紫外氧化法测总有机

仪器简介TA-1.0 总有机碳（TOC）分析仪是我公司自主研发的高精度离线总有机碳分析仪器。仪器采用紫外催化氧化原理，检测技术采用直接电导率法，通过测试氧化前后二氧化碳的变化量来测算总有机碳含量。仪器检测精度高，响应时间短，符合国家药典要求，可满足制药用水（注射用水及纯化水）、超纯水等去离子水的离线检测要求。1.镀有二氧化钛的旋转石英玻璃管 2.紫外灯 3.电导率传感器 4.延迟线圈 5.蠕动泵技术参数电源要求/功率100 – 240 VAC, 50HZ, 120W测量范围0.001mg/L～1.0 mg/L（1～1000ppb）测量精度±3%分辨率0.001mg/L分析时间连续分析响应时间5分钟之内检测极限0.001 mg/L样品温度1-99℃使用范围离线实验室、清洁验证审计追踪16项事件日志，可根据时间查询权限管理用户名密码登录，4级权限，满足FDA 21CFR PART 11要求打印功能外置微型打印机历史记录5000组以上数据备份支持U盘导出数据显示屏彩色触摸屏外形尺寸（mm）400*240*270(长*宽*高）重量8.5KG 产品描述◆离线实验室使用，满足注射用水、纯化水有机碳的测试及清洁验证；◆不需要氮气、氧气、酸试剂及氧化剂，操作简单、使用成本低； ◆仪器在上位机完成审计追踪，验证简单，便于查询；◆智能化程度高，配备自动进样器，系统适应性验证可自动完成；◆限度报警设计，当测试样品超过规定限度，仪器自动报警；◆符合国家新版药典规定的测试方案，可以提供 IQ/OQ/PQ 验证服务；应用领域该系统可用于检测制药工业中纯化水、注射用水和去离子水中总有机碳的浓度

Tekmar 总有机碳TOC分析仪 UV紫外线/过硫酸盐法Fusion总有机碳(TOC )分析仪利用强大的UV紫外线过硫酸盐氧化技术,即使在最具挑战性的基质中也能出色地释放碳。通过实施获得专利的SPC静压浓缩技术,Fusion TOC分析仪能够通过NDIR非分散红外检测器实现前所未有的更低灵敏度。 制药环境应用和标准方法EPA 415.1-415.3, 9060A,标准方法5310C, ASTMD4779和D4839和prENV 13370,清洁验证/ USP TOC方法643/EP 2.2.44 /JP UV紫外线/过硫酸盐法原理Fusion旨在确定水中和其他溶液中的碳含量。使用UV促使碳质材料被过硫酸盐氧化为CO2, NDIR检测CO2,检测范围0.2ppbC-4,000ppmC。碳种类可通过选择预设方法独立确定,包括：总碳(TC）无机碳(IC）总有机碳（TOC=TC-IC）不可吹扫的有机碳(通过喷洒的NPOC或TOC) 用NPOC方法确定TOC,通过注射器驱动器和7通阀,将样品和试剂准确地转移到反应器中。使用载气将样品反应物C02转移至排放口或NDIR检测器,按照以下顺序:1,通过酸化和IC喷射器中鼓泡去除和排放IC和POC2,除去IC后,将等分试样转移到UV反应器,过硫酸盐试剂以氧化有机碳。根据以下化学反应,a.Еi自由基氧化剂,b.激发有机物C.有机物的氧化,3,最后将上述氧化产物扫入CO2选择性NDIR检测器中。 Fusion全自动智能控制1. MFC质量流量控制器一专利MFC可根据操作模式调节流量或压力。允许更高流量用于样品之间的净化,从而优化每个样品的喷射流量。MFC使该仪器通过每次运行样品时记录压力,自动验证系统完整性。MFC还对阀门执行气动完整性测试,以确保其密封性。2. 智能稀释-当检测样品超出范围时, 自动将其稀释到校准范围内。由于预设范围(仅非稀释方法),智能功能还满足单个分析的需求。3. 自动校准-使用单一储备溶液,将根据用户线性化浓度要求自动稀释最终体积,从而消除对校准标准浓度水平进行多次手动准备的需要。消除人为误差,减少劳动时间。4. SPC静压浓缩一样品氧化后,将其扫入检测器并用载气加压,以确保整个样品的检测。NDIR非色散红外检测器测量C02的浓度。专利的传感技术使Fusion能够达到当今苛刻的分析要求所达到的检测新水平。 Fusion的主要技术特点*自动校准,可进行无人值守的校准监控*智能稀释,可自动将样品稀释到校准范围内检测*21 CFR Part 11 功能*交钥匙方法开发*以用户自定义的格式(包括元数据)导出报告*用户友好的软件*制药,饮用水和废水的预编程方法功能*自我诊断功能,包括泄漏检查量*流量控制器可减少气体消耗并增强流量控制 Fusion的硬件组成1. 自动进样器-标准40mL小瓶,75位一体式自动进样器,带自动机械臂和转盘,可选位置。可选转盘90位55mL小瓶,或120位20mL小瓶。2. 紫外线氧化反应器-由玻璃容器和UV光源组成,样品和过硫酸盐试剂引入UV反应器。过硫酸盐试剂与紫外线结合氧化样品中的碳。改进型UV反应器提高样品转化率,改善水样和氧化剂的辐射相互作用。3. 卤素洗涤塔-卤索洗涤塔在CO2进入检测器之前去除了氯和其他卤素。防止卤素的影响,减少分析错误。4. 隔垫穿刺针一使用带有隔垫的小瓶盖,减少样品暴露于大气的时间。5. 注射器和阀门-注射器驱动器是一种精密的测量仪器,可吸入和分配流体。驱动器体积输送范围125uL-25mL,样品输送量2mL-10mL,取决于应用方法。6. MCS水分控制系统-由捕雾器和渗透干燥器组成,两者均用于去除样品中的水分。样品氧化后,载气将C02和水蒸气扫出UV反应室。然后C02穿过薄雾捕集器,在那里收集去除大部分水分,最后这些气体进入渗透干燥器去除样气中其余的水分。7. IC喷酒器-玻璃烧结容器,可容纳样品,同时从样品中清除无机碳IC并准备进行分析。添加酸后,吹扫气体流经喷头,从样品中除去IC, Fusion可以报告仅用于IC模式和TC-IC模式的IC,或在TOC模式下将其排放到大气中。

一、技术参数1. *功能选择：双功能，多参数水质综合检测仪/紫外可见光度计模式可选2. 光源：氘灯、卤素灯双光源系统3. *波长范围：190-1100nm4. 比色装置：适用10-30mm比色皿，Ø13-16mm比色管5. *显 示：7寸彩色液晶触摸屏6. 波长准确度:±1nm7. 稳定性:±0.002A/小时8. 检测项目：可皿、管模式直接测定总氮、COD、氨氮、总磷、铜、铁、锌、锰、镍及多种水质污染物；9. 检出限：总氮：0.05mg/L；氨氮：0.01；总磷：0.002；COD高量程：3mg/L10. 检测范围: 总氮0-80mg/L（超量程范围分段稀释测量），氨氮：0-80mg/L，总磷：0-100mg/L，COD高量程:0~10000mg/L（超量程范围分段稀释测量）11. 消解器：标配消解器12. 预存曲线:仪器预存工厂曲线，并可自行修正，也可根据需要自行拟合曲线，13. 打印方式：内置热敏打印机；14. *数据存储:可存储500万条个以上检测数据，并可随时调用查看15. 接 口:可通过USB、串口上传数据二、产品图片 三、配置清单：HM-U800型紫外多参数水质综合检测仪主机一台HM-25智能消解器一台，质保一年其它附件：可调量程移液器2把、敞口反应管1盒、密封反应管1盒，10mm玻璃比色皿1盒、30mm玻璃比色皿1盒，10mm石英比色皿1盒，打印纸1卷、冷却槽1个四、检测项目一览表皿比色项目常规项目编号项目测量范围（mg/L)检出限编号项目测量范围（mg/L)检出限1COD中高量程15-10000分段36总氮紫外法0-80分段0.052COD低量程5-10017色度0-1000Hazen23氨氮0.02-80分段0.018浊度0-800NTU24总磷低量程0.01-7.5分段0.0029悬浮物0-150055总磷高量程1-1000.05普通项目10余氯0.1-150.0117硫酸盐5-250511总余氯0.1-150.0118硫化物0.02-10.0112二氧化氯0-50.0119磷酸盐LR0.01-0.750.00513硝酸盐氮0.01-80.0120磷酸盐HR1-1000.0514亚硝酸盐氮0.01-10.0221挥发酚0.01-2.50.0215苯胺类0.03-20.0522阴离子表面活性剂0.1-20.116硝基苯类0.03-20.0523甲醛0.05-50.1重金属指标(分段)24三价铬0-0.50.00529铜0.02-50.0225六价铬0-0.50.00530锌0.05-20.0526总铬0-0.50.00531镍0.05-40.0527铁0.01-50.0132锰0.05-50.0728亚铁0.01-50.0133高锰酸盐指数0.05-25mg/L0.05管比色项目常规项目编号项目测量范围（mg/L)检出限编号项目测量范围（mg/L)检出限01COD超低量程1-15108氨氮中量程1-30102COD低量程10-150309氨氮高量程10-150103COD高量程100-2000310总磷低量程0.02-20.0204COD高氯Ⅰ1500-20000CL＜2000011总磷高量程0.2-300.205COD高氯Ⅱ150-2000CL＜2000012总氮低量程0.5-250.0506COD高氯Ⅲ30-200CL＜2000013总氮高量程5-100107氨氮低量程0-10.01备选项目14色度0-500Hazen240硫化物0.05-0.70.0515浊度0-800NTU234硫酸盐5-250516悬浮物0-1500535亚硫酸盐5-500517余氯低量程0.01-5.000.0136氯化物0.4-500.418余氯高量程1-15.00137氟化物0.02-20.0219总余氯低量程0.01-5.000.0138总碱度10-5001020总余氯高量程1-15.00139甲基橙碱度10-5001021二氧化氯0.01-50.0140*碱度10-5001022一氯胺0.01-5.00.0141总硬度5-500523二氯胺0.01-5.00.0142钙硬度5-500524臭氧0.01-2.00.0143高锰酸盐指数0.5-40.525溴0.04-100.0244二氧化硅LR0.02-4.00.0226硝酸盐氮LR0.20-1.500.245二氧化硅HR0.5-1500.527硝酸盐氮MR0.20-3.000.246氰尿酸2-200228硝酸盐氮HR10.0-60.0147尿素0.02-5.000.0229亚硝酸盐氮0.001-0.50.00148苯胺类0.03-200.0330磷酸盐LR0.01-1.30.0149有机磷0.2-200.231磷酸盐HR1-100150硼0.12-2.50.1232钼酸盐HR0.5-1000.533钼酸盐LR0.2-200.2重金属51六价铬0-0.50.0557锌0-5.000.0552总铬0-0.50.0558锰0-5.00.0553总铁0-5.00.0559钡2-100254亚铁0-5.00.0560铝0.02-0.50.0255铜0-5.00.0561钾0.5-120.556镍0-10.00.0562镁2-1002

主要特点 采用7吋全触摸彩屏，监测值可在ppb、ppm、μg/m3、mg/m3间任意切换。 中文菜单式操作界面，操作简便。 具有自动量程转换功能。 监测值可图形显示，图形曲线可自由缩放。 具有温度压力自动补偿功能。 采用自适应优化算法，使响应时间和信噪比达到最佳。 支持远程校准，远程诊断内部工作参数。 海量历史数据存储、查询与输出功能（每5min一条）。 具有多参数报警功能。 对锌灯的光强进行跟踪监测及补偿，提高光强的稳定度。 工作原理 本仪器采用紫外荧光法。基本工作员管理为：锌灯发出紫外光，经过滤为单色光（波长为214nm）并聚焦到SO2反应室，样气中的SO2吸收紫外光产生能级跃迁，SO2从基态变为激发态，激发态SO2不稳定，瞬间发射出中心波长为330nm的荧光，荧光的强度和SO2浓度成正比，光电倍增管将光信号转变成电信号，从而测出SO2的浓度。为了消除光路波动造成的测量误差，光路中采用两路监测，一路作为样气光路测量所激发的荧光强度，另一路作为参比光路监测锌灯光源的变化，对光源变化进行自动补偿。

详细信息仪器简介：Novascan 生产的PSD/ PSDP 系列数控紫外臭氧产品。产品具有很高的通用性，其使用已超越分子清洗范畴，包括紫外固化、表面图形化、臭氧腐蚀、增加表面润湿性、AFM探针及样品的清洗、磨合等。 技术参数：PSD和PSDP可去除有机污染产生185nm和254nm的紫外线产生臭氧和激发有机污染物在空气或氧气的大气压下操作多个气体引入端口样品和灯的距离可以调节安全开关 – 防止紫外辐射操作简单，设计紧凑一流的技术支持和客户服务 应用领域： 可处理表面：AFM探针清洗/尖削硅玻璃两侧和盖面清洗砷化镓细胞培养和细胞粘附表面处理玻璃力学光谱制备备石英半导体表面氧化和制备云母硅片清洗蓝宝石LED显示屏清洗金属光学镜片清洗陶瓷改善表面润湿性能聚合物提高油漆/涂料/胶水/粘合剂的附着力光刻胶石英和陶瓷表面清洗半导体晶片薄膜沉积的准备硅片紫外固化LED显示屏表面紫外图形化载玻片及盖玻片臭氧腐蚀和表面氧化金表面有效/可控的真空等离子体清洗珀表面烷烃硫醇/APTES/硅烷化/表面化学制备微流体表面紫外臭氧热处理PDMS硅胶

PCE-22紫外臭氧清洗机是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫外对聚合物改性等。 紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。1、仅室内使用 海拔高度5500英尺以内 2、温度范围：5-40℃ 3、相对湿度上限80％，30.5℃，40℃线性降至50％相对湿度 4、主电源波动不超过额定电压的10％ 5、污染等级2 臭氧水平（环境）测量45 ppb。6、去除分子级别的污染物7、紫外光固化粘合剂8、紫外光催化9、氧化PDMS10、表面消毒11、刻蚀12、清洗MEMS 器件13、清洗各种基片，如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片产品名称 PCE-22紫外臭氧清洗机产品型号 PCE-22主要参数 1、功率：上限350W2、AC 208~240V，单相 50/60Hz腔体&样品台1、不锈钢壳体2、抽屉式样品台，以便放样取样3、样品台面积310 mm x 320 mm4、臭氧通风装置安装在腔体上5、样品台与紫外灯的距离：20mm -40mm（可调）6、样品台可以加热，温度上限可达150℃7、可设置20段升降温程序，控温精度为+/-1℃8、设备运行时间：0.01 秒- 99.9小时排气口1、直径为80mm的排气口安装在仪器后端2、请将橡胶管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外3、仪器中不包含橡胶管紫外灯1、可发出双波长的水银灯2、功率：55W3、发出光的波长：254 nm 和 185 nm4、使用寿命：2500 小时（可更换）5、照射区域：200 x 200 mm6、可以清洁直径上限为12英寸x 35毫米的晶体晶片。产品规格 1、尺寸：510mm x 350mm x 400mm (W x H x D)2、重量：28kg

进口SULF UV型紫外荧光总硫分析仪的技术特点：1)应用领域：液体、固体或气体样品，主要用于石油产品，也根据方法检测有机材料(如工业化学品、橡胶、合成纤维，等等)；具体如原油、馏分油、石油气、塑料、石油化工产品、食物等；2)采用UV荧光法(紫外荧光法)技术；3)符合ASTMD 5453，AFNOR M-07-059，ISO20846，SH/T 0689标准；4)测试原理：样品被高温燃烧后，产生矿化效应，即硫元素被氧化生成SO2分子，通过UV荧光器(当激发态的SO2分子返回基态时，会发射UV光，可被光电子倍增检测器捕捉)可精确测量其含量；5)测量范围：0.1ppm ~10%(与样品种类和形态有关)，分3个主要范围；6)精确度：± 0.05ppm(在0.2ppm时)；± 15ppm(在1000ppm时)；在某些特别应用中会好于所列出的指标；所须维护很少，操作简单；仪器配置：1)燃烧配件：1个石英管；1个燃烧或高温熔炉，温度可编程加热，最高到1000℃；1个燃烧炉，温度恒定在1000℃加热，将S元素氧化成SO2分子；2)气体控制部分：2个气路循环，可通入指定气体和氧气，带气压和流量调节器，带压力控制器和流量表；3)SO2测量部分：1个特别的UV荧光检测器可精确检测SO2含量；4)信号采集、计算、保存部分：电脑和软件可控制：SO2峰值记录；校正相关系数；数据保存在硬盘上；自动化操作和警报；5)附件部分：1个注射器可以恒定速度自动注射液体样品；1个彩色打印机可打印分析结果； 部分最终用户名单：1)Total，ELF，Exxon Chemical，Aspect，Shell，C.N.R.S.，C.E.A.，Groupe L' Air Liquide，E.D.F. / G.D.F.，Renault，B.R.G.M.，Lafarge Ciments，Messier Bugatti (groupe Carbone Industrie)，Cryotechnologies ，Aospatiale，Laboratoires WOLFF，COGEMA，SGS Redwood，S.N.P.E. Chimie，Sypac，ITS Caleb Brett，Rhe-Poulenc，Laboratoire National d' Essais，Bran + Luebbe，IFP，Universities；

我们所提供的紫外臭氧清洗系统是一种简单，经济，高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上，关上舱门，设置时间，按下运行按钮，就可以在几分钟内，快速去除大多数无机基材上的有机污染物，为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧，将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而不留痕迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。应用工艺：改善表面亲水性表面清洗准备薄膜沉积表面处理紫外固化表面灭菌消毒去除表面单分子膜表面氧化清洗AFM / STM探针清洗光学元件可清洗的基材示例：石英、硅、氧化硅、氮化硅、金、镍、铝、砷化镓、矾土、玻璃、不锈钢......可去除的污染物示例：光刻胶、树脂、人体皮肤油脂、清洗溶剂的残留物、塑料/硅片表面油渍、助焊剂......产品特点：成本低；120x120mm样品台；最大处理样品高度为14mm；抽屉式样品台，简单方便； 样品台自安全联锁，防止对人身伤害； LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；60分钟计时器；高强度紫外线灯源；可控温的样品台；样品清洗无需溶剂；超净表面。产品参数：紫外灯类型合成石英紫外灯紫外灯主要波长185 nm 和 254 nmUV灯管尺寸100 mm x 100 mmUV灯电源4000 V, 30 mAUV灯使用寿命T80（2000小时） 8 - 10年的标准日常使用适用电压230 V, 0.6 A , 50 Hz // opt. ( 110 V, 1.2 A, 60 Hz )最大运行时间59分59秒安全特点安全联锁，高温报警，高温断电托盘尺寸120 mm x 120 mm样品最大尺寸100 mm x 100 mm总尺寸宽 204 mm，高 227 mm，长 300 mm 下图显示了UV臭氧处理对基材的影响，以改善表面亲水性。 水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上，经过紫外臭氧清洗处理前（左图）和处理后（右图）的效果对比。

美国JELIGHT紫外臭氧清洗机　美国JELIGHT公司成立于一九七八年，一直致力于为科研，工业生产领域涉及和制造紫外相关产品。主要产品包括：紫外灯，臭氧发生器，芯片记忆消除器(Wafer and EPROM Erasers-CHIPnERASER)，紫外臭氧清洗机。　最新型号!!　紫外臭氧清洗机 Model 18 Model 42 Series UV SUPRASIL灯 Ozone Killer Blower应用实例：镀膜或涂胶前彻底清洗表面有机污染去除光刻胶、基片蓝膜去除清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器刻蚀Teflon,Viton和其它增强塑料表面的镀膜的粘附性增强GaAs和Si氧化物钝化表面Si片表面生长氧化层 多用于半导体生产中晶元及光刻板清洗，光学镜头、太阳能面板清洗，氧化物生长表面改性。 臭氧发生器型号：2000、1000和600可产生臭氧浓度超过6000ppm。进出的端口为直径1/4"。可调试流量计，最高流量5L/min。使用者可依照臭氧浓度的需求调整。机器内提供冷却系统，增强紫外线灯的寿命。　CHIPnERASER工作光强高于市场其它产品25%数字计时器及操作完成自动报警，自动关闭功能光照均匀，确保快速完全擦除纯金属机柜快速放样/取样托盘安全互锁设计，避免UV误曝光。 臭氧浓度检测器(Ozone monitor)型号：Model 465L微处理器控制，监测下限3 PPb自检测报警功能，标配温度及气压补偿，快速反应可选择1，3和6路气体监控可通过程序设置尝试报警。 紫外线擦除器(EPROM Erasers)托盘设计，便于快速取放芯片数字计时器，自动关闭并报警全金属主机设计，坚固耐用可堆叠放置，节省空间全安互锁功能。

产品概述T1100二氧化硫（SO₂ ）分析仪采用紫外荧光法分析环境空气中SO₂ 。在Zn灯（214nm）的照射下，SO₂ 分子接收紫外线能量成为激发态，在激发态的SO₂ 分子返回基态时，发射出特征荧光，由光电倍增管将荧光强度信号转换成电信号，经过微处理器处理，生成SO₂ 检测浓度数据。满足环境空气在线监测和稀释法污染源在线监测的应用要求。应用领域城市空气质量评价厂界空气质量监测产品特点具备温度补偿和压力补偿功能；具有自动校零/校跨、显示仪器的操作状态和远距离诊断功能；具有数据显示及存储功能，提供一年的数据记录；光学快门和参考探测器设计，弥补PMT信号漂移和紫外灯轻度变化对测量的影响；配备'kicker'碳氢去除器和光学过滤功能，防止干扰物对测量的影响。

纯化水设备TOC总有机碳检测仪是国内自主研发的高精度离线总有机碳分析仪器。仪器采用紫外催化氧化原理，检测技术采用直接电导率法，通过测试氧化前后二氧化碳的变化量来测算总有机碳含量。 仪器检测精度高，响应时间短，符合国家药典要求，可满足制药用水（注射用水及纯化水）、超纯水等去离子水的离线检测要求。纯化水设备TOC总有机碳检测仪仪器特点◆不需要氮气、氧气、酸试剂及氧化剂，操作简单、使用成本低； ◆离线实验室使用，满足注射用水、纯化水有机碳的测试及清洁验证；◆仪器在上位机完成审计追踪，验证简单，便于查询；◆智能化程度高，配备自动进样器，系统适应性验证可自动完成；◆限度报警设计，当测试样品超过规定限度，仪器自动报警；◆符合国家新版药典规定的测试方案，可以提供 IQ/OQ/PQ 验证服务；纯化水设备TOC总有机碳检测仪该系统可用于检测制药工业中纯化水、注射用水和去离子水中总有机碳的浓度；可以在线监测制药工业的制水系统、半导体工业的超纯水制备系统和晶片工艺过程、电厂去离子水制备过程等。纯化水设备TOC总有机碳检测仪性能参数电源要求/功率100 – 240 VAC, 50HZ, 120W测量范围0.001mg/L～1.0 mg/L（1～1000ppb）测量精度±3%分辨率0.001mg/L分析时间连续分析响应时间5分钟之内检测极限0.001 mg/L样品温度1-99℃使用范围离线实验室、清洁验证审计追踪16项事件日志，可根据时间查询权限管理用户名密码登录，4级权限，满足FDA 21CFR PART 11要求打印功能外置微型打印机历史记录5000组以上数据备份支持U盘导出数据显示屏彩色触摸屏外形尺寸（mm）400*240*270(长*宽*高）重量8.5KG

紫外臭氧清洗机（UVO）英国Ossila公司提供的紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速的材料表面清洗设备，只需把样品放置到样品盘上，关上舱门，设置时间，并按运行，就可以了，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得！目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。u 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。u 表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。 主要应用u 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。u 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。u 精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。u 在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。u 科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。 产品特点u 成本低。u 120x120mm样品台。u 最处理样品高14mm。u 抽屉式样品台，简单方便。 u 样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害。 UVO显示器u LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”。u 60分钟定时器。u 高强度UV灯源。u 可控温的样品台。u 样品清洗无需溶剂。u 超净表面。 UVO样品托盘二、技术参数紫外灯类型低压石英水银蒸汽灯紫外线灯的主要波长185nm和254nmUV灯管尺寸100x100mmUV灯电源4000V,30mAUV灯寿命每天使用可用8-10年适用电压230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)运行时间59分59秒安全安全联锁，高温报警，高温断电。托盘尺寸120x120mm样品尺寸100x100mm总尺寸长204mm、高227mm、宽300mm在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。

纯化水设备TOC总有机碳水样进入仪器后分成相同流量的两路，其中一路通过延迟线圈进入二氧化碳传感器，检测TIC，另一路通过氧化反应器利用紫外灯（UV灯）加二氧化钛薄膜光催化氧化作用将有机物分解为二氧化碳，进入二氧化碳传感器检测TC。总有机碳可通过这个差值计算得到：TOC = TC–TIC。纯化水设备TOC总有机碳性能规格:测量范围：0.01mg/L～1.000 mg/L（此处可调）精 度：±4% 测试范围分 辨 率：0.001mg /L分析时间：连续分析响应时间：6分钟之内检测极限：0.001mg /L重复性误差：≤ 3%显 示 屏：彩色触摸屏操作控制：无线蓝牙技术；主要配置：主机一台、电源线一根、进出水管客一条交流电源：170～260 V，频率：50/60 Hz ；分析仪的量程是：电导率 10.0 us/cm ；TOC 1.0 PPM 。如果水样中的无仪器运行的环境温度 5℃ – 40 ℃。样品温度：1- 95℃电源要求/功能：220V纯化水设备TOC总有机碳主要特征:1、高精度、高灵敏度，操作简单。2、人性化操作界面，有一键运行功能，自动管路清洗功能。3、高性能CPU，触摸屏设计，超大640*480点阵真彩显示器。4、不用拆开机箱更换UV灯和泵管。5、检测上限可设定，自动上限报警功能。6、具有RS232数据接口，历史数据可存储6个月。7、离线检测和在线检测可选配。8、具有打印功能总有机碳（TOC）分析仪采用的双波长红外外氧化技术，精度高、灵敏度高。高性能CPU，触摸屏智能化控制，具有离线分析和在线分析选配功能，配制外置式打印机，人性化的设计理念，更换UV灯和泵管不用拆开机箱，操作简单、方便，实现了分析仪器国产化。符合《中国药典》2015版附录 VIII R制药用水中总有机碳测定法，满足药典对仪器的要求：①TOC=TC-TIC，②系统适用性试验，③检测灵敏度（等于或小于0.001mg/L）。离线检测离线检测时，仪器可从样品瓶或其它没有压力的容器直接取样。仪器管路冲洗和仪器校准应在离线状态操作。若样品中有不可溶性微粒，应经过滤膜（孔径60μm或更小）过滤后进入仪器，以防止样品中的微粒阻塞仪器。仪器的进样管为1/16英寸的Teflon管，经蠕动泵抽进管路中的水样流速约为0.5 ml/min。制药注射用水纯化水TOC含量测试仪随着新药典实施，我国的各个制药工业，纷纷已经开始使用TOC(总有机碳)分析仪对制药用水 (纯水和注射用水)的总有机物含量进行监测，以保证制药用水能够满足某些强制的规定要求，比如美国药典USP643和欧洲药典EP2.2.44, 以及中国药典CP2005附录VIII R的要求。满足这些要求将可以保证通过FDA或COS认证（见注释），或者满足我们国家所强制的某些认证。纯化水设备TOC总有机碳测试方法及其原理国家药典委员会发布的《中华人民共和国药典 2010 版》二部中推荐采用在线和离线两种测试方法，还提供了系统适应性试验的操作方法。同时对测试总有机碳的仪器也提出了要求，即首先要能区分无机碳和有机碳；并能排除无机碳对总有机碳的影响；其次应满足系统适应性试验的要求； 仪器应具有足够的检测灵敏度。要检测样品中的有机物浓度，必须将有机物分子分解并且转化成能够测量的单分子形式，这样就必须把有机物氧化成二氧化碳，并对生成的二氧化碳进行测量。目前氧化的方法有四种：一、燃烧法；二、光氧化法；三、湿法氧化；四、光化学法。氧化后有机碳测试的方法有差减法和直接法两种。特点① 不需要添加酸试剂、氧化剂和任何气体，无需附加日常维护费。② 操作简单、快捷、可靠。使用者无需专业知识和专门培训。③ 同步检测水样的电导率值，将TOC分析仪与电导率仪合二为一。④ 超大的存储器能自动存储 近12个月连续检测的数据，可以查询任意一天的检测记录，并能打印检测结果。⑤ 检测速度快，一次检测分析时间仅为4分钟。⑥ 针对TOC1000ppb以下去离子水的检测设计，在线、离线检测可以切换使用。⑦ 体积小、重量轻、耗能少、携带方便。⑧ 具有自动的上限报警输出，超出设定的检测结果时可以提醒操作者。⑨超大的320´ 234的点阵真彩显示器以及人性化的界面，具有RS232数据接口和打印机接口。⑩ 易于按照USP 643和EP 2.2.44以及中国药典2005年版附录Ⅷ R所要求的TOC检测方法进行系统适应性验证。纯化水设备TOC总有机碳工作原理水样通过进样口进入仪器后由分流器分成相等的两份，其中一份通过延迟线圈4,进入二氧化碳传感器3检测TIC，另一份通过镀有二氧化钛的螺旋石英玻璃管1，并在紫外灯2的照射下将水中有机物催化分解为二氧化碳，进入电导率传感器3检测 TC。总有机碳可通过这个差值计算得到：TOC = TC–TIC， 后废液通过蠕动泵5，从排液管流出。工作原理本仪器采用紫外氧化的原理，将样品中的有机物氧化为二氧化碳，二氧化碳的测试采用的是直接电导率法，通过测试经过氧化反应的样品的总碳含量和未经过氧化反应的样品总无机碳的含量差值来测定总有机碳含量，即：总有机碳（TOC）=总碳（TC）-总无机碳（TIC）。易耗品更换周期UV灯和蠕动泵管可以从本公司购买。UV灯为185nm、254nm双波长紫外灯，蠕动泵管为进口泵管，具有高品质和良好的稳定性。易耗品更换周期参考表1。表1 易耗品维护/更换表部件名称更换周期*UV灯12个月蠕动泵管12个月注 意 事 项1. 更换紫外灯或蠕动泵管时，必须在打开仪器后盖板前切断电源，以避免发生电击危险。2. 更换保险丝请使用相同的规格，以免发生短路或者损坏仪器。3. 若仪器作在线检测使用，需在离线状态下冲洗管路和校准完毕后再连接在线检测装置。4. 本产品需一级安全防护，电源必须可靠接地,否则可能导致触电事故或损坏仪器。5. 仪器使用时，若水样中含有可见的不溶性微粒，必须在进样管前安装微粒过滤器，以免仪器内部管路发生堵塞。若在线检测的水样中固体悬浮物含量较高，须定期更换过滤器。6. 若先前检测的水样中有机碳浓度超出了仪器的检测范围，在检测其它有机碳浓度相对较低的水样之前，先用高纯水或有机碳浓度较低的去离子水冲洗管路，冲洗时间参考说明书。7．非本公司维修人员或授权专业人员不得随意拆卸机箱内部的零部件及线路板，否则造成仪器损坏后果自负。

紫外臭氧清洗机（UVO）国bioforce公司成立于2005年，是全球知名的紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）和纳米分子微矩阵点样系统和专业生产厂家，全球出名的实验室都有其产品。尤其Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统因其专业性及先进的技术被全球分子生物科学家所认可。美国bioforce公司紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）主要有两款型号：UV Ozone Cleaner-ProCleaner™ Plus、UV Ozone Cleaner-ProCleaner™ ，主要用于去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。技术性能u 紫外灯类型：石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大于5000小时。u 紫外线强度：14.76Mw/cm2@253.7nm(1cm距离)。u 安全联锁和指示灯；内置的安全联锁开关,当抽屉打开时会自动关闭紫外灯以避免紫外线接触。u 高强度UV灯源：波长185nm\254nm。u UV反射罩有效范围：125x150mm。u 抽屉式样品台。 u 样品台尺寸：115x134mm。u 可吸收紫外线的石英样品基座盘尺寸：102x102x19mm。u 抽屉样品台与紫外灯距离：30mm。u 样品基座与紫外灯距离：10mm。 u UV灯管尺寸：100x125mm。u UV灯电源：4000V,30mA。u 机械定时器,最长可定时运行时间60分钟。u 处理样品高25mm。 u 外形尺寸：241.3x250x152.5mm。u 重量：4.08kg。u 欧盟CE认证。

产品详情紫外UV清洗机 LXY-PL17-110 详细介绍 紫外臭氧清洗机型号Model：PL17-110 应用Objects光清洗改质实验装置UV/O3 cleaning and modifying experiments尺寸Dimensions： 约350W*350D*380H(mm)电源Power supply： 220V 50/60Hz功率Power consumption ：140W照射面积Irradiation area： 170*170MMUV 能量Uv intensity： 25-35mW/cm2灯总功率Total lamp wat.： 110W灯型号Lamp model 日本SEN 原装进口：SUV110GS-36灯数量Number of lamps ：1PCS 特点: 本装置是为了运用短波长紫外线254NM 和185NM 双波段进行表面处理、干式清洗的效果而设计制作的试验机。所使用的光源为日本原装进口SEN 特殊光源, 110W 合成石英玻璃的面光源。本机的正面为单开门，试验品可以很容易的放取。试验台到光源使用特定的升降机可以任意改变高度，照度可以使用照度计测定。机器内部产生的臭氧经过特别设置的排出口排出。同时我们还有例如200mm 角300mm 角面光源，两面照射，抽出式试验台，旋转式照射台等多种姊妹产品供您选择。构成和构造:光源到试验台之间最大有80mm 距离，因此无论是玻璃/胶片型还是立体物品都可以处理。照射距离可使用手动升降机调节高度。在门上设有观察窗，可以通过观察窗随时确认被照射物体的状态。 紫外光UV清洗原理紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，彻底清除物体表面的污染物。应 用紫外线UV光清洗技术的应用范围:1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理 2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。 8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。13。彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。

紫外臭氧清洗机 HWUVO-3/HWUVO-6/HWUVO-9型仪器简介紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材（比如：石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等）表面有机污染物去除的表面清洗设备。低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机污染物。应用领域1、PCBA（印制电路板）生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度，进而提高印制电路板的质量；2、LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；3、集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；4、可用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景；5、对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。功能特点1.1采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数；1.2加热、升降一体式样品台，升降行程50mm, 便于样品与UV灯间距的调整； 1.3样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃, 控温精度±1℃；1.4流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断；1.5组合式处理方式，可自由选择：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路；1.6自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘；1.7安全可靠，设备运行过程中，清洗仓仓盖打开时自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线伤害；1.8标配流量数字化显示(可接入氧气或臭氧),可调节气路供气流量；1.9上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷；1.10波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化；1.11一键化操作，减少工作强度。技术参数仪器型号UVO-3UVO-6UVO-9外观图片栅格灯尺寸/mm220*270130*130 230*230样品台尺寸/mm220*270150*150 220*270样品台升降行程/mm505050加热温度范围/℃室温-200℃流量范围(ml/min) 选配0-10000-1000外形尺寸(L*W*H)/mm450*390*270445*300*245500*360*250主机重量/kg1011.515UV光波长 185nm、254nmUV灯管双波长灯管一体式低压汞蒸气栅格灯灯管寿命约5000小时约8000小时机身材质304不锈钢、塑料304不锈钢和氧化铝安全防护功能--仓盖打开时，灯管自动熄灭

紫外臭氧清洗机 HWUVO-3/HWUVO-6/HWUVO-9型仪器简介紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材（比如：石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等）表面有机污染物去除的表面清洗设备。低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机污染物。 应用领域1、PCBA（印制电路板）生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度，进而提高印制电路板的质量；2、LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；3、集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；4、可用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景；5、对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。功能特点1.1采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数；1.2加热、升降一体式样品台，升降行程50mm, 便于样品与UV灯间距的调整；1.3样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃, 控温精度±1℃；1.4流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断；1.5组合式处理方式，可自由选择：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路；1.6自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘；1.7安全可靠，设备运行过程中，清洗仓仓盖打开时自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线伤害； 1.8标配流量数字化显示(可接入氧气或臭氧),可调节气路供气流量；1.9上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷；1.10波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化；1.11一键化操作，减少工作强度。技术参数仪器型号UVO-3UVO-6UVO-9外观图片 栅格灯尺寸/mm220*270130*130230*230样品台尺寸/mm220*270150*150 220*270样品台升降行程/mm5050 50加热温度范围/℃室温-200℃流量范围(ml/min)选配0-10000-1000外形尺寸(L*W*H)/mm450*390*270445*300*245500*360*250主机重量/kg1011.515UV光波长185nm、254nmUV灯管双波长灯管一体式低压汞蒸气栅格灯灯管寿命约5000小时约8000小时机身材质 304不锈钢、塑料304不锈钢和氧化铝安全防护功能--仓盖打开时，灯管自动熄灭

PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫外对聚合物改性等。 紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。 技术参数电源AC 208~240V，单相 50/60Hz紫外灯可发出双波长的水银灯功率：55W发出光的波长：254 nm 和 185 nm 使用寿命：2500 小时（可在本公司购买紫外灯来更换）照射区域：200 x 200 mm腔体&样品台不锈钢壳体抽屉式样品台，以便放样取样样品台面积310 mm x 320 mm臭氧通风装置安装在腔体上样品台与紫外灯的距离：20mm -40mm（可调）样品台可以加热，最高温度可达150℃可设置20段升降温程序，控温精度为+/-1℃设备运行时间：0.01 秒- 99.9小时排气口直径为80mm的排气口安装在仪器后端请将橡胶管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外仪器中不包含橡胶管外形尺寸510mm x 350mm x 400mm (W x H x D) 净重28kg质保期一年质保期，终生维护（不包含紫外灯）应用去除分子级别的污染物紫外光固化粘合剂紫外光催化氧化PDMS表面消毒刻蚀清洗MEMS 器件清洗各种基片，如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片

紫外臭氧清洗工作原理：清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO2,H2O等。整个过程在室温**发生，并且只需要1到几分钟完成。*注1：白色氧化铝暴露在UV能量下会变黄。这种现象是由于基材吸收UV能量， 而不是一种涂层。这种氧化铝在加热情况下会转化为他原来的颜色。**注2：清洗元件温度的上升取决清洗过程的时间长度。在大多数应用，元件温度可以视为室温。UV紫外臭氧清洗的特点: 超洁净表面 室温操作 快速－大多数应用10分钟内可完成 运行简单 超低采购成本和zui小运行成本 10×10 英寸（25.4×25.4cm） 220伏T10X10紫外臭氧清洗机是一款台式的紫外臭氧清洗设备。通过紫外线（185nm和254nm）和臭氧清洗基材表面，能够简单，经济，快速获得超洁净表面。能去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝*等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟。 T10X10紫外臭氧清洗机的属性：UVOC紫外清洗机Model型号 T10x10/OES光照尺寸 10" x 10"（25.4×25.4cm）有效面积:100 sq. in.宽:14"深:23 3/4"高:14.5"托盘推出深度:33"滑行托盘: 1结构:箱体和托盘为不锈钢结构功耗:110Vac / 60Hz 5A Max or 230Vac / 50Hz 2.5 amp Max臭氧排气系统:有臭氧排气系统排气口尺寸:3" 直径排气需要:100cfm定时器: 在开始或结束时峰鸣"ON"指示器:有有

仪器简介TA-1.0 总有机碳（TOC）分析仪是我公司自主研发的高精度离线总有机碳分析仪器。仪器采用紫外催化氧化原理，检测技术采用直接电导率法，通过测试氧化前后二氧化碳的变化量来测算总有机碳含量。仪器检测精度高，响应时间短，符合国家药典要求，可满足制药用水（注射用水及纯化水）、超纯水等去离子水的离线检测要求。产品描述不需要氮气、氧气、酸试剂及氧化剂，操作简单、使用成本低； ◆离线实验室使用，满足注射用水、纯化水有机碳的测试及清洁验证；◆仪器在上位机完成审计追踪，验证简单，便于查询；◆智能化程度高，配备自动进样器，系统适应性验证可自动完成；◆限度报警设计，当测试样品超过规定限度，仪器自动报警；◆符合国家新版药典规定的测试方案，可以提供 IQ/OQ/PQ 验证服务；技术参数电源要求/功率100 – 240 VAC, 50HZ, 120W测量范围0.001mg/L～1.0 mg/L（1～1000ppb）测量精度±3%分辨率0.001mg/L分析时间连续分析响应时间5分钟之内检测极限0.001 mg/L样品温度1-99℃使用范围离线实验室、清洁验证审计追踪16项事件日志，可根据时间查询权限管理用户名密码登录，4级权限，满足FDA 21CFR PART 11要求打印功能外置微型打印机历史记录5000组以上数据备份支持U盘导出数据显示屏彩色触摸屏外形尺寸（mm）400*240*270(长*宽*高）重量8.5KG应用领域实验室检测去离子水和纯化水总有机碳的检测设备，可配合自动进样器使用

XY-90Z手持式紫外差分烟气分析仪（热湿法紫外，可测O2、SO2、NO、NO2、湿度等参数）O2、SO2、NO、NO2、NH3、CS2、O3、苯、甲苯、CO、CO2等气体浓度XY-90Z手持式紫外差分烟气分析仪光学吸收池设计独特光程容积比大、气体检测精度高响应快；特制内壁材料不吸附，高温热湿法去除冷凝水吸收干扰，可直接监测烟道气中的O2、SO2、NO、NO2、NH3、CS2、O3、苯、甲苯、CO、CO2等气体浓度，特别适合废气高湿低硫氨逃逸工况测量，废气VOC及O3监督检测。执行标准Ø HJ/47-1999 《烟气采样器技术条件》Ø JJG 968-2002 烟气分析仪检定规程Ø HJ/T 397-2007 固定源废气监测技术规范Ø HJ 1132-2020 《固定污染源废气 氮氧化物的测定 便携式紫外吸收法》Ø HJ 1131-2020 《固定污染源废气 二氧化硫的测定 便携式紫外吸收法》Ø GBT 37186-2018 《气体分析 二氧化硫和氮氧化物的测定 紫外差分吸收光谱分析法》Ø DB37/T 2705-2015 《山东省固定污染源废气二氧化硫的测定 紫外吸收法》Ø DB37/T 2704-2015 《山东省固定污染源废气氮氧化物的测定 紫外吸收法》Ø DB37/T 2641-2015 《便携式紫外吸收法多气体测量系统技术要求及检测方法》Ø HJ 1045-2019 固定污染源烟气（二氧化硫和氮氧化物）便携式紫外吸收法测量仪器技术 要求及检测方法主要特点Ø 多级减震气室、光纤、光学分析核心部件采用多级缓冲减震技术，避免了机械振动对光路的影响，提高仪器可靠性和稳定性。Ø 高效过滤烟枪前端配套高效过滤器，有效防止镜片污染，大大延长了仪器的维护周期。Ø 大屏彩显7寸彩屏晶示，触摸屏操作，方便使用。Ø 无线传输（定制）内置NB模块通讯模块将数据上传到云平台，可通过PC或手机微信远程操控仪器，完成烟气测量、数据查询、通讯、仪器维护等各项操作。Ø 蓝牙打印标配蓝牙打印机，对现场数据进行实时打印或均值打印。Ø 自动排水*特制冷凝气路，冷凝效果显著提高，无需人为倾倒冷凝水，减少工作强度；Ø 一体化设计测量过程无需进行繁琐的连管接线，真正的便携实用。Ø 气凝胶保温气凝胶保温效果好重量轻，确保采样管璧温度人体可触摸状态，有效防止高温烫伤同时隔绝高温烟道对气室的影响，使气室始终维持在恒温状态，测量结果更准确，相比真空保温更加稳定可靠（真空保温易泄露）。Ø 检测项目多不增加硬件，可拓展检测O3、甲醛；苯、甲苯、二甲苯等芳烃；甲硫醚、甲硫醇、二硫化碳等有机硫；甲胺、乙胺、三甲胺等有机胺；异戊烯，1,3-丁二烯等烯烃。Ø 高温热湿全程加热烟气经全程加热颗粒物滤芯、气体吸收池，烟气中的水分100 % 气化，避免SO2、NO、NO2、NH3气体溶解吸收及管路吸附造成的负干扰。Ø 吸收池光程容积比大光学吸收池结构设计独特，光程长容积小，光程容积比高达34 m/L；4、工作条件 序号项 目参 数1 工作电源电源适配器（24 V/10 A）（电源接地线应良好接地）2环境温度（－20 ~ 45 ）℃3环境湿度（0 % ~ 95 %）RH4大气压力（86 ~ 106 ）kPa5适用环境非防爆场合6室外工作条件除满足以上条件外，应有防雨、雪、尘以及日光爆晒等侵袭的措施 主要技术指标气体方法参数范围分辨率指标O2电化学（0.00~30.00）%0.01 %示值误差：优于±5 %；重复性：2 %；响应时间：90 s；稳定性：5 %。 SO2DOAS（0.0~200/1000.0）mg/m³ 0.1 mg/m³ NODOAS（0.0~200/1000.0）mg/m³ 0.1 mg/m³ NO2DOAS（0.0~500.0）mg/m³ 0.1 mg/m³ (选配) NH3DOAS（0.0~200.0）mg/m³ 0.1 mg/m³ (选配) O3DOAS（0.0~500.0）mg/m³ 0.1 mg/m³ (选配) CO2 NDIR（0.00~20.00）%0.01 %(选配) CO电化学（带H2补偿）（0~5000.0）mg/m³ 0.1 mg/m³ NIDR（0.00-5.00）%0.01 %烟气采样泵工作流量：0.5 L/min；负载能力：30 KPa吸收池光程容积比大于等于34 m/L外型尺寸采样管φ45x700 mm+主机330×135×220 mm整机重量（不含电池）约6.5 kg整机功耗200 W工作电源电源适配器（输入220 V/AC输出DC24 V/10 A）备注DOAS、NDIR 检测气体量程可选

Ossila紫外臭氧清洗机产品介绍什么是紫外臭氧清洗?紫外臭氧清洗是一种光敏氧化处理过程。在处理过程中，有机分子在吸收短波长紫外辐射后，与臭氧分子发生化学反应，使有机分子从样品表面分离下来。紫外臭氧清洗是一种卓越的清洁技术，可清洁光敏表面、树脂表面，以及洗涤溶剂、助焊剂、油类中的残留物，可以对你的样品进行表面杀菌处理而不影响表面属性。紫外臭氧清洗与其它清洗技术(如氧等离子清洗)不同，不会导致样品表面损伤。紫外臭氧清洗机利用高强度紫外光源，在185nm和 254nm两个波长照射目标表面进行处理。样品仓内的分子氧(O2)在200nm以下波长的紫外线照射下进行分解，产生两个氧自由基(O• )。每个氧自由基随后与更多的氧分子发生反应，生成臭氧(O3)分子(图1)。没有被残余氧吸收的大于200nm波长的紫外线被基片表面上的有机化学键大量吸收，导致激发状态或有机自由基的产生。这些活性有机物种与不稳定的臭氧分子接触时会产生易挥发性物种，如CO2，H2O，N2及短链有机化合物。这种挥发性物质极易从样品表面挥发释放，达到表面清洁的效果。 英国Ossila紫外臭氧清洗机可以去除样品表面污染，数分钟内产生超净表面。它利用高能紫外光源产生臭氧，臭氧将样品表面的污染物分解为挥发性化合物。挥发性化合物从样品表面蒸发，不留痕迹。这种清洁方法可以产生接近原子级的清洁表面，而不会对样品表面产生损坏。英国Ossila紫外臭氧清洗机的托盘尺寸为100mmx100mm，可将样品定位于紫外光源下。您只需将样品放到托盘上，关上仓门，设置好时间，按开始键即可。英国Ossila紫外臭氧清洗机性价比高，厂家提供2年免费质保。主要应用目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。紫外臭氧清洗机的应用领域包括: 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。紫外臭氧清洗机适用的样品类型包括: 石英 硅 二氧化硅 氮化硅 金 镍 铝 砷化镓 氧化铝 玻璃 不锈钢功能特征 成本低； 120x120mm样品台； 处理样品高14mm； 抽屉式样品台，简单方便； 样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害； UVO显示器 LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”； 60分钟定时器； 高强度UV灯源； 可控温的样品台； 样品清洗无需溶剂； 超净表面左: 紫外线臭氧清洗前 右: 紫外臭氧清洗10分钟后(右)。技术参数UV灯类型人造石英紫外格栅灯UV灯主要波长185 nm 和 254 nmUV灯规格100 mm x 100 mmUV灯电流30 mA (恒定)254 nm 输出强度100厘米距离的光强度为20 μW/cm2UV 灯使用寿命T80 (2000小时) 8-10年标准日常使用时间电源电源220-240 VAC 保险丝：1A选配的AC/AC 变压器110 V / 230V运行时间59 分钟59秒安全特征安全互锁装置, 高温报警, 热熔断路托盘尺寸100 mm x 100 mm样品尺寸100 mm x 100 mm外形尺寸宽 204 mm高 227 mm长 300 mm

SulfUV-紫外荧光总硫测定仪产地：法国eraly简介：检测器：- 图形液晶显示器（LCD）/-实时概要流程图显示- 可编程测量范围/- 线性测量- 交互式菜单驱动软件可提高速度，可显示4种语言原理：矿化硫化合物中的气相部分，形成SO2，并通过紫外荧光法进行检测（当SO2返回到底座时，光电倍增管测量释放出来的紫外辐射）矿化部分：- 石英燃烧管+氟橡胶输出连接器- 燃烧炉，恒定控制氧化S → SO2，温度为1000℃无测量部分：特定气体检测器：通过紫外荧光法检测SO2技术参数：检测方法：紫外荧光法样品尺寸：液体：注射器20 - 100μl气体：注射器1 - 25ml；气体/GPL进样器1 - 10mlLPG：Gas /LPG进样器10μl固体：进样盒0.5 - 100mg分析时间：液体和气体：约5min固体：5 - 10min（取决于样品类型和重量）准确性：0.5 ppm时+/- 0,05 ppm1000 ppm时+/- 15 ppm测量范围：硫：10ppb - 约10%尺寸：80 cm x 55 cm x 30 cm (LxHxP) / 重量: 35 Kg

一. 简介：HX-U200型紫外测油仪是我公司依据国家环境监测技术规范要求，结合我国环境污染状况及各级环境监测部门的需要而研发出的一种高效、环保、快捷的测油仪器，它用正己烷萃取剂替代红外法中已被禁用的四氯化碳萃取剂，符合新国标《HJ 970-2018 水质 石油类的测定 紫外分光光度法》的要求，该产品操作简单、精密度好、灵敏度高、性能稳定，能满足用户的各种应用需求。【背景：为贯彻《中华人民共和国环境保护法》，实现我国关于《关于消耗臭氧物质的蒙特利尔议定书》2019年停止实验室用途使用四氯化碳（CTC）的承诺，保护生态环境，保障人体健康，满足现行环境质量标准和污染物排放标准中石油类的监测要求，生态环境部2018年10月10日批准两项水质 石油类标准为国家环境保护标准，其中《水质 石油类的测定 紫外分光光度法（试行）》（HJ 970 - 2018 ），适用于地表水、地下水和海水中石油类的测定。萃取剂为正已烷。】二. 适用范围：地表水、地下水、海水及工业废水中的石油类及动植物油类的检测。三. 检测原理： 仪器可选择只测【石油类】或者【石油类+动植物油类+总油】；石油类：在PH值≤2的条件下，用正己烷萃取样品中的油类物质，经无水硫酸钠脱水后，再用硅酸镁吸附除去动植物油类等极性物质，于225nm波长处测定吸光度，石油类的含量与吸光度值成正比；动植物油类:动植物油类是成分比较复杂的混合物，没有固定的吸收特征，为满足用户需要，我公司通过多种油类（包括含有类似特征的极性物质）进行测试，分析总结这些物质，选取能够代表大部分动植物油类含量的特征，使其浓度与吸光度成正比。四. 术语和定义:1. 石油类：指在PH值≤2的条件下，能被正己烷萃取，不被硅酸镁吸附，且在225nm处有特征吸收的物质；2. 动植物油类：指在PH值≤2的条件下，能被正己烷萃取，并被硅酸镁吸附的动植物油类等极性物质；3. 总油：石油类和动植物油类的总和。五. 功能特点：1. 采有紫外分光光度法测量油类浓度，方便快捷；2. 仪器可独立测量，无需配套电脑使用；3. 可以直接测量石油类、动植物油类和总油；4. 可单独选择测量指标为【石油类】或者【石油类+动植物油类+总油】；5. 采用正己烷萃取法，用正己烷替代红外法的四氯化碳、四氯乙烯萃取剂，环保安全；6. 石油类指标满足国标《HJ 970-2018 水质 石油类的测定 紫外分光光度法》；7. 测量速度快，可同时进行多个样品的测量；8. 具有校准功能，自动计算斜率、截距及相关系数，测量精度高；9. 具有自动提示功能，每一步都会提示用户怎么操作，用户无需具备复杂的专业知识；10. 大屏幕液晶背光显示器，纯中文操作界面，人性化的程序设计；11. 大容量数据存储，断电保护设计确保仪器不受损坏和数据记录永不丢失；12. 故障自诊断智能设计，使仪器管理和维护简易方便；13. 可广泛应用于地表水、地下水、海水及工业废水中的石油类及动植物油类；14. 采用独特的光源设计，抗干扰能力强，光源寿命长，维护费用低；15. 配套有免费的数据采集分析软件，可连接电脑导出仪器的测量数据；16. 仪器自带打印机，可现场打印测量的实时数据及历史数据；17. 测量范围宽，试剂用量少，运行成本低，抗干扰能力强；18. 具有延时启动功能及自动预热功能，具有自动关机功能，有效的延长仪器的使用寿命；六. 性能参数1. 测定指标：石油类、动植物油类和总油； 2. 测定方法：紫外分光光度法3. 检出限：石油类测定检出限为0.01mg/L，动植物油类检出限为0.5mg/L，4. 测定范围： 0.01~100mg/L；5. 重复性：≤1%（20mg/L浓度的石油标液）；6. 线性：R＞0.9997. 测量误差：≤10%； 8. 萃取方式：手动萃取或自动萃取（选配）；9. 萃取剂：正己烷；10. 比色皿：20mm石英比色皿；11. 时 钟：内置实时时钟，实时时钟月累积误差小于10秒；12. 记录存储：可存储10000次测定结果，数据断电永不丢失；13. 打 印：仪器自带打印机，随时打印测量结果；14. 通信方式：RS232、USB，可将测量结果上传至电脑，便于用户统计分析；15. 显 示：240*128大屏幕蓝色背光显示器，中文操作界面；16. 环境温度：（5 ~ 40）℃； 环境湿度：相对湿度＜ 85%（无冷凝）；17. 外形尺寸：395*298*120mm；18. 工作电源：AC220V±15% / 50Hz，整机功耗：28W；19. 整机重量：4.5KG；七. 用到的试剂：1. 盐酸ρ（HCl）=1.19g/L2. 硫酸ρ（H2SO4）=1.84mg/L3. 正己烷4. 无水乙醇5. 无水硫酸钠6. 硅酸镁（出厂标配）7. 玻璃棉（出厂标配）八. 仪器和设备： 出厂标配类：1. 紫外测油仪2. 比色皿：2cm石英比色皿 * 4；3. 数据采集分析软件；4. 各类电源及通信线材；用户自备类：5. 自动萃取装置（非必须，可手工萃取）6. 分液漏斗：1000ml，聚四氟乙烯旋塞7. 采样瓶：500ml棕色硬质玻璃瓶8. 锥形瓶：50ml磨口带盖9. 层析柱：内径10mm,有效高度200mm10. 水平振荡器（非必须）11. 离心机：配备玻璃离心管（非必须）12. 一般实验室常用器皿和设备九. 质量保证和售后服务：壹年质保，长期提供出厂零件及维护和维修售后服务；

【仪器简介】 紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材表面有机污染物去除的表面清洗设备。低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机污染物。【应用范围】在印制电路板生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度， 进而提高印制电路板的质量；LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；光清洗还可以应用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景； 此外，对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化 膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。【仪器特点】采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数加热、升降一体式样品台，升降行程50mm，便于样品与UV灯间距的调整样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃，控温精度±1℃流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断处理方式组合多样。可选择处理过程：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘 安全互锁。设备运行过程中，清洗腔上盖打开，设备自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线对人伤害。标配流量数字化显示（可接入氧气或臭氧），可调节气路供气流量上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化。一键化操作，减少工作强度【设备参数】 UV130样品台尺寸/mm150*150UV光管尺寸/mm130*130样品台升级行程/mm50流量范围（ml/min）0~1000外形尺寸（L*W*H）/mm445*300*245主机重量/kg11.5

紫外臭氧清洗机原理：通过紫外灯发出适当强度的 185nm 和 254nm 波长高能紫外线破坏有物分子 ( 污染物 )。185nm 波长紫外光的光能 量能将空气中的氧气 (O2) 分解成臭氧 (O3)，而 254nm 波长的紫外光的光能量能将 O3 分解成 O2 和原子氧 (O)， 254 nm 紫外线同时激发表面的有机物分子，提高其敏感性，可以被臭氧分子团破坏。在连续进行的光敏氧化反应中，生成的 活性原子氧 (O) 与活化了的有机物 ( 即碳氢化合物 ) 分子发生氧化反应，生成挥发性气体 ( 如 CO2，CO, H2O,NO 等 ) 逸 出材料表面，从而清除粘附在材料表面上的碳和有机污染物，达到清洗的目的。 产品特点◆ UVO 基础型系列采用可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。UVOP、UVOT 系列采用 5 寸彩色触摸屏 中英文互动操作界面，设置显示计时时间及加热温度。◆ 自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。◆ 数字倒计时显示清洗时间，1-999 分钟之间可自行设置清洗时间。◆ 任何时间可以手动中断处理过程。◆ 自动记录之前清洗参数设置。◆ 样品台可控温（可选），控温范围 RT-200℃,控温精度 0.1℃。◆ 顶置下压式铰链开关盖方式，操作简单方便。◆ 上置式样品台设计，360 度自由放置样品，操作方便。◆ 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，并可锁定。◆ UV 石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为 8000 小时。◆ 高强度 UV 灯源，波长 185nm 和 254nm。◆ 可累计计时 UV 格栅灯使用时长，更换提示。◆ UV 反射罩（长 X 宽）比 UV 格栅灯大 25mm。◆ 双重安全保护，带有安全锁，当清洗腔打开时，系统自动关掉 UV 灯，并有灯光通断提示。◆ 带进 & 出气口双气路设计。◆ 可接入氧气或者臭氧，增加臭氧产量。◆ UVO5 可选外置臭氧中和器，UVO9、UVO13 系列可选外置或者内置臭氧中和器，用于臭氧清除。◆ 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。 技术参数 产品型号UVO5/UVO5P/UVO5TUVO9/UVO9P/UVO9TUVO13/UVO13P/UVO13TUV 灯尺寸130x130mm230x230mm330x330mm样品台高度0-50mm 可调0-50mm 可调0-50mm 可调电 源AC220V 50/60Hz140/190/690WAC220V 50/60Hz140/190/690WAC220V 50/60Hz140/190/1160W外型尺寸L260xW320xH200mmL370xW470xH200mmL465xW575xH200mm包装尺寸L375xW470xH390mmL490xW600xH320mmL575xW680xH320mm整机重量8kg15kg18kg

总有机碳在线检测仪HR-50A湿法氧化-非色散红外检测，该方式是在样品经过酸性过钾氧化之前经磷酸处理待测样品，去除无机碳后测定TOC的浓度。但湿法氧化对于含腐殖酸等高相对分子质量化合物的水体氧化不充分。紫外-湿法氧化-非色散红外检测，该方式是紫外氧化和湿法氧化两者的协同作用，针对紫外氧化法无法用于高含量TOC的复杂水体，两者的协同可以测量污染较重的水体。高温催化燃烧氧化-非色散红外检测，样品中有机碳在高温催化氧化条件下转化为二氧化碳后经非色散红外（NDIR）检测，因髙温燃烧相对彻底，适用于污染较重水体或是复杂水体，但需考虑样品的高盐分对于测定结果的影响问题。此外紫外氧化-非色散红外检测、电阻法、紫外吸收光谱、电导法等方式均因稳定性差或对颗粒状、高相对分子质量有机物氧化不完全而未能用于土壤学领域。将土壤、沉积物样品处理成为溶液样品时需要考虑一定粒度的漂浮物或可沉固体物质的处理问题。总有机碳在线检测仪HR-50A电源要求/功率 100 – 240 VAC, 50HZ, 120W电导率检测范围 0.055us/cm-8.000us/cm测量范围 0.001mg/L～1.0 mg/L（1～1000ppb）测量精度 ±3%分辨率 0.001mg/L分析时间 连续分析响应时间 5分钟之内检测极限 0.001 mg/L样品温度 1-95℃环境温度 5-65℃使用范围 在线测试审计追踪 16项事件日志，可根据时间查询权限管理 用户名密码登录，4级权限，满足FDA 21CFR PART 11要求总有机碳在线检测仪HR-50A应用领域制药用水（纯化水、注射用水）的在线监测和实验室测试，以及清洁验证；环保测试、电子行业、食品行业等。总有机碳在线检测仪HR-50A总产品特点1、7英寸触摸屏，人性化界面，操作简单便捷；2、三管程电子冷凝脱水技术，确保整个系统的脱水效率；3、高反射的镀金气室、高聚光的红外光源及高灵敏的红外探测器，保证NDIR优异的性能，测量ppb级的数据具有足够的灵敏度和准确度；4、最高温度可达1100℃，可根据样品选择不同的催化剂（如CeO、Pt，CuO）和设置不同的温度；5、检测曲线实时可见，更直观；6、液体样品自动进样，精密的电磁计量泵，保证进样量的准确性和稳定性；7、多处温度、压力、流量实时自我监测；8、燃烧炉加热采用多重保护，过热能自动切断加热，提高产品安全性能；9、无机碳反应池设计有加热装置，消除了样品峰的拖尾，缩短了样品测定时间；10、内置针式打印机，减少占用空间；11、2年数据存储量，查询方便，并可按时间段查询；12、具有密码保护功能；13、可选配在线模块，实现在线监测；有机碳在线检测仪HR-50A原理方法：（在线紫外氧化、紫外过硫酸盐、高温燃烧）通过燃烧炉中的高性能氧化催化剂将样品在高温下充分燃烧分解成二氧hua碳和水，水蒸气通过冷凝器冷却后除去，二氧hua碳用非分散红外检测器（NDIR）测定，从而确定样品中总有机碳测的含量；通过酸试剂将样品中无机碳分解成二氧hua碳和水，水蒸气通过冷凝器冷却后除去，二氧hua碳用非分散红外检测器（NDIR）测定，从而确定样品中总无机碳TIC的含量；总有机碳TOC=TC-TIC。

型号ST-1545ST-1545硫氮分析仪采用紫外荧光法测定总硫含量和化学发光法测定总氮含量，提高了抗杂质干扰的能力，避免了电量法对滴定池的繁锁操作和因此带来的不稳定因素，使得仪器的灵敏度大为提高,化学发光原理和紫外荧光原理与计算机技术相结合研发的先进氮、硫一体化分析仪器。符合SH/T 0657、SH/T 0689、ASTM D4629、ASTM D5453标准，适用于测定液体、固体、气体中的硫/氮含量。广泛应用于电力、石油、化工、商检、高校及科研等部门。生产厂家北京旭鑫仪器设备有限公司功能特点l 仪器采用化学发光法测定总氮含量和紫外荧光法测定总硫含量l 提高了抗杂质干扰的能力，避免了电量法对滴定池的繁琐操作和因此带来的不稳定因素，使得仪器的灵敏度大为提高l 系统关键部位采用进口器件，使得整机性能有了可靠的保证l 软件操作方便、快捷，标准曲线和结果自动保存，永远不会丢失数据l 计算机控制数据采集，检测、储存、打印等l 可实现全中文/全英文界面显示(可选)技术参数适应标准 SH/T 0657、SH/T 0689、ASTM D5453、ASTM D4629测定方法 化学发光法（N）、紫外荧光法（S）测量范围 硫元素含量为：0.2～5000 mg/L ～ 百分含量 氮元素含量为：0.1～5000 mg/L ～ 百分含量检测下限 0.2mg/L（硫元素）、0.1mg/L（氮元素）样品种类 液体、固体和气体(需配相应的进样器）样品进样量 固体样品：1-20mg液体样品：5-20μL气体样品：1-5mL测量精度 测硫仪(PPM)定氮仪(PPM)硫氮（PPM)进样量（μL）RSD（%）0.20.10.220255551010505050105100100100103500050005000103控温范围 室温～1300℃控温精度 ±1℃气源要求 高纯氩气：纯度99.98%以上 高纯氧气：纯度99.98%以上环境温度 5℃～45℃相对湿度 10%～80%Rh电源电压 220V±10％ 50Hz功 率 ≤2500 W选 购：此款仪器有三种类型，分别是荧光测硫仪，化学发光定氮仪和硫氮一体仪，订购时必须指明；仪器标配电脑，如不需要，特殊指定

二氧化碳培养箱HF212（紫外杀菌）产品特点：UV紫外灯消毒Pt1000温度传感器气套式加热系统热导式二氧化碳浓度检测器"AUTO-START"校准功能超温保护传感器使温控具有双重保护的功能进气口配有HEPA过滤器错误诊断和故障代码显示箱底底槽作为蓄水池，蒸发面积大外门加热操作简单，触摸键控制

产品详情 美国Jelight紫外光 加臭氧清洗机Jelight 42，144AX，342，256，288A■ UVO-CLEANER 紫外光加臭氧 清洗机是去除有机污染物(Organic Contaminants) 最安全、最有效率的方式特別是针对”矽晶片”，”砷化鎵”，”石英”，”蓝宝石”，”玻璃”，”云母”，”陶瓷” 及”金属” 等材料。 各种型号与规格： *附加功能： 。可切换式双进口及调节阀 。双数字显示计时器可控制清洗及废气排气之周期时间 。灯管使用时计数器 。附紧急停机装置 ■ UV plus [O] is the magic!有机污染分子(如"光阻剂"，"树脂"，"人类表皮油脂"，"清洁剂残留物"，"矽油"，"助燃剂" 等)。经吸收短波长之UV 輻射(253.7nm) 即变成激发狀态之分子，再与活性氧原子[O] 起反应/ 結合，即形成易挥发之分子，离开物体表面，如此即达到其清洗之效果。 ■ 多种不同系統与照射時間之清洗效率比较表 选购项目：• 高功率Suprasil UV Lamp ：可大幅提升紫外光加臭氧清洗机之清洗效率• 臭氧分解器(Ozone Killer) ：可分解排放废弃中之臭氧, 且易与清洗机及废气排放系統做连接• 臭氧排放风箱(Blower) ：与臭氧分解器之出风口连接可增強废气排放之速率 美国JELIGHT紫外臭氧清洗机JELIGHT 紫外清洗机是一种快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）的目的。是清除硅、砷化镓、石英、蓝宝石、玻璃、云母、陶瓷、金属等表面有机污染物的最安全、最有效的方法。 除清洗外，JELIGHT紫外清洗机还可用于表面改质，如通过紫外处理后，涂层与表面的粘附力可大大增加，并可用于生物芯片制作过程中PDMS键合等。 紫外清洗优点• 被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体（CO2、CO、H2O等）从表面消散，随着排风系统抽走。• 表面洁净度高，且不会像溶液清洗时发生二次污染。• 光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。• 光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为 细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。 相关应用• 在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。• 清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片• 清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器• 蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料• 增强GaAs 和Si氧化物钝化表面• 增强玻璃的除气作用• 基片蓝膜去除• 增强塑料表面的镀膜的粘附性• 基片终测后墨迹清楚• 去除光刻胶• 平板显示器/液晶显示器• 去除光刻机台上的光刻胶残留物• 在电路板封装和打片之前清洗• 光纤• 增强表面亲水特性• 为生物科学应用做清洗和消毒• 光学透镜• 其它应用臭氧发生器Ozone Generator臭氧（氧化电位2.7eV）的反应活性相当强，是一种强氧化剂。在许多新领域的研发过程中，它逐渐成为不可缺少的元素之一。其中包含化学实验室，大学以及电子，医药，化学，生物和医学研究机构。在工业应用的范围也增加许多。例如半导体产业，环境研究。饮用水及污水处理，塑料和包装产业以及食品加工技术。臭氧也被常用为杀菌与消毒液体，气体和固体有机物质。无论是单一的实验室或实验工厂，甚至工业生产的规模，由于新的技术，使生产臭氧不再成为经济负担。本公司的产品专门使用低压汞气灯所放射出的短波紫外线，来产生纯净的臭氧。订购时，请指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的电源供应器。型号：2000■ 可产生臭氧浓度超过6000ppm.■ 进出的埠为直径6米。■ 可调式流量计安装于机台的主面，最高流量定为5L/min。使用者可依照臭氧浓度的需求而调整此控制。■ 机器内提供冷却系统，增强紫外线灯的寿命。■ 尺寸（长*宽*高）：42公分*25公分*16.5公分■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内） 型号：1000■ 原为OEM产品，适合安装在多种设备或一般封箱内。■ 进出的埠为直径6米。■ 臭氧产生的浓度相同于型号：2000■ 外壳以不锈钢电镀形成。■ 需外加适当的冷却系统，增强紫外灯的寿命。■ 尺寸（长*宽）：30公分*5公分■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内） 型号：600■ 机型的尾端安装1组石英材质灯套。■ 使用者可因臭氧浓度的需求来调整灯套盖过紫外线灯的长短。■ 臭氧浓度调整：ppb~3100ppm。■ 进出的埠为直径6米。■ 外壳以不锈钢电镀形成。■ 尺寸（长*宽）：23公分*2.5公分。■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内）