高通量扫描显微镜

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

扫描NV探针显微镜SNVM 扫描NV探针显微镜（Scanning nitrogen-vacancy probe microscope，SNVM）是一款结合了金刚石氮-空位色心（Nitrogen-Vacancy, NV）光探测磁共振（Optically Detected Magnetic Resonance, ODMR）技术和原子力显微镜（Atomic Force Microscope，AFM）扫描成像技术的量子精密测量仪器，可实现对磁性样品高空间分辨率、高灵敏度、定量无损的磁成像。应用领域测试案例

高通量(场发射）扫描电子显微镜 NavigatorSEM-100NavigatorSEM-100高通量场发射扫描电子显微镜，专为跨尺度大规模样品SEM表征分析而设计，广泛应用于科研及工业等领域。其自动化超高速的纳米成像技术，为您提供超凡的成像体验。-产品介绍聚束科技独立研发并拥有自主知识产权的NavigatorSEM-100高通量（场发射）扫描电子显微镜，通过对成像技术、运动平台、电路控制及智能算法的系统化创新设计，实现了全球最高通量成像，成像速度可达到传统电镜的数十倍以上。其全部采用直接电子探测器的技术方案，成功克服了传统SEM技术在速度、精度和样品损伤等方面的局限性，颠覆性地将扫描电镜从传统意义上的纳米“照相机”提升为纳米“摄像机”。同时操作简单，全自动一键换样，7*24小时无人值守运行，全面提升科研效率。我们将成熟的工业化高通量电镜检测技术应用在生命科学、材料研究、半导体工业、地质资源等领域。尤其在神经生物学3D重构、材料大面积表征分析、半导体反向工程、纳米技术分析等应用领域有显著优势。-产品优势&bull 综合成像速度＞10倍传统电镜&bull 全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像 &bull 海量SEM图像快速生成数据分析报告&bull 从百毫米到纳米级的跨尺度材料表征-产品特点极速成像通过自主研发的硬件和软件设计，实现全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像：视频级高分辨成像。高清视频级摄像帧率，使其具有实时观测样品动态变化的能力。高成像质量独特的浸没式电磁复合物镜系统，有效地减小低落点能量下物镜的象差，达到极高分辨能力。与物镜场复合的静电式扫描偏转系统，相比于传统电镜的磁偏转系统，极大地减小图像边沿畸变，可获得兼具高分辨率和大视野的完美图像In-Lens SE与BSE半导体直接电子探测器，双通道同时高速成像，兼具高灵敏度和高信号电子收集效率，即使在nA级别的大束流条件仍可获得极佳的图像衬度和信噪比。配备主动补偿系统（激光干涉振动补偿、电磁干扰主动补偿），消除环境因素干扰，保证成像高分辨率高质量。跨尺度大规模成像超高速扫描成像能力，结合全自动聚焦跟踪系统和A.I.图像处理算法，实现对超大区域样品进行高分辨率全自动不间断矩阵式扫描，并自动拼接获得大尺寸纳米级分辨率的全景地图式成像，使之具备了跨尺度信息融合能力，可实现从纳米级到毫米级的跨尺度材料表征。智能分析大数据智能分析 ，海量SEM图像快速生成数据分析报告；智能图像处理，定制化图像测量、统计、分析。操作简单全自动样品载入与导航，一键完成样品更换，操作便捷，节省工时。大场光学成像导航与SEM成像无缝衔接，对指定区域快速准确实现定位和观测。7*24小时全自动化无人值守运行能力。

高通量(场发射）扫描电子显微镜 NavigatorSEM-100B PLUSNavigatorSEM-100B PLUS高通量场发射扫描电子显微镜，专为跨尺度大规模样品SEM表征分析而设计，广泛应用于科研及工业等领域。其自动化超高速的纳米成像技术，为您提供超凡的成像体验。-产品介绍聚束科技独立研发并拥有自主知识产权的NavigatorSEM-100B PLUS高通量（场发射）扫描电子显微镜，通过对成像技术、运动平台、电路控制及智能算法的系统化创新设计，实现了全球最高通量成像，成像速度可达到传统电镜的数十倍以上。其全部采用直接电子探测器的技术方案，成功克服了传统SEM技术在速度、精度和样品损伤等方面的局限性，颠覆性地将扫描电镜从传统意义上的纳米“照相机”提升为纳米“摄像机”。同时操作简单，全自动一键换样，7*24小时无人值守运行，全面提升科研效率。新机型在硬件部分模组提升较大，配备新型电子枪，电子束落点能量范围可达30keV，涵盖绝大多数扫描电镜落点能量需求范围。分辨率可达1.0nm (15keV下), 且在1-3kV低加速电压下即可获得1.5nm高分辨率的同时，仍能保持1‰以下的低图像畸变。我们将成熟的工业化高通量电镜检测技术应用在生命科学、材料研究、半导体工业、地质资源等领域。尤其在神经生物学3D重构、材料大面积表征分析、半导体反向工程、纳米技术分析等应用领域有显著优势。-产品优势&bull 综合成像速度＞10倍传统电镜&bull 该系统实现二次电子和背散射电子的双通道同步100M/s级超高速成像&bull 海量SEM图像快速生成数据分析报告&bull 从百毫米到纳米级的跨尺度材料表征-产品特点极速成像通过自主研发的硬件和软件设计，实现全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像：视频级高分辨成像。高清视频级摄像帧率，使其具有实时观测样品动态变化的能力。高成像质量独特的浸没式电磁复合物镜系统，有效地减小低落点能量下物镜的象差，达到极高分辨能力。与物镜场复合的静电式扫描偏转系统，相比于传统电镜的磁偏转系统，极大地减小图像边沿畸变，可获得兼具高分辨率和大视野的完美图像In-Lens SE与BSE半导体直接电子探测器，双通道同时高速成像，兼具高灵敏度和高信号电子收集效率，即使在nA级别的大束流条件仍可获得极佳的图像衬度和信噪比。配备主动补偿系统（激光干涉振动补偿、电磁干扰主动补偿），消除环境因素干扰，保证成像高分辨率高质量。跨尺度大规模成像超高速扫描成像能力，结合全自动聚焦跟踪系统和A.I.图像处理算法，实现对超大区域样品进行高分辨率全自动不间断矩阵式扫描，并自动拼接获得大尺寸纳米级分辨率的全景地图式成像，使之具备了跨尺度信息融合能力，可实现从纳米级到毫米级的跨尺度材料表征。智能分析大数据智能分析 ，海量SEM图像快速生成数据分析报告；智能图像处理，定制化图像测量、统计、分析。操作简单全自动样品载入与导航，一键完成样品更换，操作便捷，节省工时。大场光学成像导航与SEM成像无缝衔接，对指定区域快速准确实现定位和观测。7*24小时全自动化无人值守运行能力。

产品概要：FlexSEM1000II电子扫描显微镜设计小巧,性能卓越，支持多种观察，可在众多领域中应用。基本信息：FlexSEM1000II电子扫描显微镜兼具台式电镜的简单快捷,图像分辨率高达4 nm，同时具有高端机型的高品质图像性能和更加完善的自动化功能可满足更广大用户的需求。技术优势：1、简单、快速、小巧：运用用户辅助功能，快速观察样品2、高画质：设计精巧，性能优异，提供多种观察方法，图像分辨率高3、三维测量：通过Hitachi map 3D实现三维测量4、操作便捷：简单操作即可实现高通量观察5、便于寻找视野：通过相机导航系统，可以更加直观的寻找视野6、大视野观察：运用连续拍照功能，实现大视野观察应用方向：可在多种领域中应用，例如电子元件、环境能源材料、金属材料、高分子材料生物/食品等。

自动观察自动完成光路调整、扫描参数设定、图像处理使用标准样品和标准探针时操作用时5分钟**自动观察模式，扫描范围1um× 1um ，256×256点阵。操作时长依赖于操作者。 传统的原子力显微镜需要人工调整光路、设定扫描参数、进行图像处理。但是SPM-Nanoa可以帮助用户毫无压力地完成这些操作。 性能优异性能优异从光学显微镜到SPM/AFM，各模式下均可清晰地捕捉图像利用光学显微镜搜索目标区域，利用SPM可以方便地进行高分辨率观察。利用与表面形状图像相同的视场可以获得其他物理特性信息。样品：硅基底上的二氧化硅图案 丰富多样的扫描模式从形貌观察到基于力曲线测量的物性分析，支持广泛的扫描模式。这意味着可以兼顾高分辨率与物性测试。 形貌接触模式、动态模式机械性能相位模式、侧向力模式、力调制模式、Nano 3D Mapping Fast *电磁学电流模式* 、磁力模式* 、表面电势模式* 、压电力模式* 、STM *纳米加工矢量扫描模式*环境支持液体环境**为选配部件 搜寻目标区域更容易利用清晰地光学显微镜图像，可以轻松找到目标区域，不用担心振动的影响。SPM-Nanoa集成了一体式高性能光学显微镜。 样品视野 使用集成光学显微镜，样品表面的3um间隔图案清晰可见。 高分辨观察表面物性极软样品的变形或样品局部的机械及电气性能的差异，都可以获得高分辨率的观测图像。用表面电势模式观察云母基底上的金纳米颗粒 该图显示了0.2um范围内的表面电势（右）和形貌图像（左） 8K成像助力大范围高分辨扫描可支持8K（81929192）扫描点阵，大范围区域的小细节也纤毫毕现。观察金属蒸镀膜 省时高效支持功能功能模式高速观察通过高速观察和物性高速成谱功能，显著减少了观测时间。探针更换工具和样品更换机构有效缩短了扫描准备时间。三个独特设计极大缩短了观测时间。 高通量观测高速物性成谱简便顺滑地样品更换便捷更换探针 高通量观测高速物性成谱采用了可实现高速响应的HT扫描器并优化了控制算法，从而大幅缩短了观察和物性成像的数据获取时间 *观测时间受参数设定影响 简便顺滑地样品更换高速物性成谱一键式操作实现自动开启、关闭平台，放置和取出样品。由于固定了激光的照射位置，所以在样品更换后可立即进行观察。 探针更换简单且可靠 Cantilever Master（选购）仅需将探针放置在指定的位置，并使其沿着导轨滑动即可安装，即使操作人员不习惯使用镊子，也能够简单准确地进行操作。

LSI XL系列光片扫描显微镜旨在以高分辨率高速对大型样品进行三维成像。该系统利用线性贝塞尔光片技术，配合LSI独有的四面照明技术，可提供市场上最均匀的样品照明。LSI XL系列光片扫描显微镜配备了折射率（RI）校正光学器件，可在1.33至1.56之间调节，以确保在各种浸没介质中的最佳成像质量。可更换的样品室可容纳2cmx2cm的样品。LSI XL系列光片扫描显微镜的应用包括对通过日前广泛应用的以水基或溶剂基方法处理的大型透明组织或器官样品进行成像，以及通过内置的一键化多位点成像功能对大量活体透明样品（如斑马鱼或果蝇胚胎）的拍摄。 主要特点*线性贝塞尔光片和RI矫正光学模组提供了最佳的成像效果，分辨率可达500nm。*独特的四侧照明技术可显着增加照明深度和均匀度，尤其适合对在大型透明化样品成像。*适用于活体胚胎的长时间成像，专为大型透明化样品设计的光片成像平台，同时也可完美得适用于活体斑马鱼或果蝇胚胎的成像，其通量比传统的光片显微镜高得多。*智能化易用的软件系统配有快速数据处理功能，同时内置了3D渲染，多位置采集及自动拼接和反卷积等图像分析功能。*一体化台面紧凑设计配有内置隔振系统，无需外置隔振台。 线性贝塞尔光片（LSI）技术LSI技术通过物理和光学调制获取的光片，远比传统的高斯光片薄，有效长度也更长。因此LSI显微镜不仅具有极低的光毒率和超快的成像速度的特点，而且其出色的三维分辨率和高信噪比令其具有机器出色的层切能力 应用领域神经示踪三维成像 全脑神经胞体三维成像 全脑血管三维成像 动物胚胎成像同时可进行亚细胞分辨率的完整哺乳动物大脑中枢和外周神经系统的发育及微循环三维介观形态学图谱等研究。 微循环血管三维成像 三维肿瘤病理成像 三维肿瘤病理应用实例

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

产品概要：随着快速数据采集和数据处理技术的发展，电子显微镜进入了一个不仅重视数据质量，而且重视其采集过程的时代。SU8600秉承了Regulus8200系列的高质量图像、大束流分析及长时间稳定运行的冷场成像技术，同时还大大提升了高通量、自动数据获取能力。基本信息：SU8600仪器采用最新型电子枪,在高亮度区域也可以稳定发射电子束。即使在低加速电压下,也可以获得高信噪比的图像,同时支持长时间测试以及大电流分析。在面对不同的样品和分析目的时,需要调节SEM的许多参数。SU8600配备了自动电子光路调节功能,从光路对中到象散校正的一系列调整工作可以自动完成，可减少操作人员作业时间。技术优势：1、先进的自动化功能自动电子光学调节自动化数据采集,更高的检测效率采用高精度的压电样品台*可提高导航、回溯及大范围连续成像的准确性 2、兼具超高分辨率及分析扩展能力搭载日立的新型高亮度冷场发射电子源,即使在低加速电压下也可获得超高分辨的图像基于ExB的高效率信号采集系统。多种新型电子探测器*和丰富的选配项，满足更多的观测需求 3、强大的显示及交互特性原生支持双显示器,提供灵活、高效的操作空间6通道同时显示与保存,实现快速的多信号观测与采集,带来更多信息单次扫描最高支持40,960X30,720的超高像素*应用方向：主要应用于半导体器件、材料科学、生命科学等领域。

捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机JSM7000F采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。产品规格：主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。＜特点＞捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统）TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加）捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 信息由科沃安科技（苏州）有限公司为您提供，如您想了解更多关于日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

产品概述：BFS-MSCAN200高通量数字切片扫描仪搭载磁悬浮电动扫描平台使用LogiScanner扫描软件，可以灵活控制扫描模式、拼图模式、对焦模式等的设置，拥有更高的扫描效率，一次全自动扫描200张玻片，可连续加样，同时具有防碎片功能。搭载优异的光学系统，可获得出色的图像质量。可应用于科研院所、大型医院及第三方检测机构。 出色的图像质量为了生成高品质的载玻片图像，BFS-MSCAN200系统采用能够同时实现更高数值孔径、色差校正和平场性的高性能物镜，最终获得具有更宽视场的更平滑图像，并且图像边缘不存在亮度下降问题。为了进一步提高图像质量，系统光程进行优化，与高性能物镜配合使用，能实现更均匀的照明。这些增强功能所实现的出色图像质量让使用测量或共定位的量化技术科获得理想的精确性。 实现精确色彩还原的明亮LED和均匀照明该系统透射照明用真色彩LED具有与卤素灯相同的光谱特性和功率。因此多种染色均可正确显示成像和渲染。配有匀光板的照明系统让光线在整个视场均匀分布，从而获得明亮均匀的图像。 高通量、高效率的扫描系统上片机最多可容纳50个载玻片托盘，200个76.2*25.4mm载玻片。采用载玻片托盘整体上片模式和防碎片功能，确保在扫描过程中不会因为停电或仪器故障等意外事故造成碎片。可实现每片预览，并识别一维码或二维码。便捷的软件功能可以灵活控制所有的扫描设置，当玻片盘上无玻片，扫描可以自行跳过。 便捷的数据管理在默认的ScanResult浏览系统中，可轻松找到扫描的切片，只需检索相应信息，可获得玻片的全部信息。 技术参数 装载容量：200片单片扫描时间：≤45秒（扫描范围15mm*15mm，20x物镜） 项目参数装载容量200片物镜孔位3物镜4X，10X，20X扫描专用物镜物镜转器全电动单片扫描时间≤45秒（扫描范围15mm*15mm，20x物镜） 分辨率≤0.29μm/pixel电源功率160VA重量～40kg

产品概述：BFS-MSCAN200高通量数字切片扫描仪搭载磁悬浮电动扫描平台使用LogiScanner扫描软件，可以灵活控制扫描模式、拼图模式、对焦模式等的设置，拥有更高的扫描效率，一次全自动扫描200张玻片，可连续加样，同时具有防碎片功能。搭载优异的光学系统，可获得出色的图像质量。可应用于科研院所、大型医院及第三方检测机构。 出色的图像质量为了生成高品质的载玻片图像，BFS-MSCAN200系统采用能够同时实现更高数值孔径、色差校正和平场性的高性能物镜，终获得具有更宽视场的更平滑图像，并且图像边缘不存在亮度下降问题。为了进一步提高图像质量，系统光程进行优化，与高性能物镜配合使用，能实现更均匀的照明。这些增强功能所实现的出色图像质量让使用测量或共定位的量化技术科获得理想的精确性。实现精确色彩还原的明亮LED和均匀照明该系统透射照明用真色彩LED具有与卤素灯相同的光谱特性和功率。因此多种染色均可正确显示成像和渲染。配有匀光板的照明系统让光线在整个视场均匀分布，从而获得明亮均匀的图像。高通量、高效率的扫描系统上片机多可容纳50个载玻片托盘，200个76.2*25.4mm载玻片。采用载玻片托盘整体上片模式和防碎片功能，确保在扫描过程中不会因为停电或仪器故障等意外事故造成碎片。可实现每片预览，并识别一维码或二维码。便捷的软件功能可以灵活控制所有的扫描设置，当玻片盘上无玻片，扫描可以自行跳过。便捷的数据管理在默认的ScanResult浏览系统中，可轻松找到扫描的切片，只需检索相应信息，可获得玻片的全部信息。技术参数装载容量：200片单片扫描时间：≤45（扫描范围15mm*15mm，20x物镜） 项目参数装载容量200片物镜孔位3物镜4X，10X，20X扫描用物镜物镜转器全电动单片扫描时间≤45（扫描范围15mm*15mm，20x物镜）分辨率≤0.29μm/pixel电源功率160VA重量～40kg

蔡司Gemini系列场发射扫描电子显微镜，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。无论是在高真空还是可变真空模式下，对任意样品进行成像时都具有更高的表面细节信息，，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究、工业实验室、成像平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与解决方案。 [ 产品特点 ]ü 出色的检测效率ü 优异的低电压分辨率和表面灵敏度ü 智能的自动功能，一键实现聚焦，像散，电子束对中的自动调节ü 智能的电子光学设计，可实现自动光阑优化，提高低电压下的分辨率ü 最低倍数可达1X的大视野模式，可拍摄大样品及导航至感兴趣区域ü 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征ü 对称的EDS接口设计，可满足无阴影EDS图像的采集丰富的拓展性能 [ 应用领域 ]ü 材料科学，如纳米材料表征ü 工业应用，如失效分析，性能分析ü 生命科学，如大体积细胞高通量成像ü 电池领域，如老化分析、电极材料表征ü 电子半导体领域，如半导体器件失效分析 磁性FeMn纳米颗粒，图中立方体的边长约25nm，1kV分子筛上搭载纳米银颗粒，左图为Inlens SE探测器成像，右图为EsB探测器的成分衬度像，1.5kV锂电池隔膜在低温 -160°下进行成像三枚硬币可以在同一视野下进行观察EsB探测器FinFET晶体管成像STEM探测器小鼠大脑组织切片明场成像

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7200F JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。 产品规格： 主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。 ＜特点＞ JSM-7200F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪 浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统） TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此JSM-7200F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加） JSM-7200F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 JSM-7200F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。

显微镜物镜扫描仪高精度亚纳米物镜扫描台/定位台！上海昊量推出的物镜扫描台采用压电陶瓷直推，以柔性铰链为导向使物镜扫描台具有结构紧凑、体积小、无机械摩擦、定位分辨率高等优点，采用硅位移传感器，物镜扫描台相比于传统的电容式位移传感器，物镜扫描台硅传感器使平移台拥有更高的精度和线性度以及较低的底噪。物镜扫描台的精度可以达到亚纳米，底噪低至10pm。上海昊量光电设备有限公司推出的压电平移台旨在满足超精密定位应用的需求。该平移台采用压电陶瓷驱动，以柔性铰链为导向使其结构紧凑、拥有小的体积、无摩擦、无间隙、定位分辨率高等优点。采用硅高精度位移传感器，与电容位移传感器相比拥有更高的精度、线性度和低底噪。由于其具有较高的精度、线性度和较低的底噪等优点，被广泛的应用于超分辨率显微镜，光学捕获和原子力显微镜等领域。AU-FOCHS采用管状设计，专门用于显微镜物镜快速高精度定位。该物镜扫描台可提供行程可达到100μm，精度可达到0.1 nm，谐振频率可达到1175Hz。它由铝、钢和黄铜构成，配备硅传感器，可提供皮米级的稳定性。以上优点使其拥有广泛的应用，例如，激光加工、显微成像、体容积成像，等还可以与相机系统结合使用实现自动对焦。AU-FOC是一款专门用于显微镜物镜准确定位的设备。该物镜扫描台可提供100/200/300/500μm不同行程。该物镜扫描台由铝和黄铜构成，结合硅传感器可提供皮米量级的稳定性。以上两款物镜扫描台的黄铜安装环可以轻松更换，因此几乎所有的物镜都可以与这两款物镜扫描台结合使用。可用的物镜大小有RMS, M25, M26, M27 和 M32.显微镜物镜扫描台产品特点：l 高分辨率（0.01nm）l 高速度，谐振频率可达1175Hzl 采用硅传感技术l 超低底噪l 柔性铰链导向显微镜物镜扫描台主要应用：l 自动聚焦系统l 共焦显微镜l 3D成像l 超分辨显微镜l 半导体计量学 显微镜物镜扫描台产品参数：更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商，代理品牌均处于相关领域的发展前沿；产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询。

一、产品概述：扫描声学显微镜（SAM）是一种高分辨率的成像设备，用于分析材料内部结构和缺陷。该仪器利用超声波探测技术，可以获得微米级别的分辨率，广泛应用于材料科学、半导体和生物医学等领域。二、设备用途/原理：设备用途扫描声学显微镜主要用于检测和分析材料内部的缺陷、应力和微观结构。工程师和研究人员可以利用该仪器进行材料的质量控制、故障分析和新材料的研发，以确保材料在实际应用中的可靠性和性能。工作原理扫描声学显微镜通过发射超声波信号到样品中，并接收反射回来的信号来工作。仪器内部使用高灵敏度的探测器和信号处理技术，将反射信号转换为图像，显示样品内部的结构和缺陷。用户可以调整扫描参数，以获得不同深度和细节的成像，从而进行深入的材料分析和研究。三、主要技术指标：1. 为了识别沿封装微电子应用中小和细微的缺陷，ECHO VS包括标准功能，如用于佳声耦合的热水、用于有效捕获有用数据的灵活TAMI、用于提高信噪比的波形平均、ICEBERG用于提高图像质量，MFCI用于在苛刻的应用中增强图像质量。ECHO VS是用于成型倒装芯片、CSP、MCM、叠片、MUF和其他先进封装技术的终超声波无损检测设备2. 检测薄至0.01μm的空气缺陷，并在空间上解决低至5μm的缺陷3. 图像优化，提高复杂模制倒装芯片（MUF）和具有聚酰亚胺层的封装的图像质量

仪器简介：在以下方面，easyScan 2扫描隧道显微镜是最理想的工具 在石墨上用易完成的原子分辨率进行非常高分辨率测量 轻松进入纳米世界 大气环境中日常的实验室工作 瑞士Nanosurf公司，全球知名的专业研发扫描探针原子力显微镜制造商和技术服务供应商，在扫描探针原子力显微镜领域有超过15年的研发经验，一直致力于新型扫描探针原子力显微镜的创新性研发和制造。目前已推出新一代低噪音-快速扫描-超高稳定性的AFM 和大扫描范围Nanite AFM系统。瑞士Nanosurf公司承诺提供最高品质的服务和客户支持，同时还提供纳米技术的OEM 客户定制，外包等业务。技术参数：1. 扫描隧道显微镜扫描头 最大扫描范围： X和Y方向0.5um x 0.5um（可以选择1um x 1um） xy轴分辨率： 0.015nm 最大扫描范围： Z方向200nm z轴分辨率： 0.003nm 扫描速度： 每128个数据点，60ms/line 槽压： 5 mV 阶段时，± 10 V 设定点电流： 25 pA阶段时，± 100 nA 反馈回路宽带： 3kHz 自动接近样品 没有使用危险的高电压 包括高效减幅阶段 用0.25 mm的 Pt/Ir 金属丝作为扫描尖端 2. 扫描隧道显微镜电子控制器 数据采集时，可以和任何标准计算计串行端口连接 三个轴都有16位的数据收集与控制系统 轴输出电压：+12V 附加的独立的12位的ADC输入选件 外部电源 可以升级运行AFM扫描仪3. 扫描隧道显微镜软件 测量数据可以实现可视化 不同的窗体的扫描数据可以被同时显示 线观察，点观察，3维观察 在线数学计算功能（减，平均值等等） 可以实现多数据输出 定制显示器、工作场所 多用光谱功能 I-V和I-z曲线测量4. 扫描隧道显微镜可利用的附件和消耗品 覆盖10倍放大高质量光学镜的透明层 全部的STM工具（刀具，钳子，镊子） 提供STM原理信息手册 样品：HOPG，Gold 薄膜，MoS2 云母片上的取向薄膜Gold (111) 接触样品的银粉漆 Pt/Ir STM金属丝(直径为0.25mm)主要特点：可以在大气下进行任何STM实验设计小巧、紧凑；使用简便、舒适扫描仪配置了易接近和可视扫描端自动接近样品所有的功能可以在一台计算机上进行与标准计算机串行端口连接（不需要接界面卡）特殊的扫描仪设计，确保低震动灵敏度

1.产品概述：PVA TePla 超声扫描显微镜SAM Premium系列结合了声学显微镜和光学显微镜。它使超声扫描平台与倒置光学显微镜或反射式光学显微镜相结合。SAM Premium系列所使用的技术是以融合了生产和研究技术的核心平台为基础。SAM Premium系列旗下各个系统均具有高产量、高灵活性和宽广的扫描范围等特性。此外，各系统还可以根据客户的要求进行扩展，并用于多样化的应用。2.产品优势：高频和换能器技术：高频和换能器技术可支持各类特定研究和工业应用，其中高频范围可高达400 MHz，并提供5 MHz和400 MHz之间的可选择频率范围。此外，每个换能器都配备了门的自动对焦功能。其特征在于，该系统可通过特殊的音爆高频单元升到1000MHz的声学成像。一直以来，PVA TePla致力于为企业客户及科研单位提供无损检测设备，满足客户要求。目，我们的SAM系列应用于工业域及多个高科技行业，如半导体行业、电子/电气行业等等。3.产品工艺：X和Y方向的扫描范围可以单独自定义，可选择以下扫描范围配置: 250µ m x 250µ m到320mm x 320mm250µ m x 250µ m到502mm x 502mm如HiSA（高速扫描轴）、或动态穿透式扫描等，可实现高性能扫描成像结果。HiSA（高速扫描轴）跟随样品弓形，具有动态聚焦功能。动态穿透式扫描可在25MHz至100MHz的频率范围内使用。

超声波扫描显微镜品牌：JIONSUN型号：UTScan400产品简介：扫描显微镜是一种利用传播媒介的无损检测设备。在工作中采用反射或者透射等扫描方式来检查元器件、材料、晶圆等样品内部的分层、空洞、裂缝等缺陷。超声波扫描显微镜是一种实用性极强的无损检测工具。该产品主要利用高频的超声波，对各类半导体器件、材料进行检测，能够检测出样品内部的气孔、裂纹、夹杂和分层等缺陷，并以图形的方式直观展示。在扫描过程中，不会对样品造成损伤，不会影响样品性能。因此，被广泛应用于半导体器件及封装检测、材料检测、IGBT功率模组产品检测等场合。应用领域：■ 半导体器件及封装检测：分立器件（IGBT/SiC）、陶瓷基板、塑封IC、光电器件、微波功率器件、MEMS器件、倒装芯片、堆叠Stacked Die、MCM多芯片模块等。■ 材料检测：陶瓷、玻璃、金属、塑料、焊接件、水冷散热器等。■ IGBT功率模组产品检测：实现 IGBT 模块内部界面和结构缺陷的无损检测，在进行功率循环后，通过SAM测试，准确找到 IGBT 模块材料、焊料层，打线等工艺中出现的问题，筛选不合格产品，并促进 IGBT 模块的封装质量提升。

泽攸科技 自主研发的台式扫描电子显微镜来了，众所周知以前购买台式扫描电子显微镜，都是向国外采购，现在不同了，我们国家越来越强大，科研力量越来越强，我们有能力自己研发国产台式扫描电子显微镜，我们有很强的研发团队做支撑，只要你需要我们都能够实现。ZEM台式扫描电子显微镜已服务各大高校，下面给大家看看ZEM15台式扫描电子显微镜产品及参数安徽泽攸科技有限公司是台式扫描电子显微镜生产厂家，关于台式扫描电子显微镜价格请联系(微信同号)原文：安徽泽攸科技有限公司，是一家具有完全自主知识产权的先进装备制造公司。公司集研发、生产和销售业务于一体，向客户提供原位电镜解决方案、扫描电子显微镜等设备，立志成为具有国际先进水平的电子显微镜及附件制造商。 　　公司有精通机械、光学、超高真空、电子技术、微纳加工技术、软件技术的团队，我们为纳米科学的研究提供的设备。公司团队于20世纪90年代投入电镜及相关附件研发中，现有两个系列核心产品： 　　　 （1）PicoFemto系列原位TEM/SEM测量系统； 　　　 （2）ZEM15台式扫描电子显微镜。 　　　 PicoFemto系列原位TEM/SEM测量系统自问世以来，获得了国内外研究者的高度关注，并且已外销至澳洲、美国、欧洲等地。我们协助用户做出大量研究成果，相关成果发表在Nature及其子刊/JACS/AM/Nano. Lett./Joule/Nano. Energy/APL/Angewandte/Inorg. Chem.等高水平刊物上。 目前在国内使用我公司产品的课题组/实验平台多达八十余个，遍布五十余所大学/研究机构，包括中科院过程所、北京大学、清华大学、浙江大学、中科院硅酸盐研究所、厦门大学、电子科大、苏州大学、西安交通大学、武汉理工大学、上海大学、中科院大连化物所等等。国外用户包括澳洲昆士兰科技大学、英国利物浦大学、美国休斯顿大学、美国莱斯大学等。安徽泽攸科技有限公司为您提供PicoFemto扫描电镜原位高温拉伸台的参数、价格、型号、原理等信息，PicoFemto扫描电镜原位高温拉伸台产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为高温拉伸台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

1.产品概述：PVA TePla SAM系列的超声波扫描显微镜使用简单，操作方便，是一款用于过程控制和质量保证，以及研究应用的无损检测设备。SAM系列旗下各型号均统一由一个符合行业标准的组件平台衍生而来，在此基础上，再融入了先进的生产和制造技术。2.产品优势：SAM系列旗下各型号均统一由一个符合行业标准的组件平台衍生而来，在此基础上，再融入了先进的生产和制造技术。凭借我司精密制造的高频和换能器技术，我们的超声波扫描显微镜能够在高达400MHz的超声频率范围内进行详细的声学分析。这些设备可以广泛应用于材料科学、生物医学、电子工业等域，帮助用户实现快速且准确的无损检测。无论是对材料中的缺陷进行定位和分析，还是对样品结构和表面形貌进行观察和评估，我们的超声波扫描显微镜都能提供可靠且高分辨率的成像结果。同时，我们还提供灵活多样的配置选项，以满足不同用户需求和实验要求。我们致力于为客户提供高性能和可靠性的超声波无损检测解决方案，以满足不断发展的科学研究和工业生产的需求。SAM系列系统是门用于质量和过程控制的无损检测工具，借助高达400兆赫的新射频和换能器技术实现详细的声学调查。简单而强大的图形界面确保了终用户可以充分使用该系统性能和功能。3.产品工艺：X和Y方向的扫描范围可单独自定义，可选择以下扫描范围配置250µ m x 250µ m到320mm x 320mm250µ m x 250µ m到420mm x 420mm模块化设计的功能，如穿透式扫描、动态穿透式扫描、或"双探头 “和 “四探头 “扫描仪配置等，大大优化了扫描成像结果。

SEM3200是一款高性能、应用广泛的通用型钨灯丝扫描电子显微镜。拥有出色的成像质量、可兼容低真空模式、在不同的视场范围下均可得到高分辨率图像。大景深，成像富有立体感。丰富的扩展性，助您在显微成像的世界中尽情探索。 扫描电子显微镜不仅局限于表面形貌的观察，更可以进行样品表面的微区成分分析。SEM3200接口丰富，除支持常规的二次电子探测器（ETD）、背散射电子探测器（BSED）、X射线能谱仪（EDS）外，也预留了诸多接口，如电子背散射衍射（EBSD）、阴极射线（CL）等探测器都可以在SEM3200上进行集成。

一、产品概述：扫描隧道显微镜（STM）是一种高分辨率的表面分析工具，能够以原子级别观察和操纵材料表面的结构和电子特性。该仪器利用量子隧穿效应，通过探针与样品表面之间的电流变化实现高精度成像，广泛应用于纳米技术、材料科学和表面物理等领域。二、设备用途/原理：设备用途扫描隧道显微镜主要用于研究材料表面形貌、电子性质和原子结构。工程师和科学家可以利用该仪器进行纳米级别的表面分析、缺陷检测和材料特性评估，以推动新材料的开发和应用。工作原理扫描隧道显微镜通过将一个极细的探针靠近样品表面，利用量子隧穿效应来测量探针与样品之间的电流。探针在样品表面上进行扫描时，仪器实时记录电流的变化，从而生成表面的三维图像。通过调节探针与样品之间的距离，STM能够获得高分辨率的表面结构信息，甚至可以操控单个原子，实现精细的纳米操作和研究。三、主要技术指标：1. 自 1996 年推出以来，我们的低温 STM 已经为 LHE4 浴室冷冻器 STM 的稳定性、性能和生产率设定了标准。 在推出 LT STM 超过 20 年之后，低温 SPM 技术在广泛的活跃科学域的重要性仍然没有突破。2. 分子光谱学、原子操纵、碳、超导体、半导体、金属上的气体和磁性学，只是研究充分利用低温 SPM 的几个例子。 在所有这些域，我们的 LT STM 出版物比所有其他商业低温 SPM 的合并要多。3. 近年来，这些出版物突出了 LT STM 提供的行业先 QPlus® AFM 性能。 随着我们继续推出新的 STM 平台表格，Scienta Omicron 也很高兴地宣布推出新的第三代仪器，进一步提高了 LT STM 的性能和生产力。4. 第三代的一个关键特征是液态氦保持时间增加 30%。 这对于所有低温实验都有很大的优势，降低了运行成本，并为用户提供了更多的灵活性。 新型低温器设计可实现长期光谱实验，而不会影响 LT STM 始终提供的稳定性。

产品描述显微镜自动平台控制系统自动平台主要技术指标一）X，Y方向自动平台1．外形尺寸： 191mmx164mm2．X方向行程：≥40mm3．Y方向行程：≥30mm4．重复定位精度：≤3um5．最小步距： ≤2um6．限位开关X，Y标准（四个）7．手动控制支持8．移动速度五档可调二）Z方向调焦机构9．调焦步距（分辨率）：0.25um10．手动控制支持三）自动平台控制器 11．通讯方式RS232串口通讯12．电动控制操纵杆控制13．电源交流220V自动平台控制及大图拼接软件主要功能定位移动：平台直接移动到指定位置全景扫描：沿试样表面平移，浏览试样全景定点拍照：按设定轨迹移动平台，同时拍摄镜下图像自动回位：多点位置记忆功能，精确快速回位大图拼接：定点拍照，同步拼接，自动生成大视野全景图片自动聚焦：控制Z轴上下移动，自动找到最佳焦面

美国SONIX 超声波扫描显微镜SONIXTM公司是全球超声波扫描检测仪和无损检测设备的领先制造商。自1986年成立以来，SONIXTM在无损检测领域中不断改革创新，是第一家基于微机平台，提供全数字化成像方案的公司。SONIXTM一直致力于技术革新，提供给客户最领先的声学检测技术。SONIXTM设备被广泛应用于各种材料的无损检测，包括半导体，汽车零件和其他先进元件。拥有独立开发的软件，硬件和专利技术，多年来我们通过和客户的不断合作，实现了SAM技术的持续改进。SONIXTM努力提供最准确的数据，完美的图像质量，非凡的操作性和设备的高可靠性，从而为客户提高效率，节约成本。SONIX软件优势● 可编程扫描，自动分，定制扫描程序，一键开始扫描，自动完成分析，生成数据● TAMI断层显微成象扫描: 无需精确选择波形，可任意设定扫描深度及等分厚度，一次扫描可获得200张图片，最快速完成分析。● FSF表面跟踪线: 样品置于不平的情况下，自动跟踪平面，获取同一层面图片● ICEBERG离线分析: 存储数据后，可在个人电脑上进行再次分析SONIX硬件优势● 紧凑、稳定的结构设计： 模块化设计使得结构简单、稳定、易于维护● 高速，稳定的马达设计： 扫描轴采用最先进的线性私服马达，提供高速、稳定、无磨损的扫描● 专利的超声波探头/透镜： 提供精确的缺陷检验，最小能探测到仅0.05微米厚度的分层。● PETT技术： 反射及透射同时扫描，有效提高元器件分析效率封装检测设备应用：封模底部填胶（MUF）检测 堆叠式晶片成像（SDITM） 铜柱凸块（Cu Pillars） 覆晶封装检测晶片尺寸封装（CSP）检测 球闸陈列封装（BGA） 塑料封装IC检测 混合式多晶片模组（MCM）检测ECHO-VSTMSONIX ECHO-VS 是专为更高精度要求，更复杂元器设计的新一代设备。广泛应用在Flip chips, Stacked die,Bumped die,Boned Wafers等。&bull 高分辨率下，扫描速度是传统超声波扫描显微镜的2.5倍&bull 独有的波形模拟器（Waveform Simulator)及波束仿真（Beam Emulator）&bull 扫描分辨率小于1微米&bull 水温控制系统及紫外细菌系统超高频状态工作下，信号更稳定

仪器简介：Nanite 原子力显微镜系统是纳米测量和成像的完美工具。该系统提供三维数据。原子力显微镜测量是非破坏性的，无需制备样品。此外，机械运动平台允许批量的，预编程测量，使用大型花岗岩自动X/Y/Z样品台可测试尺寸达180mm样品的不同区域，用户甚至可以定制更大的移动样品台。Nanite设计灵活、操作简单，是您理想的全自动研究级AFM系统。瑞士Nanosurf公司，全球知名的专业研发扫描探针原子力显微镜制造商和技术服务供应商，在扫描探针原子力显微镜领域有超过15年的研发经验，一直致力于新型扫描探针原子力显微镜的创新性研发和制造。目前已推出新一代低噪音-快速扫描-超高稳定性的AFM 和大扫描范围Nanite AFM系统。瑞士Nanosurf公司承诺提供最高品质的服务和客户支持，同时还提供纳米技术的OEM 客户定制，外包等业务。技术参数：原子力显微镜测量模式: 接触式原子力显微镜，真正非接触式原子力显微镜，横向力/摩擦力显微镜（LFM），导电原子力显微镜，磁力显微镜（MFM），开尔文探针（Kelvin Probe），扫描热原子力显微镜（SThM），电容和静电力显微镜（EFM），高级的纳米光刻和纳米操作能力，音叉原子力显微镜，三维扫描成像。 ● 原子力显微镜扫描器最大测量范围：110um X & Y range，22um Z range ● 大尺寸样品台，全自动测量最大直径为160mm样品。 ● PZT/Voice Coil双模式技术AFM ● 全自动运动平台，马达驱动 ● 专利批处理软件，自动图像拼接缝合技术，可以测量超大样品的三维形貌像 ● 先进的32-bit DSP控制器，专利反馈技术(扫描范围10um时最高扫描20 Hz,消除爬行现象) ● 可以进行纳米压痕和划痕实验 ● 专利光学系统， XY闭环扫描技术 ● 独特开放性软硬件构架设计, 并开放所有源代码供您的二次开发主要特点：● 原子力显微镜扫描器最大测量范围：110um X & Y range，22um Z range● 大尺寸样品台，全自动测量最大直径为160mm样品。● PZT/Voice Coil双模式技术AFM● 全自动运动平台，马达驱动● 专利批处理软件，自动图像拼接缝合技术，可以测量超大样品的三维形貌像● 先进的32-bit DSP控制器，专利反馈技术(扫描范围10um时最高扫描20 Hz,消除爬行现象)● 可以进行纳米压痕和划痕实验● 专利光学系统， XY闭环扫描技术● 独特开放性软硬件构架设计, 并开放所有源代码供您的二次开发

2016年，日立高新公司推出第一台大气压下扫描电子显微镜AeroSurf1500，其独特的设计可在大气压下得到清晰的扫描电子图像。特点：1、可在大气压（105Pa）下得到SEM图像；2、台式扫描电镜设计；3、低真空下成分分析；4、优质的图像处理控制；应用领域：1、食品检测；2、生物科技；3、刑侦医学；4、医药检测；5、环境监测。

Park NX12 SECCM可提供多功能原子力显微镜平台满足纳米级测量的需求- 原子力显微镜（AFM)有纳米级分辨率成像以及电，磁，热和机器性能测量的能力。- 纳米管扫描系统可用于高分辨率扫描电化学池显微镜和扫描离子电导电显微镜。- 倒置光学显微镜（IOM）便于透明材料研究和荧光显微镜一体化。通过验证的NX10性能通过倒置光学显微镜样品平台，Park NX12将Park原子力显微镜的多功能性和准确性相结合。这使得使用者更容易的使用纳米管技术去研究透明，不透明，或软或硬的样品。电化学测试的绝佳平台电池，燃料电池，传感器和腐蚀等电化学研究是个快速增长的领域，然后许多原子力显微镜不能直接满足其特殊的需求。Park NX12的人性化设计，为快速操作提供便利，从而达到化学研究人员要求的功能性和灵活性。这主要包括：多功能易用电化学池惰性气体和湿度的环境控制选项双恒电位仪的兼容性研究人员可利用NX12平台实现各种电化学应用：扫描电化学显微镜(SECM)扫描电化学池显微镜(SECCM)电化学原子力显微镜（EC-AFM）和电化学扫描隧道显微镜( EC-STM)多用户设备Park NX12完全重新构建，以适应多用户设备需求。其他原子力显微镜解决方案缺乏必要的多功能性，难以满足该设备中用户的多重需求，很难合理控制设备成本。然而，Park NX12旨在能够容纳标准环境原子力显微镜成像，液体扫描探针显微镜，光学和纳米光学成像，使其成为最灵活的原子力显微镜之一。多功能应用Park NX12功能广泛，包括液体中的PinPoint &trade 和纳米力学，倒置光学显微镜定位透明样品，离子电导显微镜超软样品成像，以及改善透明样品光学性能的可视性。综合性的力谱方法Park NX12提供了一种在液态和空气中的纳米力学表征的完整解决方案，使其成为广泛应用中的理想选择。模块化NX12模块化设计不仅安装简单且兼容性强，可以满足研究人员的各种实验需求。Park NX12可用于任何一个项目NX系列的众多扫描模式和模块化设计使它可轻松地适应任何一个扫描探针显微镜的需求。- 标准成像非接触模式成像接触模式成像侧向力显微镜（LFM)相位成像轻敲模式成像-化学性能扫描电化学池显微镜（SECCM)扫描电化学显微镜 （SECM)电化学显微镜(EC-STM和EC-AFM)功能化探针的化学力显微镜扫描离子电导显微镜（SICM）-热性能扫描热感显微镜(SThM)

Helios 5 FX 双电子束 能够引领失效分析突破至更高的技术层面 新一代 Thermo Scientific Helios 5 DualBeam 具有 Helios DualBeam 显微镜产品系列领先业界的高性能电子显微镜成像和分析性能。它经过精心设计，可满足材料科学研究人员和工程师对各种聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 的需求 - 即使是最具挑战性的样品。Helios 5 DualBeam 重新定义了 高分辨率成像的标准：高材料对比度、快速、简单和精确的高质量S/TEM样品制备和APT样品制备，以及高质量的亚表面和 3D 表征。新一代 Helios 5 DualBeam 在 Helios DualBeam 系列成熟功能的基础上改进优化，旨在确保系统于手动或自动工作流程下的最佳运行状态。这些改进包括： ● 更易于使用：Helios 5 DualBeam 是不同经验用户最易使用的 DualBeam。操作员培训可以从几个月缩短到几天，系统设计可帮助所有操作员在各种高级应用程序上实现一致、可重复的结果。● 提高了生产率：Helios 5 DualBeam 和 Thermo Scientific AutoTEM 5 软件的高级自动化功能、增强的稳固性和稳定性允许无人照看甚至夜间操作，显著提高了样品制备通量。● 缩短出结果的时间：Helios 5 DualBeam 现在包括新调整图像方法 FLASH。对于传统的显微镜来说，每次操作员需要获取图像时，必须通过迭代对中仔细调整显微镜。使用 Helios 5 DualBeam 时，通过屏幕上的简单手势即可激活 FLASH，从而自动调整这些参数。自动调整可以显着提高通量、数据质量并简化高质量图像的采集。 Thermo Scientific Helios 5 DualBeam 是行业领先的 Helios DualBeam 系列的第五代产品之一。本款产品经精心设计，可满足科学家和工程师的需求，它将具有极高分辨率成像和高材料对比度的创新性 Elstar 电子柱与可进行快速、简单、精确的高质量样品制备的出色的 Thermo Scientific Tomahawk 离子柱加以结合。除了先进的电子和离子光学系统，Helios 5 DualBeam 还采用了一套最先进的技术，能够实现简单、一致的高分辨率 (S)/TEM 和原子探针断层扫描 (APT) 样品制备，还能够为最具挑战性的样品提供高质量的亚表面和 3D 表征。 Helois 5 双光束平台持续为最先进的半导体的失效分析实验室、工艺开发实验室和流程控制实验室提供样品成像、分析和S/TEM样品制备的应用服务。 核心产品优势 ● 高性能的Elstar电子束镜筒结合UC+单色器的技术， 实现了亚纳米级的SEM和S/TEM图像分辨率● 杰出的低kV Phoenix离子束性能使TEM样品制备时可以达到只有亚纳米级的损伤● 可以通过多达5个集成束内和透镜下探测器获得清晰的、精细的、免费的对比图像● MultiChem气体输送系统为在双光束平台下电子和离子束诱导沉积和刻蚀提供了最先进的技术支持。● EasyLift EX 纳米操 作手能够精确的、定点的制备超薄TEM薄片，同时提高 了用户的信任度和产量● STEM 4 探测器在TEM薄片样品上提供了出色的分辨率和对比度● 来自Thermo Fisher Scientific 在双光束应用内失效分析领域内的世界级的专业知识的支持 图1. TEM 样品制备使用了ThermoScientific的iFAST自动 化软件包，并用EasyLift的纳米机械臂完成了提取。图2. 14纳米SRAM逆变器减薄 到15纳米的HRSTEM光场图像 展示了与金属栅练级的nFET和pFET的结构 Helios 5 DualBeam的主要特点 高质量样品制备使用高通量 Thermo Scientific Tomahawk 离子镜筒或具有无人可比低电压性能的 Thermo Scientific Phoenix 离子镜筒为 S/TEM 和 APT 分析制备自定义样品。 全自动使用可选配的 AutoTEM 5 软件进行快速、简单、 全自动、无人值守的多现场原位和非原位 TEM 样品制备以及交叉切片。 以最短时间获得纳米级信息使用一流的 Thermo Scientific Elstar 电子镜筒为任何经验水平的用户提供 Thermo Scientific SmartAlign 和 FLASH 技术支持。 新一代 UC+ 单色器技术凭借具有更高电流的新一代 UC+ 单色器技术，可以在低能量下实现亚纳米性能，从而显示最细致的细节信息。 完整的样品信息可通过多达 6 个集成在色谱柱内和透镜下的集成检测器获得清晰、精确且无电荷的对比度。 3D 分析使用可选配的 Thermo Scientific Auto Slice & View 4 (AS&V4) 软件通过精确靶向目标区域而获得高质量、多模式的亚表面和 3D 信息。 快速纳米原型设计对临界尺寸小于 10 nm 的复杂结构进行快速、准确、精确的铣削和沉积。 精确的样品导航在 150-mm 压电载物台的高稳定性和准确性或 110-mm 载物台的灵活性以及腔室内 Thermo Scientific Nav-Cam 摄像机的支持下根据具体应用需求进行定制。 无伪影成像基于集成的样品清洁度管理和专用成像模式，例如 DCFI 和 SmartScan 模式。 STEM 成像Thermo Scientific Helios 5 FX 的配置具有独特的原位 3&angst 分辨率 STEM 功能，可提供高高效的工作流程。 电镜设备的规格 适用于半导体行业的 Helios 5 DualBeam 规格Helios 5 CXHelios 5 HPHelios 5 UXHelios 5 HXHelios 5 FX工作准备和 XHR SEM 成像最终样品制备（TEM 片层、APT）埃米级 STEM 成像和样品制备SEM分辨率20 eV – 30 keV20 eV – 30 keV着陆能量0.6 nm @ 15 keV1.0 nm @ 1 keV0.6 nm @ 2 keV0.7 nm @ 1 keV 1.0 nm @ 500 eVSTEM分辨率 @ 30 keV0.7 nm0.6 nm0.3 nmFIB 制备工艺最大物料去除率65 nA100 nA65 nA最佳最终抛光2 kV500 VTEM 样品制备样品厚度50 nm15 nm7 nm自动化 否是是样品处理行程110 x 110 x 65 mm110 x 110 x 65 mm150 x 150 x 10 mm100 x 100 x 20 mm100 x 100 x 20 mm+ 5 轴 (S)TEM 计算机阶段加载锁手动快速加载器自动手动快速加载器自动自动 + 自动插入/拔出 STEM 杆 用于材料科学的 Helios 5 DualBeam 的规格 Helios 5 CX Helios 5 UC Helios 5 UX 离子光学系统具有出色的高电流性能的 Tomahawk HT 离子柱具有卓越高电流和低电压性能的 Phoenix 离子镜筒离子束电流范围1 pA – 100 nA1 pA – 65 nA加速电压范围500 V – 30 kV500 V – 30 kV最大水平射野宽度在光束重合点处为 0.9 mm在光束重合点处为 0.7 mm最小离子源寿命1,000 小时1,000 小时两级差速抽气飞行时间 (TOF) 校正15 位置光阑条两级差速抽气飞行时间 (TOF) 校正15 位置光阑条电子光学系统Elstar 超高分辨率场发射 SEM 镜筒Elstar 极高分辨率场发射 SEM 镜筒磁性浸没物镜磁性浸没物镜可提供稳定的高分辨率分析电流的高稳定性肖特基场发射枪可提供稳定的高分辨率分析电流的高稳定性肖特基场发射枪电子束分辨率最佳工作距离 (WD) 下30 kV (STEM) 时 0.6 nm15 kV 时 0.6 nm1 kV 时 1.0 nm1 kV（射束减速*）时为 0.9 nm30 kV (STEM) 时 0.6 nm1 kV 时 0.7 nm500 V (ICD) 时 1.0 nm重合点上15 kV 时 0.6 nm1 kV（射束减速*和 DBS*）时为 1.5 nm15 kV 时 0.6 nm1 kV 时 1.2 nm电子束参数空间电子束电流范围0.8 pA 至 176 nA0.8 pA 至 100 nA加速电压范围200 V – 30 kV350 V – 30 kV着陆能量范围20 eV – 30 keV20 eV – 30 keV最大水平射野宽度4 mm WD 时 2.3 mm4 mm WD 时 2.3 mm检测器Elstar 镜筒内 SE/BSE 检测器（TLD-SE、TLD-BSE）Elstar 色谱柱内 SE/BSE 检测器 (ICD)*Elstar 色谱柱内 BSE 检测器 (MD)*Everhart-Thornley SE 检测器 (ETD)查看样品/色谱柱的 IR 摄像机用于二级离子 (SI) 和二级电子 (SE) 的高性能腔室内电子和离子检测器 (ICE)*用于样品导航的 Thermo Scientific 腔室内 Nav-Cam 摄像机*可伸缩、低电压、高对比度、定向、固态反向散射电子检测器 (DBS)*带 BF/DF/HAADF 分段的可伸缩 STEM 3+ 检测器*集成的等离子束电流测量载物台和样品载物台灵活的 5 轴电动载物台高精度五轴电动载物台，配有压电驱动的 XYR 轴XY 范围110 mm150 mmZ 范围65 mm10 mm旋转360°（无限）360°（无限）倾斜范围-15° 至 +90°-10° 至 +60°最大样品高度与共心点间距 85 mm与共心点间距 55 mm最大样品重量500 g，任何载物台位置上0° 倾斜下最高 5 千克（适用某些限制）500 g（包括样品架）最大样品尺寸完全旋转时 110 mm（也可以是更大的样品，但旋转有限）完全旋转时 150 mm（也可以是更大的样品，但旋转有限）计算中心旋转和倾斜计算中心旋转和倾斜* 可选配，取决于配置 Helios 5 DualBeam的应用 采用电镜进行过程控制现代工业需求高通量、质量卓越、通过稳健的工艺控制维持平衡。SEM扫描电镜和TEM透射电镜工具结合专用的自动 化软件，为过程监控和改进提供了快速、多尺度的信息。 质量控制和故障分析质量控制和保证对于现代工业至关重要。我们提供一系列用于缺陷多尺度和多模式分析的 EM电子显微镜和光谱工具，使您可以为过程控制和改进做出可靠、明智的决策。 基础材料研究越来越小的规模研究新型材料，以最大限度地控制其物理和化学特性。电子显微镜为研究人员提供了对微米到纳米级各种材料特性的重要见解。 半导体探索和开发先进的电子显微镜、聚焦离子束和相关半导体分析技术可用于识别制造高性能半导体器件的可行解决方案和设计方法。 良率提升和计量我们为缺陷分析、计量学和工艺控制提供先进的分析功能，旨在帮助提高生产率并改善一系列半导体应用和设备的产量。 半导体故障分析越来越复杂的半导体器件结构导致更 多隐藏故障引起的缺陷的位置。我们的新一代半导体分析工作流程可帮助您定位和表征影响量产、性能和可靠性的细微的电子问题。 物理和化学表征持续的消费者需求推动了创建更小型、更快和更便宜的电子设备。它们的生产依赖高效的仪器和工作流程，可对多种半导体和显示设备进行电子显微镜成像、分析和表征。 电源半导体设备分析电源设备让定位故障面临独特的挑战，主要是由于电源设备结构和布局。我们的电源设备分析工具和工作流程可在工作条件下快速实现故障定位并提供精确、高通量的分析，以便表征材料、接口和设备结构。 显示设备故障分析不断发展的显示技术旨在提高显示质量和光转换效率，以支持不同行业领域的应用，同时继续降低生产成本。我们的过程计量、故障分析和研发解 决方案帮助显示公司解决这些挑战。