小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。MicroWriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。 产品特点 Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。光学轮廓仪 MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。标记物自动识别点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。直写前预检查软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。简单的直写软件MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。Clewin 掩膜图形设计软件 ● 可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)● 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式● 书写范围只由基片尺寸决定产品参数 MicroWriter ML3基本型增强型旗舰型大样品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm大直写面积149mm x 149mm149mm x 149mm195mm x 195mm曝光光源405 nm LED 1.5W405 nm LED 1.5W385 nm LED 适用于SU-8 (365+405nm双光源可选)直写分辨率1μm1μm and 5 μm0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm直写速度20mm2/min @ 1μm20mm2/min @ 1μm120mm2/min @ 5μm25mm2/min @ 0.6μm50mm2/min @ 1μm100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm对准显微镜镜头x10x3 and x10 自动切换x3, x5, x10, x20 自动切换多层套刻精度±1μm±1μm±0.5μm小栅格精度200nm200nm100nm样品台小步长100nm100nm50nm光学轮廓Z分辨率无(可升)300nm100nm样品表面自动对焦是是是灰度直写(255)是是是自动晶片检查工具无(可升)有有温控样品腔室无(可升)无(可升)有气动减震光学平台无(可升)无(可升)有应用案例0.4 μm特征线宽曝光结果直写分辨率0.1μm直写分辨率0.6μm灰度直写微结构/微器件/微电制备
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