薄膜应力测量系统

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

JHYC应变应力测量系统应用范围1.适用于测点相对集中，被测物理量缓慢变化的试验中。2.主要用于静态结构应力分析及静载荷强度研究中测量结构件及材料任意点的静态应力应变及残余应力。3.广泛应用于桥梁、建筑物、飞机、船舶、车辆、起重机械、压力容器等结构静载荷测试、安全和健康状态测试。4.接入不同的传感器，可对力、荷重、压力、扭矩、位移、电压、电流等进行采集。5.可用于实验性测量，也可用于长期监控测量。JHYC应变应力测量系统功能特点1.全数字电路，精度高，稳定性好，具有极强抗干扰性能力仪器采用全数字电路，每通道独立AD、独立MCU，所有通道同步采样，仪器检定指标达到0.1级，显示精度0.1。采用独特的硬件隔离技术，系统具有极强的现场抗干扰性能力。2.配合不同传感器实现多种物理量测量，功能强大，性价比高。仪器通过软件选择不同的输入类型即可轻松接入不同传感器，实现你所需要的物理量的测测量，操作简单方便。3.具有多种补偿方式，能适应各种环境下的测量要求仪器具有桥路、长导线、公共，软件多种补偿方式，稳定性好。尤其是公共补偿方式，可方便快捷的对模块上10个通道进行同时补偿，避免了繁琐的桥路补偿，节约测量成本和时间。4.简洁的面板设计，闪烁式通道及状态指示灯仪器面板简洁大方，省掉一切不必要的端口，简化了测量接线难度。每个模块的状态和通道状态用高亮指示灯闪烁指示，一目了然。5.设置简单，操作方便快捷，海量存贮适合各种应变花和传感器，仪器桥路和配置采用菜单式设计，只需选择测量类型，软件控制仪器完成自动配置和清零，全量程自动平衡，不损失测量范围，无需复杂专业的测前设置。应变片和仪器连接简单方便，主机与计算机usb接口连接，即插即用。可进行不间断或间断性长时间在线测量，数据存储量取决于计算机硬盘大小。6.具有掉电自动保存测量数据功能在测量过程中，如出现意外断电，仪器可自动保存断电前的所有测量数据，并自动形成测量文件，防止意外丢失测量数据。JHYC应变应力测量系统软件功能1.软件操作、自动识别、显示方式灵活仪器设置全软件操作，所有功能嵌与同一软件内。具有自动识别系统配置，程控设置仪器的量程、测量类型、滤波及采样参数，完成信号的实时采集、处理、分析等功能，具有多种显示方式。2.应变实时显示，被测物理量直接显示多通道应变值实时显示，实时绘制时域曲线。根据传感器的输出灵敏度，完成被测物理量单位量纲的归一化，并直接显示被测物理量。3.数据实时保存，自动生成报表，功能多样软件可对历史数据回放浏览，具有多样的浏览工具、截图工具，浏览中可对数据进行去直流、去趋势、数据统计、数据的截取、删除、另存、导出、数字滤波器等操作。并自动生成测试报告，在线打印。4.每个通道都可根据测量需求选择测量类型，简单方便可根据每通道接入的传感器类型，各通道选择不同的输入类型、工程单位、标定值、调零、补偿方式等。实现对不同物理量的实时同步测量。5.任意通道间X-Y绘图功能，可实时显示相关物理量间的关系曲线6.提供分析功能软件具有时域和频谱分析功能，对历史数据进行滤波，微分和积分计算，数据统计等数据处理功能。南京聚航科技是应变仪生产商，种类多样，型号齐全，欢迎广大客户咨询！

显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统，可以结合显微镜测量薄膜的吸收率，透过率，反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量，测量点处的薄膜厚度，薄膜光学常量（n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是：光栅光谱仪（200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜（可选）。其中目镜适配器包含镜头，可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果（20X物镜）薄膜厚度测试仪配件软件这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制，光谱测量和薄膜测量功能的软件，具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率，透过率，反射率和荧光光谱，并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置，所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数，如signal integration也能测量出来。对于反射率测量，该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度（《10nm到100微米）， 光学常量（n & k)。薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚： 10nm-150微米；波长范围：200-1100nm精度：0.5%分辨率：0.02nm光源：使用显微镜光源光斑大小：由显微镜物镜决定计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：120x120x120mm重量：1.2kg薄膜厚度测试仪配件应用测量薄膜吸收率,透过率测量化学薄膜和生物薄膜测量光电子薄膜结构测量半导体制造聚合物测量在线测量光学镀膜测量

飞纳孔径统计测量分析系统将飞纳电镜和孔径测量统计分析系统结合在一起，孔径的可视化分析变得非常容易。快速、操作简单并能得到高分辨率图像的飞纳电镜集成孔径分析系统，创造出统计分析孔洞数据的强大工具。孔径测量系统应用领域- 电池薄膜行业- 制药行业- 过滤行业- 筛网行业- 生物行业- 化工行业- 造纸行业- 烟草行业- 纺织行业- 陶瓷行业- 食品行业- 有孔材料行业孔径测量系统功能孔径统计分析测量系统是基于飞纳电镜的孔径分析工具，用户直接从飞纳电镜获取拍摄的图片并对孔洞直径、面积等一系列参数进行统计测量，实现样品孔径可视化分析，并生成数据统计报告。应用该系统，可以在建模、研发和质量控制中有新的发现和创新孔径测量系统优势- 直接从飞纳电镜获取图片- 快速生成分析图像- 便捷的操作，提高工作效率- 无限制的图像采集，可轻松存储于网络或优盘，便于共享、交流- 附有高清图片的统计学数据- Phenom的易用性和对环境的良好适应力，用户可以将试样最大程度视觉化

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。GS15800高温薄膜制样系统技术参数：最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求一周期40分钟通过CE安全认证集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm薄膜直径29mm压力范围0-2吨一体式加热盘系统双数字显示，精度1度安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数：操作温度高达300℃一周期30分钟4T的载荷极限0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm薄膜直径29mm双数字显示，精度℃可配套加热板P/N GS15515使用冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃)薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

超级多功能量子效率测量系统配件成功问世，一套量子效率测试系统可以测量：薄膜厚度, 折射率，透过率，光学常数, 光谱响应，外量子效率和内量子效率。多功能量子效率测量系统配件是特别为太阳能光伏电池（器件）的测量而设计开发的新一代量子效率测试系统。它可以测量光伏器件的光谱响应（Spectral Response, SR, A/W),外量子效率（External Quantum Efficiency, EQE/IPCE,%) 和内量子效率（Internal Quantum Efficiency, IQE,%）多功能量子效率测量系统配件特色×光路全部采用光纤传导替代自由空间光系统（Free-Space Optics)， 从而可以保证用户长时间使用而不需要准直或调节光路，也不需要日常频繁地移动光学器件或维护，×光路传导系统也规避了周围环境光线对测量的影响。×快速测量EQE/IQE测量（5分钟内就可测量串联光伏电池的全部特性）；×真正全部匹配各种光伏技术（C-Si,多晶硅,硅薄膜电池, CIS/CIGS,有机光谱电池等）；×根据用户的需求提供订制化服务；×集成其它光学测量功能，如”薄膜厚度测量“功能。内量子效率测量系统测量方法多功能量子效率测量系统配件由300-1100nm的光源和1/4m的单色仪构成。内部还配置电动的6位滤波片轮实现高精度地测量。而光电流（Photocurrent)测量是通过锁相放大器和数字控制的chopper实现的。 外量子效率测量系统的软件控制光源（LED),使用高性能光电二极管作为参考，可对串联电池进行偏置测量（Biasing Measurement)。多功能量子效率测量系统配件对于内量子效率（IQE)的测量是通过使用两个积分球与一个微型光谱仪联合实现的。其中微型光谱仪用于确定反射率和透过率，标定（校准）单色仪的输出光谱带宽。对于我们还有重要的配件供用户选择：安装样品的温度控制基座和外部电压偏倚源共选择。多功能量子效率测量系统配件的软件全天候控制这个套系统。该软件基于LABVIEW构建，不仅可以控制系统工作，处理电子和光谱测量，还具有极其广泛的拓展性。软件采用”指导提示性”界面设计，指导用户一步步完成实验操作，从而大大方便用户的使用。即使没有使用经验的人员也能在软件的提示下工作。量子效率测试系统软件提供如下两个工作模块：1) EQE－模块用于测量外部量子效率，控制所有二级模块如温度和偏置测量等》2) IQE－模块用于反射率和透过率，计算内量子效率，定义单色仪的输出带宽，不要激光和特殊校准配件和程序。

JHDY动态应力应变测试系统应用范围1.适用于测点相对集中，被测物理量快速变化的试验中。2.主要用于动态应力分析及动载荷研究中测量结构及材料任意点的动态应力应变测量。3.接入不同的传感器，可完成应力应变、振动（加速度、速度、位移）、冲击、温度、压力、流量、力、扭矩等各种物理量的测量。4.广泛应用于桥梁、建筑物、飞机、船舶、车辆、起重机械、旋转构件等结构动载荷测试，疲劳测试。5.可用于实验性测量，也可用于长期监控测量。JHDY动态应力应变测试系统特点1.模块化设计，自选通道数，可扩展仪器集桥路和采集通讯为一体，无需各类适配器和平衡箱，结构紧凑简洁，采用模块化结构，可根据客户要求搭载通道数为8的倍数的采集模块，单机最多64通道，软件可同时控制多台仪器并联使用，可达数百通道，并保持同步。2.全数字电路，抗混滤波，精度高，稳定性好仪器采用全数字电路，每通道独立AD、独立MCU，采用了先进的DDS数字频率合成技术，保证了多通道采样速率的同步性、准确性和稳定性。所有通道同步采样，采样频率软件设置，不随通道数递减，最高可达10KHz。采用独特的硬件隔离技术，系统具有极强的现场抗干扰能力。系统精度高，可以达到0.2％±1με。3.低电压，低功耗，低噪声电路设计仪器采用高精度进口元器件，采用低电压，低功耗，低噪声电路设计，确保了仪器长时间测量稳定性，显示精度可达0.1。同时在加装锂电后，可长期待机测量。4.配合不同传感器实现多种物理量测量，功能强大，性价比高。仪器通过软件选择不同的输入类型即可轻松接入不同传感器，实现你所需要的物理量的测量，操作简单方便。5.具有多种补偿方式，能适应各种环境下的测量要求仪器具有桥路、长导线、软件多种补偿方式，稳定性好。尤其是软件补偿方式，可方便快捷的选择模块上所有通道进行同时补偿，避免了繁琐的桥路补偿，节约测量成本和时间。6.仪器连接简单，设置方便，操作快捷，海量存贮仪器与计算机usb接口连接，即插即用。仪器与各类传感器通过航插连接，方便可靠。可连接各种应变花和传感器，仪器桥路和配置采用菜单式设计，只需选择测量类型，软件控制仪器完成自动配置和清零，全量程自动平衡，不损失测量范围，无需复杂专业的测前设置。可进行不间断长时间在线测量，数据存储量取决于计算机硬盘大小。7.简洁的面板设计，闪烁式通道及状态指示灯仪器面板简洁大方，具有通讯和电量指示，每个模块的状态高亮指示灯闪烁指示，一目了然。8.具有标准模拟量电平输出，可与其他控制采集单元互联9.具有远程同步触发控制端口，可各种仪器实现同步采样控制10.具有掉电自动保存测量数据功能JHDY动态应力应变测试系统软件功能1.软件操作、自动识别、显示方式灵活仪器设置全软件操作，所有功能嵌与同一软件内。具有自动识别系统配置，程控设置仪器的量程、测量类型、滤波及采样参数，触发类型，完成信号的实时采集、处理、分析等功能，具有多种显示方式，可实时在线进行频谱分析和应力计算。2.多通道同时实时显示曲线，可直接显示所需物理量多通道实时显示时域曲线和频域曲线。根据传感器的输出灵敏度，完成被测物理量单位量纲的归一化，并直接显示被测物理量。无需复杂的变换计算。3.测量数据高度实时同步，自动保存，自动生成报表，功能多样软件可对历史数据回放浏览，具有多样的浏览工具、截图工具，浏览中可对数据进行去直流、去趋势、频谱分析、数据统计、数据的截取、删除、另存、导出、数字滤波器等操作。并自动生成测试报告，在线打印。4.根据测量需求灵活设置参数，满足不同的测试需求可根据不同需要对各通道参数独立设置工程单位、测量类型、控制参数等。5.任意通道间X-Y绘图功能，可实时显示相关物理量间的关系曲线6.提供分析功能软件具有时域和频谱分析功能，对历史数据进行滤波，微分和积分计算，数据统计等数据处理功能。

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™ 氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™ 氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。产品信息：货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-11G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm300nm20/pk76042-12Silicon Nitride X-Ray Window500μm50nm20/pk76042-13Silicon Nitride X-Ray Window1000μm50nm20/pk76042-14Silicon Nitride X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-15Silicon Nitride X-Ray Window1000μm100nm20/pk76042-16Silicon Nitride X-Ray Window1500μm200nm20/pk76042-17Silicon Nitride X-Ray Window2500μm200nm20/pk

【产品详情】此氮化硅薄膜窗口采用低应力氮化硅基底，具有良好的平整度、绝缘性和疏水性，可应用于多种显微技术：TEM, SEM, EDS 和AFM。其基底框架为标准框架直径3mm，框架厚度为200um，为标准的TEM支撑架，规格为单窗口，窗口尺寸大小有4个规格，薄膜的厚度有7个规格。包装为10个每盒。【技术详情】薄膜厚度窗口尺寸框架厚度30nm0.1mm×0.1mm200um50nm0.25mm×0.25mm75nm0.5mm×0.5mm100nm1.0mm×1.0mm150nm200nm500nm产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

玻璃pH电极, S7接头。适用于pH电极寿命远短于参比电极寿命的pH测量应用。InLab Mono Pro薄膜电阻 (25 °C)pH测量范围0 ... 12电极体直径12 mmShaft length120 mm电极体材质玻璃温度范围 °C0 ... 130Type of membrane glass厚壁A41长期存储3 mol/L KCl电缆和连接S7简短描述厚壁半电池电极物料号 (s)51343196

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm应用简介：1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。详细资料请咨询：021-35359028/admin@instsun.com

JHMK多点残余应力检测仪JHMK多点残余应力检测仪是由JHYC静态应变仪和JHZK精密钻孔装置共同构成的盲孔法残余应力测量系统，在软件进行设置后，自动实时计算残余应力，并实时显示和保存应力应变数值，使测量直观明了，精度高。JHMK多点残余应力检测仪应用范围1.适于各种金属和非金属材料的盲孔法残余应力多点测量。2.对零件的形状大小和表面没有特殊要求，对零件有轻微的破坏。3.适合科研和要求较高的现场测量。JHYC静态应变仪功能特点1.测量能力：各种材料的应力应变、盲孔、环芯、切割法残余应力测试。2.接入不同的传感器，可对力、荷重、压力、扭矩、位移、电压、电流等进行采集。3.可满足教学、工程技术和科研的需求，仪器检定指标达到0.1级。4.仪器具有桥路、长导线、公共，软件多种补偿方式，稳定性好。5.适合各种应变花，设置简单方便，并自动保存设置参数。6.硬件全量程自动平衡，不损失测量范围，程控调零。7.自动实时计算、记录残余应力释放曲线，并生成残余应力报告；8.测量过程中可在被测材料上钻孔、电焊、等离子切割等。现场抗干扰能力强。如果想要咨询更多信息，可搜南京聚航网查看详情，电联聚航，025---8431---2185

JHMK多点残余应力测试仪器JHMK多点残余应力测试仪器是由JHYC静态应变仪和JHZK精密钻孔装置共同构成的盲孔法残余应力测量系统，在软件进行设置后，自动实时计算残余应力，并实时显示和保存应力应变数值，使测量直观明了，精度高。JHMK多点残余应力测试仪器应用范围1.适于各种金属和非金属材料的盲孔法残余应力多点测量。2.对零件的形状大小和表面没有特殊要求，对零件有轻微的破坏。3.适合科研和要求较高的现场测量。JHYC静态应变仪功能特点1.测量能力：各种材料的应力应变、盲孔、环芯、切割法残余应力测试。2.接入不同的传感器，可对力、荷重、压力、扭矩、位移、电压、电流等进行采集。3.可满足教学、工程技术和科研的需求，仪器检定指标达到0.1级。4.仪器具有桥路、长导线、公共，软件多种补偿方式，稳定性好。5.适合各种应变花，设置简单方便，并自动保存设置参数。6.硬件全量程自动平衡，不损失测量范围，程控调零。7.自动实时计算、记录残余应力释放曲线，并生成残余应力报告；8.测量过程中可在被测材料上钻孔、电焊、等离子切割等。现场抗干扰能力强。如果想要咨询更多信息，可搜南京聚航网查看详情，电联聚航。

JH-30残余应力检测仪应用范围1.适于各种金属和非金属材料的盲孔法残余应力定量测量。2.对零件的形状大小和表面没有特殊要求，对零件有轻微的破坏。3.适合于各种环境下工厂和工程现场测量。JH-30残余应力检测仪特点1.数码管显示应变和残余应力高亮8位数码显示，可通过面板按键切换显示，实时查看应变和残余应力值及方向。2.操作简单只需输入被测工件的材料相应的释放系数A，B值，即可自动计算残余应力。自带温度补偿装置，自动清零，无需复杂的软件设置。3.在线打印在线油墨打印测量应变值和残余应力数据，可作为检验依据长期保存。JH-30残余应力检测仪技术指标1、工作环境：a)温度：-20-40℃b)相对湿度：42%-92%；2、应变测量范围：±12800με3、应力测量范围：±2688MPa4、分辨率：1με/字，测量精度高达0.1MPa；5、适用应变片阻值：120Ω±0.56、供桥电压：DC2V,纹波小于0.1mV；7、灵敏系数：±9.999线性可调；8、基本误差限：≤±0.2%9、零漂：≤±2με/小时10、读数值变化：±0.13με/小时11、温漂：≤±0.02%F.S/℃12、可以根据被测工件的材料随意设置相应的释放参数；13、仪器采用八位高亮数码管显示，可任意切换显示应变和应力；14、配有智能打印机。可实时打印三个方向的应变值及计算后的残余应力值δ1、δ2及主应力方向角度θ；15、设有RS232接口，可方便以后软件升级；16、可配置JHZK残余应力精密打孔装置提高测量精度；17、钻孔直径：φ1.0～φ3.0mm18、电源：交流50HZ220V±10%

JH-30残余应力检测仪应用范围1.适于各种金属和非金属材料的盲孔法残余应力定量测量。2.对零件的形状大小和表面没有特殊要求，对零件有轻微的破坏。3.适合于各种环境下工厂和工程现场测量。JH-30残余应力检测仪特点1.数码管显示应变和残余应力高亮8位数码显示，可通过面板按键切换显示，实时查看应变和残余应力值及方向。2.操作简单只需输入被测工件的材料相应的释放系数A，B值，即可自动计算残余应力。自带温度补偿装置，自动清零，无需复杂的软件设置。3.在线打印在线油墨打印测量应变值和残余应力数据，可作为检验依据长期保存。JH-30残余应力检测仪技术指标1、工作环境：a)温度：-20-40℃b)相对湿度：42%-92%；2、应变测量范围：±12800με3、应力测量范围：±2688MPa4、分辨率：1με/字，测量精度高达0.1MPa；5、适用应变片阻值：120Ω±0.56、供桥电压：DC2V,纹波小于0.1mV；7、灵敏系数：±9.999线性可调；8、基本误差限：≤±0.2%9、零漂：≤±2με/小时10、读数值变化：±0.13με/小时11、温漂：≤±0.02%F.S/℃12、可以根据被测工件的材料随意设置相应的释放参数；13、仪器采用八位高亮数码管显示，可任意切换显示应变和应力；14、配有智能打印机。可实时打印三个方向的应变值及计算后的残余应力值δ1、δ2及主应力方向角度θ；15、设有RS232接口，可方便以后软件升级；16、可配置JHZK残余应力精密打孔装置提高测量精度；17、钻孔直径：φ1.0～φ3.0mm18、电源：交流50HZ220V±10%

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。技术指标：表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性：该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/admin@instsun.com

薄膜分光镜Pellicle Beamsplitters第二表面反射不产生鬼像汇聚光束无色差光程长度无变化薄膜厚度 0.002mm通用规格基底:Nitrocellulose构造 :PellicleHousing:Black Anodized Aluminum折射率 nd:1.5表面质量:40-20薄膜分光器是非常纤薄的硝化纤维薄膜，胶合到重叠的铝质外框上，其特点是第二表面反射不产生鬼影。为方便系统集成，薄膜分光器在外框的反面提供安装孔。薄膜分光镜可抵御机械冲击或气候变化，但必须保护其不受灰尘和液体飞溅的影响，以免对薄膜造成损坏。备注：在处理时须额外小心。产品信息Dia. (mm)反射/透射比(R/T)波长范围(nm)DWL(nm)产品编码34.9033/67400 - 700-#39-48034.9040/40400 - 700-#39-47934.9050/50-632.8#39-48134.908/92400 - 2200-#39-47863.5033/67400 - 700-#39-48463.5040/40400 - 700-#39-48363.5050/50-632.8#39-48563.508/92400 - 2200-#39-48288.9033/67400 - 700-#39-48888.9040/40400 - 700-#39-48788.9050/50-632.8#39-48988.908/92400 - 2200-#39-486114.3033/67400 - 700-#39-492114.3040/40400 - 700-#39-491114.3050/50-632.8#39-493114.308/92400 - 2200-#39-490165.1033/67400 - 700-#39-500165.1040/40400 - 700-#39-499165.1050/50-632.8#39-501165.108/92400 - 2200-#39-498技术数据

产品特点：?优异的性价比，低价格却可达到相近于高端膜厚计的测量再现性。?中文化操作介面，入门简易、沟通无障碍。?提供完整测量教学、技术支援、点检校正等售后服务。?采用标准样品验证膜厚精度与再现性，确保追溯体制的完整。?显微镜聚焦下的微距口径测量。产品规格： 测量规格膜厚范围200nm~20μm波长范围400nm~780nm膜厚精度±1nm以内重复更现性(2σ)0.5nm以内选配品样品台尺寸200mm×200mm以内可容制化测量口径（10倍物镜时）Φ20μm、Φ40μm、Φ60μm电脑设备需支援至少三个USB以上之笔记型或桌上型电脑作业系统WindowsXP/7（32bit）测量物镜5倍、10倍、20倍软件功能膜质解析N：折射率、k：吸光系数膜厚测量法FFT法、波峰-波谷法、曲线近似法（Fitting）应用范围： 半导体晶圆膜、FPD薄膜材料、树脂膜、光阻膜、氧化膜、包装膜、光学镀膜、抗反射膜、透明或半透明膜层应用范例：Si基板上99.4nm的SiO2膜Si基板上1018.2nm的SiO2膜

美国chemplex 3024 XRF thin-film聚丙烯光谱仪测试用样品薄膜型号：3024品牌：美国chemplex（本公司供应美国chemplex所有型号）此产品为原装进口，购买后不能退换货，请亲下单前确认好型号。美国Chemplex样品杯XRF样品杯，又名X荧光光谱仪样品杯、XRF样品杯、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、高纯度聚脂测试杯，是应用于X荧光光谱仪XRF上的一次性量杯，广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。产品类型：XRF样品杯Sample Cups品牌：美国Chemplex型 号：所有型号（欢迎来电索取产品目录）产 地：美国一、产品介绍： Chemplex XRF样品杯用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。 Chemplex独有的SpectroCertified? X荧光光谱仪（XRF）样本杯的质量始于一种特别配置的聚乙烯！ Chemplex样本杯由专为该应用配制的专用高密度聚乙烯注模制成。该材料的特点有：1、符合RoHS指令；2、不含有可能影响X射线数据的“白化”因子；3、光滑，能够促进薄膜样本支撑窗口的光滑和稳固附着；4、耐热和抗辐射的物理性能特点；5、能抵抗与无法确定的样本材料物质接触时产生的化学污染；6、低微量元素杂质。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。从产品研发和设计新概念，在内部生产，Chemplex工业公司是形成了样品制备方法的基础的重大贡献。样本杯的设计始于一个开发一种用于承装和处理X射线分析的液体和粉末状样本物质的方法的创意。 谱飞科技作为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！主要有：高纯度聚脂样品杯，铝制样品杯，样品薄膜等。我们不仅提供各种尺寸和属性的XRF样本杯、样品薄膜，还能根据您的样品类型和仪器品牌/型号为您选择合适的样品杯、样品薄膜。二、XRF样品杯尺寸、属性和仪器兼容性： 为了对样本杯与仪器提供的样本夹持设备（金属样本杯、旋转盘、滑动平台、固定台等）进行匹配，购买样本杯前请告知您使用的X荧光光谱仪品牌和型号，或请直接测量仪器样本夹持设备的内径、高度和孔径。 我们列出了各种类型的样本杯的属性以更好地服务于应用，有需要的客户请联系本公司。本公司免费为客户提供包括样品杯的式样、尺寸、价格、编号、适用仪器型号等信息的产品目录。适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z、Xlt794、Xlt898；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。）三、Chemplex产品系列： 注册商标有：Chemplex、SpectroCertified、SpectroSulfur?、SpectroMicro?、TrimLessTM、ThermoPlasticTM、TrimLessTM、FunnelShapeTM等XRF样品杯。四、产品系列：1000系列带有紧固套的单和双开口32和40mm薄膜支撑样品杯,和带有紧固盖和排气室的45mm样品杯 1300系列带有旋转咬合盖和咬合圈的双开口32和40mm样品杯 1400系列带有排气和小样品管的单开口32和40mm样品杯 1500系列带有多孔薄膜和咬合附件的双开口32和40mm样品杯 1545系列适用于样品表面水平和样品表面倾斜的XRF系统的样品杯 1700系列带有咬合排气和排气室的单开口32和40mm样品杯 1800系列带有排气装置和排气室的单开口32和40mm样品杯 1080,1085,1850系列带有排气装置和排气室的单和双开口47mm样品杯。1、1000系列：TRIMLESS?套筒样本杯与SPECTROSULFUR?分析仪杯，TRIMLESS?套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix，Panalytical Venus与Rigaku（日本理学株式会社）仪器。产品编号：10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。2、1300系列：可重复密封的可通风式XRF样本杯，集成外部溢流储液槽，并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。3、1400系列：单开端可通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L*特长单开口端。4、1500系列：双开口端XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。产品编号：1530 双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540 双开口端。5、1600系列：狭缝通风样本杯盖，适用于1500系列XRF样本杯。样品编号：1630样本杯盖、1640样本杯盖。6、1700系列：集成的咬合式通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1730 咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。7、1800系列：单开口端XRF样本杯，集成的外部溢流储液槽，通风装置；与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1830 ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。8、1850系列：单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯，Thermoplastic Seal?通风，集成外部溢流储液槽和排泄装置，适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。9、1900系列：双开口端XRF样本杯，顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器；适应于Oxford Lab-X仪器。产品编号：19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2 双开口端。10、1935-OX系列：双开口端XRF样本杯与通风盖，适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子，适用于牛津CK-100，耗材元件，零件编号54-CK-100。11、2100系列：双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽，通风的直接固定盖，TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。产品编号：2132、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。12、3100系列：SPECTROMICRO?样本杯，采用“FUNNELSHAPE?”（漏斗形）样本杯技术。产品编号：3106、3110、3115、3120。

美国chemplex 3024 XRF thin-film聚丙烯光谱仪测试用样品薄膜型号：3014品牌：美国chemplex（本公司供应美国chemplex所有型号）此产品为原装进口，购买后不能退换货，请亲下单前确认好型号。美国Chemplex样品杯XRF样品杯，又名X荧光光谱仪样品杯、XRF样品杯、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、高纯度聚脂测试杯，是应用于X荧光光谱仪XRF上的一次性量杯，广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。产品类型：XRF样品杯Sample Cups品牌：美国Chemplex型 号：所有型号（欢迎来电索取产品目录）产 地：美国一、产品介绍： Chemplex XRF样品杯用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。 Chemplex独有的SpectroCertified? X荧光光谱仪（XRF）样本杯的质量始于一种特别配置的聚乙烯！ Chemplex样本杯由专为该应用配制的专用高密度聚乙烯注模制成。该材料的特点有：1、符合RoHS指令；2、不含有可能影响X射线数据的“白化”因子；3、光滑，能够促进薄膜样本支撑窗口的光滑和稳固附着；4、耐热和抗辐射的物理性能特点；5、能抵抗与无法确定的样本材料物质接触时产生的化学污染；6、低微量元素杂质。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。从产品研发和设计新概念，在内部生产，Chemplex工业公司是形成了样品制备方法的基础的重大贡献。样本杯的设计始于一个开发一种用于承装和处理X射线分析的液体和粉末状样本物质的方法的创意。 谱飞科技作为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！主要有：高纯度聚脂样品杯，铝制样品杯，样品薄膜等。我们不仅提供各种尺寸和属性的XRF样本杯、样品薄膜，还能根据您的样品类型和仪器品牌/型号为您选择合适的样品杯、样品薄膜。二、XRF样品杯尺寸、属性和仪器兼容性： 为了对样本杯与仪器提供的样本夹持设备（金属样本杯、旋转盘、滑动平台、固定台等）进行匹配，购买样本杯前请告知您使用的X荧光光谱仪品牌和型号，或请直接测量仪器样本夹持设备的内径、高度和孔径。 我们列出了各种类型的样本杯的属性以更好地服务于应用，有需要的客户请联系本公司。本公司免费为客户提供包括样品杯的式样、尺寸、价格、编号、适用仪器型号等信息的产品目录。适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z、Xlt794、Xlt898；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。）三、Chemplex产品系列： 注册商标有：Chemplex、SpectroCertified、SpectroSulfur?、SpectroMicro?、TrimLessTM、ThermoPlasticTM、TrimLessTM、FunnelShapeTM等XRF样品杯。四、产品系列：1000系列带有紧固套的单和双开口32和40mm薄膜支撑样品杯,和带有紧固盖和排气室的45mm样品杯 1300系列带有旋转咬合盖和咬合圈的双开口32和40mm样品杯 1400系列带有排气和小样品管的单开口32和40mm样品杯 1500系列带有多孔薄膜和咬合附件的双开口32和40mm样品杯 1545系列适用于样品表面水平和样品表面倾斜的XRF系统的样品杯 1700系列带有咬合排气和排气室的单开口32和40mm样品杯 1800系列带有排气装置和排气室的单开口32和40mm样品杯 1080,1085,1850系列带有排气装置和排气室的单和双开口47mm样品杯。1、1000系列：TRIMLESS?套筒样本杯与SPECTROSULFUR?分析仪杯，TRIMLESS?套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix，Panalytical Venus与Rigaku（日本理学株式会社）仪器。产品编号：10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。2、1300系列：可重复密封的可通风式XRF样本杯，集成外部溢流储液槽，并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。3、1400系列：单开端可通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L*特长单开口端。4、1500系列：双开口端XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。产品编号：1530 双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540 双开口端。5、1600系列：狭缝通风样本杯盖，适用于1500系列XRF样本杯。样品编号：1630样本杯盖、1640样本杯盖。6、1700系列：集成的咬合式通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1730 咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。7、1800系列：单开口端XRF样本杯，集成的外部溢流储液槽，通风装置；与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1830 ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。8、1850系列：单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯，Thermoplastic Seal?通风，集成外部溢流储液槽和排泄装置，适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。9、1900系列：双开口端XRF样本杯，顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器；适应于Oxford Lab-X仪器。产品编号：19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2 双开口端。10、1935-OX系列：双开口端XRF样本杯与通风盖，适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子，适用于牛津CK-100，耗材元件，零件编号54-CK-100。11、2100系列：双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽，通风的直接固定盖，TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。产品编号：2132、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。12、3100系列：SPECTROMICRO?样本杯，采用“FUNNELSHAPE?”（漏斗形）样本杯技术。产品编号：3106、3110、3115、3120。

产品特点： u即时性內部量子效率测量。u大幅降低紫外光領域的迷光现象，对高量子效率的样品展現出优异的测量性能。搭配低迷光对应光谱仪，实现高感度、高稳定性的光谱解析。u激发光源采用光栅搭配滤光镜分光、可任意选择单一波长。(选配)产品规格： 波长范围240nm~800nm（视所搭配的光谱仪规格）分光元件全息成像光栅，焦点距离F=3、f=135mm波长精度±0.3nm检出元件CCD影像感测器（电子冷却）512ch检出能力1.2nm/pixel受光光纤石英制，金属包覆，固定口径Φ12mm消耗电力100V/200V125VA激发光源系统光源套件Xe灯+光栅分光激发波长范围250nm～700nm波长扫描方式正弦杆移动方式撷取波长（SineBar），手动or自动皆可对应测量系统积分半球设备（HalfMoon）Φ150mm、Φ60mm积分球设备Φ60mm电源消耗电力415VAAC输入100V±10%50/60Hz应用范围： u受紫外光激发的荧光粉体频谱测量uLED所使用的荧光材料频谱测量u光激发频谱测量uLB膜、机能性分子膜的荧光频谱测量u生物发光、散乱光的荧光频谱测量

JHYC静态应变测量与采集设备应用范围1.适用于测点相对集中，被测物理量缓慢变化的试验中。2.主要用于静态结构应力分析及静载荷强度研究中测量结构件及材料任意点的静态应力应变及残余应力。3.广泛应用于桥梁、建筑物、飞机、船舶、车辆、起重机械、压力容器等结构静载荷测试、安全和健康状态测试。4.接入不同的传感器，可对力、荷重、压力、扭矩、位移、电压、电流等进行采集。5.可用于实验性测量，也可用于长期监控测量。JHYC静态应变测量与采集设备功能特点1.全数字电路，精度高，稳定性好，具有极强抗干扰性能力仪器采用全数字电路，每通道独立AD、独立MCU，所有通道同步采样，仪器检定指标达到0.1级，显示精度0.1。采用独特的硬件隔离技术，系统具有极强的现场抗干扰性能力。2.配合不同传感器实现多种物理量测量，功能强大，性价比高。仪器通过软件选择不同的输入类型即可轻松接入不同传感器，实现你所需要的物理量的测测量，操作简单方便。3.具有多种补偿方式，能适应各种环境下的测量要求仪器具有桥路、长导线、公共，软件多种补偿方式，稳定性好。尤其是公共补偿方式，可方便快捷的对模块上10个通道进行同时补偿，避免了繁琐的桥路补偿，节约测量成本和时间。4.简洁的面板设计，闪烁式通道及状态指示灯仪器面板简洁大方，省掉一切不必要的端口，简化了测量接线难度。每个模块的状态和通道状态用高亮指示灯闪烁指示，一目了然。5.设置简单，操作方便快捷，海量存贮适合各种应变花和传感器，仪器桥路和配置采用菜单式设计，只需选择测量类型，软件控制仪器完成自动配置和清零，全量程自动平衡，不损失测量范围，无需复杂专业的测前设置。应变片和仪器连接简单方便，主机与计算机usb接口连接，即插即用。可进行不间断或间断性长时间在线测量，数据存储量取决于计算机硬盘大小。6.具有掉电自动保存测量数据功能在测量过程中，如出现意外断电，仪器可自动保存断电前的所有测量数据，并自动形成测量文件，防止意外丢失测量数据。JHYC静态应变测量与采集设备软件功能1.软件操作、自动识别、显示方式灵活仪器设置全软件操作，所有功能嵌与同一软件内。具有自动识别系统配置，程控设置仪器的量程、测量类型、滤波及采样参数，完成信号的实时采集、处理、分析等功能，具有多种显示方式。2.应变实时显示，被测物理量直接显示多通道应变值实时显示，实时绘制时域曲线。根据传感器的输出灵敏度，完成被测物理量单位量纲的归一化，并直接显示被测物理量。3.数据实时保存，自动生成报表，功能多样软件可对历史数据回放浏览，具有多样的浏览工具、截图工具，浏览中可对数据进行去直流、去趋势、数据统计、数据的截取、删除、另存、导出、数字滤波器等操作。并自动生成测试报告，在线打印。4.每个通道都可根据测量需求选择测量类型，简单方便可根据每通道接入的传感器类型，各通道选择不同的输入类型、工程单位、标定值、调零、补偿方式等。实现对不同物理量的实时同步测量。5.任意通道间X-Y绘图功能，可实时显示相关物理量间的关系曲线6.提供分析功能软件具有时域和频谱分析功能，对历史数据进行滤波，微分和积分计算，数据统计等数据处理功能。南京聚航科技是应变仪生产商，种类多样，型号齐全，欢迎广大客户咨询！

SOFT-QTM5EW热导仪-薄膜试样测定用软件Software for Measuring Thermal Conductivity of Thin Sheet适用于: 橡胶、塑料制品、陶器制品、纸类、纺织品或木头的试样。SOFT-QTM5EW热导仪-薄膜试样测定用软件 主要特点：此软件为热导仪(QTM-500)和电脑连接时，用于薄片材料热导系数测量所设计的。SOFT-QTM5EW热导仪-薄膜试样测定用软件 技术参数：样品厚度: 30µ m-10mm。测量范围: 0.035-5.0 W/mK。

迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜预切圆（圆形）：( 直径：2.5" (63.5mm)；500片/盒)序号CAT.No薄膜材料厚度1256Mylar® 6.0μm (0.24mil) 用于美国热电公司、美国PE公司、美国瓦里安公司、美国利曼公司、日本岛津公司、天瑞仪器、德国斯派克公司、法国JY公司、精谱、帕纳克、精工、牛津、安捷伦、堀场、（随机排名~）等等~……的XRF分析仪器使用。Chemplex样品薄膜、麦拉膜、迈拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品薄膜、CAT.NO：106麦拉膜、CAT.NO：150麦拉膜、CAT.NO：250麦拉膜、CAT.NO：256麦拉膜、CAT.NO：257麦拉膜、CAT.NO：416麦拉膜、CAT.NO：426麦拉膜、3014麦拉膜、欢迎来我司参观或来电咨询。货到付款或月结！美国Chemplex样品杯XRF样品杯，又名X荧光光谱仪样品杯、XRF样品杯、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、高纯度聚脂测试杯，是应用于X荧光光谱仪XRF上的一次性量杯，广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。产品类型：XRF样品杯Sample Cups品牌：美国Chemplex型 号：所有型号（欢迎来电索取产品目录）产 地：美国一、产品介绍： Chemplex XRF样品杯用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。 Chemplex独有的SpectroCertified? X荧光光谱仪（XRF）样本杯的质量始于一种特别配置的聚乙烯！ Chemplex样本杯由专为该应用配制的专用高密度聚乙烯注模制成。该材料的特点有：1、符合RoHS指令；2、不含有可能影响X射线数据的“白化”因子；3、光滑，能够促进薄膜样本支撑窗口的光滑和稳固附着；4、耐热和抗辐射的物理性能特点；5、能抵抗与无法确定的样本材料物质接触时产生的化学污染；6、低微量元素杂质。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。从产品研发和设计新概念，在内部生产，Chemplex工业公司是形成了样品制备方法的基础的重大贡献。样本杯的设计始于一个开发一种用于承装和处理X射线分析的液体和粉末状样本物质的方法的创意。 谱飞科技作为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！主要有：高纯度聚脂样品杯，铝制样品杯，样品薄膜等。我们不仅提供各种尺寸和属性的XRF样本杯、样品薄膜，还能根据您的样品类型和仪器品牌/型号为您选择合适的样品杯、样品薄膜。二、XRF样品杯尺寸、属性和仪器兼容性： 为了对样本杯与仪器提供的样本夹持设备（金属样本杯、旋转盘、滑动平台、固定台等）进行匹配，购买样本杯前请告知您使用的X荧光光谱仪品牌和型号，或请直接测量仪器样本夹持设备的内径、高度和孔径。 我们列出了各种类型的样本杯的属性以更好地服务于应用，有需要的客户请联系本公司。本公司免费为客户提供包括样品杯的式样、尺寸、价格、编号、适用仪器型号等信息的产品目录。适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z、Xlt794、Xlt898；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。）三、Chemplex产品系列： 注册商标有：Chemplex、SpectroCertified、SpectroSulfur?、SpectroMicro?、TrimLessTM、ThermoPlasticTM、TrimLessTM、FunnelShapeTM等XRF样品杯。四、产品系列：1000系列带有紧固套的单和双开口32和40mm薄膜支撑样品杯,和带有紧固盖和排气室的45mm样品杯 1300系列带有旋转咬合盖和咬合圈的双开口32和40mm样品杯 1400系列带有排气和小样品管的单开口32和40mm样品杯 1500系列带有多孔薄膜和咬合附件的双开口32和40mm样品杯 1545系列适用于样品表面水平和样品表面倾斜的XRF系统的样品杯 1700系列带有咬合排气和排气室的单开口32和40mm样品杯 1800系列带有排气装置和排气室的单开口32和40mm样品杯 1080,1085,1850系列带有排气装置和排气室的单和双开口47mm样品杯。1、1000系列：TRIMLESS?套筒样本杯与SPECTROSULFUR?分析仪杯，TRIMLESS?套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix，Panalytical Venus与Rigaku（日本理学株式会社）仪器。产品编号：10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。2、1300系列：可重复密封的可通风式XRF样本杯，集成外部溢流储液槽，并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。3、1400系列：单开端可通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L*特长单开口端。4、1500系列：双开口端XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。产品编号：1530 双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540 双开口端。5、1600系列：狭缝通风样本杯盖，适用于1500系列XRF样本杯。样品编号：1630样本杯盖、1640样本杯盖。6、1700系列：集成的咬合式通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1730 咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。7、1800系列：单开口端XRF样本杯，集成的外部溢流储液槽，通风装置；与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1830 ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。8、1850系列：单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯，Thermoplastic Seal?通风，集成外部溢流储液槽和排泄装置，适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。9、1900系列：双开口端XRF样本杯，顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器；适应于Oxford Lab-X仪器。产品编号：19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2 双开口端。10、1935-OX系列：双开口端XRF样本杯与通风盖，适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子，适用于牛津CK-100，耗材元件，零件编号54-CK-100。11、2100系列：双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽，通风的直接固定盖，TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。产品编号：2132、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。12、3100系列：SPECTROMICRO?样本杯，采用“FUNNELSHAPE?”（漏斗形）样本杯技术。产品编号：3106、3110、3115、3120。