没有任何一种仪器能够和其相提并论。对于固体材料的全面特征的描述，扫描电子显微镜是至关重要的。[/color][color=#000000][/color][align=center][color=#000000][img=扫描电子显微镜原理及功能用途,446,310]http://www.gdkjfw.com/images/image/52861528266163.jpg[/img][/color][/align][color=#000000][/color][color=#000000][color=#000000]　[/color][b][color=#000000]　扫描电子显微镜功能[/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000][b][color=#000000][/color][color=#000000][/color][/b][/color][color=#000000]　　1、扫描电子显微镜追求固体物质高分辨的形貌，形态图像(二次电子探测器SEI)-形貌分析(表面几何形态，形状，尺寸)[/color][color=#000000]　　2、显示化学成分的空间变化，基于化学成分的相鉴定---化学成分像分布，微区化学成分分析[/color][color=#000000]　　1)用x射线能谱仪或波谱(EDSorWDS)采集特征x射线信号，生成与样品形貌相对应的，元素面分布图或者进行定点化学成分定性定量分析，相鉴定。[/color][color=#000000]　　2)利用背散射电子BSE)基于平均原子序数(一般和相对密度相关)反差，生成化学成分相的分布图像；[/color][color=#000000]　　3)利用阴极荧光，基于某些痕量元素(如过渡金属元素，稀土元素等)受电子束激发的光强反差，生成的痕量元素分布图像。[/color][color=#000000]　　4)利用样品电流，基于平均原子序数反差，生成的化学成分相的分布图像，该图像与背散射电子图像亮暗相反。[/color][color=#000000]　　5)利用俄歇电子，对样品物质表面1nm表层进行化学元素分布的定性定理分析，[/color][color=#000000]　　3、在半导体器件(IC)研究中的特殊应用：[/color][color=#000000]　　1)利用电子束感生电流EBIC进行成像，可以用来进行集成电路中pn结的定位和损伤研究[/color][color=#000000]　　2)利用样品电流成像，结果可显示电路中金属层的开、短路，因此电阻衬度像经常用来检查金属布线层、多晶连线层、金属到硅的测试图形和薄膜电阻的导电形式。[/color][color=#000000]　　3)利用二次电子电位反差像，反映了样品表面的电位，从它上面可以看出样品表面各处电位的高低及分布情况，特别是对于器件的隐开路或隐短路部位的确定尤为方便。[/color][color=#000000]　　4、利用背散射电子衍射信号对样品物质进行晶体结构(原子在晶体中的排列方式)，晶体取向分布分析，基于晶体结构的相鉴定。[/color][color=#000000]　　扫描电子显微镜对科学研究与企业生产都有巨大的作用，在新型陶瓷材料显微分析中也有广泛的应用。上文就是小编整理的扫描电子显微镜的工作原理和应用介绍，在这方面有兴趣的朋友可以做进一步的深入研究。[/color]

  • 【原创大赛】材料显微分析技术简介——第一篇 神奇的二次电子

    【原创大赛】材料显微分析技术简介——第一篇 神奇的二次电子

    材料显微分析工作不仅限于通过显微镜等设备对材料的微观形貌进行拍摄，还包括了对所拍摄到的微观图像进行分析。对这些数据的分析工作要求我们一定要考虑到：对样品自身背景、取样方法、制样工艺、拍摄条件以及接收信号种类对测试结果的影响。对电镜原理及分析技术的理解不仅可以让我们得到漂亮美观的显微图像数据，可以帮助我们挖掘到很多关于材料本身的信息。我们知道扫描电镜对样品的微观信息进行分析，有各种个样的成分信息。比如背散射电子、二次电子、背散射电子衍射花样、阴极荧光、特征X射线、韧致辐射X射线等等。[align=center][img=,690,329]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/07/201707310824_01_1735_3.jpg[/img][/align][align=center]图1、 不同二次电子的特征及产生机理示意图[/align]拿二次电子衬度形貌的分析来举例如图1所示，二次电子在扫描电子显微镜中主要分三大类：第一类是一次二次电子SE1，主要是由入射电子与样品极表面（几纳米的深度）相互作用而产生的，它的产率受入射电子束方向与样品表面夹角的影响，因此体现的是样品的形貌衬度；第二类是二次二次电子SE2，主要是由入射电子束在材料机体内发生弹射后又从电子束进入材料的入射点周围及附近弹出时，与材料表面相互作用而引起的，它的产率受材料主体成分及材料晶体取向的影响，因此体现的是材料成分信息及材料晶体取向信息（一般情况下SE1信号在材料的观测中为主要衬度，只有在SE1衬度极弱的条件下，SE2信号的衬度才可以被我们观察到）；第三类是三次二次电子SE3，主要是由电镜样品舱内或物镜极靴或样品台与弹射出样品的背散射电子作用而产生的，它一般是作为噪音来被二次电子探测器接收到的，这类信号越多，电镜拍摄到的图像衬度越差。[align=left][b]SE2二次电子的应用[/b][/align]我们都知道一般SE1二次电子用来观测图像的形貌衬度，而把SE2或SE3当做噪音来看待，但是随着制样工艺及电镜表征技术的发展，SE2二次电子信号也可以被我们用来分析材料的微观结构信息，如下图粉末颗粒截面：[align=center][img=,690,518]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/07/201707310824_02_1735_3.jpg[/img][/align][align=center]图2 电极材料截面形貌观测[/align][align=center][/align][align=left]我们可以观测，当通过氩离子束抛光把样品表面抛的绝对平的时候，SE1的形貌衬度在图中样品的平面部位的衬度就很弱，因此反应晶体取向衬度的SE2信号就被我们观察到了，图像中颗粒截面的这种亮暗不同是由不同 取向的晶粒造成的，通过它我们可以很直观的看到样品的晶粒度（亮暗区域的大小）、晶体取向差（亮暗灰度绝对值）。对我们研究新材料的性能及合成工艺有很大的帮助。[/align][align=center][/align]

  • 2014 牛津仪器 学无止“镜”——发现微观之美显微分析大赛

    2014 牛津仪器 学无止“镜”——发现微观之美OI 2014 Learn Beyond the Microscopy - Discovering the Beauty of Microanalysisl 大赛主题：1. 突破技术革新之路，挑战显微分析的最高极限2. 尽享科学研究最美，发现枯燥科研亦别有洞天l 参赛要求：1. 显微分析结果必须使用牛津仪器的设备完成http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif2. 参赛文件组成a) 参赛图片, 要求为像素在512X512以上的JPG格式（允许使用Photoshop等图像软件适当美化）b) 参赛图片相关的原始数据文件，如INCA软件采集的ipj格式文件或者Aztec软件采集的数据文件包c) 使用WORD文件陈述参赛项目: 包含根据图像意境命名的参赛作品名称,样品情况说明和采集参数设置 (如放大倍数，加速电压，采集时间等)3. 请将以上所有内容用压缩软件打包后Email发送至大赛组委会l 奖项设置：大会组委会将根据照片的艺术美感和显微分析技术难度分别进行评比奖项评奖人人数奖品最佳艺术奖组委会每种奖项分别设第一,二,三名第一名 iPad mini第二名 iPod nano第三名 iPod shuffle最佳技术奖组委会最佳人气奖用户会现场观众投票1. 优秀参赛图片将录入[size

  • 搜集扫描电子显微镜中的名词

    扫描电子显微镜（Scanning electron microscope--SEM）是以类似电视摄影显像的方式，通过细聚焦电子束在样品表面扫描激发出的各种物理信号来调制成像的显微分析技术。SEM在60’s商品化，应用范围很广；SEM成像原理与TEM完全不同，不用电磁透镜放大成像；新式SEM的二次电子分辨率已达1nm以下，放大倍数可从数倍原位放大到30万倍；景深大，可用于显微断口分析，不用复制样品，方便；电子枪效率不断提高，使样品室增大，可安装更多的探测器，因此，与其它仪器结合，可同位进行多种分析，包括形貌、微区成分、晶体结构。现在搜集一些相关的名词，确保在看文献时能够认识，不妨碍理解！请各位朋友多多参与，共同学习！先从我自己开始！http://www.chemshow.cn/bbs/App_Themes/Images/Smiley/Emot/em44.gif 背散射电子 背散射电子是指被固体样品中的原子核或核外电子反弹回来的一部分入射电子。用Ib示背散射电子流。 弹性背散射电子：一般样品表面原子核反弹回来可达数千至数万ev。非弹性背散射电子：电子在固体中经过一系列散射后最终由原子核反弹的或由核外电子产生的，不仅方向改变，能量也有不同程度的损失。其能量分布范围很宽，数十ev至数千ev。 特 征： 弹性背散射电子远比非弹性背散射电子所占的份额多 ；能量高，例如弹性背散射，能量达数千至数万ev ；背散射电子束来自样品表面几百nm深度范围 ；其产额随原子序数增大而增多 ；用作形貌分析、成分分析（原子序数衬度）以及结构分析（通道花样）。俄歇电子如果原子内层电子在能级跃过程中释放出来的能量ΔE并不以X射线的形式发射出去，而是用这部分能量把空位层的另一个电子发射出去（或空位层的外层电子发射出去），这一个被电离的电子称为俄歇电子。 每种原子都有自己的特定壳层能量，所以它们的俄歇电子能量也各有特征值。特征：1） 各元素的俄歇电子能量值很低，50~1500ev ；2） 来自样品表面1—2nm范围。其平均自由程很小（1 nm ）， 较深区域产生的俄歇电子向表面运动时必然会因碰撞损失能量而失去特征值的特点。因此，只有在距表面1nm左右范围内逸出的俄歇电子才具有特征能量。因此它适合做表面分析。希望对大家有点帮助

  • 求助：章晓中老师《电子显微分析》

    请问哪位网友手里有 清华章晓中老师的《电子显微分析》一书的电子版？麻烦发我一下哈。 本来应该买正版书的，但由于在国外，买不到书。抱歉了，章老师！ wujsyy@126.com

  • 【谱图】微分干涉金相显微镜的简要介绍

    DMM-5000微分干涉金相显微镜采用优质的无限远光学系统，同时配备明暗场通用的长工作距离平场平场消色差物镜，多光路的系统设计，可同时支持双目镜筒观察和数码摄像装置观察。DMM-5000倒置金相显微镜可广泛应用于研究金属的显微组织，能在明场、暗场、偏光、微分干涉下进行观察和摄影，配备专用软件，更可同步进行测量分析。可供研究单位、冶金、机械制造工厂以及高等工业院校进行金属学与热处理、金属物理学、炼钢与铸造过程等金相试验研究之用。DMM-5000高级正置金相显微镜，选用优质的光学元件，配有超大视场目镜、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜，可选用微分干涉（DIC）观测、获得高清晰的图像，使图像衬度更好。是针对半导体晶圆检测、太阳能硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的，作为高级工业金相显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察，广泛用于工厂、研究机构、高等院校对太阳能电池硅片、半导体晶圆检测、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。 DMM-5000C电脑型微分干涉金相显微镜是将精锐的光学显微镜技术、先进的光电转换技术、尖端的计算机成像技术完美地结合在一起而开发研制成功的一项高科技产品。既可人工观察金相图像,又可以在计算机显示器上很方便地适时观察金相图像，并可随时捕捉记录金相图片,从而对金相图谱进行分析,评级等,还可以保存或打印出高像素金相照片。

  • 【转帖】美科学家新技术让扫描隧道显微镜变快100倍

    据国外媒体报道，来自美国康奈尔大学和波士顿大学的科学家近日称，他们最近开发出一种新技术，能够让扫描隧道显微镜(STM)成像速度加快100倍，可以清晰地观测到原子的细微变化情况。　　这是一个简单的改动，其原理基于目前在纳米电子学中应用的一种测量方法，却使得扫描隧道显微镜(STM)拥有了新的能力--包括感应单个原子大小的小点的温度，以及探测精确到0.00000000000001米(这是比原子直径小3万分之一的距离)的微型变化。扫描隧道显微镜是根据量子力学中的隧道效应原理，通过探测固体表面原子中电子的隧道电流来分辨固体表面形貌的新型显微装置。1981年，世界上第一台具有原子分辨率的扫描隧道显微镜诞生后，人类实现了从半导体技术到纳米电子学等许多领域的重大发现。　　然而，由于电流可以在十亿分之一秒中发生变化，因此扫描隧道显微镜的测量速度极其缓慢。而且限制因素并不仅仅在于信号方面，还在于信号分析中涉及的基本电子学。理论上，扫描隧道显微镜可以跟电子通过隧道一样迅速地收集数据——以一千兆赫的速率(每秒10亿周波)。然而，典型扫描隧道显微镜的运行速度常常因电线中的电容或储能电容器的限制而减慢至1千赫(每秒1000周波)，而这些电线正是其读出电路系统的组成部分。　　为此，研究人员们曾尝试过许多复杂的补救方法。康奈尔大学物理学副教授舒瓦布表示，不料最后的解决方法竟是惊人的简单。研究人员表示，通过增加一个额外的射频波源，并通过一个简单的网络向扫描隧道显微镜发送一个波，然后就可以依据返回至射频波源的波的特点，探测隧道接口(即探针和固体表面之间的距离)的电阻。这项技术被称为反射计，它使用标准的电线作为高频波的通道，这种高频波不会受电线电容的限制而减速。　　该装置还为原子分辨率温度测量法和运动探测法提供了可能，可以用来测量比原子小3万倍距离的运动。舒瓦布说：“频率的基本极限与人们的操作之间有6个量级。有了射频配合，速度就可以增加100到1000倍，希望能或多或少得到些视频图像。有了这个技术，我们就可以用扫描隧道显微镜来进行许多物理实验。我坚信，10年后将出现一大批射频-扫描隧道显微镜，被用来进行各种各样的实验。”(

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