辉光放电质谱仪

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。 ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现： 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率； 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成； 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

谱育科技自主研发的TRACE 8000 化学电离飞行时间质谱仪，将高灵敏度化学电离源和高分辨飞行时间质量分析器进行结合，具有灵敏度高、分析速度快、分辨率高、测量组分种类多等突出优点；仪器具有创新的辉光放电源、高压离子漏斗和静电透镜传输技术，保证样品的电离效率和离子的传输效率，适用于走航监测、食品科学、材料分析、爆炸物和药物检测等方面的应用。产品概述性能优势分析速度快微秒级的扫描速度，可捕捉目标物质的瞬时变化，为科学研究、应急监测、生产过程的高通量监测提供有效手段。分辨率高可实现复杂混合物样品中分子量相近物质的分析识别，解决传统低分辨直接进样质谱分析定性难的问题，将“看不见”变成“看得见”，追溯物质本源。多试剂离子可选配合试剂离子快速切换系统，根据目标物质的化学特性，可选择H3O+、O2+、NO+等多种不同电离能的试剂离子进行靶向电离，适测物质涵盖醛、酮、有机硫、有机胺、卤代烃、苯系物、长短链烃类等，是优选的快速检测技术。 应用领域TRACE 8000 化学电离飞行时间质谱仪适用于走航监测和园区VOCs在线监测，可实现VOCs精准溯源及扩散预警。可对半导体生产过程中的AMC、食品生产的风味物质进行实时监控；石油化工生产过程中移动测量、定点在线监测；材料中有害成分的快速鉴定分析；人呼出气体的宽动态范围内的追踪分析。

赛默飞的质谱仪包括：LC-MS液质联用仪、GC-MS气质联用仪、DFS高分辨率磁式质谱仪、IO-MS同位素质谱仪、GD-MS辉光放电质谱等。赛默飞质谱仪拥有无与伦比的出色性能和易用性，利用这些质谱仪在实验中令人惊讶的表现能力和超高的灵敏度，您能够以更高的速率获得更可靠更丰富的结果。 产品范围：三重四级杆串联液质三重四级杆串联气质高分辨质谱离子阱质谱高分辨磁质谱无机质谱液相和离子源高分辨气质更多信息：请访问赛默飞世尔科技质谱分析的展台，展位号：SH103458。或直接登陆以下网址：http://www.instrument.com.cn/netshow/SH103458/

针对挥发性有机物（VOCs）污染溯源耗时长、多组分物质实时精准分析难度大的问题，谱育科技采用双阳极空心阴极放电源及垂直引入反射式飞行时间质谱技术，研制了TRACE 7000高灵敏度、高可靠性、软电离的质子转移反应飞行时间质谱仪。TRACE 7000具有分析速度快、灵敏度高、定性能力强、测量组分种类多等突出特点，适用于走航监测和园区VOCs在线监测。产品概述性能优势检测物质种类多采用水做试剂分子，具备广谱的电离能力，可满足环境空气中绝大多数VOCs物质的监测。检出限低亚ppb级检出限，低于多数VOCs国家标准排放限值。准确的定性、定量能力软电离技术，测量空气中的痕量VOCs时，不受空气中常规组分的干扰，且不需要对样品进行预处理。目标产物以加氢的准分子离子峰为主，谱图简洁、易于识别，目标物定性、定量准确。专业化抗震设计整机通过震动测试，保证仪器的稳定性和可靠性，适用于复杂路况的走航监测。智能化操作设计采用全自动智能控制软件，中文界面，仪器状态一目了然，具备自诊断、自保护、压力和温度自补偿、一键式自动运行功能，开启无人值守时代。应用领域固定站点连续监测TRACE 7000可实时监测空气、水、固定污染源中VOCs的变化情况，以其为核心建立全覆盖的分布式监测预警系统。可实现园区重点管控因子的源头防控及敏感区域的污染预警。走航监测走航监测实时分析环境空气中VOCs的时空变化，锁定污染来源，为执法部门的决策提供准确的数据支撑。

Mars-550过程质谱仪是聚光科技结合多年过程分析和环境检测仪表，运用国际先进的质谱分析技术，开发出高性能的Mars-550过程气体质谱分析仪。仪器具有高品质的四极杆质量分析器和针对过程气体检测的专用分析软件，可实时对过程气体提供多流路、多组分分析。具有测量精度高、响应速度快和可靠性高等特点，能适应多种复杂、恶劣的应用环境。　　2012年获得科学仪器优秀新产品称号　　2014年获得中国仪器仪表行业协会自主创新金奖 产品特点 　　质量分析器快速扫描技术，单组分分析时间小于1s； 　　可对质量数小于300amu的任意气体组分进行分析； 　　采用高精度四极杆质量分析器，检测下限达到ppb量级； 　　全自动流路控制，电磁阀/多位阀切换，多流路监测； 　　配置法拉第杯和电子倍增管双检测器，高低量程自动切换； 　　定期灵敏度自动校准，双灯丝设计及过流保护，离子源惰性化抗污染设计，确保仪器长期可靠运行； 　　样品前处理、多路进样、质量分析和电路控制均采用模块化设计，安装简便，维护简单； 　　内置工控机模块，实现现场操作和显示功能； 　　功能强大的过程质谱专用软件，具备谱图显示、自动标定、数据处理、仪器调谐和方法开发等多种功能； 　　支持一键化启动功能，用户操作简便。

有毒挥发性有机物（VOC）的泄漏只要化学品生产装置存在，就存在有毒挥发性有机物泄漏的潜在危险，监管机构通常都会要求工厂监测环境气体成分，以避免工人受到长期接触的伤害。有各种形式的捕获装置包括真空罐（苏玛罐）、可挥发性有机物报警器或吹扫和捕获装置。收集到的样品需要送往环境实验室进行分析。另外，还可利用电化学传感器来即时显示是否存在浓度超过预定水平的目标分子。还有一种定量方法是使用开路式傅利叶变换红外光谱仪测定VOC是否在警戒线以内。利用这些不同技术获得的数据，通常都用来满足当地法规的要求。然而，这些技术都不能提供满足诉讼依据要求的时间和空间的分辩率。Sentinel PRO环境质谱仪：简单全面的数据采集Sentinel PRO环境质谱仪能够在15分钟以内监测100个以上的取样点，并在0.01至1ppm精度范围内检测特定物质。凭借其速度和精度，它可监测所有关键区域的短时泄漏，并提供准确的8小时、时间加权平均泄露数据。由于具有大量可用的取样点，许多取样点可位于靠近潜在泄漏点的地方，如：阀杆处等，以便在有毒危害发生之前进行泄漏检测和修复。尽管安装这种装置的主要目的是为了保护操作人员和符合环保法规，但其使用效果往往超越了对泄露防护的要求。Sentinel PRO ：渗透膜进样质谱仪 Sentinel PRO环境质谱仪之所以取得成功，关键之一是独特的配有32或64接口的快速多流路取样器(RMS）。它采用零死体积设计，可实现快速置换，且交叉干扰为零。每台Sentinel PRO质谱仪均可装配两套RMS，这样，一个单一系统便可代替很多的灵敏度较差、单组分的分析仪。RMS包括一个旁路取样设计，允许一个流量检测器对各流路依次监测。如果过滤器出现堵塞，或液体堵住取样管，系统就会发出报警。分析仪配有一个渗透膜进样口,以便将空气样品的压力由大气压减小至 Sentinel PRO封闭离子源的工作压力（通常为10-4 mbar）。这个渗透膜进样口采用的进样方法可大大提高系统对挥发性有机物（VOC）的灵敏度。对绝大多数 VOC而言，通常可达到 ppb级检测限，确保Sentinel PRO质谱仪能适应未来法规的变化。由于渗透膜对 VOC的渗透性要强于对空气的渗透性，所以，它通常能够提供多个数量级的富集，包括＜0.01ppm的苯检测限。Sentinel PRO质谱仪有经过加热的进样探针组件，可提供稳定的有代表性的样品进入离子源。此外，进样探头采用符合人体工程学的设计，允许在每年的日常例行维护中轻松更换渗透膜，以便最大限度缩短停机时间，提高生产率。 Sentinel PRO：检测极限从 0.01PPM丙酮乙腈丙烯腈苯丁二烯二硫化碳四氯化碳氯仿氯苯环己烷二氯甲烷二甲乙酰胺（DMAC）二甲基甲酰胺（DMF）二恶烷环氧氯丙烷乙苯环氧乙烷氟利昂六甲基二硅烷氰化氢溴甲烷甲基乙基酮碘甲烷甲基异丁基酮甲基丙烯酸甲酯 1甲基 2吡咯烷酮甲基叔丁基醚（MTBE）环氧丙烷异丙醇苯乙烯四氢呋喃四氯乙烯甲苯三氯乙烯醋酸乙烯乙烯基溴化氯乙烯二甲苯

仪器简介：仪器特点荣获2004年度世界研究与发明技术最高奖（R&D 100 Award）的LTQ-FT线性离子阱回旋共振质谱仪是具有崭新技术观念的强有力的蛋白质组学分析系统。在真正液相色谱/质谱在线连接的工作状态下，得到超高分辨率、精确质量数和多级质谱分析数据并同时满足高通量常规分析的要求。该系统可以从多个角度进行蛋白质组学研究，其ECD和IRMPD裂解源可以得到和CID裂解源相补充的碎片离子，降低假阳性率和提高可信度，并可以从Top Down的方法进行蛋白质分析。这两种源也是翻译后修饰（PTM）未知肽序列测定（De Novo）研究的重要工具。除主要应用于蛋白质组学，LTQ FT还可用于分析如原料油中复杂混合物、分子量极靠近的相关成分这样的艰难任务。LTQ-FT Ultra是将世界领先的线性离子阱技术与FTICR技术整合在同一台仪器钟开发出的具有超高性能的质谱仪器。LTQ与FT的整合极大地简化了FT的操作使用，在保留LTQ所有优越性能的基础上弥补了单纯FT分析速度慢的缺点，从而扬长避短使FT质谱分析潜力得以充分发挥。LTQ-FT Ultra的出现使同时具备的高分辨，高准确质量测定与多级质谱（MSn)功能第一次成为常规的高通量分析手段。LTQ-FT Ultra采用了改进的核心部件即离子回旋共振腔体－Ultra cell。这一创新设计使LTQ-FT Ultra具有更高的灵敏度和更广阔的回旋半径，极大地减弱了空间电荷效应的影响。这些性能的提高无需增加磁场强度，因而也不存在相应的费用及操作难度问题。LTQ-FT Ultra在以下方面有了显著提高：更高的灵敏度，埃摩尔级的柱上灵敏度更精确的质量测定，ppb级的质量准确度更高的分辨率主要特点：1.超高分辨率2.精确质量数和多级串连质谱分析数据3.高通量常规分析

AstruM ES是一台双聚焦辉光放电质谱仪，一次扫描就可以测定从亚ppb到基体之间所有元素的含量。它被广泛地应用在高纯金属，半导体材料，航空航天材料的杂质检测。

功能强大且灵活的仪器，用于日常质量控制GDA 150 HR和GDA 650 HR GDOES光谱仪是用于质量控制和研究的强大工具，旨在处理全天候工作，同时保持良好的可维护性。GDA 150 HR主要用于研究您的导电样品，在分析性能方面丝毫不逊于其兄弟GDA 650 HR。GDA 650 HR还可以分析非导电样品。GDA 150 HR辉光放电质谱仪GDA 150 HR是一款稳定的温度稳定的CCD光谱仪，用于生产区域的深度剖面和平均分析。例如，它针对中小型热处理和涂层公司的需求量身定制 为了在扩散过程之后测试表面， 为了研究电镀涂层工艺， 为了通过PVD或CVD分析硬涂层， 用于评估热镀锌和其他类型的镀锌， 用于导电材料的内容分析 或用于基材进货检验。GDA 150 HR适用于所有导电基体。甚至可以分析轻元素，如C，N和H（也可以选择O）。借助通用测量室，可以直接测量非平面表面，如管道或球体。仪器的简单操作和分析的短测量时间允许在生产过程中进行快速干预，以纠正任何错误 - 这是其他方法的重要优势。高分辨率SPECTRUMA CCD光学元件的优势：通道选择灵活 - 可为未来应用扩展。

Autoconcept GD90是一个专为高精度元素分析所设计的高分辨辉光放电质谱仪。此辉光放电质谱仪（GDMS）提供了固体金属与绝缘体的直接分析检测。它具有非常宽的元素覆盖范围，可得到超过70种元素的有效数据，灵敏度高，轻元素重元素均可。 GDMS技术使原子化（碎片化）过程与离子化过程分开进行，故而可容易的对ppb至ppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS技术拥有最小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析，可对半导体进行大量的测量分析，可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及绝缘体（须配RF源）等高纯材料的生产与质量控制的理想工具。 主要特性：· 高分辨率，特别是对于有干扰离子存在的测定而言十分重要。· 广泛的元素涵盖范围，软件中包括70个元素相关的干扰离子数据。· 由于原子化和离子化过程发生在不同区域，带来可忽略的基体效应。· 低至亚ppb级的定量数据。· 具有深度剖面同位素比值分析能力。· 最少的样品制备过程。

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最jia工具。ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现：- 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率；- 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成；- 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。了解如何借助 Thermo Scientific&trade ELEMENT GD&trade PLUS GD-MS 为固体中高级高纯度材料的直接分析定义新的标准。通过最大限度减少校准和样品制备操作，可提高样品处理量并达到超低检测限，从而使 GD-MS 适合整块金属分析和深度剖析应用。陶瓷和其他几种非导电粉末使用二次电极法进行分析，从而提供相同水平的灵敏度和数据质量。这使得 GD-MS 成为痕量金属分析的可靠标准方法。存在于固体样品中的几乎所有元素都可进行常规检测和定量：许多元素的含量低于十亿分率 (ppb) 水平。µ s 脉冲式高流速辉光放电池采用脉冲放电模式的高灵敏度离子源广泛可调的溅射速率适用于快速进行整体分析和高级深度剖析应用使用二级电极进行氧化铝粉末分析双聚焦质谱仪高离子传输率和低背景使得信噪比可达亚 ppb 级检测限高质量分辨率可提供最高水平的选择性和准确度：是无可争议的分析结果的先决条件十二数量级的自动检测系统在一次分析中测定基体和超痕量元素，全自动检测器涵盖 12 数量级动态线性范围直接定量测定基体元素 IBR（离子束比率）高效率和简单易用的软件包所有参数均由计算机控制全自动调谐、分析和数据评估自动 LIMS 连接性远程控制和诊断Windows 7样品周转时间通常少于 10 分钟能够在一次分析中测定基体元素到超痕量元素深度剖析涵盖数百微米到一纳米的层厚度最小化基体效应，便于进行直接定量

辉光放电仪主要用于透射电子显微镜（TEM）样品载网和支持膜的清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电荷而变得具有亲水性，样品水溶液因此很容易分散在其表面，便于样品在TEM下观察。同时可以通过辉光放电产生的离子流，对样品表面进行清洗，除去样品表面的有机物分子，灰尘颗粒等污染物，更加真实的在TEM下反映样品的表面形貌结构。主要功能：1、自动程序设定、手动模式选择2、直观的触摸屏显示与控制3、支持带正/负电表面的亲水性或憎水性处理4、换样时间短，真空抽速高 主要技术参数辉光电流0-30 mA高压功率30W样品台?75mm，25 x 75mm载玻片槽样品台高度1-25 mm工作时间0-900 sec.样品室尺寸?120 x 100mm H真空控制潘宁规,范围从大气到0.01 mbar工作真空度1.1 - 0.20 mbar参数设置3" 触摸屏设置操作模式自动/手动可选外观尺寸305 L x 292 D x 230mm H重量6.26 kg

GD-OES8000辉光放电光谱仪产品介绍：技术参数：功能方式：DC或RF；波长范围：120-800nm；光谱分辨率：18pm-25pm； 深度分辨率：1~2nm；溅射速率：＞1μm/min；深度剖析的范围：1nm~200μm；焦距：998.8mm元素通道：48探测器：光电倍增管PMT性能特点： 有着较低的检出限。 能够逐层检测样品表面。 十几个元素的含量通过一次监测就能够得到，能够给出较大的信息量。 只需几分钟就能够对一个样品，有着非常快的检测速度。 不需要对样品进行稀释，溶解等处理，能够直接对固体样品进行检测。 有非常广泛的检测范围。 光机电产品一体化整机设计。

我们分析系统的高端产品系列GDOES光谱仪GDA 550 HR和GDA 750 HR是强大的GDOES光谱仪，非常适合研发任务。基于模块化概念，可以设想多种选项组合，因此可以为您的应用实现佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的导电样品。GDA 750 HR也用于分析不导电样品GDA 750 HR通过光电倍增管可检测多达79个可能的元素通道，GDA 750 HR辉光放电光谱仪是您的具有挑战性的应用的理想光谱仪。它提供了大的灵活性，佳的检测限和分析精度，即使是薄的层。可选的高分辨率SPECTRUMA CCD光学元件扩展了GDA 750 HR的功能，能够将几乎无限数量的元素通道集成到您的分析工作中。GDA 750 HR的特点：GDA 750 HR配备了一个可以无碳氢化合物测量的涡旋泵。GDA 750 HR标准设备还包括一个高频辉光放电源。这也允许分析不导电的样品。使用等离子体干扰可以更容易地分析难以刺激的样品。GDA 750 HR的应用领域从热处理到镀锌到复杂的多层系统。由于PMT的快速数据采集，也可以检测到低于100nm的层测量深度达200微米具有快速数据采集的深度剖面，即使对于非导电层（如几纳米厚度的氧化物）也是如此所有金属和金属合金的含量分析分析非导电样品，如陶瓷，玻璃或漆涂层校准曲线的线性可以测量弯曲甚至形状异常的样品。

PELCO easiGlow&trade 91000辉光放电仪是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM铜网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。随着TEM工作量增大，使用清洁和结果重现性好的TEM铜网及支持膜较以往变得更为重要。PELCO easiGlow&trade 辉光放电清洁系统值得任何一家TEM实验室拥有，它独特的优点包括：真空设定精确、方便处理周期短 结果重现好自动程序控制与手动模式可选采用触摸屏，显示与控制直观方便支持带正/负电、亲水性/疏水性模式结构紧凑，价格合理 提供两个可选的夹具，用于批量处理铜网或支持膜。当然直接用实验室的玻片承载也可以。 该系统包括两个独立控制的气体进口，真空度通过电控精密比例阀设定，新颖的设计避免了针阀的手动设定。逐步放气程序保证TEM栅网在放气时不被损伤。同时提供两种可选的不同的网格夹具来固定需要清洗的铜网。 工作距离与压力的优化曲线 对于经常进行亲水性和疏水性表面处理的实验室，提供双辉光放电系统以避免在样品室内引起交叉污染。技术参数： 等离子体电流0-30 mA功率30W 辉光放电头极性正极负极可调样品台直径75mm，可存放25 x 75mm玻片样品台高度1-25 mm可调处理延迟时间0-14411 sec.处理时间0-900 sec.样品室大小直径120 x 100mm 高进气孔2 个直径6 mm 进气孔高压真空联锁硬件，软件双重联锁真空控制Pirani 规控制, 真空范围：大气压~0.01 mbar工作真空范围1.1 - 0.20 mbar 系统显示具有LED灯光的3" 触摸，并且有5个功能键操作模式自动编程 (可编4个用户程序)尺寸305 长 x 292 宽 x 230mm 高重量6.26 kgGD4真空泵（可选）337 长 x 138 宽 x 244mm 高重量11 kg 真空泵性能2.5 m3/hr, 极限真空0.03 mbar 电源要求230V 50Hz, 10A

PELCO easiGlow™ 91000辉光放电清洁系统是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM栅网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。随着TEM工作量增大，使用清洁和结果重现性好的TEM栅网及支持膜较以往变得更为重要。PELCO easiGlow™ 辉光放电清洁系统值得任何一家TEM实验室拥有，它独特的优点包括： 真空设定精确、方便 处理周期短 结果重现好 自动程序控制与手动模式可选 采用触摸屏，显示与控制直观方便 支持带正/负电、亲水性/憎水性模式 结构紧凑，价格合理 该系统包括两个独立控制的气体进口，真空度通过电控精密比例阀设定，新颖的设计避免了针阀的手动设定。逐步放气程序保证TEM栅网在放气时不被损伤。 对于经常进行亲水性和憎水性表面处理的实验室，提供双辉光放电系统（图2）以避免在样品室内引起交叉污染。 技术参数： 等离子体电流0-30 mA功率30W 辉光放电头极性正极负极可调样品台75mm，可存放25 x 75mm玻片样品台高度1-25 mm可调处理延迟时间0-14411 sec.处理时间0-900 sec.样品室大小?120 x 100mm 高进气孔2 个?6 mm 进气孔高压真空联锁硬件，软件双重联锁真空控制Pirani 规控制, 真空范围：大气压~0.01 mbar工作真空范围1.1 - 0.20 mbar 系统显示具有LED灯光的3" 触摸，并且有5个功能键操作模式自动编程 (可编4个用户程序)尺寸305 长 x 292 宽 x 230mm 高重量6.26 kgGD4真空泵（可选）337 长 x 138 宽 x 244mm 高 重量11 kg 真空泵性能2.5 m3/hr, 极限真空0.03 mbar 电源要求230V 50Hz, 10A

GloQubePlus是一种性价比高、结构紧凑同时易于使用的辉光放电仪，满足Cryo-TEM实验室样品制备需求。GloQubePlus的主要应用是对TEM载网表面进行改性，以满足各种大分子冷冻电镜成像的要求，该系统将两个腔室集成在一个系统中，能够同时实现亲水和疏水处理。

GVC-100辉光放电仪主要用于铜网的亲水性处理。创 新 点：全自主研发，自主知识产权，操作便利，重复性好应用领域：透射电镜 生物样品制备生物样品在进行TEM观测时，需要将制备好的样品放置于铜网上后放入TEM内进行观测，因此，需要铜网具备良好的亲水性。铜网往往是没有亲水性的，所以需要利用该仪器对铜网进行处理，改变表面特性，实现良好的亲水性。该设备也可以用于TEM样品杆的清洗等。技术参数：放电电流0-30mA 连续可调电源功率Max. 50W处理平台Φ75mm预处理时间1-999 秒处理时间1-9999 秒样品室Φ130×130mm进气接口2 个φ4 快拧接口真空测量皮拉尼真空规极限真空度1Pa工作真空20-100Pa人机界面5 英寸彩色触摸式液晶屏外观尺寸424×271×255mm软件保护真空保护、过流保护等

仪器简介：GDS850辉光放电光谱仪辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。特征溅射与激发分离宽动态范围的线性校准曲线更小自吸收和材料再沉积原子线激发少和窄的发射线减少干扰无冶金记忆效应较少的校准标样低氩气消耗两次分析间的自动清扫均匀的溅射其他方法可能只是激发样品表面，所采集的数据并不一定具有代表性。而辉光放电，样品材料均匀地从表面激发溅射， 冷光源的激发为一些困难样品的检测提供了很好的技术。以下为对一个硬盘表面100nm深度每种元素3次分析的结果，可以看到每种元素随深度的分布。 可选件射频光源统计软件包光源套件样品夹持器SMARTLINE远程诊断软件求耗材相关信息gds850参考卡(203-104-039)gds850样本文章：辉光放电-涂层分析的现代方式应用报告：QDP物理气相沉积法（102）应用报告：GDS镍及镍基合金（052）应用报告：GDS深度剖面分析（033）应用报告：镀锌钢（001）应用报告：抛光不锈钢上的薄氧化层（002）应用报告：铝合金基板上的商用硬盘（003）应用报告：玻璃基板上的40GB硬盘在（- 004）应用报告：氧化铝样品中的铬（- 005）应用报告：NIST 2135c（- 006）性能报告：GDS分析基体样品的分析前准备（031）性能报告：GDS ASTM E415真空法（030）性能报告：GDS校准（- 041）性能报告：GDS辉光放电光源（035）性能报告：GDS ASTM E1009（- 044）性能报告：铝膜QDP分析（028）性能报告：镀铝钢的涂层分析（040）性能报告：渗碳钢的QDP分析（036）性能报告：粘弹性钢夹层QDP分析（034）性能报告：磷酸铁涂层QDP分析（043）性能说明：镀锌钢QDP分析（027）性能说明： QDP分析电镀样品（024）性能说明：GDS850硬盘深度剖面-048

GDA 750/GDA 550是高灵敏度、高性能的辉光放电光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。 多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750/GDA 550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装独有的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。 这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达1纳米。GDA 750/GDA 550也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。 GDA 750/GDA 550装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 750也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。激发光源-同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位光学系统-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-光谱范围：190nm--800nm-Paschen-Runge光学系统， 焦距750mm-全息原刻光栅，2400线/mm-出射狭缝，预设所有元素通道-可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106-检测器增益自动调节-选装件：高性能CCD光学系统， 光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作-CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量-选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-光源使用无油真空泵，完全免除C，H，O，S，P等元素污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵WinGDOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷采用RF光源可精确可靠的测量-电镀测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析-化学组分精确测量化学元素含量高精度、高重复性检测快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究

解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳、光学玻璃、核材料等。 GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体和非导体复合镀层的分析，操作简单、便于维护，是镀层材料研发、质控的理想工具。 使用脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。 采用多项技术，如高动态检测器（HDD），可测试ppm-100%的浓度范围，Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。 分析速度快（2-10nm/s） 技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑为平坦、等离子体稳定时间短，表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪（选配）可大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。仪器原理：辉光放电腔室内充满低压氩气，当施加在放电两的电压达到一定值，超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电，放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下，正电荷离子加速轰击到（阴）样品表面，产生阴溅射。在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。更多指标参数请访问HORIBA官网

辉光放电光谱仪GDA150 HR是一款功能强大的分析仪器，非常适合质量控制和研究用途，并且可以全天候高效运行。 GDA150 HR主要实际用于研究导电样品，其分析性能几乎与GDA 650 HR相当。这款功能强大且温度稳定的CCD光谱仪经过热处理以及涂层测试的需求进行了优化，在制造业中广泛应用。它不仅适用于所有导电基体，还可以分析C、N和H等轻元素（也可选择O）。由于操作简单且分析时间快速,GDA150 HR 可以迅速介入生产过程并在测量时纠正任何错误。 应用领域 1. 扩散过程的表面试验。 2. 制造中的深度剖面分析。 3. 涂装工艺研究。 4. 硬质涂层分析。 5. 涂镀层评价。 6. 灵活的信道选择。 7. 测量弯曲和不寻规则形状的样品。 8. 全谱评估。

GDA Alpha采用最新研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。 GDA Alpha装备有最新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨率和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA Alpha具备无限的扩展能力，允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA Alpha也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA Alpha装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm，可适应多种类型的样品分析，方便快捷。应用 热处理-精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%辉光放电光谱仪主要应用领域 汽车制造及零部件 金属加工、制造 冶金 航空、航天 表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等 电镀 光伏电池、锂电 科学研究激发光源 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析金属薄膜、热处理层。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-选装件：自动进样器，程序控制100位 光学系统 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm-全息原刻光栅，2400线/mm-光室恒温控制，仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-单泵设计，同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗0.05L/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%.外观尺寸675mmx390mmx950mm重量约95kg

GDA 750/GDA 550是高灵敏度、高性能的光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。 多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750/GDA 550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装独有的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。 这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达1纳米。GDA 750/GDA 550也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。 GDA 750/GDA 550装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 750也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。激发光源-同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性 高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位光学系统-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-光谱范围：190nm--800nm-Paschen-Runge光学系统， 焦距750mm-全息原刻光栅，2400线/mm-出射狭缝，预设所有元素通道-可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106-检测器增益自动调节-选装件：高性能CCD光学系统， 光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作-CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量-选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-光源使用无油真空泵，完全免除C，H，O，S，P等元素污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵WinGDOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理 精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷 采用RF光源可精确可靠的测量-电镀 测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜 检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗OL/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%外观尺寸1380mmx1440mmx890mm重量约580kg

GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨力和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA 650/GDA 150具备无限的扩展能力， 允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA 650/GDA 150也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具(USU)，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 650也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。 采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。 激发光源 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率 -专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um -完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 650有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位 光学系统 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM) -Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm-全息原刻光栅，2400线/mm-光室恒温控制，仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节 真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析 -光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-单泵设计，同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵-选装件：旋转叶片真空泵可用无油真空泵替代 WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理 精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷 采用RF光源可精确可靠的测量-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜 检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可精确可靠的测量辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗0.05L/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%外观尺寸1250mmx1440mmx650mm重量约210kg

PELCO easiGlow&trade Glow Discharge 91000辉光放电清洁系统是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM铜网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。随着TEM工作量增大，使用清洁和结果重现性好的TEM铜网及支持膜较以往变得更为重要。PELCO easiGlow&trade 辉光放电清洁系统值得任何一家TEM实验室拥有，它独特的优点包括： 真空设定精确、方便 处理周期短 结果重现好 自动程序控制与手动模式可选 采用触摸屏，显示与控制直观方便 支持带正/负电、亲水性/疏水性模式 结构紧凑，价格合理 该系统包括两个独立控制的气体进口，真空度通过电控精密比例阀设定，新颖的设计避免了针阀的手动设定。逐步放气程序保证TEM铜网和支持膜在放气时不被损伤。提供两个可选的夹具，用于批量处理铜网或支持膜。当然直接用实验室的玻片承载也可以。对于经常进行亲水性和疏水性表面处理的实验室，提供双辉光放电系统（图2）以避免在样品室内引起交叉污染。 工作距离与压力的优化曲线 技术参数： 等离子体电流0-30 mA功率30W 辉光放电头极性正极负极可调样品台75mm，可存放25 x 75mm玻片样品台高度1-25 mm可调处理延迟时间0-14411 sec.处理时间0-900 sec.样品室大小?120 x 100mm 高进气孔2 个?6 mm 进气孔高压真空联锁硬件，软件双重联锁真空控制Pirani 规控制, 真空范围：大气压~0.01 mbar工作真空范围1.1 - 0.20 mbar系统显示具有LED灯光的3" 触摸，并且有5个功能键操作模式自动编程 (可编4个用户程序)尺寸305 长 x 292 宽 x 230mm 高重量6.26 kgGD4真空泵（可选）337 长 x 138 宽 x 244mm 高重量11 kg真空泵性能2.5 m3/hr, 极限真空0.03 mbar电源要求230V 50Hz, 10A

谱育科技自主研发的TRACE 8000 化学电离飞行时间质谱仪，将高灵敏度化学电离源和高分辨飞行时间质量分析器进行结合，具有灵敏度高、分析速度快、分辨率高、测量组分种类多等突出优点；仪器具有创新的辉光放电源、高压离子漏斗和静电透镜传输技术，保证样品的电离效率和离子的传输效率，适用于走航监测、食品科学、材料分析、爆炸物和药物检测等方面的应用。产品概述性能优势分析速度快微秒级的扫描速度，可捕捉目标物质的瞬时变化，为科学研究、应急监测、生产过程的高通量监测提供有效手段。分辨率高可实现复杂混合物样品中分子量相近物质的分析识别，解决传统低分辨直接进样质谱分析定性难的问题，将“看不见”变成“看得见”，追溯物质本源。多试剂离子可选配合试剂离子快速切换系统，根据目标物质的化学特性，可选择H3O+、O2+、NO+等多种不同电离能的试剂离子进行靶向电离，适测物质涵盖醛、酮、有机硫、有机胺、卤代烃、苯系物、长短链烃类等，是优选的快速检测技术。 应用领域TRACE 8000 化学电离飞行时间质谱仪适用于走航监测和园区VOCs在线监测，可实现VOCs精准溯源及扩散预警。可对半导体生产过程中的AMC、食品生产的风味物质进行实时监控；石油化工生产过程中移动测量、定点在线监测；材料中有害成分的快速鉴定分析；人呼出气体的宽动态范围内的追踪分析。

Vitesse飞行时间等离子体质谱仪（TOF-ICP-MS）速度快，灵敏度高，选择性强——Nu Instruments宽质量数范围快速数据采集：适合于激光剥蚀成像和纳米颗粒分析灵敏度高：可分析固体样品中的微米级痕量元素特征，测定纳米颗粒物的元素组成分析物选择性强： 分段式反应池针对多元素分析进行了优化物理分辨率高：飞行时间 (TOF) 质谱仪可提供无干扰分析反应池前可选加一个全尺寸四极杆，增强干扰处理能力Vitesse是一种飞行时间电感耦合等离子体质谱仪，它为高速多元素测试应用而专门设计的终极工具，如激光剥蚀成像和纳米粒子分析。通过一系列的样品附件装置，也可以进行高速的传统ICP-MS分析。反应池前可选加一个全尺寸四极杆，用以增加所使用的化学药剂的选择性，增强干扰处理能力。从 ICP 源采样，获得全部或部分质量数范围的同时离子包，几乎不会丢失样品信息。低至 30μs 的快速读取时间，能够测定单个纳米颗粒物中的所有金属元素和大多数非金属元素。在使用最新激光剥蚀系统时，单激光点样品洗出时间为毫秒级，能够实现从微米大小的样品获得宽范围的元素信息或在几分钟内生成几平方毫米的元素图像。通过组合谱图，可获得更好的数据统计，可获得溶液样品的高度精度的元素和同位素组成。Nu Instruments成立于1995年，是电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)、辉光放电质谱(GD-MS)、同位素比质谱(IRMS)、热电离质谱(TIMS)和惰性气体的市场领导者。Nu的高端质谱仪是用于表征各种样品的同位素或元素组成的分析仪器，提供宝贵的信息，如历史，年龄，来源或纯度。Nu的创新质谱仪安装在世界各地的学术界，政府和工业研究实验室，并服务于广泛的应用，如：测定各种地质样品中的同位素比率以提供数据数据，创建生物医学或地质样品的元素图像，测量同位素比率以确定出处，食物样品的起源，测量纳米颗粒大小和确定材料的纯度。Nu于2016年加入AMETEK。Nu的总部，制造工厂和实验室位于英国北威尔士。

原理：等离子体分析飞行时间质谱仪结合了辉光放电等离子体的溅射速度和时间飞行质谱的快速以及高灵敏度，实现了高分辨率和高灵敏度条件下固体材料的快速化学深度剖析。应用领域：● 掺杂分析（半导体、光电子、太阳能光伏、传感器、固态光源）● 表面和整体污染鉴定（PVD 镀层、摩擦层、电气镀层、光学镀层、磁性镀层）● 腐蚀科学和技术（示踪物、标记监测、同位素标记）● 界面监测技术参数：● 采集速率：每30μs一张全质谱● 质量分辨率：选择高分辨率模式时，在m/z 208可达 5000● 动态范围：107● 质量准确度：40 ppm● 灵敏度：103 cps/ppm● 深度分辨率：nm● 正负离子模式● 4个离子的灵活消隐功能● 简单易用的水平样品装载产品特点：● 样品分析快速无预处理：无需超高压腔● 适用于各种材料及镀层分析● 全质量覆盖：可提供从 H 到U元素的完整质谱和分子信息，包括同位素监测● 3D 数据，脉冲射频模式● 高深度分辨率：测试薄层可至 1nm● 薄层到厚层：层厚可达 100μm● 无需校准的半定量分析：溅射和电离过程分离，降低基体效应