激光溅射沉积系统

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激光溅射沉积系统相关的厂商

  • 深圳市激埃特光电有限公司,地处物流四通八达,供应资源丰富,技术及市场活跃,生产及加工高效率的深圳市龙岗区宝龙工业城深长岗科技园区内。酒店式工厂环境,激埃特是家精密光学滤光片及精密光学镜片生产厂家,拥有多台先进光学真空镀膜机,以及全套相关检测仪器和装置,采用先进电子枪蒸发离子辅助沉积多层薄膜技术(IAD),专注于光电器件及光学仪器滤光片的应用和开发。力求把最适用的方案提供给光机电厂家! 公司产品批量应用于考勤机(手纹,掌纹,静脉及人脸识别),安防监控系统,防伪识别系统,智能灯具,卫橱感应器系统,舞台灯光及激光演示系统,投影光学器件,激光器件以及生化医疗光学器件。 激埃特人性化管理,注重人才,技术创新,为全体员工提供再学习深造机会,不断提升员工福利,注重员工工作环境改进,关心员工生活。 激埃特以追求质量,客户满意为宗旨。平等对待,合作创新,互惠互利,价格适宜,交期快捷,品质稳定,服务周到竭诚为天下客户服务。
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  • 深圳市激埃特光电有限公司,专业生产各种滤光片,滤色片:红外滤光片,窄带滤光片,彩色滤光片,带通滤光片,干涉滤光片,红外截止滤光片,偏振镜,衰减片(中性密度滤光片),长波通滤光片,短波通滤光片,隐形玻璃,人脸识别滤光片,虹膜识别滤光片,安防监控滤光片,反射镜,分光镜,隔热片,负性滤光片,RGB色片,光栅,来料镀膜,IR-CUT等专业的光学镜片、光学滤光片厂家、滤光片生产厂家.地处物流四通八达,供应资源丰富,技术及市场活跃,生产及加工高效率的深圳市龙岗区宝龙工业城深长岗科技园区内。酒店式工厂环境,激埃特是家精密光学滤光片及精密光学镜片生产厂家,拥有多台先进光学真空镀膜机,以及全套相关检测仪器和装置,采用先进电子枪蒸发离子辅助沉积多层薄膜技术(IAD),专注于光电器件及光学仪器滤光片的应用和开发。 公司产品批量应用于考勤机(手纹,掌纹,静脉及人脸识别),安防监控系统,防伪识别系统,智能灯具,卫橱感应器系统,舞台灯光及激光演示系统,投影光学器件,激光器件以及生化医疗光学器件。 公司人性化管理,注重人才,技术创新,为全体员工提供再学习深造机会,不断提升员工福利,注重员工工作环境改进,关心员工生活。 激埃特以追求质量,客户满意为宗旨,率先通过ISO9001:2008质量管理体系认证,产品通过SGS认证,符合ROHS指标要求.,对客户平等对待,合作创新,互惠互利,价格适宜,交期快捷,品质稳定,服务周到,竭诚为天下客户提供高质量的精密光学滤光片产品.公司的主要产品有:窄带滤光片带通滤光片长波通滤光片短波通滤光片红外滤光片反射镜增透膜偏振镜分光镜合光镜色片负性滤光片中性密度衰减片光学玻璃平面光栅OED光学镀膜代加工
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  • 创可激光,隶属于广州新可激光设备有限公司,13年品牌深耕,其三轴动态技术在光纤、co2和紫外激光打标雕刻系统中实现了无可匹配的刻印质量。销量超20,000台,专利认证超50个,荣获高新技术企业。创可激光致力于高端3D光纤,高功率二氧化碳以及紫外激光打标机的研发、生产与销售。满足市场对先进打标设备的需求。创可激光总部位于中国广州,国内拥有数十家分公司及办事处。并在日本、德国、美国、韩国等三十多个国家建立了代理机构,销售数量过万,品牌影响辐射全球。创可激光有一支专业的研发团队,研发内容涉及软件设计、机械设计、光路设计等多个方面。协助客户完成各种工艺难题与技术攻关。持续为客户提供全套的激光解决方案。超过十年的专业激光制造经验,追求完美细节,苛求品质第一。现正招募全球代理商,建立互动共赢的合作关系。
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激光溅射沉积系统相关的仪器

  • 1.产品概述:高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途:高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大院校、科研院所进行薄膜材料的科研。3.产品优点:可对化学成分复杂的复合物材料进行全等同镀膜,易于保证镀膜后化学计量比的稳定。反应迅速,生长快,通常一小时可获得一定厚度的薄膜。定向性强、薄膜分辨率高,能实现微区沉积。生长过程中可原位引入多种气体,对提高薄膜质量有重要意义。容易制备多层膜和异质膜,通过简单的换靶即可实现4.真空室结构:球形结构真空室尺寸:Ф300mm限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:Φ30mm,每次可装4块靶材,可实现公转换靶位;每块靶材可自转,转速5~60转/分;样品尺寸,温度:1英寸,高800℃占地面积(长x宽x高):约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性:≤±5%
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  • 1.产品概述:系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途:脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION,简称PLD)是新近发展起来的一项技术,继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后,它独特的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。与常规的沉积技术相比,脉冲激光沉积的过程被认为是“化学计量”的过程,因为它是将靶的成分转换成沉积薄膜,非常适合于沉积氧化物之类的复杂结构材料。当脉冲激光制备技术在难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄膜,显示出了诱人的应用景。3.真空室结构:球形开门真空室尺寸:φ450mm限真空度:≤6.67E-6Pa沉积源:φ2英寸靶材,4个样品尺寸,温度:φ2英寸,1片,高800℃占地面积(长x宽x高):约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动
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  • 优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户,为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室,样品传输腔,1100度加热系统,样品旋转,PLD靶材操控器及光路,K-cell热蒸发源,电子束蒸发源,射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商,是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延(PLD MBE)和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司,提供超高真空薄膜沉积系统,应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统,其应用主要包括:用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长;UHV磁控溅射磁性薄膜;脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积(PLD)系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd:YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料,以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外,可以使用其他类型的激光器,包括ps和fs激光器,并且可以使用适当的激光器提供替代技术,例如矩阵辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制,易于使用。应用主要包括:分子束外延系统(MBE)GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延超高真空物理气相沉积(PVD)系统磁控溅射系统脉冲激光沉积(PLD)系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景,在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作,为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。
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激光溅射沉积系统相关的资讯

  • 上海光机所在提升电子束蒸发沉积激光薄膜的长期性能稳定研究中取得新进展
    近期,中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在提升电子束蒸发沉积激光薄膜的长期性能稳定研究中取得新进展,实现了低应力、光谱和机械性能长期稳定的电子束激光薄膜制备。相关研究成果发表在《光学材料快报》(Optical Materials Express)。电子束蒸发沉积薄膜因其激光损伤阈值高,光谱均匀性好且易实现大口径制备而广泛应用于世界上各大型高功率激光系统中。然而,电子束蒸发沉积薄膜的多孔结构特性易与水分子相互作用,使得薄膜的各项性能极易受环境条件(尤其是湿度)的影响。即便是在可控的环境下,电子束蒸发沉积薄膜的性能也会随时间而变化。该项成果提出了等离子体辅助沉积的致密全口径包覆水汽阻隔技术,覆盖多孔电子束蒸发沉积薄膜的上表面和侧面,有效地将其与水汽隔离,制备出了低应力、光谱和机械性能长期稳定的电子束蒸发沉积薄膜。同时,该水汽阻隔技术显著提升了电子束蒸发沉积薄膜的耐划性能,且提供了一种离线获得无水吸附时薄膜应力的方法。该项成果为提升电子束沉积薄膜的光谱和面形稳定性提供了途径,有助于解决高功率激光应用中电子束沉积薄膜随时间和环境变化性能不稳定问题。相关工作得到了国家自然科学基金、中科院青促会基金、中科院先导专项(B类)等支持。(薄膜光学实验室供稿)原文链接图1 等离子体辅助沉积的致密全口径包覆水汽阻隔技术示意图图2 有、无全口径水汽阻隔膜的多层膜性能对比(a)峰值反射率处波长随时效时间变化(b)应力随时效时间变化
  • 南方科技大学550.00万元采购激光脉冲沉积
    html, body { -webkit-user-select: text } * { padding: 0 margin: 0 } .web-box { width: 100% text-align: center } .wenshang { margin: 0 auto width: 80% text-align: center padding: 20px 10px 0 10px } .wenshang h2 { display: block color: #900 text-align: center padding-bottom: 10px border-bottom: 1px dashed #ccc font-size: 16px } .site a { text-decoration: none } .content-box { text-align: left margin: 0 auto width: 80% margin-top: 25px text-indent: 2em font-size: 14px line-height: 25px } .biaoge { margin: 0 auto /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 25px } .table_content { border-top: 1px solid #e0e0e0 border-left: 1px solid #e0e0e0 font-family: Arial /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 10px margin-left: 15px } .table_content tr td { line-height: 29px } .table_content .bg { background-color: #f6f6f6 } .table_content tr td { border-right: 1px solid #e0e0e0 border-bottom: 1px solid #e0e0e0 } .table-left { text-align: left padding-left: 20px } 详细信息 [公开招标]物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目采购公告(重新采购第1次) 广东省-深圳市-南山区 状态:公告 更新时间: 2022-11-21 [公开招标]物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目采购公告(重新采购第1次) 深圳市南科大资产经营管理有限公司(以下简称“采购代理机构”)受采购人委托,就物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目(重新采购第1次)进行公开招标,欢迎符合资格条件的投标人前来投标。物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目(重新采购第1次)的潜在投标人应登录深圳政府采购智慧平台(http://zfcg.szggzy.com:8081/)下载获取本项目的招标文件,并于2022年12月05日14时00分(北京时间)前递交投标文件。 一、项目基本情况 1.项目编号:AOMC-2022-096-C(SZDL2022002186) 2.项目名称:物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目(重新采购第1次) 3.预算金额:人民币5,500,000.00元 4.最高限价:人民币5,500,000.00元 5.所属行业:工业 6.采购需求: 标的名称 数量 单位 简要技术需求(服务需求) 脉冲激光沉积系统 1 套 详见招标文件 7.本项目不接受联合体投标。 二、申请人的资格要求 (1)具有独立法人资格或具有独立承担民事责任的能力的其他组织(提供营业执照或事业单位法人证书等法人证明扫描件,原件备查)。 (2)本项目不接受联合体投标,不接受投标人选用进口产品参与投标。 (3)参与本项目投标前三年内,在经营活动中没有重大违法记录(由供应商在《政府采购投标及履约承诺函》中作出声明)。 (4)参与本项目政府采购活动时不存在被有关部门禁止参与政府采购活动且在有效期内的情况(由供应商在《政府采购投标及履约承诺函》中作出声明)。 (5)具备《中华人民共和国政府采购法》第二十二条第一款的条件(由供应商在《政府采购投标及履约承诺函》中作出声明)。 (6)未被列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单(由供应商在《政府采购投标及履约承诺函》中作出声明)。 注:“信用中国”、“中国政府采购网”、“深圳信用网”以及“深圳市政府采购监管网”为供应商信用信息的查询渠道,相关信息以开标当日的查询结果为准。 (7)本项目的特定资格要求:无。 三、获取招标文件 时间:2022年11月22日00时01分 至2022年11月28日23时59分(北京时间)。 地点:登录深圳政府采购智慧平台(http://zfcg.szggzy.com:8081/)下载本项目的招标文件。 方式:在线下载。 售价:免费。 凡已注册的深圳市网上政府采购供应商,按照授予的操作权限,可登录深圳政府采购智慧平台(http://zfcg.szggzy.com:8081/)下载本项目的招标文件。投标人如确定参加投标,首先要在深圳政府采购智慧平台网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)网上报名投标,方法为在网上办事子系统后点击“【招标公告】→【我要报名】”;如果网上报名后上传了投标文件,又不参加投标,应再到【我的项目】→【项目流程】→【递交投标(应答)文件】功能点中进行“【撤回本次投标】”操作;如果是未注册为深圳政府采购的供应商,请访问深圳公共资源交易中心(http://www.szzfcg.cn/),先办理注册手续(注册咨询:83938966),后办理密钥(电子密钥咨询:83948165 4008301330 ),并前往深圳公共资源交易中心(深圳交易集团有限公司政府采购业务分公司)绑定深圳政府采购智慧平台用户(地址:深圳市福田区景田东路70号雅枫国际酒店北侧二楼市政府采购业务窗口服务大厅),再进行投标报名。在网上报名后,点击“【我的项目】→【项目流程】→【采购文件下载】”进行招标文件的下载。 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 1.投标截止时间:所有投标文件应于2022年12月05日14时00分(北京时间)之前上传到深圳政府采购智慧平台(http://zfcg.szggzy.com:8081/)。具体操作为登录“深圳政府采购智慧平台用户网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)”,用“【我的项目】→【项目流程】→【递交投标(应答)文件】”功能点上传投标文件。本项目电子投标文件最大容量为100MB,超过此容量的文件将被拒绝。 2.开标时间和地点:定于2022年12月05日14时00分(北京时间),在深圳政府采购智慧平台公开开标。供应商可以登录“深圳政府采购智慧平台用户网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)”,在“【我的项目】→【项目流程】→【开标及解密】”进行在线解密、查询开标情况。 3.在线解密:投标人须在开标当日14:00-14:30(北京时间)期间进行解密,逾期未解密的作无效处理。解密方法:登录“深圳政府采购智慧平台用户网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)”,使用本单位制作电子投标文件同一个电子密钥,在“【我的项目】→【项目流程】→【开标及解密】”进行在线解密、查询开标情况。) 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1.本项目实行网上投标,采用电子投标文件。 2.采购文件澄清/修改事项:2022年11月30日17时00分(北京时间)前,供应商如果认为采购文件存在不明确、不清晰和前后不一致等问题,可登录深圳公共资源交易中心网(http://zfcg.szggzy.com:8081/)→“深圳政府采购智慧平台用户网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)”,在“【我的项目】→【项目流程】→【提问】”功能点中填写需澄清内容。2022年12月02日17时00分(北京时间)前将采购文件澄清/修改情况在“【我的项目】→【项目流程】→【答疑澄清文件下载】”中公布,望投标人予以关注。 (重要提示:“提出采购文件澄清要求”不等同于“对采购文件质疑”,供应商提出的澄清要求内容如出现“质疑”字眼,将予以退回。供应商如认为采购文件存在限制性、倾向性、其权益受到损害,应在采购文件公布之日起七个工作日内以线下方式向我公司递交提出书面质疑函。根据《深圳经济特区政府采购条例》第四十二条“供应商投诉的事项应当是经过质疑的事项”的规定,未经正式质疑的,将影响供应商行使向财政部门提起投诉的权利。) 3.本招标公告及本项目招标文件所涉及的时间一律为北京时间。投标人有义务在招标活动期间浏览深圳公共资源交易网(www.szggzy.com),在深圳公共资源交易网上公布的与本次招标项目有关的信息视为已送达各投标人。 4.本项目不需要投标保证金。 七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:南方科技大学 地 址:深圳市南山区西丽学苑大道1088号 联系方式:张老师 13910520071 2.采购代理机构信息 名 称:深圳市南科大资产经营管理有限公司 地 址:深圳市南山区学苑大道1001号南山智园A7栋11楼 联系方式:王老师 0755-88012180 3.项目联系方式 项目联系人:赵老师 电 话:0755-88012181 深圳市南科大资产经营管理有限公司 2022年11月21日 [SZDL2022002186-A]物理物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目.pdf SZDL2022002186-A物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目采购公告.pdf [SZDL2022002186-A]物理物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目.szczf 附录.中小企业及残疾人福利性单位相关文件.zip [SZDL2022002186-A]物理物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目.docx × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容:激光脉冲沉积 开标时间:2022-12-05 14:00 预算金额:550.00万元 采购单位:南方科技大学 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:深圳市南科大资产经营管理有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 [公开招标]物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目采购公告(重新采购第1次) 广东省-深圳市-南山区 状态:公告 更新时间: 2022-11-21 [公开招标]物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目采购公告(重新采购第1次) 深圳市南科大资产经营管理有限公司(以下简称“采购代理机构”)受采购人委托,就物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目(重新采购第1次)进行公开招标,欢迎符合资格条件的投标人前来投标。物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目(重新采购第1次)的潜在投标人应登录深圳政府采购智慧平台(http://zfcg.szggzy.com:8081/)下载获取本项目的招标文件,并于2022年12月05日14时00分(北京时间)前递交投标文件。 一、项目基本情况 1.项目编号:AOMC-2022-096-C(SZDL2022002186) 2.项目名称:物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目(重新采购第1次) 3.预算金额:人民币5,500,000.00元 4.最高限价:人民币5,500,000.00元 5.所属行业:工业 6.采购需求: 标的名称 数量 单位 简要技术需求(服务需求) 脉冲激光沉积系统 1 套 详见招标文件 7.本项目不接受联合体投标。 二、申请人的资格要求 (1)具有独立法人资格或具有独立承担民事责任的能力的其他组织(提供营业执照或事业单位法人证书等法人证明扫描件,原件备查)。 (2)本项目不接受联合体投标,不接受投标人选用进口产品参与投标。(3)参与本项目投标前三年内,在经营活动中没有重大违法记录(由供应商在《政府采购投标及履约承诺函》中作出声明)。 (4)参与本项目政府采购活动时不存在被有关部门禁止参与政府采购活动且在有效期内的情况(由供应商在《政府采购投标及履约承诺函》中作出声明)。 (5)具备《中华人民共和国政府采购法》第二十二条第一款的条件(由供应商在《政府采购投标及履约承诺函》中作出声明)。 (6)未被列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单(由供应商在《政府采购投标及履约承诺函》中作出声明)。 注:“信用中国”、“中国政府采购网”、“深圳信用网”以及“深圳市政府采购监管网”为供应商信用信息的查询渠道,相关信息以开标当日的查询结果为准。 (7)本项目的特定资格要求:无。 三、获取招标文件 时间:2022年11月22日00时01分 至2022年11月28日23时59分(北京时间)。 地点:登录深圳政府采购智慧平台(http://zfcg.szggzy.com:8081/)下载本项目的招标文件。 方式:在线下载。 售价:免费。 凡已注册的深圳市网上政府采购供应商,按照授予的操作权限,可登录深圳政府采购智慧平台(http://zfcg.szggzy.com:8081/)下载本项目的招标文件。投标人如确定参加投标,首先要在深圳政府采购智慧平台网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)网上报名投标,方法为在网上办事子系统后点击“【招标公告】→【我要报名】”;如果网上报名后上传了投标文件,又不参加投标,应再到【我的项目】→【项目流程】→【递交投标(应答)文件】功能点中进行“【撤回本次投标】”操作;如果是未注册为深圳政府采购的供应商,请访问深圳公共资源交易中心(http://www.szzfcg.cn/),先办理注册手续(注册咨询:83938966),后办理密钥(电子密钥咨询:83948165 4008301330 ),并前往深圳公共资源交易中心(深圳交易集团有限公司政府采购业务分公司)绑定深圳政府采购智慧平台用户(地址:深圳市福田区景田东路70号雅枫国际酒店北侧二楼市政府采购业务窗口服务大厅),再进行投标报名。在网上报名后,点击“【我的项目】→【项目流程】→【采购文件下载】”进行招标文件的下载。 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 1.投标截止时间:所有投标文件应于2022年12月05日14时00分(北京时间)之前上传到深圳政府采购智慧平台(http://zfcg.szggzy.com:8081/)。具体操作为登录“深圳政府采购智慧平台用户网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)”,用“【我的项目】→【项目流程】→【递交投标(应答)文件】”功能点上传投标文件。本项目电子投标文件最大容量为100MB,超过此容量的文件将被拒绝。 2.开标时间和地点:定于2022年12月05日14时00分(北京时间),在深圳政府采购智慧平台公开开标。供应商可以登录“深圳政府采购智慧平台用户网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)”,在“【我的项目】→【项目流程】→【开标及解密】”进行在线解密、查询开标情况。 3.在线解密:投标人须在开标当日14:00-14:30(北京时间)期间进行解密,逾期未解密的作无效处理。解密方法:登录“深圳政府采购智慧平台用户网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)”,使用本单位制作电子投标文件同一个电子密钥,在“【我的项目】→【项目流程】→【开标及解密】”进行在线解密、查询开标情况。) 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1.本项目实行网上投标,采用电子投标文件。 2.采购文件澄清/修改事项:2022年11月30日17时00分(北京时间)前,供应商如果认为采购文件存在不明确、不清晰和前后不一致等问题,可登录深圳公共资源交易中心网(http://zfcg.szggzy.com:8081/)→“深圳政府采购智慧平台用户网上办事子系统(http://zfcg.szggzy.com:8081/TPBidder/memberLogin)”,在“【我的项目】→【项目流程】→【提问】”功能点中填写需澄清内容。2022年12月02日17时00分(北京时间)前将采购文件澄清/修改情况在“【我的项目】→【项目流程】→【答疑澄清文件下载】”中公布,望投标人予以关注。 (重要提示:“提出采购文件澄清要求”不等同于“对采购文件质疑”,供应商提出的澄清要求内容如出现“质疑”字眼,将予以退回。供应商如认为采购文件存在限制性、倾向性、其权益受到损害,应在采购文件公布之日起七个工作日内以线下方式向我公司递交提出书面质疑函。根据《深圳经济特区政府采购条例》第四十二条“供应商投诉的事项应当是经过质疑的事项”的规定,未经正式质疑的,将影响供应商行使向财政部门提起投诉的权利。) 3.本招标公告及本项目招标文件所涉及的时间一律为北京时间。投标人有义务在招标活动期间浏览深圳公共资源交易网(www.szggzy.com),在深圳公共资源交易网上公布的与本次招标项目有关的信息视为已送达各投标人。 4.本项目不需要投标保证金。 七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:南方科技大学 地 址:深圳市南山区西丽学苑大道1088号 联系方式:张老师 13910520071 2.采购代理机构信息 名 称:深圳市南科大资产经营管理有限公司 地 址:深圳市南山区学苑大道1001号南山智园A7栋11楼 联系方式:王老师 0755-88012180 3.项目联系方式 项目联系人:赵老师 电 话:0755-88012181 深圳市南科大资产经营管理有限公司 2022年11月21日 [SZDL2022002186-A]物理物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目.pdf SZDL2022002186-A物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目采购公告.pdf [SZDL2022002186-A]物理物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目.szczf 附录.中小企业及残疾人福利性单位相关文件.zip [SZDL2022002186-A]物理物理系激光-氧化-还原分子束外延联合系统采购项目.docx
  • 十种物理气相沉积(PVD)技术盘点
    薄膜沉积是半导体制造工艺中的一个非常重要的技术,其是一连串涉及原子的吸附、吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结,以渐渐形成薄膜并成长的过程。在一个新晶圆投资建设中,晶圆厂80%的投资用于购买设备。其中,薄膜沉积设备是晶圆制造的核心步骤之一,占据着约25%的比重。薄膜沉积工艺主要分为物理气相沉积和化学气相沉积两类。物理气相沉积(Physical Vapour Deposition,PVD)技术指在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积原理可大致分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀,具体又包含有MBE等各种镀膜技术。发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。随着技术的发展,PVD技术也不断推陈出新,出现了很多针对某几种用途的专门技术,在此特为大家盘点介绍各种PVD技术。真空蒸发镀膜技术真空蒸发(Vacuum Evaporation) 镀膜是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质,使之升华,蒸发粒子流直接射向基片,并在基片上沉积形成固态薄膜,或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。其物理过程为:采用几种能源方式转换成热能,加热镀料使之蒸发或升华,成为具有一定能量(0.1~0.3eV) 的气态粒子(原子、分子或原子团);离开镀料表面,具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面;到达基体表面的气态粒子凝聚形核生长成固相薄膜;组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。电子束蒸镀技术电子束蒸镀(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同,电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材,使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀常用来制备Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜,SiO2、ZrO2膜,抗腐蚀和耐高温氧化膜。电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀最大的优势在于:可以为待蒸发的物质提供更高的热量,因此蒸镀的速率也更快;电子束定位准确,可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷,对能量的利用率不高;而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离,也有可能带来污染。此外,大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解,这影响了薄膜的成分和结构溅射镀膜技术溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面,把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体,击出阴极靶体原子或分子,飞向被镀基体表面沉积成薄膜。射频溅射技术射频溅射是溅射镀膜技术的一种。用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统,由于常用的交流电源的频率在射频段,如13.56MHz,所以称为射频溅镀。在直流射频装置中,如果使用绝缘材料靶,轰击靶面的正离子会在靶面上累积,使其带正电,靶电位从而上升,使得电极间的电场逐渐变小,直至辉光放电熄灭和溅射停止。所以直流溅射装置不能用来溅射沉积绝缘介质薄膜。磁控溅射技术磁控溅射技术属于PVD(物理气相沉积)技术的一种,是制备薄膜材料的重要方法之一。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点,将离子引向被溅射的物质制成的靶电极(阴极),并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并在衬底上沉积成膜的方法。磁控溅射设备使得镀膜厚度及均匀性可控,且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高。该技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。离子镀膜技术离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术,将各种气体放电方式引入到气相沉积领域,整个气相沉积过程都是在等离子体中进行,其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀(空心阴极蒸镀法)、多弧离子镀(阴极电弧离子镀)等。离子镀大大提高了膜层粒子能量,可以获得更优异性能的膜层,扩大了“薄膜”的应用领域。是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲,离子镀膜的特点是:镀膜时,工件(基片)带负偏压,工件始终受高能离子的轰击。形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高,容易进行反应沉积,可以在较低温度下获得化合物膜层。多弧离子镀(MAIP)多弧离子镀是采用电弧放电的方法,在固体的阴极靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电,而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说,多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源,通过靶与阳极壳体之间的弧光放电,使靶材蒸发,从而在空间中形成等离子体,对基体进行沉积。分子束外延(MBE)分子束外延(MBE)是新发展起来的外延制膜方法,是一种在晶体基片上生长高质量的晶体薄膜的新技术。在超高真空条件下,由装有各种所需组分的炉子加热而产生的蒸气,经小孔准直后形成的分子束或原子束,直接喷射到适当温度的单晶基片上,同时控制分子束对衬底扫描,就可使分子或原子按晶体排列一层层地“长”在基片上形成薄膜。该技术的优点是:使用的衬底温度低,膜层生长速率慢,束流强度易于精确控制,膜层组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。用这种技术已能制备薄到几十个原子层的单晶薄膜,以及交替生长不同组分、不同掺杂的薄膜而形成的超薄层量子显微结构材料。分子束外延不仅可用来制备现有的大部分器件,而且也可以制备许多新器件,包括其它方法难以实现的,如借助原子尺度膜厚控制而制备的超晶格结构高电子迁移率晶体管和多量子阱型激光二极管等。我们在公车上看到的车站预告板,在体育场看到的超大显示屏,其发光元件就是由分子束外延制造的。脉冲激光沉积(PLD)脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知,它是一种极具发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化,将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用;并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平,加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。激光分子束外延(L-MBE)激光分子束外延技术(L-MBE)是近年来发展起来的一项新型薄膜制备技术,是将分子束外延技术与脉冲激光沉积技术的有机结合,在分子束外延条件下激光蒸发镀膜的技术。L- MBE结合了PLD的高瞬时沉积速率(不需要考虑成分挥发时的热平衡问题等等)及MBE的实时检测功能,是一种改良的MBE方法。近年来,薄膜技术和薄膜材料的发展突飞猛进,成果显著,在原有基础上,相继出现了离子束增强沉积技术、电火花沉积技术、电子束物理气相沉积技术和多层喷射沉积技术等。目前,芯片制造过程中关键的PVD设备主要包括硬掩膜(Hard Mask )PVD设备、铜互联(CuBS)PVD 以及铝衬垫(Al PAD)PVD,主要使用溅射镀膜技术。目前,主流物理气相沉积厂商包括,北方华创、合肥科晶、中科科仪、SPTS、ULVAC、Applied Materials、Optorun、那诺-马斯特、IHI Corporation、Lam Research、Semicore Equipment、Veeco Instruments、Oerlikon Balzers、Mustang Vacuum Systems、Singulus Technologies、KurtJ.Lesker、博远微纳、汇成真空、佛欣真空、北京丹普、九鼎精密、意力博通、CHA Industries、Angstrom Engineering、Denton Vacuum、Mantis、沈阳科学仪器有限公司等。更多仪器请查看以下专场【物理气相沉积】、【激光脉冲沉积】、【分子束外延】。

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  • 【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    溅射制膜的过程:气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底(一)与蒸发法相比,溅射沉积的主要特点:①沉积原子能量高,因此薄膜的组织更致密,附着力也可以得到明显改善;②制备合金膜时,其成分的控制性能好;③靶材可以是极难熔的材料;④可利用反应溅射技术,从金属无素靶材制备化合物薄膜;⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量,因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力,降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(二)溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(1)直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图,其典型的溅射条件为:工作气压10Pa,溅射电压3000V,靶电流密度0.5mA/cm2,薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数,它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点:优点:简单缺点:使用的气体压力高,溅射速率较低,这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(2 )射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性,可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射,我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下,采取对其施加一个射频电压的方法,也可以起到对其施加负偏压的作用。(3)磁控溅射相对于蒸发沉积来说,一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一,溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低;第二,溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术:沉积速度较高,工作气体压力较低。工作原理:磁场对电弧运动有一定的约束作用(绕磁场螺旋前进);(1)电子的电离效率高,有效提高了靶电流密度和溅射效率,(2)较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小(三)气体放电是离子溅射过程的基础(1)首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空,充入适当压力的惰性气体,如Ar气,10-1~10Pa;在正负电极间外加电压的作用下,电极间的气体原子将被大量电离;Ar—→Ar++e,Ar+被电场加速后射向靶材,撞击出靶材原子(分子),靶材原子脱离靶时仍具有一定能量,飞向衬底,电子被电场加速飞向阳极;http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大,发生极板两端电压突然降低,电流突然增大,并同时出现带有颜色的辉光,此过程称为气体的击穿;击穿后气体的发光放电称为辉光放电;这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击,即使自然游离源不存大,放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低,且不变,此时电流的增大显然与电压无关,而只与阴极板上产生辉光的表面积有关;正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关;由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小,所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下,固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示,不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时,对于溅射过程来说,比较重要的过程有两个:其一是物质的溅射;其二是二次电子发射:二次发射电子在电场作用下获得能量,进而参与气体分子的碰撞,并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif (四)合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜,比蒸发法易于保证薄膜的化学配比;溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此,溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能,其数值一般可以达到5~20eV;一方面,溅射原子具有很宽的能量分布范围,其平均能量约为10eV左右;另一方面,随着入射离子能量的增加,溅射离子的平均能量也有上升的趋势;溅射过程还会产生很少的溅射离子,它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚,将被靶表面所俘获而不能脱离靶材;由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV,两者相差两个数量级;在溅射沉积中,高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力,另一方面也会引起衬底温度的升高。

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    [b]职位名称:[/b]脉冲激光沉积系统销售工程师[b]职位描述/要求:[/b]职位要求:1、 本科及硕士以上学历;2、 物理/应用物理、材料/材料物理/材料化学、表面、薄膜等专业背景;具有很强的学习动力与能力,通过学习应能掌握仪器所涉及理论与应用知识。3、 热爱销售工作、积极主动、善于自我激励;4、 为人踏实肯干、诚实守信、有责任感和进取心,善于沟通与交流;5、 英语听、说、读、写能力良好;6、 能适应经常出差;7、具有相关仪器销售经验者优先,欢迎优秀应届毕业生加入。工作职责:1、主要负责所属部门的进口类仪器在所辖区域的销售与技术交流工作,包含材料表征(三维形貌、纳米力学、Zeta电位、混凝土流变、薄膜厚度折射率吸收系数)、分子相互作用等类型仪器,完成公司布置的销售任务;2、熟练掌握进口仪器的相关专业知识,包括:技术原理、应用、产品特点等;3、联系并拜访客户,独立向客户进行Presentation展示,开展技术交流,推进项目进展,完成销售;4、开拓新市场,发展新客户,推广公司的产品和服务;5、维护及增进已有用户关系,及时了解用户的问题及需求,挖掘新的销售机会;6、配合市场部门做好学术会议、展会等的布展工作,提供销售及技术支持;7、制作标书、投标现场谈判、签订技术文件等;8、根据公司计划安排的其他相关工作。[b]公司介绍:[/b] 北京正通远恒科技有限公司成立于2001年,是一家经营欧美和日本等国先进科学测试仪器和设备,并将国外先进技术引入国内的科技服务型企业.经过十年的发展,公司在北京、上海、广州、武汉均设有办事处。 公司用受人尊敬的、专业的方式来经营公司的业务(HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable an...[url=https://www.instrument.com.cn/job/user/job/position/58021]查看全部[/url]

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