激光脉冲测量系统

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。

LAR64定向脉冲激光接收器测试系统图1 位于旋转台上的LAR64测试系统基本信息定向脉冲激光接收器有一系列应用：激光导引头、激光雷达、光通信系统、激光跟踪器和激光测距机。这些定向接收器的任务是检测脉冲激光照射的靶标，通常由以下模块组成：高灵敏度离散探测器（在应用于激光导引头时为象限光电二极管）、光学物镜、信号处理电子设备和机械外壳。有时激光接收器与轴对准装置或激光发射器配合，有时与激光导引头一样是个独立的装置。它是一种通用测试系统，可供民用用户（测试LRF、激光跟踪器、激光雷达）和军用用户（激光导引头）使用。因此数据表是通用的，一些功能对第一组客户有效的，对第二组或相反组的客户无效。工作原理LAR64系统是一种激光点投影仪，模拟由具有可变辐射度、时间和空间特性的脉冲激光辐射照射的靶标：1.辐射度参数：被测接收器光学平面的峰值辐照度（靶标平面的峰值辐射强度），2.时间参数：脉冲宽度、脉冲重复频率，3.空间参数：靶标角度大小、靶标角度位置。峰值辐照度的调节通过激光源峰值功率的电子调节、电动步进衰减器和可变尺寸靶标的融合实现。时间特性的调节通过激光源的直接电子调节完成，靶标角度大小的调节用精确定义光学物镜所见区域的电动机械靶标完成。靶标角位置的调节通过将LAR64系统放置在旋转台上实现。与L64系统的对比LAR64系统提供了类似的测试功能，如Inframet近十年来提供的较老、成熟的L64系统编码。然而，有三个主要区别：1） L64使用更大的反射式平行光管，LAR64使用小的折射平行光管；2） L64系统的平行光管静止，待测接收器位于角载物台上；LAL64通过旋转自身来模拟空间动态靶标，因为LAL64系统位于角载物台上；3） LAR64系统比L64系统小得多。设计理念LAR64测试系统由一组模块组成：LS64光源、OMLAR64光学模块、CLT730折射式平行光管、载物台、L64控制程序、笔记本电脑。LS64光源是L64测试系统的主要模块。该光源能够从平行光管输出光脉冲，光脉冲的脉冲重复频率可以响应内部或外部的光/电同步信号，且辐射出射率可以调节。发射的光脉冲通过OMLAR64光学模块传输，该模块负责平行光管输出处辐射出射的均匀性和激光源表观尺寸的调节。最后，利用CLT折射平行光管将脉冲光源的光斑投射到被测激光接收器的方向上。Inframet还可以提供可选的参考轴对准相机，以实现接收器参考机械轴的轴对准。输出模式典型的LAR64系统可以生成工作在PRF（脉冲重复频率）模式下的激光光源的脉冲图像。在这种模式下，该系统发射恒定频率的光脉冲。应注意发射频率可以由LAR64系统的用户在较宽范围内调节，但当系统开始发射激光脉冲时，频率恒定。系统可以使用三种同步模式工作：1. 内部电触发（自由运行）-脉冲在按下启动按钮后发射，发射直到按下停止按钮；2. 外部电触发发射多脉冲或单脉冲；3. 外部光信号触发发射多脉冲或单脉冲。该系统提供了非常高的脉冲重复频率调节精度，这一特性在定向激光接收器的大多数应用中至关重要。测试能力LAR64系统基本上是可以模拟调节时间-空间特性的激光脉冲光源。LAR64系统不分析被测定向激光接收器产生的输出信号，需要用户自己进行相关分析。通过分析测试的定向激光接收器对LAR64系统投影的一系列脉冲图像的反应，可以进行以下测试：1. 接收器灵敏度的测量（检查在LAR64出口处仍然可被测试的激光接收器检测到的最小输出辐照度是多少）；2. 基本性能测试：激光接收器对手动调节特性的模拟激光源的反应：脉冲功率、时间特性（PRF、脉冲时间宽度）、角度大小和角度位置；3. 先进的性能测试：激光接收器对自动调节源特性（脉冲功率、时间特性（PRF、脉冲时间宽度）、角度大小和角位置）。在这种情况下，该系统可以真实地模拟位于可变距离（较短的距离-较强的峰值脉冲功率和较大的角尺寸）的激光光斑。轴对准能力定向激光接收器的设计各不相同。所有的LIDAR和部分的LRFs配备了外部成像轴对准设备（可见光相机、热像仪），而当激光导引头和一些LRF被用作没有成像轴对准工具的独立设备时，会产生一些问题。来自第一组的激光接收器具有两个光轴：1. 激光接收器的光轴（穿过检测器中心和光学物镜中心的轴）2. 轴对准装置的视线，如VIS相机或热像仪这种激光接收器的轴对准测试的目的是测量这两个轴之间的角度，然后将该角度减小到零（或其他所需角度）。来自第二组的激光接收器也具有两个轴：1. 激光接收器的光轴（穿过检测器中心和光学物镜中心的轴）2. 接收器的参考机械轴。基准机械轴是安装在圆柱形机械外壳内的接收器的对称轴，或者是平行于基准机械导轨的轴，或者可以是垂直于接收器外壳前壁上的基准机械平面轴。这种非成像激光接收器的轴对准测试的目的是测量这两个轴之间的角度，并且通常还将该角度几乎减小到零。LAR64能够对两组激光接收器进行轴对准测试。为了实现成像激光接收器的轴对准测试，LAR不仅投影1060nm波段的脉冲激光光斑的图像，而且投影可见光波段的该靶标光斑的图像。因此当接收器获得最大信号时，可以检查轴对准装置的视线是否指示可见激光靶标的角位置中心。如果要测试非成像激光接收器，那么Inframet提供具有与光轴相同的机械轴的特殊可见相机。该专用相机用于通过四个步骤检查受试接收器的机械轴是否与其光轴一致：1. 被测接收器固定在工作平台上。2. 通过LAR64调节模拟靶标的角位置，以实现来自离散检测器的最大信号，3. 被测接收器由参考相机代替。参考视轴相机固定在与实际接收器相同的位置。4. 如果接收器的光轴与其机械轴平行，则相机的瞄准标记指示在可见光波段看到的模拟靶标的中心。注意：用于轴对准参考机械轴的参考轴对准相机是一个可选块。只有当客户交付测试接收器的机械图纸时，才能交付。根据待测接收器校准LAR64建议与CLT730平行光管的直径相比，测试接收器的光学器件至少小10%。当根据测试接收器对齐LAR64时，建议遵循两条规则：1. CLT730平行光管的光学器件应与被测接收器的光学器件在同一轴上，2. LAR64的光学器件与被测接收器的光学器件之间的距离应较短（建议距离在50mm以下）。当LAR64旋转以模拟模拟激光光斑的可变位置时，短距离尤为重要。为了能够更容易地将UUT设置在相对于CLT730平行光管的适当位置，我们提供了特殊的圆形适配器（带轨道平台的版本）。注意：LAR64测试系统在测试光学器件大于其自身光学器件的接收器时也可以正常工作。然而，在这种情况下，应更改辐射定标。请将此类非典型案例告知Inframet。技术规格LAR64系统可以以一系列不同设计和不同测试能力的版本的形式交付。以下是最先进版本的技术规范。表1 最先进版本LAR64测试系统的技术规格参数值待测接收器应用激光导引头、激光雷达、LRF、跟踪器、光通信系统光学孔径54mm波长1064nm（可选其他波段）设计1.具有成像光学器件的大象限探测器2.具有成像光学器件的单个探测器待测接收器的最大重量没有限制，放在客户的桌子上基础参数平行光管类型折射式平行光管孔径60mm平行光管分辨率 60 lp/mrad平行光管输出功率均匀性1≤10%（使用40mm孔径测量）发射辐射的中心波长1064±5nm光谱宽度≤10nm脉冲发射模式发射模式1.预设脉冲重复频率（PRF）2.预设脉冲间隔调制算法（PIM）-可选内部同步模式下的脉冲重复频率范围1Hz – 20 kHz外部同步模式下的脉冲重复频率范围0.1 – 20 kHzPRF稳定性周期调节光栅=1us。最大误差：周期与光栅之比为自然数的频率为0.0001%（几乎所有应用）其他频率的0.00001%倍频率（Hz）同步/触发同步模式1） 内部电触发器（自由运行）2） 外部电触发器（开始一系列脉冲或脉冲对脉冲操作）3）外部光信号触发同步输出是，TTL标准输入触发电压范围2.4V – 4.1V脉冲强度特性调节类型根据预先编程的时间轨迹手动或自动（模拟可变距离）辐射出射[W/cm2]在平行光管输出处（用于最大靶标尺寸）100nW/cm2到 40 mW/cm2调节动态或辐射出射率至少400000:1峰间不稳定性（峰值功率）2%辐射出射率调节的分辨率由于1%激光脉冲的时间特性脉冲时间宽度的调节范围20-500ns；连续调节脉冲时间宽度调节的分辨率1ns激光脉冲相对于同步脉冲的时间延迟0.1-650 us模拟激光光源靶标形状菱形（可选圆形）靶标尺寸范围至少0.1-10mrad（连续调节）靶标大小的调节方法电脑控制连续调节模拟激光源的角位置脉冲激光源的角位置电脑动态控制，在平台上测试接收器角度范围方位角可达30º 仰角可达6º 角位置调节速度方位角–1.5º /s海拔–0.5º /s角位置分辨率0.05 º 靶标移动轨迹预编程最多10个角度位置其它参数PC通信端口USB2.0电源AC230V工作温度+5°C至+35°C存储温度-5°C至+55°C重量12kg以下（不包括旋转阶段）尺寸500x280x190mm以下（不包括旋转台）1使用25mm孔径在中心直径60mm处测量注意：随着LAR64的开发，规格可能会发生变化。版本配置LAR64工作系统可以以一系列不同设计和不同测试能力的版本的形式交付。表1中给出的规格是指编码为LAR64XD版本的最先进的典型版本（在PRF模式下工作）。该工作系统可选择提供多种不同测试功能版本：1.LAR64XD：最先进的版本，能够在典型的PRF模式下工作。第9节中的技术细节。这是用于扩展测试在PRF模式下工作的典型定向激光接收器的推荐版本。2.LAR64XC：大多数功能与LAR64XD相同，但没有根据预先编程的时间轨迹（模拟可变距离场景）随时间自动连续调节激光源特性（脉冲峰值功率、重频、靶标角尺寸、靶标角位置）。使用所有光源属性的控制软件进行手动调节仍然是可能的。3.LAR64XB：与LAR64XC一样，但仅模拟空间静态脉冲光源（不调节光源角位置）。4.LAR64XA：与LAR64XB相同，但除此之外，平行光管输出处的最大辐射出射限制为0.4 mW/cm2。这是推荐用于定向激光接收器的基本检查（灵敏度）的低成本版本。参数XA版本XB版本XC版本XD版本预编程时间轨迹下激光源特性的软件调节无无无有激光源角位置的调节无无有有最大辐射出射率0.4 mW/cm24 mW/cm210 mW/cm240 mW/cm2可选项大多数定向激光接收器工作在脉冲重复频率模式下。然而，一些这样的接收机可以在PIM（脉冲间隔调制）模式下工作。因此，Inframet也提供了可选的LAR64系统，能够在PIM（脉冲间隔调制）模式下工作。有无数种可能的PIM代码可用于不同的应用程序。因此，客户应告知Inframet所需代码的编号和详细信息。有两个可选项：1. 客户需要固定数量的预定义代码（代码数量不超过20）。Inframet提供软件，用户可以选择用于发射光脉冲的代码。2. Inframet提供的软件工具使用户能够定义大量PIM代码。用户应告知Inframet用于创建PIM代码的数学公式以及调节参数的限制。因此，有两种可选版本能够在PIM模式下工作：Y1–Inframet提供软件，用户可以选择用于发射光脉冲的代码（代码数量不超过20）。Y2–Inframet提供的软件工具使用户能够定义大量PIM代码。用户应告知Inframet用于创建PIM代码的数学公式以及调节参数的限制。请添加选项的代码，示例：LAR64XD-Y2表示带有选项Y2的LAR64XD工作系统。总结LAR64测试系统是一个功能强大的测试系统，用于测试工作在1064nm光谱带（或其他波长）的定向激光接收器。它能够在实验室条件下进行扩展测试，并收集有关被测接收器性能的信息，通常只有在经过漫长而昂贵的现场测试后才能获得。主要特点：1. 当典型的测试系统在发射10kHz以上和10Hz以下的PRF脉冲时，LAR64提供了几乎从1Hz到20kHz的PRF的宽范围调节。2. LAR64系统产生的峰值功率脉冲可以在非常宽的范围内调节。典型的动态调节至少为400000次。平行光管输出的最大辐射出射率可以高达40mW/cm2。当从接收器到被照射靶标的距离从几十公里到几百米不等时，这种高动态调节与高最大功率相结合，能够真实地模拟真实场景。应该注意的是，竞争对手系统提供的模拟源的功率的动态调节通常不超过500次，并且这些系统不能模拟高辐照度靶标。3. LAR64能够在典型测试系统产生固定脉冲宽度（通常约20ns）的脉冲的情况下，将脉冲宽度调节在10ns至500ns的超宽范围内。4. 超高PRF稳定性。LAR64能够以1µ s的调节分辨率调节脉冲周期。实现了非常低的频率调节最大误差：发射脉冲周期与调节分辨率（光栅）之比等于自然数的频率为0.0001%（几乎所有应用），或其他频率为频率的0.00001%（Hz）。这种超低容差很重要，因为它能够在不失去接收器和外部发射器之间同步的情况下进行长时间测试。5. 分辨率为1ns的超精密脉冲宽度调节。典型的系统能够以不优于5ns的分辨率调节脉冲时间宽度。6. 能够将接收器光轴精确对准参考光轴（如果使用轴对准装置的轴）或接收器的参考机械轴/平面。7. 能够测试激光接收器对具有自动调节的源特性（脉冲功率、时间特性（PRF、脉冲时间宽度、PIM）、角尺寸、，和角位置）。在这种情况下，系统可以真实地模拟距离源接收器随时间变化的场景（较短的距离-较强的峰值脉冲功率和较大的角尺寸）。8. 可选择在PIM模式下工作。Inframet提供的软件允许用户定义大量PIM代码。对于定向脉冲激光接收器的许多应用来说，这八个在典型测试系统中不满足的特性是极其重要的。因为它们能够在实验室条件下逼真地模拟复杂的现场场景。总之，LAR64系统代表了用于测试激光接收机的新一代测试系统。它的性能大大超过了市场上其他商业测试系统的性能。

该系统为球形脉冲激光沉积系统（PLD）工艺研发设备。脉冲激光沉积 （Pulsed laser deposition, PLD），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。1、环境温度：10℃～35℃2、相对湿度：不大于75%3、供水：水压0.2MPa～0.4MPa,水温15℃～25℃4、设备周围环境整洁，空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。产品名称球形脉冲激光沉积系统（PLD）安装条件1、环境温度：10℃～35℃2、相对湿度：不大于75%3、供电电源：220V、单相、50±0.5 Hz4、设备功率：小于4KW 5、供水：水压0.2MPa～0.4MPa,水温15℃～25℃，6、设备周围环境整洁，空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。主要参数1、系统采用真空室为球形结构，手动前开门2、真空室组件及配备零部件全部采用优质不锈钢材料制造（304），氩弧焊接，表面采用喷玻璃丸+电化学抛光钝化处理3、真空腔室有效尺寸为Φ300mm,配有可视观察窗口4、极限真空度：≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后，采用600L/S分子泵抽气，前级采用8L/S)；系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 系统从大气开始抽气到8.0x10-4 Pa，40分钟可达到； 停泵关机12小时后真空度：≤20Pa5、样品台：样品尺寸φ40mm，转速1-20RPM，基片台与转靶距离40～90mm6、样品加热最高加热温度：800℃，温控精度：±1°C，采用控温表进行控温7、四工位转靶：每个靶位φ40mm,挡板只露出一个靶位，激光束要求打在最上面靶位，转靶具有公转、自转功能8、真空室内设置烘烤、照明、水压报警装置9、MFC一路质量流量计控制进气 ：0-100sccm

FemtOgene是一套采用小于20飞秒超短脉冲激光进行靶定向基因转染的显微操作处理系统。它可以进行： 激光诱导细胞膜瞬态改变(1) 激光诱导细胞膜瞬态改变(2)l 基因治疗l 干细胞操作l 光学纳米巨细胞注射l 细胞器光学击出l 细胞内染色体分离l 高分辨率成像产品概述：FemtOgene 是一套超紧凑型扫描非线性显微镜。采用检流计式振镜进行光束扫描并配备大数值孔径物镜(40x/1.3)构成的聚焦光学元件。在亚飞升（1x10-15升）焦点体积内产生的多光子效应在细胞膜中诱导产生瞬态纳米孔洞。通过这个孔洞可以将DNA，RNA和蛋白质等巨细胞通过光学纳米注射方法注入到细胞膜中。 飞秒激光脉冲分离染色体 激光诱导细胞膜瞬态改变(3)无损轻柔地形成纳米孔洞不会对细胞产生附加的破坏，有效避免细胞死亡并能促进快速自修复过程。从而靶定向转染操作能够高效地进行。FemtOgene 基于一套亚20飞秒脉宽近红外激光显微镜构成并带有高阶色散补偿装置。创新独特的色散补偿技术解决了基于棱镜技术的飞秒激光器所观察到的光束起伏现象。纳米操作过程通过两种曝光模式进行：(a) 扫描某个感兴趣的区域(ROI) 以及(b) 单点照明。剥蚀，钻孔和切割的精度可以达到亚微米量级。 靶定向转染和光学纳米注射的激光曝光时间在毫秒量级，平均功率10 mW，重复频率85MHz。 人类染色体的纳米加工 靶定向转染。亚20飞秒激光光穿孔应用领域：纳焦亚20 fs 85兆赫兹重复频率激光脉冲可以用于进行靶定向转染，光学巨细胞纳米注射以及光学细胞内细胞器撞出。 人们的最主要的兴趣在于干细胞转染。干细胞将对当前的医学治疗例如基因治疗和组织工程产生根本性的影响。经过基因修整的干细胞可以用来产生免疫系统的调节蛋白。FemtOgene已经用于有效地进行人类唾腺，胰腺干细胞靶定向转染。技术数据：配备色散补偿装置的紧凑型即开即用封离式短脉冲飞秒激光器激光脉冲宽度： 150fs重复频率：85MHz激光平均输出功率：200mW/400mW波长：800±10nm全幅扫描，局部感兴趣区域（ROI）扫描, 线扫描，单点照明（点扫描，钻孔）典型光束扫描区间：350x350μm (水平)200μm（垂直）平台位移行程：120x102mm聚焦光学元件：放大率40倍数值孔径（NA）1.3CCD相机数字成像视频监视接口运行环境温度：15-35摄氏度相对湿度：5-80%电源功率需求：交流230V（50赫兹）系统尺寸基座490x280x480mm3扫描头：280x190x90mm3控制组件：450x300x130mm3飞秒激光器：507x280x81mm3(激光头)483x280x88mm3（用户控制器）175x104x102mm3（色散控制模块）人类干细胞靶定向转染。亚20飞秒激光光穿孔并扩散注入GFP质粒到细胞质中1-2天后出现绿色荧光所有参数可能会有所变动恕不提前通知

脉冲激光沉积系统-PLD型号：AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。技术参数配置:1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制 2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr 3.基板加热电源，最高到1200度 4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 Torr 5.样品传输室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa 6.排气系统:分子泵和干式机械泵 7.阀门: 采用超高真空挡板阀 8.真空检测:真空计 9.气路两套: 采用气体流量计控制 10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED 11.监控软件系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等 12.各种电流导入及测温端子 13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等

1.产品概述：系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途：脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它独特的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。与常规的沉积技术相比，脉冲激光沉积的过程被认为是“化学计量”的过程，因为它是将靶的成分转换成沉积薄膜，非常适合于沉积氧化物之类的复杂结构材料。当脉冲激光制备技术在难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄膜，显示出了诱人的应用景。3.真空室结构:球形开门真空室尺寸:φ450mm限真空度:≤6.67E-6Pa沉积源:φ2英寸靶材，4个样品尺寸，温度:φ2英寸，1片，高800℃占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动

型号：FROG-2 品牌：Mesa Photonics描述：频率分辨光学开关（FROG）是一种常用的脉冲测量系统。超短脉冲测量仪是Mesa Photonics研发并生产的Frog Scan测试系统，功能齐全，适应性强，且易于使用，可以满足您的所有脉冲测量需求。超短脉冲测量仪和传统的自相关法测试不同，FROG不止可以获得脉冲激光的脉宽，还能给出被测激光的脉冲相位、脉冲形状和光谱信息等参数。无论你是调整激光系统或测量脉冲形状，FRGO测试系统都能满足你的需要。超短脉冲测量仪工作原理： FROG的基本方法是将待测脉冲经分束器分为两束，其中一束引入一个可调的时间延迟，然后再让两束光通过倍频晶体产生相互作用，产生倍频信号光。经光谱仪对信号光进行光谱展开后，计算出信号Esig ( t ,τ) ,对其求傅里叶变换得到频域信号Esig (ω, τ) , 然后用实验测得的I FROG(ω,τ) 代替信号Esig (ω,τ) 的幅度得到新的Esig (ω,τ) ,经反傅里叶变换得到新的Esig ( t ,τ)应用一定的限定条件,由新的Esig ( t ,τ) 计算出新的E( t) 作为下一次迭代的初值。重复这个过程,直到FROG图形误差达到一个可以接受的值成为FROG迹线，并从FROG迹线中恢复脉冲的振幅和相位分布。 超短脉冲测量仪光路原理图： 超短脉冲测量仪产品特点：可用于不同波段激光测试测量迅速操作简单高灵敏度高测量精度 可接受定制配有功能强大的软件 超短脉冲测量仪应用范围： 超短脉冲激光测试 激光器参数调整 太赫兹泵浦激光源测试 复杂形状激光脉冲测试 超短脉冲测量仪技术参数：产品尺寸：160*305*150mm 光谱范围：450-2000nm(可定制其他波长) 脉宽范围：12fs-20ps 测试速度：2Hz 时间带宽积：50 动态范围：75dB 时域范围：30ps 时域分辨率：2fs光谱分辨率：0.2-1nm（可定制0.05-1nm）

DRX-II-JG 激光脉冲法导热仪一、概述：DRX-II-JG 激光脉冲法导热仪是采用一束激光照射样品，用红外检测器测量样品背面温度的升高，来计算样品的热扩散系数。具有快速、方便的特点。其测量热扩散系数为0.001...10cm2/sec, 并可测量样品的比热，进一步计算导热系数。应用于金属与合金、钻石、陶瓷、石墨与碳纤维、填充塑料、高分子材料等的测试。 该仪器主要测试薄的热导体，固体电绝缘材料，颗粒状材料，粉状材料，煤的导热系数固体材料，导热树脂，热导玻纤等。。符合GJB 1201.1-91固体材料高温热扩散率试验方法激光脉冲法，ASTMD 1461 闪光法测定热扩散系数，ASTM E2585 用闪光法测量热扩散率，GBT 22588 闪光法测量热扩散系数或导热系数，二、主要技术性能1、温度范围：RT，RT～100℃，RT~1000℃可选；2、导热系数测试范围：0.1～300W/mK， 1～500W/mK，10～1000W/mK；3、热扩散系数范围：0.01～1000mm2/s；4、使用红外检测器，进行非接触式的样品表面温升信号测试；5、试样测试范围：方形不小于10×10mm，圆形φ12～20（另可选20特殊规格），厚度0.1～10mm；尽量选3mm厚的样；6、测试样品种类：固体块状、低粘度液体、高粘度液体、粘性半固体、弹性固体、薄膜等均可适应，固体粉末需特需定制；7、单次测试样品个数：1个样；样品电动转换； *8、能实现真空测量和保护气氛测量两种模式（气氛：惰性、氧化、还原、静态、动态），标配为常温常压空气环境；*9、真空度为：-0.1Mpa ,10-3Pa；（如需真空价格另算）10、可进行多层接触热阻分析，并计算热阻、热扩散速率等参数，使用已知比热的标样、通过比较法可计算比热；11、可连接计算机实现全自动控制，中文操作界面，自动打印试验报告；12、多种数学模型拟合，精确的脉冲宽度修正与脉冲能量积分，热损耗修正，内置数据库。13：Cp重复性：±3% (多数材料)14：热扩散系数重复性：±2 (多数材料)15：集成式电子装备，数据采集速率达2MHz16:上位机接口：USB及专用便携式接口； 17：专用分析测试软件，支持WIDOWS10 64位操作系统仪器配置：测试主机1台（常温），进样器1套（3个样），测试软件1套，联想品牌电脑1套上门安装培训一次；图片供参考，以出厂为准！备注：导热系数=密度X比热容X热扩散系数；测试温度不同相关参数会有明显不同。*价格范围仅供参考，实际价格与配置等若干因素有关。如有需要，请拨打电话咨询。我们定会将竭尽全力为您制定完善的解决方案。

仪器简介：Ion Beam Assisted Deposition (离子辅助沉积) 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术 高性能的IBAD(离子辅助沉积)系统 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera开发了离子辅助的PLD系统，该系统将PLD在沉积复杂材料方面的优势与IBAD能力结合在一起。得到无人伦比的技术专家知识的支持Neocera离子辅助的PLD系统会得到重要应用经验的支持。系统开发结合了Neocera的工程和工艺经验，保证了最大的用途和工艺性能。 利用离子辅助的PLD, Neocera在柔性多晶yttria稳定的YSZ基片上，开发了具有下列性能的双轴结构的YBCO薄膜： l X-ray F-scan full width at half maximum of ~7° l 转变温度Tc在88-89K，转变宽度DTc约为约为0.5 K l 77 K零场强时，临界电流密度Jc范围 1.5&mdash 2x106 A/cm2 l 77 K时，磁深入深度l: 284nm l 77 K，10G时，表面电阻Rs等于700mW Continuous Composition Spread (连续组成扩展) 一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(CCS)方法。 经济的组合合成 组合合成是材料科学中最激动人心的最新进展。在一次镀膜实验中，生产多种不同材料组成的能力，大大的提高了获得具有期望材料性能的最佳组成的速度。然而，现有组合合成系统的高成本对绝大多数研究预算来说都是不切合实际的。 得到Neocera PLD经验的支持 Neoceora已经应用我们丰富的PLD和开发性能可靠的经济型设备的经验，发明了PLD-CCS(脉冲激光沉积-连续组成扩展)系统。PLD-CCS受益于多层薄膜沉积的方便性和PLD工艺能在基片上改变二元，假二元，或三元体系的组成这一固有特性。 常规沉积条件下的组合合成 PLD-CCS能以连续的方式，而不是间隔的方式改变材料，没有必要使用掩模。这就允许在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是基本等同于共沉积法。事实上，该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。 Laser MBE (激光分子束外延) 一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，PLD和原位高压RHEED的结合， 为单分子水平上的薄膜生长提供了精确控制。 使用激光MBE是纳米技术研究的理想工具 激光MBE是普遍采用的术语，定义了高真空下的PLD与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用。该法为用户提供了类似于MBE的薄膜生长的单分子水平控制。随着更多的PLD研究受到纳米技术的驱动，激光MBE变得对用户更加有益。 正确的设计是成功使用RHEED和PLD的重要因数 RHEED通常在高真空（10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD采用较高的压力，差动抽气是必要的，维持RHEED枪的工作压力，同时保持500 mTorr的PLD工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。 Neocera的激光MBE系统为用户在压力达到500mTorr时所需的单分子层控制。技术参数：一种用途广泛的、用于薄膜沉积和合成纳米结构和纳米粒子的方法。 PLD是一种复杂材料沉积的创新方法 激光脉冲镀膜(PLD)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种&ldquo 数字&rdquo 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A° /pulse）。 Neocera Pioneer系列 PLD系统 &mdash 基于卓越经验的有效设计 Neocera利用PLD开展了深入广泛的研究，建立了获得最佳薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于Pioneer系统的设计之中。 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer系统设计的工作压力范围从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。 Pioneer PLD系统的激光束的入射角为45° ，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除担心油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer系统的标准配置都采用无油泵系统。 所有的系统都可以按完整PLD实验室的方式获得，包括248nm激光器，激光气体柜，激光和光学器件台，光学器件包。 我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行最大的控制。主要特点： Pioneer240 Pioneer180 Pioneer120 Pioneer80 最大wafer直径 4&rdquo 2&rdquo 1&rdquo 0.5&rdquo 最大靶材数量 6个1&rdquo 或3个 2&rdquo 6个1&rdquo 或3个 2&rdquo 6个1&rdquo 或3个2&rdquo 4个1&rdquo 压力(Torr) 10-8 10-6 10-6 10-6 真空室直径 24&rdquo 18&rdquo 12&rdquo 8&rdquo 基片加热器 4&rdquo ，旋转 3&rdquo ，旋转 2&rdquo ， 平板 1&rdquo ，平板 最高样品温度 850 ° C 850 ° C 950 ° C 950 ° C Turbo泵抽速 （liters/sec） 800 260 260 70 计算机控制 包括 包括 包括 包括 基片旋转 包括 包括 - - 基片预真空室 包括 选件 选件 - 扫描激光束系统 包括 选件 - - 靶预真空室 包括 - - - IBAD离子束辅助沉积 选件 选件 选件 - CCS连续组成扩展 选件选件 - - 高压RHEED 选件 - - - 520 liters/sec 泵 a/n 选件 - -

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。

仪器简介：PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。我们PLD系统拥有最好的性能价比,具有以下优异的性能:主真空室腔体直径18英寸，本底真空可达高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵★基片加热温度最高可达1000℃。基片台可360度旋转（转速1-20rpm可调）。★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿Z轴（即垂直地面方向）可调。 8个装1英寸靶的坩埚（或靶盘），各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.★ Dual Load Lock System, 两次装样-送样系统，高效保证传片精准设备及光学台可联接在一起，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体（包括腔体系统和激光器）同时移动与固定。感谢上海交通大学 使用此研究级高性能的PLD系统（购买5套）， 望我们高性能价格比的PLD为广大科研人员提供帮助！！具体配置:一， 超高真空腔体二， 分子泵三， 激光扫描系统四， 衬底加热铂金片，最高可达1200度五，基板加热构造设计六， 基板加热电源七， Rheed八， Rheed软件九， 多靶位 ，标准配置6个1英寸靶十，Load-Lock样品传输腔体技术参数：一， 靶。数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制。二， 基板。采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr。三， 基板加热电源。四， 超高真空成膜室腔体。不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 pa。五， 样品传输室。不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa。六， 排气系统。分子泵和干式机械泵，进口知名品牌。七， 阀门。采用超高真空挡板阀。八， 真空检测。真空计采用进口产品九， 气路两套。采用气体流量计（MFC）。十， 薄膜成长监控系统。采用扫描型Rheed（可差分抽气）。十一， 监控软件系统。基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换。十二， 各种电流导入及测温端子。十三， 其它各种构造各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等。另外我公司注重发展和销售大面积的PLD 系统和电子束蒸发器和溅射沉积。目前，公司提供以下物理气相沉积系统和元件产品：? 大面积脉冲激光沉积系统? 脉冲激光沉积元件包括靶材操纵器和智能窗? 电子束蒸发系统? 磁控和/或离子束溅射系统? 组合沉积系统? 定制的基底加热器产品具有如下基本特点：1. 系统可根据客户的特殊要求设计，操作简单方便。可使用大尺寸靶材生长大面积薄膜，基底的尺寸直径可从50mm 到200mm2. 电抛光腔体，主腔呈方形，其前部是铰链门，方便更换基底和靶材3. 双轴磁性耦合旋转靶材操纵器，可手动或计算机控制选定靶材。磁力杆传送基底到基底旋转器上，可手动或电动降低旋转器，实现简单快速地更换4. 主腔室预留备用的腔口，如用于观察靶材和基底，安装原子吸收或发射光谱仪、原位椭偏仪、离子枪或磁控溅射源、残留气体分析器和离子探针或其他的元件等等5. 系统使用程序化的成像链(Optical Train) ，包括聚焦透镜、反射镜台、动力反射镜支撑架和智能视窗等，无需频繁地校准光学组件。在激光通过大直径靶材时可使其光栅扫描化（rastering），以获得均匀性的薄膜。智能视窗不仅可精确监视沉积过程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可长时间保持激光束光路的清洁6. 系统使用特有的黑体基底加热设计，高温下（950°C）可与银胶兼容使用 根据PLD 客户的不同需求，提供以下型号：1．NANO PLD2．PLD 30003．PLD 50004．PLD 80005．PLD T100其中NANO PLD 系统简单、紧凑，具有多种功能，非常适合小型的研发实验室，大面积 PLD 系统包括PLD 3000，PLD5000，PLD8000 非常适合于大的公共机构，政府实验室和国防机构的研发和试制生产。PLD T100 系统也就是高温超导带涂层系统非常适合于生产高温超导带和线缆，目前已有两套系统卖到日本知名的国际超导产业技术研究中心超导工学研究所（SRL-ISTEC），而且在高温超导线缆中获得了记录电流密度，创高温超导线材创新记录。 大面积PLD 的每个系统的具体一些参数如下：系统最大基底尺寸靶材数目靶材尺寸最大基底温度温度的均匀性靶材和基底之间的最大距离Nano-PLD2 inches (50 mm)32 inch (75mm)850°C/950°C±4°C100mmPLD30003 inches (75mm)34 inch (100 mm)850°C/950°C±3°C127mmPLD50005 inches(125mm)36 inch (150mm)850°C/950°C±4°C152mmPLD80008 inches(200mm)312 inch(300mm)750°C/800°C±7°C203mm这些型号的设备适用于以下的客户群：1) 高温超导研发-----合成新的高温超导材料或者微调高温超导材料2) 高温超导工业研发-----高温超导线缆和带沉积，移动通信的微波过滤器，电力分配网的错误电流限制器，超导磁能存储器(SMES)，超导量子干涉磁量仪元素制作，超导电子配件，磁共振成像应用，磁悬浮如火车3) 铁电材料和设备-----使用大面积的PLD 研发4) 电-光和光学材料-----电镀铬材料，电-光材料如PLZT, BST 等5) 电介材料---如AlN 薄膜6) 硬质薄膜----如TiCxN(1-x) 薄膜7) 透明导电氧化物 (TCO) 沉积8) 测辐射热敏元素生产商----用于热跟踪的热探测，热成像，热度量衡等9) 制备新材料特别是功能陶瓷10) 制备纳米粒子11) 基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)聚合物薄膜12) 制备用于MRAMs 和录音磁头上GMR 的铁磁材料等

产品详情脉冲激光沉积/激光分子束外延系统 产品描述：荷兰TSST公司提供专业的脉冲激光沉积系统和激光分子束外延系统。荷兰Twente Solid State Technology BV（TSST）公司专注于为用户提供定制化的脉冲激光沉积系统（PLD），以及相关薄膜制备解决方案，公司具有20多年研究与生产脉冲激光沉积系统的经验。TSST与世界最大的纳米与微系统技术研究中心之一荷兰Twente大学MESA+ Institute保持着密切合作，开发出各种脉冲激光沉积技术中需要使用的核心技术。 脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。 激光分子束外延系统（LMBE），是在PLD的基础上发展起来的外延薄膜生长技术。在高氧气压力环境下实现RHEED原位监控，曾是RHEED分析的一个重要难题，TSST第一个提出差分抽气的方式实现高压环境下RHEED原位监控---TorrRHEED，TSST是TorrRHEED的发明人，在系统制造和RHEED的使用，以及结果分析方面，有丰富的经验。 选件 脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。 应用领域： 单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）热电薄膜（SrTiO3）金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）超疏水薄膜（PTFE）红外探测薄膜（V2O5，PZT）

1.产品概述：高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途：高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大院校、科研院所进行薄膜材料的科研。3.产品优点：可对化学成分复杂的复合物材料进行全等同镀膜，易于保证镀膜后化学计量比的稳定。反应迅速，生长快，通常一小时可获得一定厚度的薄膜。定向性强、薄膜分辨率高，能实现微区沉积。生长过程中可原位引入多种气体，对提高薄膜质量有重要意义。容易制备多层膜和异质膜，通过简单的换靶即可实现4.真空室结构:球形结构真空室尺寸:Ф300mm限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:Φ30mm,每次可装4块靶材，可实现公转换靶位；每块靶材可自转，转速5～60转/分；样品尺寸，温度:1英寸，高800℃占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%

脉冲激光沉积系统(PLD)、激光分子束外延设备(L-MBE) 设备简介：产地：美国NBMPLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 我司PLD特点：我们PLD系统拥有最好的性能价比,具有以下优异的性能:主真空室腔体直径18英寸，本底真空可达高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵★基片加热温度最高可达1200℃。基片台可360度旋转（转速1-20rpm可调）。★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿Z轴（即垂直地面方向）可调。6个装靶的坩埚（或靶盘），各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.★Load Lock System一套（装样-送样系统一套），采用transferengineering公司（Transfer Engineering and Manufacturing, Inc）的，本底真空1×10-5Pa，带相应的分子泵。同一Load Lock系统既可以传递靶又可以传递基片，可两者间切换操作。设备及光学台可联接在一起，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体（包括腔体系统和激光器）同时移动与固定。具体配置: 一， 超高真空腔体 二， 分子泵 三， 激光扫描系统 四， 衬底加热铂金片，最高可达1200度 五， 基板加热构造设计 六， 基板加热电源 七， Rheed 八， Rheed软件 九， 多靶位 ，标准配置6个1英寸靶 十， Load-Lock样品传输腔体技术参数：1. 靶：数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制。2. 基板：采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr。3. 基板加热电源。4. 超高真空成膜室腔体：不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 pa。5. 样品传输室：不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa。6. 排气系统：分子泵和干式机械泵，进口知名品牌。7. 阀门：采用超高真空挡板阀。8. 真空检测：真空计采用进口产品9. 气路两套：采用气体流量计（MFC）。10. 薄膜成长监控系统：采用扫描型Rheed（可差分抽气）。11. 监控软件系统：基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换。12. 各种电流导入及测温端子。13. 其它各种构造：各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等。感谢河南师范大学国家重点实验室, 清华大学先进材料重点实验室，北京大学微电子系 华中科技大学材料学院 使用此研究级高性能的PLD系统， 望我们高性能价格比的PLD为广大科研人员提供帮助！！

量子级联激光器（QCL）介绍 量子级联激光器(QCL)是一种基于子带间电子跃迁的中红外波段单极光源，其工作原理与通常的半导体激光器截然不同。其激射方案是利用垂直于纳米级厚度的半导体异质结薄层内由量子限制效应引起的分离电子态，在这些激发态之间产生粒子数反转，该激光器的有源区是由耦合量子阱的多级串接组成（通常大于500层）而实现单电子注入的多光子输出。量子级联激光器的激射波长覆盖两个大气窗口，并可以向远红外波段拓展，因此量子级联激光器的发明与发展，开创了中远红外半导体激光的新领域。当量子级联激光器的研究发展到了一定阶段，有了实际的应用空间，便开始了商业化的进程，目前主要的商业公司包括Alpes Lasers、Daylight Solutions和Pranalytica等。Alpes Lasers是由瑞士Neuchatel 大学的Jerome Faist 教授创办的，占据85%的量子级联激光器市场份额。主要产品包括室温连续或脉冲工作法布里－珀罗量子级联激光器、室温连续或脉冲工作和低温连续工作分布反馈量子级联激光器以及低温连续或脉冲工作太赫兹量子级联激光器，激射波长覆盖中远红外波段，激射功率为几十到上百毫瓦。Daylight Solutions和Pranalytica公司主要研究大功率连续工作模式高工作温度的中红外量子级联激光器的核心技术，获得了世界上唯一输出功率为2W的商用中红外量子级联激光器，并且将此核心技术运用到外腔宽调谐量子级联激光器中。 产品特点： 1、单个发光器件的最大功率可达4W2、波长从3.8微米到12微, 米以上3、可调谐QCL系统4、超过军事规格要求5、单激光以及多波长高亮度系统6、提供OEM和系统级配置 主要优势： 1、商用上最高功率的QCL2、QCL保护和温度管理功能3、生产工艺成熟4、高性能小型封装5、垂直整合提供最佳子系统级和系统级方案 高功率脉冲激光器系统：1101-XX-HP-XXXX 1101-XX-HP-XXXX量子级联激光器以成套系统出售，包括激光头和电源，客户购买后开箱即可使用。该系统的标准版本由量子级联激光器、准直透镜和电子元件组成，可在恶劣环境中无故障运行。输出中红外近似准直光束，光束直径约为4mm。对于特殊应用，该系统可选一个卡口扩束安装座，将光束投射到千米之外的距离，如图所示在激光头集成了一个Janos ASIO 50mm F/2.3物镜。卡口安装座也可根据具体要求使用其它透镜。输出脉冲时间是固定的，范围从50ns到500ns之间。该系统的特点是小于5ns的快速脉冲上升和下降时间。提供多种内外触发选项。 三种脉冲版本：Model 1101-46-HP-1000: 激光头在室温下的峰值脉冲输出功率大于1瓦Model 1101-46-HP-2000: 激光头在室温下的峰值脉冲输出功率大于2瓦Model 1101-46-HP-4000: 激光头在室温下的峰值脉冲输出功率大于4瓦激光头规格：工作 激光头在室温下脉冲输出波长 4.6 μm (其它至最大12um波长可选)输出光谱 中心波长~4.6um的宽带光源；光谱线宽~150nm脉冲长度 50ns到500ns（由客户选定）上升下降时间 5ns最大脉冲重复率 1MHz工作模式 内部触发通过外部脉冲序列同步输出光束 近似准直光，可选连接外部光束扩束镜头投射至千米之外近衍射极限输出光可靠性 在全功率运行和周期性的温度循环条件下，功率不衰减的寿命大于3,000小时周围温度 45oC尺寸 宽度13 cm，高度17 cm，深度15 cm重量 1.9 kg 电源规格：调制 调制输入接口位于前面板上，范围从1kHz到100kHz（3dB带宽，TTL输入）。 使用特殊电源可以高达1GHz调制速率调制量子级联激光器。保护 激光器电源有多重保护保证激光器的无故障运行 电源有5秒启动延迟时间 激光器由一个独立的开关启动尺寸 宽带28cm，高达18cm，深度37cm重量 7.3kg电气输入 110/220 V, 3 A (最大) 应用领域量子级联激光器系统和气体探测器的应用领域。 1 .防御 1、 IRCM（红外热辐射干扰系统）2、目标指示3、目标照射4、 标向波5、远距离爆炸探测6、毒气侦测7、集装箱检查 2 .医学 1、气氨检测（肝肾疾病）2、 葡萄糖检测3、 呼吸诊断4、 麻醉检测5、医院空气质量检测 3 .环境监测1、 空气检测和网络2、 环境空气质量3、农业碳排放监测4、海洋船舶排放监测5、 烟囱排放监测6、 车辆排放监测 4. 工业检测 1、天然气含量监测2、 泄露检测3、 石油化工监测4、制药工艺质量控制 5. 半导体行业 1、设备气体监测控制2、 晶圆传递3、原位污质监测4、内部气体污染监测 杭州谱镭光电技术有限公司(HangzhouSPL Photonics Co.,Ltd)是一家专业的光电类科研仪器代理商，致力于服务国内科研院所、高等院校实验室、企业研发部门等。我们代理的产品涉及光电子、激光、光通讯、物理、化学、材料、环保、食品、农业和生物等领域，可广泛应用于教学、科研及产品开发。 我们主要代理的产品有：微型光纤光谱仪、中红外光谱仪、积分球及系统、光谱仪附件、飞秒/皮秒光纤激光器、KHz皮秒固体激光器、超窄线宽光纤激光器、超连续宽带激光器、He-Ne激光器、激光器附件及激光测量仪器、光学元器件、精密机械位移调整架、光纤、光学仪器、光源和太赫兹元器件、高性能大口径瞬态（脉冲）激光波前畸变检测干涉仪（用于流场、波前等分析）、高性能光滑表面缺陷分析仪、大口径近红外平行光管、Semrock公司的高品质生物用滤波片以及Meos公司的光学教学仪器等。 拉曼激光器，量子级联激光器，微型光谱仪，光机械，Oceanoptics，Thorlabs 。。。热线电话： / 传真：+86571 8807 7926网址： /邮箱：

脉冲激光沉积系统PLD-400是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备,该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。脉冲激光沉积系统PLD-400标配6个1inch靶材,靶材可以原位更换,配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。晶圆尺寸：2 inch极限真空：5×10-9mbar温控：RT-1200°C靶台数量：6个1inch 靶材，公自转设计激光源：可选准分子激光器可选：低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等

脉冲激光沉积系统-PLD型号：AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。技术参数配置:1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制 2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr 3.基板加热电源，最高到1200度 4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-7 Torr 5.样品传输室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度5e-5 pa 6.排气系统:分子泵和干式机械泵 7.阀门: 采用超高真空挡板阀 8.真空检测:真空计 9.气路两套: 采用气体流量计控制 10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED 11.监控软件系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等 12.各种电流导入及测温端子 13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等

上海瞬渺光电技术有限公司 脉冲激光器：1.PGFL-KULT系列超加脉冲绿光光纤激光器-532nm工作波长-每个脉冲能量达到10KW-脉宽1到5ns-脉冲重复频率50KHz-线性偏振2.PEFL-KULT系列超加脉冲光纤激光器-1.5μm波长范围-每个脉冲能量达到100μJ-峰值功率达到15KW-平均功率达到1.2W-脉宽0.5到200ns-脉冲相对频率10Hz到1MHz-间隔和连续操作-线性或者自由偏振3.PEFL-MIRVISION系列脉冲高功率铒光纤激光器-1.5μm波长范围-每个峰值能量达到200μJ-峰值功率达到25KW-平均功率达到110W-脉宽从0.5到200ns-脉冲相对频率10KHz到1MHz-线性或者自由偏振4.PEFL-EOLA系列脉冲掺铒光纤激光器-1.5μm工作波长，对人眼无伤害-脉冲能量高达10μJ-峰值功率高达50W-脉冲宽度为100ns-500ns-脉冲重复频率：10kHz-20kHz-3kHz的窄线宽输出-非常低的RIN噪声和相位噪声-线偏振输出-窄线宽，适合做频域变换-光束发散度为衍射极限，M2 1.1-工作时对温度要求不高（0℃-+70℃）-高度集成的设计5.PTFL-KULT系列超加脉冲铥光纤激光器-2μm波长范围-每个峰值能量达到15μJ-峰值功率达到1.5KW-平均功率达到200mW -脉宽10到40ns-脉冲频率5到20KHz-线性或者自由偏振

上海瞬渺光电技术有限公司 脉冲激光器：1.PGFL-KULT系列超加脉冲绿光光纤激光器-532nm工作波长-每个脉冲能量达到10KW-脉宽1到5ns-脉冲重复频率50KHz-线性偏振2.PEFL-KULT系列超加脉冲光纤激光器-1.5μm波长范围-每个脉冲能量达到100μJ-峰值功率达到15KW-平均功率达到1.2W-脉宽0.5到200ns-脉冲相对频率10Hz到1MHz-间隔和连续操作-线性或者自由偏振3.PEFL-MIRVISION系列脉冲高功率铒光纤激光器-1.5μm波长范围-每个峰值能量达到200μJ-峰值功率达到25KW-平均功率达到110W-脉宽从0.5到200ns-脉冲相对频率10KHz到1MHz-线性或者自由偏振4.PEFL-EOLA系列脉冲掺铒光纤激光器-1.5μm工作波长，对人眼无伤害-脉冲能量高达10μJ-峰值功率高达50W-脉冲宽度为100ns-500ns-脉冲重复频率：10kHz-20kHz-3kHz的窄线宽输出-非常低的RIN噪声和相位噪声-线偏振输出-窄线宽，适合做频域变换-光束发散度为衍射极限，M2 1.1-工作时对温度要求不高（0℃-+70℃）-高度集成的设计5.PTFL-KULT系列超加脉冲铥光纤激光器-2μm波长范围-每个峰值能量达到15μJ-峰值功率达到1.5KW-平均功率达到200mW -脉宽10到40ns-脉冲频率5到20KHz-线性或者自由偏振

脉冲激光器 新势力光电供应一种基于被动调Q技术的脉冲激光器，该系列脉冲激光器具有如下特点：脉冲能量30-150&mu J、重复频率7KHz、脉宽5ns，广泛应用于：分析仪器、环境监控、工程控制、科学研究、OEM集成。Cobolt Pulsed LasersWavelength1064nm532nm355nmPulse energy150&mu J60&mu J30&mu JRepetition rate7KHzPulse width5nsPeak power30KW12KW6KWAverage power1.0W0.4W0.2WPulse-to pulse jitter1&mu sPolarization exctinction ratioVertical 100:1Spatial modeTEM00, M21.2TEM00, M21.3TEM00, M21.3Beam symmetry1:0.901:0.851:0.80Warranty12 months相关商品微片激光器 纳秒激光器 皮秒激光器 中红外激光器OPO

脉冲激光二极管 这些激光二极管在脉冲作用下有高峰值功率。峰值输出功率范围为10W到90W。发光区域面积从70 um到350 um。可用于激光雷达中的距离测量，安全性应用中的灾害监控等领域。产品实例：产品图像产品型号产品名称峰值发射波长(典型值)脉冲发射功率(典型值)封装 L6690-53脉冲激光二极管870 nm11 Wdia. 5.6CD L11348-307-05脉冲激光二极管870 nm21 Wdia. 5.6CD L11348-330-04脉冲激光二极管870 nm90 Wdia. 9.0CD L11649-120-04脉冲激光二极管870 nm22 Wdia. 9.0CD L11854-307-05脉冲激光二极管905 nm21 Wdia. 5.6CD

仪器简介： 本激光器实验装置主要用于了解激光器的基本原理、基本结构、主要参数以及输出特性，掌握激光器的调整方法以及调Q、选模、倍频等技术。主要用于高等院校的物理教学和科研。技术参数： 输出波长：1064nm,532nm 光束发散角：≤5mrad 指示激光：632.8nm 电光晶体：1～5kv(可调) 输出能量：600mj(1064nm，不调Q) 可选附件：YAG激光器参数测试仪器；激光能量计；示波器；光电探测器主要特点： 仪器成套性： He-Ne激光器及电源、1.06um介质膜偏振片、激光电源及调Q电源、1.06μm部分反射镜， 1.06μm全反射镜、小孔光阑、水冷系统、Nd:YAG晶体棒、脉冲氙灯、倍频晶体、调Q晶体、光靶、聚光腔 可开设实验： 激光器装调 测量激光器的输出脉冲宽度 激光器的阀值测量 激光器横模模式判别 激光发散角测量 激光电光调Q实验 激光选模实验 激光器晶体角度匹配倍频实验 激光谐振长度对激光阀值、能量、模式、发散角的影响

量子级联激光器（QCL）介绍 量子级联激光器(QCL)是一种基于子带间电子跃迁的中红外波段单极光源，其工作原理与通常的半导体激光器截然不同。其激射方案是利用垂直于纳米级厚度的半导体异质结薄层内由量子限制效应引起的分离电子态，在这些激发态之间产生粒子数反转，该激光器的有源区是由耦合量子阱的多级串接组成（通常大于500层）而实现单电子注入的多光子输出。量子级联激光器的激射波长覆盖两个大气窗口，并可以向远红外波段拓展，因此量子级联激光器的发明与发展，开创了中远红外半导体激光的新领域。 当量子级联激光器的研究发展到了一定阶段，有了实际的应用空间，便开始了商业化的进程，目前主要的商业公司包括Alpes Lasers、Daylight Solutions和Pranalytica等。Alpes Lasers是由瑞士Neuchatel 大学的Jerome Faist 教授创办的，占据85%的量子级联激光器市场份额。主要产品包括室温连续或脉冲工作法布里－珀罗量子级联激光器、室温连续或脉冲工作和低温连续工作分布反馈量子级联激光器以及低温连续或脉冲工作太赫兹量子级联激光器，激射波长覆盖中远红外波段，激射功率为几十到上百毫瓦。Daylight Solutions和Pranalytica公司主要研究大功率连续工作模式高工作温度的中红外量子级联激光器的核心技术，获得了世界上唯一输出功率为2W的商用中红外量子级联激光器，并且将此核心技术运用到外腔宽调谐量子级联激光器中。 产品特点： 1、单个发光器件的最大功率可达4W2、波长从3.8微米到12微米以上3、可调谐QCL系统4、超过军事规格要求5、单激光以及多波长高亮度系统6、提供OEM和系统级配置 主要优势：1、商用上最高功率的QCL2、QCL保护和温度管理功能3、生产工艺成熟4、高性能小型封装5、垂直整合提供最佳子系统级和系统级方案 OEM高平均功率脉冲激光：1101-XX-QCW-YYYY-UC-PF 1101-XX-QCW-YYYY-UC-PF量子级联激光系统是高平均功率红外脉冲光源，用于OEM应用。在4.6微米波长时平均功率大于2瓦，在4.0微米时大于1瓦。也可选择3.8微米到12微米之间的其它波长。该系统是被动冷却系统，用于OEM应用集成到客户的平台中时可以做到真正隔震。系统只需要一个外部直流电源就可工作。脉冲成形和功率调节电子元件位于PCB板上，与包含QCL和相关光学元件的密闭蝶式封装一起使波长稳定，并准直输出激光光束。系统无需调节，在稳定的温度环境中可以长期稳定地工作。 应用领域量子级联激光器系统和气体探测器的应用领域。 1 .防御 1、 IRCM（红外热辐射干扰系统）2、目标指示3、目标照射4、 标向波5、远距离爆炸探测6、毒气侦测7、集装箱检查 2 .医学 1、气氨检测（肝肾疾病）2、 葡萄糖检测3、 呼吸诊断4、 麻醉检测5、医院空气质量检测 3 .环境监测1、 空气检测和网络2、 环境空气质量3、农业碳排放监测4、海洋船舶排放监测5、 烟囱排放监测6、 车辆排放监测 4. 工业检测 1、天然气含量监测2、 泄露检测3、 石油化工监测4、制药工艺质量控制 5. 半导体行业 1、设备气体监测控制2、 晶圆传递3、原位污质监测4、内部气体污染监测 杭州谱镭光电技术有限公司(HangzhouSPL Photonics Co.,Ltd)是一家专业的光电类科研仪器代理商，致力于服务国内科研院所、高等院校实验室、企业研发部门等。我们代理的产品涉及光电子、激光、光通讯、物理、化学、材料、环保、食品、农业和生物等领域，可广泛应用于教学、科研及产品开发。 我们主要代理的产品有：微型光纤光谱仪、中红外光谱仪、积分球及系统、光谱仪附件、飞秒/皮秒光纤激光器、KHz皮秒固体激光器、超窄线宽光纤激光器、超连续宽带激光器、He-Ne激光器、激光器附件及激光测量仪器、光学元器件、精密机械位移调整架、光纤、光学仪器、光源和太赫兹元器件、高性能大口径瞬态（脉冲）激光波前畸变检测干涉仪（用于流场、波前等分析）、高性能光滑表面缺陷分析仪、大口径近红外平行光管、Semrock公司的高品质生物用滤波片以及Meos公司的光学教学仪器等。 拉曼激光器，量子级联激光器，微型光谱仪，光机械，Oceanoptics，Thorlabs 。。。热线电话： / 传真：+86571 8807 7926网址： /邮箱：

仪器简介：微脉冲激光雷达CAMLCE370对人眼安全 自动对准接收-发射轴 高探测空间30KM，15m空间分辨率 区域测量 / 网络测量应用 提供数据获取和反演软件.测量气溶胶和薄云的后向散射以及消光廓线 边界层高度测量(PBL) 边界层高度的日变化和年变化. 通过测量大气中气溶胶和云的垂直分布及其光学参数,它所获得的独特的廓线信息可以帮助理解大气中气溶胶和云的性质及其变化，其所测信息和太阳光度计测量信息互补使用可以更好的定量化衡量大气中的各种过程及其相关效应。CIMEL ELECTRONIQUE 在遥感遥测仪器生产方面有着丰富的经验。其生产的太阳分光光度计和热红外辐射计在全球的安装量已经超过1000台，并已被广泛的用于气溶胶特性和水汽含量的测量中。目前生产的微脉冲激光雷达可用于气溶胶和云的垂直分布的定量分析，深受广大专业人士的欢迎。技术参数：对人眼安全脉冲能量 8-12 &mu J 和 200 mm 直径的望远镜,CAML 是对人眼安全的系统.同轴接收-发射自动调准望远镜作为发射机和光学接收器. 不需其它对准.高探测空间，15 米空间分辨率探测高度可达30 公里，空间分辨率15 米.原创的坚固的适应环境的同轴系统望远镜和电子控制箱相对独立，由一根10 米长的光纤连接，使得系统有很强的气候环境适应能力.数据获取和分析软件CIMEL 研发的CAML 软件具有数据获取、结果显示和后向散射剖面等功能易携带 (35kg)结构紧凑, 易携带: 控制箱 (Rack 6U) 和望远镜 (ø 220mm x 1000mm) 适合各种测量应用(区域测量或网络测量).扫描设备. (选项)PC 控制的双轴扫描设备发射器激光器类型 Nd:YAG.波长 532 nm脉冲能量 8-10 µ J重复率 5 kHz脉冲宽度 12 ns光学外部光纤 10 m望远镜类型 Galilean望远镜直径 200 mm有效焦距 900 mmField stop Double光束总视场角e 普通光纤 : 55 µ rad增强光纤 : 55/110 µ rad.光束/望远镜结构 同轴探测器探测器 Si APD QE 55%滤光片带宽 0.2 nm* 注：CE370-3和CE370-2性能一致，只是CE370-3可加扫描选项 PC USB 控制扫描装置2 轴扫描装置 方位角 : -180° to 180° . 天顶角: 0 to 90° . 精度 : 3&rsquo .1 轴扫描装置 天顶角 : 0° to 180° . 精度 : 3&rsquo . 无扫描 垂直方向 环境便携 是望远镜尺寸 Ø 220 mm x 500 mm电子控制箱尺寸 Rack 6U重量 35 kg工作温度 -10° C&hellip +40° C.电气参数电源 100/115/230 VAC最大值. 500 W标准接口 USB获取数据获取方式 光子计数连续获取 是计数速度 20 Mc/s空间分辨率 15 m探测高度* 可达 30 kmRange gates 2048传输到计算机 USB* 取决于天气/大气状况主要特点：主要特点 CAMLTM CLOUD AND AEROSOL MICRO LIDAR CE 370-2 是可携、对人眼安全、全自动的后向散射型激光雷达。 能展现大气云、气溶胶的空间结构和它的光学及其动态特性。 该新型系统设计轻便、方便使用和运输。 自动对准接收-发射轴. 高探测空间，15m空间分辨率. 区域测量 / 网络测量应用. 数据获取和分析软件. 双轴扫描设备。高灵敏度 高响应和高垂直分辨率 全自动 计算机控制 USB连接，结构紧凑，方便移动。

皮秒脉冲二极管激光器（Picosecond pulse diode laser）品牌： ALPHALAS型号： PICOPOWE-LDPICOPOWER™ -LD系列带驱动器的皮秒脉冲二极管激光器有效工作波长标准:375，405，450，488，635，670，785，976，1030，1064，1300，1550nm, 也可以定制其他特殊波长激光器 Fig1.皮秒激光器产品特点：1.脉宽于40ps2.特殊波长可高到3W的峰值功率3.独有的高频设计最短和最高峰值功率的激光二极管脉冲4.空间滤波器的平行输出5.可替换具有大范围的波长的激光头6.专利的激光二极管驱动器产生的皮秒高电流脉冲7.内置数字显示滤波器的频率发生器可把频率从0.1Hz调整到20MHz（可选40MHz、80MHz）8.外部的TTL触发功能和同步TTL输出9.可选光纤耦合配置应用范围：1. 荧光寿命测量2. 泵浦探测实验3. 光探测器和光电子响应时间测量4. 光通讯测试5. 光时域反射计（OTDR）6. 光纤激光器光源7. 光学层析成像 皮秒脉冲激光二极管性能：波长（nm）脉宽（ps）平均功率 @20 MHz /@40MHz1峰值功率（mW）光束发散角（mrad）注释375600.2/0.42501.3 405400.5/1.07501.2峰值功率可以达到3W450600.4/0.84501.2 488600.25/0.52501.4 635600.2/0.4200n/a光纤耦合670600.5/1.04501.3 785600.2/0.42000.5 976800.5/1.0500n/a 1030600.5/1.02501.5 1064500.5/1.03001.52)1300400.5/1.0250n/a光纤耦合1550400.5/1.0250n/a光纤耦合1更高的平均功率可以产生更长的脉宽2单频和光纤耦合可用于放大器光源。波长公差为1%。光斑模式是TEM00偏椭圆。激光为典型的1M，最大值为3B(取决于波长)。激光头机械指标：尺寸(? × D)?25×125mm可定制特殊外形操作温度15°Cto35°C(59°Fto95°F) 重量120g 皮秒激光二极管驱动器：PLDD-100-40技术参数规格注释机械方面尺寸（W×H×D）235×110×280 mm原厂规格和顾客特殊要求均可满足操作温度15°Cto35°C(59°Fto95°F) 重量2.6kg 电子方面频率发生器数字显示示波器8位显示器频率范围/0.2Hz-20MHz最大频率可选择40MHz和80MHz或者定制最大频率外部触发脉冲输入最大20MHz应用前沿的TTL信号一般化技术参数电压/电流要求100V AC/0.2A230V AC/0.1A12V DC电压消耗功率最大30W 可定制满足用户特殊参数要求

“调Q脉冲/光纤激光器”参数说明型号：QXMC规格：1μJ~20J商标：QX包装：纸箱脉冲宽度：0.8ns~200ns“调Q脉冲/光纤激光器”详细介绍调Q脉冲/光纤激光器基本介绍QX 自主研发生产的调Q脉冲激光器，采用原装进口泵浦源，激光头自带制冷和精确控温系统，电源自带过流、过热保护功能。激光器具有窄脉宽、高峰值功率等特点，且能量稳定、操作简单、性能可靠、使用寿命长，可自由空间输出或多模光纤耦合输出 。调Q脉冲/光纤激光器性能特点QX调Q脉冲激光器可实现波长从紫外到红外波段：261nm 266nm 349nm 351nm 355nm 457nm 473nm 523.5nm 526.5nm 532nm 556nm 589nm 656.5nm 660nm 671nm 914nm 946nm 1030nm 1047nm 1053nm 1064nm 1313nm 1319nm 1573nm 3800nm调Q脉冲/光纤激光器技术参数特点：单脉冲能量：1μJ~20J重复频率：1Hz~200kHz脉冲宽度：0.8ns~200ns调Q方式：主动、被动制冷方式：风冷、水冷、传导制冷多种控制及输出模块化，结构紧凑，稳定可靠可对光束整形，可定制应用：激光打标、打孔、刻蚀激光焊接、切割、热处理激光清洗、快速成型激光微调、去重平衡激光储存激光医疗、美容科学、教学研究

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统，其应用主要包括：用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长；UHV磁控溅射磁性薄膜；脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积（PLD）系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd：YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料，以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外，可以使用其他类型的激光器，包括ps和fs激光器，并且可以使用适当的激光器提供替代技术，例如矩阵辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制，易于使用。应用主要包括：分子束外延系统（MBE）GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延超高真空物理气相沉积（PVD）系统磁控溅射系统脉冲激光沉积（PLD）系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作，为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。

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Nd:YAG脉冲纳秒激光器为整机原装进口激光器，近三十年的激光器生产经验，主要应用于瞬态吸收光谱TAS、瞬态显微Mapping扫描、瞬态表面光电压谱（TPV）、荧光光谱、拉曼光谱、拉曼、激光诱导荧光（LIF）、化学元素分析（LIBS）、粒子成像测速（PIV）、差分吸收（DIAL）、军用及民用雷达（LIDAR）等高端分析仪器及前沿科学研究等领域。灯泵浦Nd：YAG激光器是可调谐OPO激光器的理想泵浦源，实现光谱220nm-2200nm的连续可调。 激光器的特点：1）固态脉冲Nd:YAG激光器的激光体为全密封结构；2）光束路径全封闭结构，以保护光学元件免受灰尘和湿气的影响；3）激光器采用实心杆结构，确保了激光长期稳定的输出，以保证不受外力和环境影响；4）激光器中使用的所有非线性晶体都放置在恒温器中，以确保谐波的高转换效率以及各种频率下输出能量的高稳定性；5）所有晶体采用气密密封，实现热稳定。冷却系统单元特点1）内置加热器，预热时间短2）没有外部回路（水-空气热交换器）3）热交换效率高，最高可达1200 W.4）高精度温度冷却系统，温控稳定度到0.05℃ ，保证激光能量和光斑的高稳定输出5）内置去离子盒 电源单元特点1）单相220V供电2）功率自动校正3）附件扩展连接功能4）恒温器的持续供电 Nd:YAG脉冲纳秒激光器技术参数激光器纳秒Nd:YAG激光器单脉冲能量---1064nm320mJ532nm180mJ355nm60mJ266nm40mJJitter1.0ns脉冲宽度 (1064 nm)10 - 14 ns光斑直径6mm能量稳定性(1064 nm)2.5%重复频率1-10（20Hz）温控系统控温精度0.05℃；内部预热器，可快速预热。电源220V（110V），50-60Hz，1000W，435*485*245mm激光器外形720*136*156mm制冷单元435*485*285mm