红外热发射显微镜

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 2024年7月28日日本电子株式会社全球同步发布场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列升级为JSM-IT810系列，升级后的产品实时功能更强（包括实时能谱、实时3D等的），自动化程度更高，操作更加直观简单，上手更加方便。

国仪量子 场发射透射电子显微镜 TH-F120 TH-F120取名源自中华名山“太行”（TH），寓意TH-F120将如太行山一样成为中国透射电镜产业的脊梁。产品特点肖特基场发射电子枪平行束/会聚束自适应切换照明系统对称式极靴、恒功率物镜 （高衬度/高分辨模式可选）高像素CMOS相机四轴高精度样品台全中文软件交互界面产品优势人机分离 电镜空间与工作空间分离，减少人为干扰，提升安全性，带来舒适的使用体验高效操作各模块控制高度集成至PC端，全中文软件交互界面一目了然，提升操作效率越级体验将场发射电子枪、高自动化系统等配置120 kV平台，入门即高配丰富拓展预设充足的附件加装接口以及整机升级空间，满足用户使用新需求，有效应对多样的应用场景产品参数 高衬度版高分辨版加速电压10～120 kV10～120 kV信息分辨率0.20 nm0.14 nm点分辨率0.36 nm0.30 nm放大倍率10～1,200,000 x10～1,500,000x主相机像素4096×40964096×4096样品台倾转角-90 °~+90 °-70 °~+70 °支持拓展EDS、STEM、侧插式相机、EELS、插入式冷冻盒

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像-- 日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新的用户界面和"EM Wizard"，无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。 扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升，以及用户群体的不断扩大，使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且，由于观察对象的样品的不断多样化，对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求，通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升，对于用户来说，再也不用去讨论该用什么条件进行观察，只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外，使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件，按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说，它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来；对使用经验丰富的客户来说，开放了丰富的可设置选项，会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。 另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独一无二的。不但可大幅提高做样速度，更使视野再现性得到大大提高。并且，为了能适应各种分析的需求，最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等，都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis"，9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014"，9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*：肖特基式场发射电子显微镜：高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。 肖特基式场发射电子显微镜"SU5000" "EM Wizard"画面样式【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2）放大倍率底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍5轴马达台X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° *1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项 2014年，日立高新技术公司（以下简称：日立高新） 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。

FE-1050系列场发射扫描电子显微镜，国内首款领势旗舰机型。 在新一代电子光学镜筒的加持下，展现低电压、高分辨的卓越性能。 27个端口拓展、大舱室，轻松应对各类成像、分析需求。 极简化操作、自动化交互、智能化特征识别统计，成倍提高工作效率。 终身售后保障，7*24售后响应。以“质”为先，以“优”为本，助力微观世界的探索与发现。贴近用户设计的系统交互操作，最大简化系统操作，即使没有电镜使用经验的用户也可轻松上手。软硬件结合的智能化操作流程能够真正将用户从繁琐的重复操作中解放出来。

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV（SE）0.7nm / 1kV（SE）0.34nm / 30kV（STEM）用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

Apero 2-超高分辨场发射扫描电镜【产品描述】Thermo Scientific Apreo 2 SEM高性能场发射扫描电镜搭载独特的实时元素成像功能和先进的自动光学系统，实现灰色区域解析，让您不再忧心显微镜性能，更加专注于研究本身。 Thermo Scientific Apreo 2 SEM具有多功能性和高质量成像性能，即使是磁性样品或是传统意义上成像非常困难的样品也可以实现极佳成像性能。全新Apreo 2 SEM在原有性能基础之上，进一步优化了超高分辨成像能力，并且增设许多新功能提升其高级功能的易用性。Apreo 2 SEM在耐用的SEM平台上引入了SmartAlign（智能对中）技术，不再需要用户手动进行调整操作，而且，FLASH（闪调）自动执行精细调节工作，只需移动鼠标几次，就可以完成必要的透镜居中、消像散和聚焦校正。此外，Apreo 2 SEM是唯一在10 mm分析工作距离下具有1 nm分辨率的SEM，长工作距离不再意味着低分辨成像，有了Apreo 2 SEM，任何用户都可以自信地得到很好的成像效果。 【特点与应用】 全面解析全面的纳米和亚纳米分辨率性能，适用于纳米颗粒、粉末、催化剂、纳米器件、大块磁性样品等材料； 极佳的灵活性非常灵活的处理范围，样品类型广泛，包括绝缘体、敏感材料和磁性样品，收集最重要的数据； SmartAlign技术使用SmartAlign（智能对中）技术，实现光学系统自动调整，减少维护时间； 先进的自动化先进的自动化用于自动图像微调、撤销、用户向导、Maps成像拼接的FLASH（闪调）技术； 实时定量EDS元素信息触手可及，利用ColorSEM技术，提供实时元素面分布成像定量分析，结果获取更加快速、简便； 长工作距离唯一在长工作距离（10 mm）具有高分辨率的性能(1 nm)和优秀的图像质量的SEM产品参数发射源：高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率： 型号Apero 2 CApero 2 S末级透镜静电复合高真空15kV0.9nm 0.5nm1kV1.0nm0.8nm500V 1.2nm0.8nm加速电压范围：200 V ~ 30 kV 着陆电压范围：200 eV ~ 30 keV探针电流范围：1 pA ~ 50 nA，连续可调（可选配400 nA）最大水平视场宽度：10 mm WD时为3 mm（相当于最低放大倍率29倍）X-Ray工作距离：10 mm，EDS检出角35°样品室：从左至右为 340 mm 宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3 个（其中2个处于180° 对角位置）样品台：五轴优中心全自动马达驱动X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm,T=-15o~90o,R=360o （连续旋转）多用途SEM样品安装载物台，可同时放置 18 个标准样品座（φ12 mm）最大样品尺寸，直径122 mm，可沿X、Y轴完全旋转时最大样品高度，到优中心点间隔为85 mm最大样品承重 5 kg探测器系统：样品室二次电子探测器ETD镜筒内背散射电子探测器T1镜筒内二次电子探测器T2镜筒内二次电子探测器T3（选配）样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度）图像导航彩色光学相机Nav-Cam+&trade 样品室低真空二次电子探测器（选配）可伸缩透镜下背散射探测器（选配）控制系统： 操作系统：Windows 10图像显示：24寸LCD显示器，最高显示分辨率1920×1200支持用户自定义的GUI，可同时实时显示四幅图像软件支持Undo和Redo功能

FAI 微光发射显微镜（EMMI）FAI Photo Emmission MicroscopeFAI 微光发射显微镜用于检测半导体内部缺陷引起的微光发射或微热发射来准确定位半导体器件的失效位置。通过使用不同类型的探测器，或者配置双激光扫描系统（SIFT），以及配合相应的检测软件来实现对半导体元器件或芯片电路的微光、微热、光激励诱导失效测试等各种分析手段。FAI的Crystal Vision微光发射显微镜系统对所配置探测器的数量没有限制，可选择配置从一个到我们提供的所有型号的探测器和SIFT激光扫描头。主要功能CCD探测器：波长探测范围 365nm 至 1190nm；带电子半导体制冷器（TEC）的CCD探测器，可冷却稳定在 -40℃以下，无需使用危险的液氮制冷剂；CCD解析度为1280x1024；像素暗电流0.002 电子/秒；读噪声7 个电子；连续收集信号时间从32毫秒至2小时。InGaAs探测器：波长探测范围 900nm – 1750nm；带电子半导体制冷器（TEC）的InGaAs探测器，可冷却稳定在 -40℃以下，无需使用危险的液氮制冷剂； InGaAs探测器分辨率为320x240，像素点尺寸为30 x 30um，更大的像素点面积可以收集更少的光子，探测灵敏度是普通640x480 InGaAs探测器的4倍；连续收集信号时间从1微秒到60分钟；有效波段范围内量子效率（QE）为 80-85%；灵敏度 NEI 1x1010 ph/cm2/sec；量子效率70 QE 在950-1700nm范围内。 VisGaAs 探测器：波长探测范围 500nm – 1800nm，代表了新技术的VisGaAs 探测器覆盖了可见光-红外光波长检测范围，一个探头就可替代传统的CCD和InGaAs 两个探测器；半导体制冷器（TEC） ，可冷却稳定在 -40℃以下。SIFT(Stimulus Induced Fault Testing)双波长激光扫描头：双激光源654nm和1428nm；通过激光扫描芯片电路，导致失效位置电阻发生变化，通过检测反馈信号的变化，从而检测到失效位置；SIFT扫描不受物镜视野限制，可以一次扫描完整整个检测区域，无需图像拼接，避免图像扭曲；FAI的恒定电流附加反馈回路的技术，不但提高了检测灵敏度，而且避免了检测时电压过高的风险；恒定焦距的定镜扫描，可以将激光点停留在任意指定位置，用于确认失效点。FMI荧光热成像技术：FAI的微热分析技术，热分辨率是千分之一K(1/1000K)，可以室温操作，无需使用危险的液晶溶液。LC液晶热成像技术：FAI的SLC（稳定液晶）液晶热成像技术的热分辨率为百分之一K (1/100 K)。Moire云纹成像：从硅片背面采用“云纹图像成像”的方式来检测失效位置的微热变化。

FAI 微光发射显微镜（EMMI）FAI Photo Emmission Microscope咨询请点击导航栏 联系方式，直接联系我们。FAI 微光发射显微镜用于检测半导体内部缺陷引起的微光发射或微热发射来准确定位半导体器件的失效位置。通过使用不同类型的探测器，或者配置双激光扫描系统（SIFT），以及配合相应的检测软件来实现对半导体元器件或芯片电路的微光、微热、光激励诱导失效测试等各种分析手段。FAI的Crystal Vision微光发射显微镜系统对所配置探测器的数量没有限制，可选择配置从一个到我们提供的所有型号的探测器和SIFT激光扫描头。主要功能CCD探测器：波长探测范围 365nm 至 1190nm；带电子半导体制冷器（TEC）的CCD探测器，可冷却稳定在 -40℃以下，无需使用危险的液氮制冷剂；CCD解析度为1280x1024；像素暗电流0.002 电子/秒；读噪声7 个电子；连续收集信号时间从32毫秒至2小时。InGaAs探测器：波长探测范围 900nm – 1750nm；带电子半导体制冷器（TEC）的InGaAs探测器，可冷却稳定在 -40℃以下，无需使用危险的液氮制冷剂； InGaAs探测器分辨率为320x240，像素点尺寸为30 x 30um，更大的像素点面积可以收集更少的光子，探测灵敏度是普通640x480 InGaAs探测器的4倍；连续收集信号时间从1微秒到60分钟；有效波段范围内量子效率（QE）为 80-85%；灵敏度 NEI 1x1010 ph/cm2/sec；量子效率70 QE 在950-1700nm范围内。 VisGaAs 探测器：波长探测范围 500nm – 1800nm，代表了新技术的VisGaAs 探测器覆盖了可见光-红外光波长检测范围，一个探头就可替代传统的CCD和InGaAs 两个探测器；半导体制冷器（TEC） ，可冷却稳定在 -40℃以下。SIFT(Stimulus Induced Fault Testing)双波长激光扫描头：双激光源654nm和1428nm；通过激光扫描芯片电路，导致失效位置电阻发生变化，通过检测反馈信号的变化，从而检测到失效位置；SIFT扫描不受物镜视野限制，可以一次扫描完整整个检测区域，无需图像拼接，避免图像扭曲；FAI的恒定电流附加反馈回路的技术，不但提高了检测灵敏度，而且避免了检测时电压过高的风险；恒定焦距的定镜扫描，可以将激光点停留在任意指定位置，用于确认失效点。FMI荧光热成像技术：FAI的微热分析技术，热分辨率是千分之一K(1/1000K)，可以室温操作，无需使用危险的液晶溶液。LC液晶热成像技术：FAI的SLC（稳定液晶）液晶热成像技术的热分辨率为百分之一K (1/100 K)。Moire云纹成像：从硅片背面采用“云纹图像成像”的方式来检测失效位置的微热变化。

红外热成像显微镜 随着电子器件的不断缩小，热发生器和热耗散变得越来越重要。微型热显微镜可以测量并显示温度分布的半导体器件的表面，使热点和热梯度可显示缺损位置，通常导致效率下降和早期故障的快速检测。 应用检测芯片的热点和缺陷电子元件和电路板故障诊断测量结温甄别芯片键合缺陷测量热电阻装激光二极管性能和失效分析 产品特点20微米/像素固定焦距50度广角聚焦镜头320*240非制冷探测器30帧/秒拍摄和显示速度0—300摄氏度测量范围室温测量便于使用——1分钟安装测量待命 热及缺陷infrasight MI的红外摄像机的灵敏度高结合先进的降噪和图像增强算法提供检测和定位的热点在半导体器件消耗小于1毫瓦的功率和升高温度， 表现出只有0.05摄氏度。短时间试验中，设备通常是供电的5到10秒。I/O模块使大功耗是与软件测试同步。测试平均电阻低于一欧姆短路检测。因为低电阻短路消失，只有少量的电和热，一系列的测试可以一起平均提高测试灵敏度。 自动停止功能打开I/O模块继电器自动切断电源，对设备/板作为一个预先定义的阈值以上的短温度升高。这种安全功能可以帮助防止对设备/板损坏，同时定位时间。 红外热成像配套软件红外热成像显微镜软件提供了一套广泛的分析工具帮助客户非常容易而快速获取温度信息。实时的带状图、拍摄及回放序列不同视角和建设性的数据分析手段 微量可用于测量功能的器件结温。为了准确测量结温，一个模具的表面发射率的地图必须首先被创建。该装置是安装在保温阶段控制在均匀的温度。然后计算thermalyze软件的表面，适用于热图像纠正发射率的变化在死像素的发射率的地图像素。测量结温，设备供电，高温度区域内围交界处测量。

红外热成像显微镜随着电子器件的不断缩小，热发生器和热耗散变得越来越重要。微型热显微镜可以测量并显示温度分布的半导体器件的表面，使热点和热梯度可显示缺损位置，通常导致效率下降和早期故障的快速检测。 产品特点检测芯片的热点和缺陷电子元件和电路板故障诊断测量结温甄别芯片键合缺陷测量热电阻封装 应用激光二极管性能和失效分析20微米/像素固定焦距50度广角聚焦镜头320*240非制冷探测器30帧/秒拍摄和显示速度0—300摄氏度测量范围室温测量便于使用——1分钟安装测量待命 红外热成像配套软件软件提供了一套广泛的分析工具帮助客户非常容易而快速获取温度信息。实时的带状图、拍摄及回放序列不同视角和建设性的数据分析手段 热点及缺陷链接方法infrasight MI的红外摄像机的灵敏度高结合先进的降噪和图像增强算法提供检测和定位的热点在半导体器件消耗小于1毫瓦的功率和升高温度，表现出只有0.05摄氏度。短时间试验中，设备通常是供电的5到10秒。I/O模块使最大功耗是与软件测试同步。测试平均电阻低于一欧姆短路检测。因为低电阻短路消失，只有少量的电和热，一系列的测试可以一起平均提高测试灵敏度。自动停止功能打开I/O模块继电器自动切断电源，对设备/板作为一个预先定义的阈值以上的短温度升高。 这种安全功能可以帮助防止对设备/板损坏，同时定位时间。微量可用于测量功能的器件结温。为了准确测量结温，一个模具的表面发射率的地图必须首先被创建。该装置是安装在保温阶段控制在均匀的温度。然后计算thermalyze软件的表面，适用于热图像纠正发射率的变化在死像素的发射率的地图像素。测量结温，设备供电，最高温度区域内围交界处测量。

红外热成像显微镜随着电子器件的不断缩小，热发生器和热耗散变得越来越重要。微型热显微镜可以测量并显示温度分布的半导体器件的表面，使热点和热梯度可显示缺损位置，通常导致效率下降和早期故障的快速检测。 产品特点检测芯片的热点和缺陷电子元件和电路板故障诊断测量结温甄别芯片键合缺陷测量热电阻封装 应用激光二极管性能和失效分析20微米/像素固定焦距50度广角聚焦镜头320*240非制冷探测器30帧/秒拍摄和显示速度0—300摄氏度测量范围室温测量便于使用——1分钟安装测量待命 红外热成像配套软件软件提供了一套广泛的分析工具帮助客户非常容易而快速获取温度信息。实时的带状图、拍摄及回放序列不同视角和建设性的数据分析手段 热点及缺陷链接方法infrasight MI的红外摄像机的灵敏度高结合先进的降噪和图像增强算法提供检测和定位的热点在半导体器件消耗小于1毫瓦的功率和升高温度，表现出只有0.05摄氏度。短时间试验中，设备通常是供电的5到10秒。I/O模块使最大功耗是与软件测试同步。测试平均电阻低于一欧姆短路检测。因为低电阻短路消失，只有少量的电和热，一系列的测试可以一起平均提高测试灵敏度。自动停止功能打开I/O模块继电器自动切断电源，对设备/板作为一个预先定义的阈值以上的短温度升高。 这种安全功能可以帮助防止对设备/板损坏，同时定位时间。微量可用于测量功能的器件结温。为了准确测量结温，一个模具的表面发射率的地图必须首先被创建。该装置是安装在保温阶段控制在均匀的温度。然后计算thermalyze软件的表面，适用于热图像纠正发射率的变化在死像素的发射率的地图像素。测量结温，设备供电，最高温度区域内围交界处测量。

1、产品介绍KYKY-EM8010 场发射扫描电子显微镜 低电压下能够保持较好的亮度和较高的分辨率，束流稳定度高、色散小，适宜长时间的各种精确分析，一键standby功能，维护更方便，软件操作简便，提升用户使用体验。为科研高校、生命科学，新能源等领域客户提供稳定可靠，超高性价比的产品解决方案。2、产品特点l1.5nm@15Kv (SE)，3nm@30kV (BSE) l低加速电压保持较好的亮度和分辨率 l低加速电压不导电样品可直接观测，无需喷金l肖特基电子枪亮度高、单色性好、电子束斑小、寿命长l束流稳定度高，色散小，适宜于长时间的各种精确分析l一键standby 维护更方便l具备光学导航，快速样品定位3、KYKY-EM8010 场发射扫描电子显微镜技术指标：分辨率1.5nm@15KV（SE）； 3nm@30KV（BSE）放大倍数光学放大倍数4-100倍；电子学放大8-800000倍 电子枪肖特基热场发射电子枪加速电压0.2～30kV自动调整功能聚焦，亮度/对比度、消像散、电子束对中探测器高真空二次电子探测器；红外CCD摄像头；一体化背散射探测器；光学导航探测器样品台五轴全自动中型样品台行程： X=80mm,Y=50mm,Z=30mm，T=-5°～+70°,R=360°最大样品直径: Ф175mm；最大样品高度：20mm 样品台具有碰撞报警功能。选配探测器BSE、EDS、EBSD、CL、EBIC等4、应用领域半导体、生命科学、材料、新能源、金属、刑侦、地质、功能材料、高分子材料。

捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机JSM7000F采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。产品规格：主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。＜特点＞捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统）TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加）捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 信息由科沃安科技（苏州）有限公司为您提供，如您想了解更多关于日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F JEOL新一代场发射扫描电子显微镜的旗舰机型。 它继承了上一代广获好评的性能如极高的空间分辨率、高稳定性、多种功能等的同时，操作性能极大简单化。该设备不依赖操作者的技能，始终能够发挥其最佳性能。 产品规格：分辨率1.0 nm (0.5 kV)0.7 nm (1 kV)0.6 nm (15 kV)3.0 nm (5 kV、WD: 10 mm、5 nA)倍率×10 ～ ×1,000,000加速电压0.01 ～ 30 kV探针电流数 pA ～ 500 nA检测器（标配）高位检测器(UED)、低位检测器(LED)电子枪浸没式肖特基Plus场发射电子枪最佳光阑角控制镜内置物镜超级混合式物镜/SHL自动功能自动聚焦、自动消像散、自动调节亮度、自动调节衬度大景深模式(LDF)内置样品台全对中测角样品台样品移动X:70mm Y:50mm Z:2 ～ 41mm 倾斜轴:-5 ～ 70° 旋转:360°马达驱动5轴马达驱动样品交换室最大直径: 100mm 　最大高度: 40mm抽真空系统SIP、TMP、RP 主要特点：◇ Neo Engine（New Electron Optical Engine）新一代电子光学控制系统Neo Engine（New Electron Optical Engine），是JEOL电子光学技术荟萃的结晶。 它综合了透镜控制系统和自动化技术，即使改变电子光学条件，光轴的偏离也极小，大大提高了可操作性及观察精度。 无论是谁都可以很简便地发挥出仪器原本的功能。 ① 提高了自动功能 样品 : 用CP 制备的矿物截面（树脂包埋） 入射电压 : 5 kV，检测器 : RBED，观察倍率 : ×100,000 不仅提高了自动功能的精度，而且只需要几秒钟就可以聚焦。 ② 提高了倍率的精度 样品 : 测长用的样品（MRS5） 入射电压 : 10 kV， 观察倍率: ×50,000 大幅度地提高了倍率的精度，而且实现了高精度测长。 ③ 能量过滤器更加易用 样品 : 名片 入射电压 : 1.5 kV， 检测器 : UED， 观察倍率 : ×3,500 即使大幅度改变能量过滤器的设定值，视野或聚焦位置基本不会偏离。 ◇ GBSH-S (GENTLEBEAM™ Super High resolution Stage bias mode)GBSH 是在低加速电压下提高分辨率的一种方法。 新开发的GBSH-S可以给样品台施加高达5 kV的偏压。 因此，使用GBSH模式不需要使用专用的样品杆就可以无缝过渡到其他模式。※GENTLEBEAM™ 通过给样品施加偏压，起到了对入射电子减速，对出射电子加速的作用。 ◇ 新型背散射电子检测器　※ 选配件采用新开发的超高灵敏度的背散射电子检测器，可以在清晰的衬度下进行观察。 灵敏度比以往的产品提高了很多，特别是在低加速电压下能得到高衬度的成分像。旧机型 新机型 样品 : Cu的截面 入射电压 : 3 kV 观察倍率 : ×10,000 WD： 4.5 mm ◇ 新型外观设计 外观设计紧凑，大大节省了安装空间，可以支持多种安装环境。 ◇ 新的样品交换方式 采用新设计的样品交换系统（load lock），操作简单了，不仅减少误操作还提高了通量和耐用性。 ◇ SMILENAVISMILENAVI 是为初学者在短时间内学会基础操作而开发的操作导航系统。 操作人员按照流程，只要点击图标，SEM操作画面就会联动，依照提示引导即可操作。① 强调操作按钮只要将鼠标光标挪到SMILENAVI的指南键上，SEM的GUI上的相应键会出现方框。 在SMILENAVI指南里点击按键后，SEM的GUI会变成灰色来强调相应键。 ② 显示照片在SMILENAVI的指南里点击按键后，会显示该按键位置的照片。 ③ 显示操作顺序的视频 SMILENAVI的指南里有介绍操作顺序的视频。 继承了旧机型的高性能 ◇ 浸没式肖特基 Plus 电子枪浸没式肖特基Plus FEG 通过与电子枪和低像差聚光镜的组合，性能进一步得到改善，达到了更高的亮度。 能有效地收集从电子枪发射出的电子，即使在低加速电压下，也能获得数pA ～数10 nA 的探针电流，不用交换物镜光阑也能进行高分辨观察和快速元素面分布及EBSD 分析。 ◇ ACL（最佳光阑角控制镜）ACL（最佳光阑角控制镜）位于物镜的上方，自动优化整个电流范围内的物镜光阑角。 因此，即使改变探针电流量，也能调整入射电子的扩散，始终可以获取最小的电子束斑。不管是高分辨观察还是X 射线分析，对探针电流的大幅度变化都能轻松对应。 ◇ 超级混合式物镜 / SHLJSM-7900F 标配了JEOL 开发的电磁场叠加物镜 —“超级混合式物镜（SHL）”，对任何样品包括磁性和绝缘材料都能进行超高空间分辨率观察和分析。 ◇ 检测器系统能够同步采集多达4 种检测器的信号。标配低位检测器（LED）和高位检测器（UED）。 此外，还可以安装选配件：可插拔式背散射电子检测器（RBED）和高位二次电子检测器（USD）。 ◇ 高空间分辨率观察利用GBSH，即使在极低的加速电压下也能进行高分辨率观察。 GBSH下，高空间分辨率观察应用● 氧化物纳米材料

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7200F JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。 产品规格： 主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。 ＜特点＞ JSM-7200F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪 浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统） TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此JSM-7200F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加） JSM-7200F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 JSM-7200F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。

OPTOTHERM红外热成像显微镜,Optotherm Micro红外热成像显微镜，这是一台专为微观热成像设计，这是一台专为高端科研设计，用来测量微观热分布情况，除具有传统红外热成像的优势外，还具有如下特点：1. 高分辨率红外热成像：640*480像素，60hz高帧数，最高5um分辨率2. 专为科研设计的选配件：1）XY高精度移动平台，120*120mm,步进精度为10um2）自动控制上电的继电器（八通道）：可以精准控制上电及开关，比如设计上电30s后断电，这个过程同步录像或拍照3）两种可选高精度热台：可以控制真正0℃-80℃，0℃–130℃，可以给样品均匀加热或降温，设置一定实验环境4）探针台：微小器件的上电工具，扎针上电5）发射率涂层套件：对于发射率低的器件，可以通过喷枪施加薄（1-2微米）聚合物涂层以增加表面的发射率。可承受高达200°C的连续温度3，功能强大的软件：1) 点，线，面的温度分析，最高点显示跟踪，研究。2）发射率校正：像素级发射率校正，修正发射率导致的温度测量偏差，制作发射率表3）可见光及其他照片叠加，可以调节红外图像和可见光图片的透明度4）一秒拍摄60张照片，生成照片，结合上述功能，可全面的观测分析温度与时间的关系，温度于空间的关系Optotherm Micro红外显微镜，作为一台专为微观红外热成像研发和设计的专业系统，是做微观热分析不可或缺的一个有力工具，其专为作为热成像显微镜做的优化，牺牲掉普通热成像便携性，可充电等各种方便宏观热成像的功能，同时，为微观热成像研究添加诸多实用和创新的功能，这使得其成为MEMS,电子器件，激光器件，LED，传感器，氮化镓器件，SIC，IGBT，微观医疗器件等等，MEMS热成像分析， 光纤热像检测，测量微型换热器的传热效率， 半导体气体传感器的热分析，微反应器的温度特性，微致动器的温度测量，生物样品的温度分析， 材料热检验，热流体分析等等，是关注微观热分布的科研或生产必不可少的一个工具。对于Optotherm Micro 红外显微镜相关的应用或调研，可以联系optotherm中国区应用实验室进行送样和评估。

TH-F120场发射透射电子显微镜是一款先进的分析仪器，它结合了场发射电子源的高亮度和透射电子显微镜的高分辨率成像能力。该产品适用于材料科学、生物学、纳米科技等多个领域的研究和分析工作。TH-F120具备以下特点：1. 高分辨率成像：采用场发射电子源，提供高亮度的电子束，实现纳米级甚至亚纳米级的高分辨率成像。2. 稳定性与可靠性：设计精密，确保长时间运行的稳定性和可靠性，适合连续工作环境。3. 先进的样品室：提供大空间样品室，支持多种样品的装载和分析，包括冷冻样品。4. 多功能分析：配备能量色散X射线光谱仪（EDS）和电子能量损失谱（EELS）等分析附件，实现样品的化学成分和电子结构分析。5. 易于操作的用户界面：采用直观的用户界面和先进的软件，简化操作流程，提高工作效率。6. 安全性设计：符合国际安全标准，确保用户在使用过程中的安全。TH-F120场发射透射电子显微镜是科研和工业领域中不可或缺的精密分析工具，能够帮助研究人员深入理解材料的微观结构和性质。TH-F120在材料科学领域的应用尤为广泛，它可以帮助科学家们研究纳米材料的晶体结构、界面行为、缺陷分布等关键特性。通过高分辨率成像，研究人员能够观察到材料在原子尺度的排列和变化，这对于开发新型材料、优化材料性能具有重要意义。在生物学领域，TH-F120也发挥着重要作用。它能够以极高的分辨率成像生物大分子，如蛋白质、核酸等，揭示它们的精细结构和相互作用机制。这对于理解生命过程、疾病发生机制以及药物研发等方面都具有重要的推动作用。此外，TH-F120还具备强大的数据分析能力。其配备的软件系统能够自动处理和分析采集到的图像和数据，提供精确的定量分析结果。这大大减轻了研究人员的负担，提高了工作效率和准确性。总的来说，TH-F120场发射透射电子显微镜是一款功能强大、性能卓越的精密分析仪器。它不仅具备高分辨率成像、稳定性与可靠性、多功能分析等显著特点，还在材料科学、生物学等多个领域发挥着重要作用。随着科学技术的不断进步和应用领域的不断拓展，TH-F120必将在更多领域展现出其独特的价值和魅力。

KYKY-EM8100场发射扫描电子显微镜产品特点：高性能肖特基场发射电子枪，亮度高、单色性好、束斑小、寿命长具备卓越的低加速电压成像性能超大样品腔室，更多扩展接口，满足多探测器、多功能联用、多嵌入原位测试束流稳定，满足长时间工作需求非导体试样或电子束敏感试样可不喷涂导电膜直接观测技术指标：分辨率0.9nm@30KV（SE） 3.0nm@1KV（SE） 2.5nm@30KV （BSE）放大倍率2-3000000 倍电子枪肖特基热场发射电子枪加速电压0.2～30kV透镜系统多级高性能透镜系统，低像差锥形物镜样品台五轴全自动预对中样品台探测器高真空二次电子探测器（具备防碰撞功能）应用领域：电池材料、半导体、复合材料、高分子、动植物、微生物、粉末冶金、矿物、金属行业、建筑材料、化工材料、陶瓷材料

场发射扫描电子显微镜SEM4000Pro是一款先进的分析仪器，它结合了场发射电子源的高亮度和高分辨率特性，为用户提供卓越的表面成像和微区分析能力。该设备适用于材料科学、生物学、地质学等多个领域的研究和质量控制。SEM4000Pro采用了最新的电子光学系统设计，能够达到亚纳米级别的分辨率，即使在高放大倍数下也能提供清晰、细腻的图像。其独特的场发射电子枪技术，确保了稳定的高亮度电子束输出，从而获得高质量的图像和分析数据。此外，SEM4000Pro配备了先进的电子探测器系统，包括二次电子探测器、背散射电子探测器等，能够满足不同样品的成像需求。用户可以通过这些探测器获取样品表面的形貌、成分和晶体结构等信息。该显微镜还具备强大的样品处理能力，支持多种样品的加载，包括固体、粉末、薄膜等，并且具有高真空和低真空模式，以适应不同样品的测试环境。用户界面友好，操作简便，配合智能软件系统，可以轻松完成样品的定位、成像和分析。总之，场发射扫描电子显微镜SEM4000Pro是科研和工业领域中不可或缺的精密分析工具，它以卓越的性能和广泛的适用性，为用户提供了深入研究材料特性的强大支持。当然，以下是关于场发射扫描电子显微镜SEM4000Pro产品介绍的续写：除了上述的卓越性能外，SEM4000Pro还具备一系列高级功能，进一步提升了其在科研和工业应用中的价值。首先，该显微镜支持三维成像技术，通过收集不同角度的二次电子信号，可以重建出样品表面的三维形貌。这一功能对于研究复杂结构材料的表面形态、孔隙分布等具有重要意义，为科研人员提供了更加直观、全面的样品信息。其次，SEM4000Pro还配备了能量色散X射线光谱仪（EDS）等附件，能够在观察样品形貌的同时，进行元素成分分析。通过EDS分析，用户可以快速获取样品表面的元素种类、含量及分布信息，为材料表征和性能研究提供有力支持。此外，该显微镜还具备自动化控制和远程操作功能。用户可以通过计算机远程控制显微镜的各项参数，实现样品的自动扫描、成像和分析。这一功能不仅提高了工作效率，还降低了操作难度，使得更多科研人员能够轻松上手使用。在维护和保养方面，SEM4000Pro也表现出色。其设计充分考虑了易维护性和耐用性，使得设备的日常维护和保养变得简单快捷。同时，金山办公及其合作伙伴还提供专业的售后服务和技术支持，确保用户在使用过程中遇到任何问题都能得到及时解决。综上所述，场发射扫描电子显微镜SEM4000Pro凭借其卓越的性能、丰富的功能、便捷的操作以及专业的售后服务，成为了科研和工业领域中备受推崇的精密分析工具。无论是材料科学家、生物学家还是地质学家，都能在这款设备的帮助下，深入探索未知领域，推动科学研究的进步和发展。

超高分辨场发射扫描电子显微镜SEM5000X是一款先进的分析仪器，它结合了场发射技术和高分辨率成像能力，为用户提供了一个强大的工具来观察和分析各种材料的微观结构。该显微镜具有以下特点：1. 场发射电子源：采用先进的场发射电子源，提供稳定的高亮度电子束，从而实现高分辨率成像。2. 高分辨率成像：SEM5000X能够达到极高的空间分辨率，即使在高放大倍数下也能清晰地观察样品表面的细节。3. 多种探测器：配备了多种探测器，包括二次电子探测器、背散射电子探测器等，能够提供丰富的样品表面信息。4. 易于操作的用户界面：拥有直观的用户界面和先进的软件，使得操作简便，即使是初学者也能快速上手。5. 强大的分析能力：除了成像功能外，SEM5000X还支持多种分析技术，如能谱分析(EDS)、电子背散射衍射(EBSD)等，为材料研究提供全面的数据支持。6. 灵活的样品室：样品室设计灵活，能够适应各种尺寸和形状的样品，方便用户进行多样化的实验。7. 高性能的真空系统：采用高效的真空系统，确保在最佳的真空环境下进行成像，减少样品污染和电子束散射。SEM5000X适用于材料科学、生物学、地质学、半导体工业等多个领域的研究和质量控制，是科研和工业领域不可或缺的精密分析工具。当然，以下是关于超高分辨场发射扫描电子显微镜SEM5000X产品介绍的继续内容：8. **自动化与智能化**：SEM5000X融入了先进的自动化和智能化技术，支持自动聚焦、自动寻找样品区域、自动调整参数等功能，大大提高了实验效率和准确性。同时，通过集成的人工智能算法，能够自动识别和分类样品特征，为用户提供更深入的数据分析支持。9. **广泛的应用范围**：这款显微镜不仅适用于固体材料的表面形貌观察，还能对材料的微观结构、化学成分、晶体取向等进行深入分析。在纳米科技、生物医学、环境科学等领域，SEM5000X都发挥着重要作用，帮助科研人员揭示物质的本质和特性。10. **可靠的稳定性和耐用性**：SEM5000X采用高品质的材料和精密的制造工艺，确保了设备的稳定性和耐用性。即使在长时间连续工作的情况下，也能保持优异的性能表现，为用户提供可靠的分析结果。11. **专业的技术支持和服务**：作为金山办公与合作伙伴共同开发的AI工作助理，我们深知技术支持和服务对于用户的重要性。因此，我们提供全方位的技术支持和服务，包括设备安装调试、操作培训、故障排查等，确保用户能够顺利使用SEM5000X进行科研工作。12. **持续的技术升级和更新**：随着科技的不断发展，我们将不断对SEM5000X进行技术升级和更新，引入更先进的成像技术和分析功能，以满足用户日益增长的需求。同时，我们也将积极听取用户的反馈和建议，不断优化产品性能和服务质量。综上所述，超高分辨场发射扫描电子显微镜SEM5000X是一款集高性能、高可靠性、高智能化于一体的先进分析仪器。它将成为您科研道路上的得力助手，助您探索微观世界的奥秘。

产品详情日本JEOL场发射透射电子显微镜JEM-F200 以节能环保、减排低碳为理念开发的JEM-F200场发射透射电子显微镜，不仅提高了空间分辨率和分析性能，还采用了新的操作系统可满足多种使用途径，易用性强，外观设计精炼，能为不同层次的用户提供新奇的操作体验。 产品规格：超高分辨极靴高分辨极靴分辨率TEM点分辨率0.19 nm0.23 nmSTEM-HAADF 像0.14 nm @冷场枪0.16 nm @冷场枪0.16 nm @热场枪0.16 nm @热场枪加速电压200 , 80 kV200 , 80 kV主要选配件能谱仪（EDS）、电子能量损失谱仪（EELS）、CCD相机、TEM/STEM断层扫描系统 产品特点： 以节能环保、减排低碳为理念开发的JEM-F200场发射透射电子显微镜，不仅提高了空间分辨率和分析性能，还采用了新的操作系统可满足多种使用途径，易用性强，外观设计精炼，能为不同层次的用户提供新奇的操作体验。 外观设计精炼 精炼的外型，全新的视觉感受。为分析型电镜全新设计的GUI，使操作更加直观方便。JEOL长年积累的丰富经验在设计上得到了充分的体现，与旧机型相比，电镜的机械性和电气稳定性都得到了很大的提高。 四级聚光镜系统 现在的电子显微镜需要支持范围广泛的成像技术--- 从明场/暗场的TEM成像到使用各种检测器的STEM技术。 该设备采用新型四级聚光镜照射光学系统-“Quad-Lens condenser system”，通过分别控制电子束强度和汇聚角，能满足各种研究的需求。 高端扫描系统 JEM-F200可以实现大视野的STEM-EELS分析，该设备在常规的照明系统的电子束扫描功能之上，增加了新的扫描系统-“Advanced Scan System” 即成像系统的电子束扫描功能（选配）。 皮米样品台驱动 JEM-F200 采用能以皮米级步长移动样品台的Pico stage drive（不用压电驱动），能在宽动态范围移动视野-从样品的整个栅网视野移动到原子级图像视野移动都能进行。 SpecPorter（自动插入和拔出样品杆的装置） 插入和拔出样品杆，对电镜初学者来说一直是高难度的操作。 JEM-F200配备的SpecPorter，即使新手也能轻松掌握，将样品杆安装在指定的位置上，只用一个按钮即能安全地插入或拔出。 改进的冷场发射电子枪 JEM-F200能安装高稳定性、高亮度和高能量分辨率的冷场发射电子枪（选配），该枪的利用可以进行EELS化学结合状态分析，高亮度的电子束缩短了分析时间，并且还降低了来自光源的色差，实现了高分辨率的观察。 双能谱（SDD） JEM-F200能同时安装两个大口径、分析灵敏度高的硅漂移检测器（SDD）（选配件）。 凭借更高的灵敏度，EDS分析速度更快，对样品的损伤更小。 环保节能 JEM-F200是第一个标配了ECO模式的透射电子显微镜。ECO模式系统能将能源消耗降低到正常模式时的1/5，可以在装置不运行时，以最小的能耗保持着电镜的最佳条件。该设备具有排程功能，能在指定的时间将电镜从ECO模式恢复到工作状态。

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 2024年7月28日日本电子株式会社全球同步发布场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列升级为JSM-IT810系列，升级后的产品实时功能更强（包括实时能谱、实时3D等的），自动化程度更高，操作更加直观简单，上手更加方便。

产品简介日立驰名的冷场发射电子源和300 kV加速电压技术共同打造了超高分辨率成像和高灵敏度分析功能。双棱镜全息技术，空间分辨电子能量损失谱以及高精度平行纳米电子束衍射技术开辟了高效，高精度样品分析的新途径。分辨率：0.1 nm（晶体点阵）0.19 nm（点对点）0.13 nm（信息极限）放大倍数：200倍 至 1,500,000倍加速电压：300 kV, 200 kV （*）, 100 kV （*）（*） 选购附件 解决方案 立扫描透射电镜HF3300在原位催化中的应用 应用领域：石油/化工检测项目：热性能检测样品：化工原料 方案优势近年来，在催化领域中，真实的催化反应过程成为广大学者的研究热点。原位扫描透射电镜能够实现实时观察样品的反应过程，监测样品的变化。其中日立的冷场300KV的HF3300型扫描透射电镜配备了独特的真空系统(差分泵) 。气体可以直接通入样品室与样品进行反应，到达样品表面的压力最 高能够达到10Pa；配备的新型冷场枪更加稳定，亮度更强，发射电流更加稳定；宽真空范围二次电子探头的加入，能够实现同时观察样品的明场，暗场及二次电子像，从而实现对催化反应过程全方位的了解。实验设备：HF-3300场发射透射电子显微镜

国仪量子 场发射透射电子显微镜 TH-F120 TH-F120取名源自中华名山“太行”（TH），寓意TH-F120将如太行山一样成为中国透射电镜产业的脊梁。产品特点肖特基场发射电子枪平行束/会聚束自适应切换照明系统对称式极靴、恒功率物镜 （高衬度/高分辨模式可选）高像素CMOS相机四轴高精度样品台全中文软件交互界面产品优势人机分离 电镜空间与工作空间分离，减少人为干扰，提升安全性，带来舒适的使用体验高效操作各模块控制高度集成至PC端，全中文软件交互界面一目了然，提升操作效率越级体验将场发射电子枪、高自动化系统等配置120 kV平台，入门即高配丰富拓展预设充足的附件加装接口以及整机升级空间，满足用户使用新需求，有效应对多样的应用场景产品参数 高衬度版高分辨版加速电压10～120 kV10～120 kV信息分辨率0.20 nm0.14 nm点分辨率0.36 nm0.30 nm放大倍率10～1,200,000 x10～1,500,000x主相机像素4096×40964096×4096样品台倾转角-90 °~+90 °-70 °~+70 °支持拓展EDS、STEM、侧插式相机、EELS、插入式冷冻盒

Sigma 360用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。Sigma 360 具有极高的性价比，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得可重复的分析结果。基于成熟的 Gemini 技术Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率。Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。灵活的检测器选项，获取清晰图像使用新颖的ETSE和Inlens探测器在高真空下获取高分辨率表面形貌信息。 使用VPSE或C2D检测器在可变压力模式下获得清晰图像。使用aSTEM检测器生成高分辨率透射图像。使用HDBSD或YAG检测器分析成分。高级分析型显微镜将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。蔡司Sigma 360 可提供 集成式 EDS 解决方案在低能量分析应用中同时实现高清晰度成像Sigma Element 是一种集成式 EDS 解决方案，拥有高可用性和低电压灵敏度。仅需使用一台计算机来控制 EDS 和 SEM，进而大大提升了该集成化解决方案的易用性。同时，借助专门为显微镜和 EDS 操作设计的用户界面可实现并行控制。? 集成化：通过集成化，结合高清晰成像与快速分析，从而获得不错结果? 定制化：根据不同的用户需求定制软件? 灵敏度：独特的氮化硅窗口增强低能X射线的探测灵敏度拉曼成像与扫描电镜联用系统完全集成化的拉曼成像获取样品中化学结构的指纹信息：聚焦拉曼光谱成像可扩展您的蔡司Sigma 300 扫描电镜性能。 分析获得样品分子结构和结晶信息。 通过拉曼成像与EDS数据可进行3D 分析并与SEM图像关联。完全集成化的拉曼成像扫描电镜联用系统使你充分发挥SEM和拉曼系统的功能。用户友好,操作简单 SmartSEM Touch是现已有操作系统的附加组件，用于多用户环境，是一种简洁的用户界面。它同时为操作经验丰富的专家用户和初级用户提供了简便的操作。基于实际的实验室环境，SEM的操作可能是电子显微镜专家的专属领域。但是，非专业用户（例如学生，接受培训不久的人员或质量工程师）也需要使用SEM获取数据，因此也有使用SEM的需求。 Sigma 300和Sigma 300 VP将非专业用户的需求考虑在内，其用户界面选项可满足操作经验丰富的显微镜专家和显微镜新手用户的操作需求。

日本JEOL场发射冷冻电子显微镜JEM-Z200FSC 场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。 主要技术参数 主机 电子枪 冷场发射电子枪 加速电压 200kV 能量过滤器 柱体内Ω能量过滤器 最大样品倾斜角 ±70o ※ 热场发射电子枪也可以配置样品台/自动样品更换系统样品台 制冷方式 液氮、液氮自动供给系统 样品冷却温度 100k以下 温度测定位置 样品，cryoshield, LN2tank样品移动 X, Y, Z方向 X:Motor驱动（移动范围±1mm) Y:Piezo元件（移动范围±0.5um) Z:Motor驱动（移动范围±0.2mm) 倾斜 Motor驱动（倾斜范围±70o) 样品旋转 0o或者90o 换样装置 气锁方式， 自动控制冷冻传输系统 样品冷却温度（换样室） 105k以下 换样量 一次最多换4个样 样品台载样量 最多载样12个产品特点：场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARMTM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。主要特点◇ 自动样品更换系统该系统由一个液氮冷冻样品台和冷冻传输系统构成， 该冷冻传输系统能够自动地将冷冻样品传送到冷台，液氮也是按照 需要自动地供应给液氮箱。在样品更换系统内可以保管12个被冷冻的样品，在取出和更换一个或几个样品的同时，其他的冷冻样品仍然保存在自动样品更换系统内。 ◇ 冷场发射电子枪冷场发射电子枪能够产生高亮度低能量散射的电子束，CRYO ARMTM 200能够获得高分辨、高衬度图像 ◇ 柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）CRYO ARMTM 200配备柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器），能够获取能量过滤像和能量损失谱图，而且零损失像的衬度高色差低。 ◇ 单粒子分析用自动图像获取软件CRYO ARMTM 200配备单粒子分析用自动图像获取软件。能够自动地检出样品栅格小孔，有效采集单粒子图像。 ◇ 无孔位相板（选配件）该无孔位相板有效用于衬度低的生体样品，可以获得较高的衬度。 ◇ 自动调整功能（使用底插CCD情况下）可以使用自动聚焦、自动无像差校准、自动平行光等自动功能，在优化条件下获取图像。 场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。 主要技术参数 主机 电子枪 冷场发射电子枪 加速电压 200kV 能量过滤器 柱体内Ω能量过滤器 最大样品倾斜角 ±70o ※ 热场发射电子枪也可以配置样品台/自动样品更换系统样品台 制冷方式 液氮、液氮自动供给系统 样品冷却温度 100k以下 温度测定位置 样品，cryoshield, LN2tank样品移动 X, Y, Z方向 X:Motor驱动（移动范围±1mm) Y:Piezo元件（移动范围±0.5um) Z:Motor驱动（移动范围±0.2mm) 倾斜 Motor驱动（倾斜范围±70o) 样品旋转 0o或者90o 换样装置 气锁方式， 自动控制冷冻传输系统 样品冷却温度（换样室） 105k以下 换样量 一次最多换4个样 样品台载样量 最多载样12个产品特点：场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARMTM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。主要特点◇ 自动样品更换系统该系统由一个液氮冷冻样品台和冷冻传输系统构成， 该冷冻传输系统能够自动地将冷冻样品传送到冷台，液氮也是按照 需要自动地供应给液氮箱。在样品更换系统内可以保管12个被冷冻的样品，在取出和更换一个或几个样品的同时，其他的冷冻样品仍然保存在自动样品更换系统内。 ◇ 冷场发射电子枪冷场发射电子枪能够产生高亮度低能量散射的电子束，CRYO ARMTM 200能够获得高分辨、高衬度图像 ◇ 柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）CRYO ARMTM 200配备柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器），能够获取能量过滤像和能量损失谱图，而且零损失像的衬度高色差低。 ◇ 单粒子分析用自动图像获取软件CRYO ARMTM 200配备单粒子分析用自动图像获取软件。能够自动地检出样品栅格小孔，有效采集单粒子图像。 ◇ 无孔位相板（选配件）该无孔位相板有效用于衬度低的生体样品，可以获得较高的衬度。 ◇ 自动调整功能（使用底插CCD情况下）可以使用自动聚焦、自动无像差校准、自动平行光等自动功能，在优化条件下获取图像。

PEEM可以像一个直的显微镜柱一样简单，它可以加速样品前的电子，并将放大的图像投射到检测器上。然而，通过解析发射电子的动能(XPEEM)，它也可以非常强大。Elmitec PEEM仪器非常易于使用，并提供最高的分辨率。对于最苛刻的实验，从占用和未占用状态的信息必须获得，Elmitec PEEM III与分析仪可以执行x射线吸收和XPS或XPEEM具有高横向分辨率。这种仪器是同步加速器的理想选择，但实验室x射线源也可以使用。对于要求不高的实验，Elmitec提供了一个法兰上的迷你peem: Elmitec PEEMSpector。这是一种非常容易使用的仪器，占用很少的空间，但仍然提供优于30纳米的横向分辨率。PEEM III系统是一种非常简单、紧凑和高效的仪器。由于它的直柱，对齐只需要几分钟，这样学生或用户就可以专注于他们的研究。显微镜是多功能的，可以容纳多达8蒸发器或光源。它在同步加速器上的安装对于高空间分辨率的XAS测量非常有用。此外，同步加速器测量可以在生长薄膜的同时进行。蒸发器的安装，重新填充或交换只需要蒸发器灯丝的短暂烘烤和脱气。PEEM III可能的一个重要升级是成像能量分析仪。