等离子薄膜溅射仪

最精密的离子溅射标样，用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um； 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能，适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵，尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地：英国品牌：Cressington类型：Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象，而国产靶材由于杂质多（虽然宣称纯度优于4个9），质量次会导致镀膜效果不均匀，污染溅射头等问题，主要区别：1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装，而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装；2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌，而进口靶材有明显的产品信息和编号；

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

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【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：钯靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铬靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机，采用微波能量生产等离子体，在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时，微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体，这种等离子流经污染表面与之发生反应，污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同，这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能，具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品，可以获得更高的气压，更高的功率和更高的温度，当然，您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高，安全而易于使用，而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾，不排放有毒有害的溶解物或气体，不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器，这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长，第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’，第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度，这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置：1.水循环浴；2.双气真空流动控制器：可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件，它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出，两个流量（0-5SCFM）计，两个压力计(0-60帕)，一个真空压力计（0-30’’Hg）和一个开关；3.离子阱：该离子阱用于保护易损伤材料，如：激光二极管发光面，光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子，从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。

透射电镜（TEM）用氧化硅薄膜窗格 氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较： 相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 样本安置面：对多数用户来说，样本应安置在薄膜窗格的&ldquo 覆膜面&rdquo 而非&ldquo 蚀坑面&rdquo 。但我们也知道在一些特殊情况下，蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜（AFM）观测外，蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上，没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内&ldquo 看清&rdquo 薄膜表面。 产品规格： 氧化硅薄膜窗特点： 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性： 耐高温，1000℃； 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡； 化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析； 氧化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm40nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm20nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm40nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm8nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小70x70μmΦ3mm200μm18nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小60x60μmΦ3mm200μm 40nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小50x50μmΦ3mm200μm 优点： SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 应用： 氧化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）： ● 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。 ● 作为耐用（如&ldquo 强力&rdquo ）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行&ldquo 匹配&rdquo 。 ● 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。 ● 聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。 氧化硅薄膜TEM网格操作使用： 如果正确操作，氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反，若用工具直接接触薄膜，则会即刻损坏薄膜。为防损坏，可用尖嘴镊子小心夹取，就像夹取其他TEM网格一样。 使用前清洁： 氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。 如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。 通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm 厚度直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

x射线定硫仪消耗品样品薄膜，迈拉膜，样品杯 Chemplex样品薄膜 型号：090，250 品牌：Chemplex 产地：美国 一、产品介绍： 在用X荧光光谱仪进行ROHS检测，WEEE检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的X射线信号和检测结果。 选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？ 适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。 Chemplex XRF样品杯和样品薄膜用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。Chemplex样品薄膜薄膜张力特性佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯、样品薄膜在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国商标局授予知识产权地位。 美同达为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！ 我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克 Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X 射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、 Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。） 三、SPECTROMEMBRANE?样品薄膜 随着SpectroMembrane?样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。 SpectroMembrane?薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在XRF样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。 x射线定硫仪消耗品样品薄膜，迈拉膜，样品杯 106麦拉膜、CAT.NO：150麦拉膜、CAT.NO：250麦拉膜、CAT.NO：256麦拉膜、CAT.NO：257麦拉膜、CAT.NO：416、CAT.NO：426等Cat. No. Type Thickness Format Size Qty/Pack446-5 Kapton? 7.5 μm (0.3mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 50090 Ultra-Polyester? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)95 Etnom? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100-PP Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)106 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500107 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000150 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)150-PP Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)156 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500157 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000250 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)250-PP Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)256 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500257 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000美国Chemplex工业公司自1971年成立以来，一直坚持专注于X射线光谱分析的样品制备领域，拥有多系列独有的特色产品线以及产权，以质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉全球。美国Chemplex公司一直以产品创新、质量保证、、服务周到、准时交货为原则，几乎所有的产品有库存。美同达代理美国Chemplex工业公司旗下系列产品：XRF样品杯、XRF样品膜、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、符合ROHS方法的PE/PVC高分子聚合物（块/粉）、XRF/XRD化学试剂盒套包装等。全线供应给各大中石油、中石化、中海油旗下研发质检实验室，是一家专业的油品实验室进口配件耗材打包供应专家！

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金/钯靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：镍靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™ 氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™ 氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。产品信息：货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-11G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm300nm20/pk76042-12Silicon Nitride X-Ray Window500μm50nm20/pk76042-13Silicon Nitride X-Ray Window1000μm50nm20/pk76042-14Silicon Nitride X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-15Silicon Nitride X-Ray Window1000μm100nm20/pk76042-16Silicon Nitride X-Ray Window 1500μm200nm20/pk76042-17Silicon Nitride X-Ray Window2500μm200nm20/pk

激光诱导等离子体光谱仪配件是一款欧洲进口的高度安全的激光诱导等离子体光谱仪，采用高度模块化设计，专业为样品分析而研发，是实验室科研和现场检测的理想工具。广泛用于材料分析，元素检测，工业检测，安全检测，反恐和国防等领域。孚光精仪还有更多激光仪可供选择，欢迎前来咨询。激光诱导击穿光谱仪配件特点安全型模块化设计具有世界上最为安全的配置，这套仪器对操作人员的危害几乎为零。特别对于样品室使用防激光辐射的高档光学窗口玻璃，不仅可以让您观看样品的测量，同时又保证您的安全。具有高度的使用灵活性，您可以手持着它进行测量，也可以放置到样品室上测量。中国最大的进口精密光学器件和科学仪器供应商！激光诱导等离子体光谱仪配件特色* 高度模块化和多功能设计，适合实验室和现场多种应用；* 高效率的等离子体采集光学，可配备6通道或8通道光谱采集系统；* 具有多种激光器选项，50mJ@1064nm, 355nm, 266nm, 100mJ@1064nm,355nm,266nm, 还有更多激光器供选择 * 可配备样品室(具有I级激光安全标准)或不配备样品室直接测量(IV级激光安全) * 激光头和样品方室可以多向安装工作；* 具有其他清洗功能（与外界气源连接，可供氩，氮，氦，空气等气体）；* 可安装高达8个光谱仪模块覆盖185-1000nm * 激光器电源小型化，非常方便拆卸，搬运；* 软件两年免费升级。孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商，产品技术和性能保持全球领先,拥有包括光谱仪,激光诱导等离子体光谱仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类，世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系，确保每个一产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于激光诱导等离子体光谱仪参数，光谱仪价格等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取！

布鲁斯特型薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）λ/10 @ 632.8 nm平行度误差30 arcsec消光比Tp / Ts200:1典型的传输Tp 95%典型的反射Rs 99.5%入射角Brewster angle激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt布鲁斯特薄膜偏振器用于高能量应用。它们的损伤阈值高达10 J /cm2@ 1064 nm，持续8 ns。布鲁斯特偏振器被用作Glan-Taylor激光偏振棱镜或立方偏振分束器的替代品。典型地，BK7或UVFS电介质涂布的布鲁斯特型薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开，并用于腔内和腔外的使用。典型的极化比Tp / Ts是200：1，在56°AOI（布鲁斯特角）下达到。为获得zui佳传输效果，布鲁斯特型薄膜偏振器应安装在适当的支架上进行角度调节。双波段或其他尺寸的薄膜偏振器可应要求提供。1）有效分离s偏振分量和p偏振分量2）针对流行的激光波长进行了优化3）许多布鲁斯特薄膜偏光片都可以从STOCK快速交货！ Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa尺寸，mm基底材料波长，nm产品编号?25.4 x 3UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-0254?25.4 x 3UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-025420 x 40 x 5UVFS7802-BFP-0780-204020 x 40 x 5UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-204020 x 40 x 5UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-2040?25.4 x 3BK715502-BFP-1550-0254?25.4 x 3UVFS3432-BFP-0343-0254?25.4 x 3UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-0254?25.4 x 3UVFS2662-BFP-0266-025420 x 40 x 5UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-204020 x 40 x 5UVFS3552-BFP-0355-2040?25.4 x 3UVFS 5322-BFP-0532-0254?25.4 x 3UVFS10642-BFP-1064-025420 x 40 x 5UVFS2662-BFP-0266-204020 x 40 x 5UVFS5152-BFP-0515-2040?25.4 x 3UVFS7802-BFP-0780-0254?25.4 x 3UVFS4002-BFP-0400-025420 x 40 x 5UVFS4002-BFP-0400-204020 x 40 x 5BK715502-BFP-1550-204020 x 40 x 5UVFS5322-BFP-0532-204020 x 40 x 5UVFS10642-BFP-1064-204020 x 40 x 5UVFS3432-BFP-0343-2040?25.4 x 3UVFS3552-BFP-0355-0254?25.4 x 3UVFS5152-BFP-0515-0254定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

微波等离子体源是具有着高度灵活性微波等离子体发生器，可有效应用在各种精密复杂的科研实验中。微波等离子体源创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气，氦气，确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。微波等离子体源特点对于表面净化、超细清洗和表面活化以及实时样品制备的形态分析方法这些多样化应用，广泛的操作范围内的气体流量和微波功率，以及固有的高等离子体温度是必不可少的先决条件。具有上述性能，成为了工业和研究领域里生产和分析应用的强大工具。等离子体作为一种高新技术，广泛用于科学研究和工业应用，是表面处理中不可或缺的工具。等离子技术运用广泛，主要用于那些质量，生产力，环境的可持续性，精密度和灵活性很重要的应用。微波等离子体源MiniMIP特征 紧凑和移动型 灵活性高 微波等离子体源应用广泛 激活 精洗 净化 形态分析（如有机汞，铅，锡化合物） 化学反应器? 处理 技术和生物材料 复杂的几何形状 很难接近的位置 精确和逐点操作 惰性和分子气体提供能源 多功能加工一体化微波等离子体源规格 用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置 手持装置尺寸 80x 65X 50mm（1.50米电缆接头） 手持装置重量 0.5kg 基本单元尺寸 110x 230x 375mm （高x宽x深） 基本单元重量 6.5公斤 电源 110-230VAC, 50/60 Hz 功耗＜200W 在230 V, 50 Hz 运输和储存条件 温度 - 40°C - 70°C 相对湿度 10% - 100% 工作条件 温度15°C - 40°C 相对湿度 15% - 75% 气压 800 hPa -1060 hPa资源工艺气体氩* *根据要求，提供其他气体和混合物微波频率 2.45GHz正向功率 10 W至60 W（可选）气体流量 0.6- 6升/分钟等离子量 约10mm3电子密度 高达2 x1021m-3气体温度 高达1700°C*取决于工艺气体和功率 交付内容 等离子体源装置 微波发生器 微波连接器电缆线

手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)，薄膜厚度测量范围为350-1000nm，不需要电线连接，也不需要实验室安装空间，它从USB连接中获取工作电源，这种独特设计方便客户移动测量，只需USB线缆从计算机控制测量即可，采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪，具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源，光源寿命高达20000小时，手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电，不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 15nm-90微米；波长范围: 360-1050nm 探测器：3648像素Si CCD阵列，16bit A/D精度：1nm 斑点大小：0.5mm 光源：LED混合光源（ 360-1050nm )所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：300x110x500mm 重量：600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

高对比度45°薄膜偏振片基底材料UVFS直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）λ/8 @ 632.8 nm平行度误差30 arcsec入射角45°激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt 这些高对比度薄膜偏振器（TFP）采用先进的离子束溅射（IBS）涂层技术制造而成。 UVFS电介质涂层的高对比度薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开。由于非常低的损耗，它们非常适合内腔和外腔使用。 这些偏振器的典型偏振比远高于1000：1（Tp：Ts）。为获得zui佳性能，应将高对比度薄膜偏振器安装在适当的支架上，并进行角度调整。 1）使用IBS技术制造2）Tp：Ts 1000：13）高Tp，低吸收和散射4）由于涂层的孔隙率可忽略不计，所以没有老化效应 Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射 每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。 电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPaCoating codeCotaing typeAOILIDT2-HCTFP-1030-204055.4 deg4.28 J/cm2 (p-pol) 8.34 J/cm2 (s-pol) @1030nm 11.1ps 10 Hz免责声明激光诱导损伤阈值（LIDT）测量是在Altechna生产的实际部件上进行的。 单个组件的LIDT取决于多个参数（基材，抛光批次，涂料批次，储存条件等）。 以上各个部件达到的损伤阈值仅供参考，但并不能保证所有的光学元件。 Altechna可根据要求进行涂层损伤阈值测试服务。尺寸，mm传输p-pol传输s-pol波长，nm涂层反射GDD（s-偏振）涂层透射GDD（p偏振光）消光TP / TSLIDT产品编号10 x 20 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-102010 x 20 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-102010 x 20 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-1020?25.4 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-025420 x 40 x 599%0.2%1064500:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCPBTFP-1064-204010 x 20 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-102020 x 40 x 597%0.3%355GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-2040?25.4 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-025420 x 40 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-204020 x 40 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-2040?25.4 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-025410 x 20 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-102020 x 40 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-204020 x 40 x 599%0.1%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-2040?25.4 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-0254?25.4 x 599%0.1%532GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-025420 x 40 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-204020 x 40 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-204020 x 40 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-204010 x 20 x 599%0.1%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-102010 x 20 x 597%0.3%355GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10Hz2-HCBTFP-0355-1020?25.4 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-0254?25.4 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-0254?25.4 x 597%0.3%355GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-025410 x 20 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-1020 定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统，可以结合显微镜测量薄膜的吸收率，透过率，反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量，测量点处的薄膜厚度，薄膜光学常量（n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是：光栅光谱仪（200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜（可选）。其中目镜适配器包含镜头，可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果（20X物镜）薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制，光谱测量和薄膜测量功能的软件，具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率，透过率，反射率和荧光光谱，并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置，所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数，如signal integration也能测量出来。对于反射率测量，该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度（《10nm到100微米）， 光学常量（n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚： 10nm-150微米； 波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 光源：使用显微镜光源 光斑大小：由显微镜物镜决定 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口； 尺寸：120x120x120mm 重量：1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量

等离子体主动热探头是耐高温的等离子探头,用于高温等离子体过程中流入到目标表面的能量，也可作为离子流探头使用。由于等离子体主动热探头的灵敏度非常高，特别适合用于工业生产过程或研究中的有效质量控制。有一个特殊的版本，该版本有一个更多可选的可调参数，可以用来解决等离子体工艺的研发。等离子体主动热探头特点在生产高品质涂层或研究材料属性过程中，对等离子体工艺的表征，控制和监测是至关重要的。最重要的一个参数是通到基底的实际能量流入和总能量流入—主动热探头是测量这个决定性的量数的唯一工具。增殖的粒子影响基底的表面工艺和反应。这种能量与其他如热辐射能或化学能合成总流入能量。主动热探头连续定向测量流入的能量，保持层和表面性质很好的相关性。等离子体主动热探头产品概述适用于真空 耐温高达450°C 能量流入可多达（2±0，001）W/cm2 可衡量 可变长度和几何图形 包括系统控制和评估的软件包 提供安装服务和流程优化咨询

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

宽带（超快）薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变λ/6 @ 632.8 nm入射角72° (±2°)平行度误差30 arcsec激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt宽带偏振片的zui佳工作角是AOI = 72°（±2°）。我们提供4种宽带（超快）薄膜偏振器。偏振器通过传输p偏振和反射s偏振光束分量来工作。 透射偏光器 - 在输入面上具有偏光涂层，而输出面是用于p偏振的增透膜。它们可以针对p极化的zui高透射率Tp 94％进行优化，或者用于极化的zui佳对比度。 反射偏振器 - 在输入面上具有偏振涂层，而输出面是AR涂层，用于s和p偏振。它们可以被优化用于s极化Rs 98％的zui高反射或者用于极化Rs：Rp 60：1的zui佳对比。此外，偏振片的AR涂层侧具有楔形以使重影zui小化。 标准的薄膜偏振器设计用于750 - 850 nm或980 - 1090 nm范围内的zui佳性能。自定义波长范围的设计也是可用的。 1）有效地分离s和p偏振分量2）许多宽带（超快）薄膜偏振器可从STOCK以快速交货获得3）尺寸可达160x50毫米4）针对流行的激光波长进行了优化Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa波长，nm消光比透射/反射，％尺寸，mm优化产品编号750 - 850 (centered@800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%50 x 160 x 5Contrast2-UFP-0800-5016-T2750 - 850 (centered@800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%50 x 160 x 5Tp2-UFP-0800-5016-T1980 - 1090 (centered@1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%50 x 160 x 5Contrast2-UFP-1030-5016-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%?25.4 x 3Tp2-UFP-1030-0254-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%50 x 160x 5Tp2-UFP-1030-5016-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%50 x 160 x 10Rs2-UFP-0800-5016-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%50 x 160 x 10Contrast2-UFP-0800-5016-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%50 x 160 x 10Rs2-UFP-1030-5016-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%50 x 160 x 10Contrast2-UFP-1030-5016-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%40 x 120 x 5Contrast2-UFP-0800-4012-T2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%40 x 120 x 5Tp2-UFP-0800-4012-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%40 x 120 x 5Contrast2-UFP-1030-4012-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%40 x 120 x 5Tp2-UFP-1030-4012-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%40 x 120 x 10Rs2-UFP-1030-4012-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%40 x 120 x 10Contrast2-UFP-1030-4012-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%20 x 60 x 2Tp2-UFP-1030-2060-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%40 x 120 x 10Contrast2-UFP-0800-4012-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%?25.4 x 3Tp2-UFP-0800-0254-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%20 x 60 x 2Contrast2-UFP-0800-2060-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%20 x 60 x 5Rs2-UFP-1030-2060-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%20 x 60 x 2Contrast2-UFP-1030-2060-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%?25.4 x 3Rs2-UFP-1030-0254-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%20 x 60 x 5Contrast2-UFP-0800-2060-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%40 x 120 x 10Rs2-UFP-0800-4012-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%?25.4 x 3Contrast2-UFP-0800-0254-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%20 x 60 x 5Rs2-UFP-0800-2060-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%?25.4 x 3Contrast2-UFP-0800-0254-T2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%20 x 60 x 2Tp2-UFP-0800-2060-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%?25.4 x 3Rs2-UFP-0800-0254-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%20 x 60 x 5Contrast2-UFP-1030-2060-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%?25.4 x 3Contrast2-UFP-1030-0254-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%?25.4 x 3Contrast2-UFP-1030-0254-T2 定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。