干式表皮清洗机

等离子清洗机作为一种微观固体表面的处理设设备，是一种全新的表面处理方案。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机该清洗机内置高纯石英仓体，采用了新型的电极结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空 气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验 样品清洗 和教学。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机滚筒等离子清洗机针对粉末或者颗粒的360度表面处理设备，通过旋转机构带动石英搅拌罐使样品处于悬空位置达到360度清洗。设备型号KT-Z2DQXKT-S2DQXKT-Z5DQXKT-S2GQX供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率1000W150W300W150w射频频率40KHz13.56MHz耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)2L(内径110MMX深度220MM)5L(内径160MMX深度310MM)φ100x200mm观察窗内径Φ50Φ50Φ70无气体流量10—100ml/min（其他量程可选）过程控制过程自动控制过程手动控制过程自动控制过程手动控制清洗时间自动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸150*500*250mm450*460*370mm530*580*420mm重量20kg35kg40kg40Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

产品详情 美国Jelight紫外光 加臭氧清洗机Jelight 42，144AX，342，256，288A■ UVO-CLEANER 紫外光加臭氧 清洗机是去除有机污染物(Organic Contaminants) 最安全、最有效率的方式特別是针对”矽晶片”，”砷化鎵”，”石英”，”蓝宝石”，”玻璃”，”云母”，”陶瓷” 及”金属” 等材料。 各种型号与规格： *附加功能： 。可切换式双进口及调节阀 。双数字显示计时器可控制清洗及废气排气之周期时间 。灯管使用时计数器 。附紧急停机装置 ■ UV plus [O] is the magic!有机污染分子(如"光阻剂"，"树脂"，"人类表皮油脂"，"清洁剂残留物"，"矽油"，"助燃剂" 等)。经吸收短波长之UV 輻射(253.7nm) 即变成激发狀态之分子，再与活性氧原子[O] 起反应/ 結合，即形成易挥发之分子，离开物体表面，如此即达到其清洗之效果。 ■ 多种不同系統与照射時間之清洗效率比较表 选购项目：• 高功率Suprasil UV Lamp ：可大幅提升紫外光加臭氧清洗机之清洗效率• 臭氧分解器(Ozone Killer) ：可分解排放废弃中之臭氧, 且易与清洗机及废气排放系統做连接• 臭氧排放风箱(Blower) ：与臭氧分解器之出风口连接可增強废气排放之速率 美国JELIGHT紫外臭氧清洗机JELIGHT 紫外清洗机是一种快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）的目的。是清除硅、砷化镓、石英、蓝宝石、玻璃、云母、陶瓷、金属等表面有机污染物的最安全、最有效的方法。 除清洗外，JELIGHT紫外清洗机还可用于表面改质，如通过紫外处理后，涂层与表面的粘附力可大大增加，并可用于生物芯片制作过程中PDMS键合等。 紫外清洗优点• 被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体（CO2、CO、H2O等）从表面消散，随着排风系统抽走。• 表面洁净度高，且不会像溶液清洗时发生二次污染。• 光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。• 光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为 细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。 相关应用• 在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。• 清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片• 清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器• 蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料• 增强GaAs 和Si氧化物钝化表面• 增强玻璃的除气作用• 基片蓝膜去除• 增强塑料表面的镀膜的粘附性• 基片终测后墨迹清楚• 去除光刻胶• 平板显示器/液晶显示器• 去除光刻机台上的光刻胶残留物• 在电路板封装和打片之前清洗• 光纤• 增强表面亲水特性• 为生物科学应用做清洗和消毒• 光学透镜• 其它应用臭氧发生器Ozone Generator臭氧（氧化电位2.7eV）的反应活性相当强，是一种强氧化剂。在许多新领域的研发过程中，它逐渐成为不可缺少的元素之一。其中包含化学实验室，大学以及电子，医药，化学，生物和医学研究机构。在工业应用的范围也增加许多。例如半导体产业，环境研究。饮用水及污水处理，塑料和包装产业以及食品加工技术。臭氧也被常用为杀菌与消毒液体，气体和固体有机物质。无论是单一的实验室或实验工厂，甚至工业生产的规模，由于新的技术，使生产臭氧不再成为经济负担。本公司的产品专门使用低压汞气灯所放射出的短波紫外线，来产生纯净的臭氧。订购时，请指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的电源供应器。型号：2000■ 可产生臭氧浓度超过6000ppm.■ 进出的埠为直径6米。■ 可调式流量计安装于机台的主面，最高流量定为5L/min。使用者可依照臭氧浓度的需求而调整此控制。■ 机器内提供冷却系统，增强紫外线灯的寿命。■ 尺寸（长*宽*高）：42公分*25公分*16.5公分■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内） 型号：1000■ 原为OEM产品，适合安装在多种设备或一般封箱内。■ 进出的埠为直径6米。■ 臭氧产生的浓度相同于型号：2000■ 外壳以不锈钢电镀形成。■ 需外加适当的冷却系统，增强紫外灯的寿命。■ 尺寸（长*宽）：30公分*5公分■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内） 型号：600■ 机型的尾端安装1组石英材质灯套。■ 使用者可因臭氧浓度的需求来调整灯套盖过紫外线灯的长短。■ 臭氧浓度调整：ppb~3100ppm。■ 进出的埠为直径6米。■ 外壳以不锈钢电镀形成。■ 尺寸（长*宽）：23公分*2.5公分。■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内）

一、产品概述：透射电镜样品杆清洗机是一款专为透射电子显微镜（TEM）样品准备而设计的高效清洗设备。该机采用先进的清洗技术，通过超声波和化学溶剂的结合，能够有效去除样品杆表面的有机污染物、灰尘和其他杂质，确保样品在显微观察中的清洁和高质量成像。透射电镜样品杆清洗机具有自动化控制系统，操作简单便捷，并且可根据不同样品材料和清洗需求进行参数调节。广泛应用于材料科学、纳米技术和生物医学等领域，为研究人员提供可靠的样品处理解决方案，提高实验结果的准确性和重现性。CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用远程离子清洗源设计，清洗快速高效，低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏。 二、设备用途/原理：设备用途透射电镜样品杆清洗机主要用于清洗透射电子显微镜（TEM）样品杆，以去除其表面的有机污染物、灰尘和其他杂质，确保样品在显微观察中的清洁与高质量成像。该设备广泛应用于材料科学、纳米技术和生物医学等研究领域，提升实验结果的准确性和重现性。工作原理该设备通常采用超声波清洗和化学溶剂相结合的方式进行清洗。首先，样品杆被放置在清洗槽中，清洗液通过超声波振动产生细小气泡，这些气泡在破裂时能够有效去除样品表面的污染物。同时，清洗液中的化学成分进一步分解和溶解杂质。清洗过程能够均匀、彻底地处理样品杆，确保其表面达到所需的清洁度，以提高透射电子显微镜的成像质量和分析准确性。三、主要技术指标：产品型号CIF-TEM等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-120W可调，远程等离子源，自动匹配器清洗室清洗室尺寸Ø 180xH100mm清洗数量可同时清洗3支TEM样品杆适配品牌THERMO FISHER（FEI）、日立HITACHI、捷欧路JEOL气体控制标配单路质量流量计（MFC）可选双路。50毫升/分，自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制质量流量计（MFC），皮拉尼真空计，测量范围1E-5Torr操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面真空泵前级泵抽气速率2 L/s分子泵极限真空:CF:5x10-6Pa，ISO-K: 3x10-5Pa分子泵抽速 80L/s （N2）入口法兰：DN100CF/DN100 ISO-K 质量保证二年质保，终身维护电 源220V，50/60Hz，300W四、产品特点1. 远程离子清洗源2. 一机多用3. 清洗快速高效，低轰击损伤

CIF透射电镜样品杆清洗机CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 快速高效低损伤 技术参数产品型号CIF-TEM真空泵Agilent 、IDP-3涡轮式真空干泵入口压力1.0个大气压（0psig），出口压力1.4个大气压（6.5psig）抽速60L/min，极限真空3.3 x 10-1 mbarKF16入口接口等离子电源13.56MHz等离子射频电源，射频功率5-100W可调两种等离子体清洗源，原位等离子源和远程等离子源，自动匹配器清洗室清洗室尺寸(长X宽X高)150X150X150mm清洗数量可同时清洗3支TEM样品杆适配品牌THERMO FISHER（FEI）、日立HITACHI、捷欧路JEOL气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源220V，50/60Hz，300W质量保证二年质保，终身维护

CIF透射电镜样品杆清洗机CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。 产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 快速高效低损伤 技术参数产品型号CIF-TEM真空泵Agilent 、IDP-3涡轮式真空干泵入口压力1.0个大气压（0psig），出口压力1.4个大气压（6.5psig）抽速60L/min，极限真空3.3 x 10-1 mbarKF16入口接口等离子电源13.56MHz等离子射频电源，射频功率5-100W可调两种等离子体清洗源，原位等离子源和远程等离子源，自动匹配器清洗室清洗室尺寸(长X宽X高)150X150X150mm清洗数量可同时清洗3支TEM样品杆适配品牌THERMO FISHER（FEI）、日立HITACHI、捷欧路JEOL气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源220V，50/60Hz，300W质量保证二年质保，终身维护

CIF透射电镜样品杆清洗机CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 快速高效低损伤 技术参数产品型号CIF-TEM真空泵Agilent 、IDP-3涡轮式真空干泵入口压力1.0个大气压（0psig），出口压力1.4个大气压（6.5psig）抽速60L/min，极限真空3.3 x 10-1 mbarKF16入口接口等离子电源13.56MHz等离子射频电源，射频功率5-100W可调两种等离子体清洗源，原位等离子源和远程等离子源，自动匹配器清洗室清洗室尺寸(长X宽X高)150X150X150mm清洗数量可同时清洗3支TEM样品杆适配品牌THERMO FISHER（FEI）、日立HITACHI、捷欧路JEOL气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源220V，50/60Hz，300W质量保证二年质保，终身维护

CIF透射电镜样品杆清洗机CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。 产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 快速高效低损伤 技术参数产品型号CIF-TEM真空泵Agilent 、IDP-3涡轮式真空干泵入口压力1.0个大气压（0psig），出口压力1.4个大气压（6.5psig）抽速60L/min，极限真空3.3 x 10-1 mbarKF16入口接口等离子电源13.56MHz等离子射频电源，射频功率5-100W可调两种等离子体清洗源，原位等离子源和远程等离子源，自动匹配器清洗室清洗室尺寸(长X宽X高)150X150X150mm清洗数量可同时清洗3支TEM样品杆适配品牌THERMO FISHER（FEI）、日立HITACHI、捷欧路JEOL气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源220V，50/60Hz，300W质量保证二年质保，终身维护

CIF透射电镜样品杆清洗机CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 快速高效低损伤 技术参数产品型号CIF-TEM真空泵前级泵 抽气速率2L/s分子泵 分子泵抽速＞80L/s（N2)极限真空：CF:5x10-6pa，ISO-K:3x10-5pa入口法兰：DN100CF/DN100 ISO-K等离子电源13.56MHz等离子射频电源，射频功率5-120W可调远程等离子源，自动匹配器清洗室清洗室尺寸Φ180xH100mm清洗数量可同时清洗3支TEM样品杆适配品牌THERMO FISHER（FEI）、日立HITACHI、捷欧路JEOL气体控制标配单路质量流量计（MFC)可选双路，50毫升/分，自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制质量流量计（MFC),皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源220V，50/60Hz，300W质量保证二年质保，终身维护

PCB板等离子清洗机可在线高速处理，提高生产效率，利用等离子体的特点，对需要处理的固体材料表面进行清洁、活化、激活，从而实现改变表面微观结构、化学性质、能量的目的。大气低温等离子清洗机 PVC板等离子清洗机悬浮旋转型（1）什么是等离子？ 等离子体--并不神秘的物质第四态！ 自然界中存在我们非常熟悉的固态、液态、气态物质。持续为物质提供能量，物质温度会升高，物质的状态也会从“固态→ 液态”，“液态→ 气态”，“气态→ 等离子态”。 物质是由原子构成，原子由带正电的原子核和围绕着原子核的带负电的电子组成。当持续提供能量，加热至足够高的温度时，外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子，这个过程称为“电离”；而物质变成的由带正电的原子核与带负电的电子组成，当然，物质里面还有活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等，是一团均匀的“浆糊“，所以等离子体也称为电浆。电浆中，正负电荷总量是相等的，所以总体是呈电中性，称为等离子体。 等离子体是一种高能量不稳定的状态。利用这种高能量而又不稳定的状态，等离子体有各种各样的应用。 宇宙中99%的可见物质，其实都处于等离子体状态，闪电、极地的极光、星云等等，还有我们日常生活中的荧光、霓虹光这些也是等离子体。等离子体先在1928年由科学家Langmuir提出。（２）等离子清洗机设备原理及技术参数： 2.1对材料表面的刻蚀作用--物理作用： 等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。 2.2激活键能，交联作用 等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。 2.3 形成新的官能团--化学作用 如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。 功率：0~1000W，可调 设备尺寸：235×265×370mm（宽×高×深） 输入电源：220V，50/60Hz 高压频率：40KHz 处理宽度：30mm、50mm、70mm 功能保护：低气压保护、过载保护、温度保护、短路保护、断路保护 远程控制：具备（３）等离子清洗机的结构组成？等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成，分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。（A）控制单元：控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。而控制单元又分为两个大的部分：1）电源部分：主要电源频率有三种，分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要电源匹配器的，而2.45GHz又称为微波等离子。2）系统控制单元：分三种，按钮控制（半自动、全自动）、电脑控制、PLC控制（液晶触摸屏控制）。（B）真空腔体：真空腔体主要是分为两种材质的：1）不锈钢真空腔体，2）石英腔体。（C）真空泵：真空泵种类较多，其选择会根据用户的真空度要求、体积要求来配置。（４）技术参数：系统标准配件设备尺寸1105W * 1488D * 1842Hmm (2158mm带信号灯高度）水平极板8层电极板402W * 450Dmm气体流量控制器，2路工艺气体0-300ml/min真空测量日本ulvac真空计人机界面触摸屏SD自主研发电极间距48mm信号指示灯3色带警报真空泵90m3/h双极油泵系统电力&机械电源：AC380V，50/60Hz额定功率5000W系统重量（设备主机/真空泵）600Kg占地面积：设备主机1805(W)×1988(D)×1842(H) mm射频电源射频电源频率13.56MHz射频电源功率1000W射频电源匹配器全自动匹配，空气电容技术设备必备条件电源：AC380V，50/60Hz，三相五线7.5KVA压缩空气要求无水无油CDA 60~90psig抽风系统≥2立方/分钟，中央尾气处理管道即可系统环境温度要求≤30℃（室温）工艺气体要求15~20psig 99.996%或以上纯度； （５）产品应用： 等离子体的应用非常非常广泛，从核聚变到等离子电视，从等离子薄膜溅射到工业废气处理，从等离子切割焊接到生物医疗领域的消毒。 我们目前所说的，是集中在等离子表面改性，或者说等离子表面处理的应用。就是利用等离子体的高能量、不稳定的特点，当固体材料表面接触到等离子体后，表面的微观结构、化学性质、能量都会发生变化。 等离子表面改性（等离子表面处理），就是利用等离子体的特点，对需要处理的固体材料表面进行清洁、活化、激活，从而实现改变表面微观结构、化学性质、能量的目的。 等离子清洗的应用已经非常非常广泛，汽车制造、手机制造、玻璃光学、材料科学、电子电路、印刷造纸、塑料薄膜、包装技术、医疗医用、纺织工业、新能源技术、航天军工、手表首饰等等。 以下列举些最为典型的应用： 1.手机盖板 手机盖板生产中，手机盖板需要进行多层镀膜，镀膜前为了确保镀膜附着力高，镀膜效果好，需要进行等离子清洗，从而明显提高盖板表面活性，镀膜寿命明显提高。目前行业规范是，要求清洗后接触角测量角度低于20°。 2.塑料印刷 日常常见的塑料瓶瓶盖印刷，在流水线生产过程中，瓶盖如果直接印刷，油墨附着效果会比较差，而且废品率高。瓶盖印刷前采用等离子清洗，等离子清洗不但可以完美配套至生产线中，而且瓶盖清洗后进行印刷，成品率明显提高，油墨附着效果好，效果保持也更为持久。 3.雷达传感器 雷达传感器的生产过程中，因为传感器表面要求非常干净，这样才能保证传感器的精度和稳定性，所以必须进行清洗。传统方法采用人工手动酒精拭擦，清洗效果差，不稳定，而且清洗效率太慢。采用等离子清洗后，接触角明显低于使用酒精拭擦的，清洗效果大幅度提升。 4.纺织工业 纺织行业的采用等离子进行各种不同的处理工艺，目的就是为了实现各种不同需求的纺织产品，例如天然纤维需要达到的出色的印染效果，使用等离子处理后，不但显著提高印染效果，更改善了纤维的表面质量，提高了使用寿命。 5.手表镀膜 手表表盘都会进行镀膜处理，以达到需要的色泽效果和提高耐磨寿命，手表表盘镀膜前就需要进行等离子清洗，去除表盘表面原有的污染物，激活表面活性，使得镀膜时黏附得更为牢固。而如果不使用等离子清洗，表盘镀膜就可能会成品率降低，膜的使用寿命变差等风险。

Tergeo-EM 等离子清洗机 ● 集成直接浸泡和远程/Downstream清洗模式 ● 实时检测等离子体强度的等离子体传感器 ● 可毫秒级别短脉冲操作。 ● All-in-one实验室等离子蚀刻、处理和清洗系统。 ● 用于批量加工的大型样品室，带有矩形石英样品托盘 ● 双TEM 适配器，可配置为支持两个不同品牌的样品杆支持不同TEM/SEM系统Direct & downstream 清洗模式 敏感的样品如何用传统等离子清洗？ 通常需要很高的射频功率来点燃等离子体，但是一旦等离子被点燃，等离子就可以较低的射频功率维持。但是传统的等离子体清洗机很难自动、可靠地产生极弱的等离子体来处理诸如TEM碳膜和对热等敏感样的品。 为什么Tergeo EM可以轻松处理易破和热敏性样品？ Tergeo EM等离子清洗机集成SmartClean TM独特的等离子传感器，可以实时测量等离子强度，系统控制器不断地了解等离子体的状态。如果等离子体未能在低射频功率设置下点燃，系统将自动增加射频功率，直到等离子体点燃。一旦等离子体点燃，系统将立即将射频功率降低到配方设置。这一功能使Tergeo EM的射频功率比同产品功率低得多。 同系统中包含两种直接浸泡和远程Downstream清洗模式。远程Downstream清洗模式提供了一种温和的处理方法，可以显著减少传统直接模式等离子体系统中的样品加热、离子溅射问题。 系统还可选择脉冲模式操作，该模式能够可靠地产生平均功率小于0.25瓦的极弱等离子体。

超声波清洗机的优势如下：①彻底清洁工件死角：超声波清洗机对于手工及其它清洗方式不能完全有效地进行清洗的工件，具有显著的清洗效果，可彻底地达到清洗要求、清除复杂工件藏角死角处污渍；②多种工件批量清洗：不管工件形状多么复杂，将其放入清洗液内，只要是能接触到液体的地方，超声波清洗作用都能达到。超声波清洗机对形状和结构复杂的工件尤为适用；③多功能清洁：超声波清洗机可结合不同的溶剂达到不同的效果、满足不同配套生产工艺，如：除油，除锈、除尘、除蜡、除屑、除或磷化、钝化、陶化、电镀等。④减少污染：超声波清洗可有效地降低污染，减少有毒溶剂对人类的损害，环保高效。⑤减少人工：运用超声波清洗机可实现工件全自动清洗、烘干，只需在工件清洗上下料端各配置一名操作员工即可，大大减少了人工清洗所需要的人员数量和清洗时间。⑥缩短作业时间：超声波清洗机清洗与人工清洗相比，清洗时间缩短为人工清洗的四分之一；⑦降低劳动强度：手工清洗：清洗环境较恶劣、体力劳动繁重、复杂机械零件需需要长时间清洗超声波清洗：劳动强度低、清洗环境整洁有序、复杂零件自动高效清洗。⑧环保节能：超声波清洗配套循环过滤系统，可实现清洗溶剂的循环过滤反复使用，对于节约水资源、清洗溶剂成本、提高企业环保形象具有重大意义

北京陕西山东超声波清洗机的优势如下：①彻底清洁工件死角：超声波清洗机对于手工及其它清洗方式不能完全有效地进行清洗的工件，具有显著的清洗效果，可彻底地达到清洗要求、清除复杂工件藏角死角处污渍；②多种工件批量清洗：不管工件形状多么复杂，将其放入清洗液内，只要是能接触到液体的地方，超声波清洗作用都能达到。超声波清洗机对形状和结构复杂的工件尤为适用；③多功能清洁：超声波清洗机可结合不同的溶剂达到不同的效果、满足不同配套生产工艺，如：除油，除锈、除尘、除蜡、除屑、除或磷化、钝化、陶化、电镀等。④减少污染：超声波清洗可有效地降低污染，减少有毒溶剂对人类的损害，环保高效。⑤减少人工：运用超声波清洗机可实现工件全自动清洗、烘干，只需在工件清洗上下料端各配置一名操作员工即可，大大减少了人工清洗所需要的人员数量和清洗时间。⑥缩短作业时间：超声波清洗机清洗与人工清洗相比，清洗时间缩短为人工清洗的四分之一；⑦降低劳动强度：手工清洗：清洗环境较恶劣、体力劳动繁重、复杂机械零件需需要长时间清洗超声波清洗：劳动强度低、清洗环境整洁有序、复杂零件自动高效清洗。⑧环保节能：超声波清洗配套循环过滤系统，可实现清洗溶剂的循环过滤反复使用，对于节约水资源、清洗溶剂成本、提高企业环保形象具有重大意义

设备超声波清洗原理：超声波清洗是通过超声波换能器转换成高频震荡而传播到清洗液中去的，超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射，使液体产生数以万计的小气泡。这些小气泡在超声波纵向传播形成的负压区形成、生长，而在正压区迅速闭合，这种现象称为“空化效应”，气泡在闭合时可产生1000个大气压的瞬间高压，就像一连串的小“爆炸”不断的冲击工件表面，使工件表面及缝隙中的污垢迅速剥落，从而达到清洗工件的目的。心齐光学超声波清洗机前处理手动式超声波清洗机，该设备为手动式超声波清洗机，设备共有11个功能槽，由循环过滤系统、自动恒温系统、储液箱系统、抛动系统等组成。设备采用水溶剂洗涤、纯水漂洗、IPA脱水、慢拉烘干，设备为环保型清洗机。设备特点：1、采用进口不锈钢板及元器件，全不锈钢结构，外型美观耐用。2、采用进口优质换能器，超声功率输出强劲。3、清洗槽与发生器采用分体式设计，使用方便。4、发生器采用新电路，功率可调。5、超声波震动方式分别有底振和边振两种，适合不同的清洗要求。6、使用环保型水基中性清洗剂、市水或纯水等。使用超声波清洗机的时尚：相比传统的清洗方式，超声波清洗机显示出了巨大的优越性。尤其在专业化、集团化的生产企业中，已逐渐用超声波清洗机取代了传统浸洗、刷洗、压力冲洗、振动清洗和蒸气清洗等工艺方法。深圳市心齐超声波设备有限公司专业生产销售【超声波清洗机】,价格优惠,厂家直销。各种超声波清洗机,超声波清洗机厂家真诚为您报价。 杨先生

等离子清洗机在电子行业的应用如下：1.硬盘塑料件科学的发展，技术的不断进步，电脑硬盘的各项性能也不断提高，其容量越来越大，碟片数量随之增多，转速也高达7200转/分，这对硬盘结构的要求也越来越高，硬盘内部部件之间连接效果直接影响硬盘的稳定性、工作可靠性、使用寿命，这些因素直接关系到数据的安全性。为了确保硬盘的质量，知名硬盘生产厂家对内部塑料件在粘接前均进行各种处理，应用较多的是等离子处理技术，使用该技术能有效清洁塑料件表面油污，并能增加其表面活性，即能提高硬盘部件的粘接效果。实验表明，硬盘中使用等离子处理过的塑料件在使用过程中持续稳定运行时间显著增加，可靠性及抗碰撞性能有明显的改善。2.耳机听筒耳机中的线圈在信号电流的驱动下带动振膜不停的振动，线圈和振膜以及振膜与耳机壳体之间的粘接效果直接影响耳机的声音效果和使用寿命，如果它们之间出现脱落就会产生破音，严重影响耳机的音效和寿命。振膜的厚度非常薄，要提高其粘接效果，使用化学方法处理，直接影响振膜的材质，从而影响音效。众多厂家正准备使用新技术来对振膜进行处理，等离子处理就是其中之一，该技术能有效提高粘接效果，满足需求，且不改变振膜的材质。经实验，用等离子清洗机处理生产的耳机，各部分之间的粘接效果明显改善，在长时间高音测试下也不会有破音等现象发生，使用寿命也有很大的提高。3.手机外壳手机的种类繁多，外观更是多彩多样，其颜色鲜艳，Logo醒目，但使用手机的人都知道，手机在使用一段时间后，其外壳容易掉漆，甚至Logo也变得模糊不清，严重影响手机的外观形象。知名手机品牌厂家为了寻找解决这些问题的方法，曾使用化学药剂对手机塑料外壳进行处理，其印刷粘接的效果有所改善，但这是降低手机外壳的硬度为代价，为了寻求更好的解决方案，等离子技术脱颖而出。等离子表面处理技术不仅可以清洗外壳在注塑时留下的油污，更能活化塑料外壳表面，增强其印刷、涂覆等粘接效果，使得外壳上涂层与基体之间非常牢固地连接，涂覆效果非常均匀，外观更加亮丽，并且耐磨性大大增强，长时间使用也不会出现磨漆现象。等离子清洗机作用效果：（A）对材料表面的刻蚀作用--物理作用 等离子体中的大量离子、激収态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。（B）激活键能，交联作用等离子体中的粒子能量在 0~20eV，而聚合物中大部分的键能在 0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基中的这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。（C）形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。深圳市东信高科自动化设备有限公司,专注等离子表面处理工艺。网址：

1.基本信息品牌与型号：ADT WCS-977用途：晶圆清洗别名：晶圆清洗机规格尺寸：W410 X D625 X H980 mm（可能因具体产品有所差异）产地：可能涉及多个生产地，但具体ADT WCS-977的产地信息可能因供应商或生产批次而异2.设备组成与工作原理设备组成：主体材质：内部不锈钢、外表烤漆涂装旋转装置：变频马达依需求调整转速二流体及吹气装置：步进马达控制摆臂速度及摆幅真空吸盘：内置真空发生器，支持6寸或8寸真空陶瓷吸盘控制单元：可编程控制器，方便存储工艺参数、过程监控及显示安全装置：安全联锁装置，信号灯指示二氧化碳注入单元：通过膜接触器实现超纯水的洁净CO2注入工作原理：晶圆连同绷框置于旋转的吸盘上面，通过真空吸盘吸住晶圆。吸盘下方的变频马达用于清洗、吹干及旋干时的转动。利用步进马达转动二流体喷嘴及喷气嘴，喷洒清洗剂及清除切屑、杂质，并吹干水分。3.技术参数晶圆大尺寸：可能支持多种尺寸，但具体需根据产品说明转速范围：可能达到500-3000 rpm（具体根据设备型号和配置）电源电压：230VAC 50Hz 5A（可能因地区和设备配置有所不同）CDA供给压力：0.5-0.6 MPaCDA大消耗量：3 m³ /h去离子水供给压力：0.2-0.3 MPa去离子水大消耗量：100 L/h4.应用与优势应用域：半导体制造过程中的晶圆清洗，包括扩散清洗、栅氧化清洗、外延清洗等多个环节。优势：清洗精度高，能够有效清洗晶圆背面、斜面及边缘。避免晶圆片之间的交叉污染。自动化程度高，提高生产效率。

清洗阳极化处理机： 清洗机主要用于制作铝蜂窝芯材时对铝箔表面去油污清洗及表面磷酸阳极化处理，设备由碱槽清洗、磷酸阳极化处理、涂底胶、铝箔烘干、切边、收卷等功能。通过编程实现铝箔清洗及表面处理的自动化生产。

酸蒸逆流清洗机UP-52由罐体、控制模块、石墨加热板构成，可清楚器皿表面所有可溶于酸的痕量金属污染物，确保了痕量分析和超痕量分析的准确性。　　　　酸蒸逆流清洗机产品概述　　　　酸蒸逆流清洗机UP-52由罐体、控制模块、石墨加热板构成，可清楚器皿表面所有可溶于酸的痕量金属污染物，确保了痕量分析和超痕量分析的准确性。　　　　工作原理　　　　利用酸亚沸状态，产生纯净酸蒸汽。通过自然冷凝酸蒸汽与器皿表面接触凝结成液珠，在重力条件下回流到桶内，反复循环。将器皿表面的金属离子溶解带走，达到清洗的目的。　　　　酸蒸逆流清洗机性能参数产品型号UP-52支架位数60位（可定制）温控范围0~240 ℃泄压阀过压保护，自动泄压保护处理量≥60个 55 mL消解反应罐（一次）石墨加热器功率≤2.2kw酸蒸馏超净清洗环境密闭冷却方式自然空气冷却，不使用冷却水适用试剂盐酸、硝酸、水清洗时间＜4小时（常规）清洗范围适用于所有的痕量和超痕量分析用的反应器清洗　　性能优势　　　　1.清洗机采用TFM特氟龙原料一体化成型，加热部分是高纯石墨加特氟龙喷涂处理；　　　　2.采用中空结构的支撑蒸汽喷管，进口PFA材料；　　　　3.石墨炉底部有隔热，底部温度不超过60℃（炉温180℃时）；　　　　4.5寸触屏（有线）PID控制器，可阶梯控温，可控制升温速度；　　　　5.自定义温度曲线，可保存自定义方法；　　　　6.超温保护、定时自动停止加热功能；　　　　7.底部有手动排酸阀，打开排酸阀时底部有斜度能自动排干；　　　　8.支持WIFI无线控制（选配），控制元器件远离酸环境；　　　　9.清洗后的酸可以重复使用；　　　　10.排酸时，可使用排酸阀排酸；　　　　11.清洗容器的表面接触酸蒸汽浓度，所有内部接触部件均采用高纯特氟龙材料，清洁度能达到PPB级。　　　　酸蒸逆流清洗机清洗对象　　　　可以对实验室玻璃、陶瓷、金属、塑料和橡胶等材质各种形状尺寸的器皿进行清洗消毒，包括培养皿、玻片、移液管、消解罐、色谱瓶、试管、三角瓶、锥形瓶、烧杯、烧瓶、量筒、容量瓶、西林瓶、血清瓶、漏斗等。　　　　应用领域　　　　政府性质的实验室：质检、法医、商检、疾病预防控制中心、环境监测站、食品药品监督管理局等。　　　　企业性质实验室：食品、化妆品，生物制药、化工、奶制品、石化等。　　　　第三方检测机构实验室：比如瑞士通标（SGS），英国的天祥（Intertek）以及国内第三方检测机构。　　　　研究院所：如医药学院、生物研究院、地球化学研究所、材料研究所、农业研究院等。　　　　酸蒸逆流清洗机使用方法　　　　1、使用前的准备　　　　使用前检查半自动酸蒸逆流清洗器各部位螺钉、螺母是否有松动现象，泵偏心轴箱内已加入30#或40#机油，需检查油位。　　　　2、进水管连接　　　　将进水胶管套在泵体的进水口接头上，然后套上喉卡，拧紧喉卡上的螺钉，保证连接牢固且不漏气。然后按水源的情况将另一端套在自来水龙头上或放入供水池中，进水管要求安装过滤器，以免吸入的杂质损坏高压泵。　　　　3、出水管连接　　　　把高压胶管的插入接头端与机具出水口上的快换接头相连；另一端与喷枪扳机式阀上的螺纹接头相连。注意：高压水管不能绞结，尽量延展、拉直。　　　　4、电源连接　　　　先要确定电源电压与标牌规定相一致，半自动酸蒸清洗机UP-52所采用的固定电源的连接应由专业人员进行，并应符合GB/T16895的要求。如果使用延伸电源线，插头和插座应是防水结构的。

诚峰智造是一家专业致力于提供等离子设备及工艺流程解决方案的高新技术企业。源于美国&德国30年Plasma生产制造及研发技术，公司全资拥有CRF品牌下等离子设备研发，生产，制造技术，设备范围涵盖汽车制造业。手机制造业，医疗行业，织物印染行业，重工业，半导体封装行业，新能源行业，IC半导体领域，FPC/PCB领域，LED显示屏组装等行业。CRF诚峰智造，现已成为中国专业的等离子处理系统解决方案等离子设备供应商。在线式真空等离子清洗机厂家直销：在线式真空等离子处理系统CRF-VPO-8L-S名称（Name）真空式等离子处理系统型号（Model）CRF-VPO-8L-S控制系统（Control system）PLC+触摸屏电源（Power supply）380V/AC,50/60Hz,3kw中频电源功率（MF Power）600W/13.56MHz容量（Volume）80L（Option）层数（Electrode of plies）8（Option）有效处理面积（Area）400（L）*300（W）（Option）气体通道（Gas）两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2产品特点：超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。保养维修成本低，便于客户成本控制。高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 等离子体的”活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。 等离子清洗设备的原理是在真空下,然后利用交流电场使工艺气体成为等离子体,并与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质, 由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去, 从而使工件达到表面清洁活化。等离子清洗是剥离式清洗, 等离子清洗的特点是清洗之后对环境无污染。在线式等离子清洗设备是在成熟的等离子体清洗工艺技术和设备制造基础上, 增加上下料、物料传输等自动化功能。针对IC封装中引线框架上点胶装片、芯片键合及塑封等工艺前清洗, 大大提高粘接及键合强度等性能的同时, 避免人为因素长时间接触引线框架而导致的二次污染以及腔体式批量清洗时间长有可能造成的芯片损伤。 在线式真空等离子清洗机的主要结构包括:上下料推料机构、上下料置取料平台、上下料提升系统、上下料传输系统、上下料拨料机构、反应仓、设备主体框架和电气控制系统等。 在线式真空等离子清洗机自动搬运物料的设计理念,与常规等离子清洗系统相比,降低了人工搬运过成,提高了设备自动化水平。 等离子清洗属于一种高精密的干式清洗方式,原理是在真空状态下利用射频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢等工艺气体激发成具有高反应活性或高能量的离子,通过化学反应或物理作用对工件表面进行处理,实现分子水平的沾污去除,提高表面活性。对应不同的污染物,应采用不同的清洗工艺,达到很好清洗效果。 随着在线式真空等离子清洗机及工艺在IC封装领域内的应用越来越广泛,并以其优良的工艺性能促进了微电子行业技术的快速发展,成为21世纪IC封装领域内关键生产装置,成为提高产品可靠性和成品率的重要手段,是生产中不可缺少的步骤。 性能优势: 1、原装进口电源：采用原装进口高压激励电源电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果。 2、全面安全防护：温度安全防护功能，过载防护功能，短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。 3、独有放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体。 4、密封性卓越的真空腔体设计：军工级的高真空度真空腔体设计及制造工艺，配置进口真空泵。 5、优质产品部件：产品全部部件采用国内外优质部件，确保设备性能优越 6、超低清洗温度：满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响。 7、精密数控加工：进口精密CNC数控机床加工工艺，并配备进口三坐标测量仪进行质量监控。 8、适用形状复杂样品：清洗各种复杂形状的产品，包括内孔内壁，均匀清洗。

用于实验室玻璃、陶瓷、金属或塑料等材质器皿的清洗，同时可以清洗容量瓶，进样小瓶，广口瓶、三角瓶、量筒、鸡心瓶、比色管、培养皿等。基本技术参数： 进水要求:市政自来水和漂洗用实验室纯水 工作环境：5-40℃ 电源:220V -230V ，单相电 50HZ 清洗腔容积:170L 循环泵功率：700W（双循环泵设计） 加热率：2000/3800W；可选保证迅速达到合格的清洗和漂洗温度 316L不锈钢内胆，具有超强的防腐功能 单层时清洗容器高度可达到450mm 设备可内钳水槽式安装 外型尺寸：长×宽×深（560×500×680mm）技术性能： 开机自检、在线同步显示水温、运行时间、运行步骤等参数；控制系统具有35个标准清洗程序和100个自定义编程清洗程序保证满足用户的清洗要求；原装进口循环泵及循环速度感测器保证高速适压的喷淋过程；进水管与自来水连接处标配网状过滤器，保证流量控制器的监测数据；清洗机的内腔都是由整版的316L不锈钢板经过弯曲、冲压加工而成，防腐蚀，内腔采用AISI 316L抛光，圆角和底面斜坡设计，保证内腔清洁；椭圆形扁平旋转水臂带有一字矩形型喷水缝隙，水柱喷洒范围广，清洗更彻底；双蒸汽冷凝系统，保证清洗腔内的热蒸汽能迅速转换成水；标配PT1000双探头温度传感器，确保清洗过程中的温度准确；可选择粉沫和液态两种清洗剂，清洗剂液位控制系统，以保证清洗过程中清洗剂正常使用；漏水保护装置和设备过温保护能够保护仪器出现漏水或超温时时能自动关闭进水阀并关机；仪器带有多重过滤系统，过滤系统中带有拉圾收集网，易于清理；双蠕动泵设计，原装进口电机，保证进液的准确性，清洗剂量可调；故障诊断、防水控制面版让用户更安全的运用仪器；大透视窗，洗涤状态一目了然；提供内胆重力对流干燥系统，可对清洗后的玻璃器皿进行燥干；开盖止停，确保操作安全；微压屏按键设计，避免积水引起误动作。

工业超声波清洗机工业超声波清洗机的优势如下：①彻底清洁工件死角：超声波清洗机对于手工及其它清洗方式不能完全有效地进行清洗的工件，具有显著的清洗效果，可彻底地达到清洗要求、清除复杂工件藏角死角处污渍；②多种工件批量清洗：不管工件形状多么复杂，将其放入清洗液内，只要是能接触到液体的地方，超声波清洗作用都能达到。超声波清洗机对形状和结构复杂的工件尤为适用；③多功能清洁：超声波清洗机可结合不同的溶剂达到不同的效果、满足不同配套生产工艺，如：除油，除锈、除尘、除蜡、除屑、除或磷化、钝化、陶化、电镀等。④减少污染：超声波清洗可有效地降低污染，减少有毒溶剂对人类的损害，环保高效。⑤减少人工：运用超声波清洗机可实现工件全自动清洗、烘干，只需在工件清洗上下料端各配置一名操作员工即可，大大减少了人工清洗所需要的人员数量和清洗时间。⑥缩短作业时间：超声波清洗机清洗与人工清洗相比，清洗时间缩短为人工清洗的四分之一；⑦降低劳动强度：手工清洗：清洗环境较恶劣、体力劳动繁重、复杂机械零件需需要长时间清洗超声波清洗：劳动强度低、清洗环境整洁有序、复杂零件自动高效清洗。⑧环保节能：超声波清洗配套循环过滤系统，可实现清洗溶剂的循环过滤反复使用，对于节约水资源、清洗溶剂成本、提高企业环保形象具有重大意义

实验室清洗机产品特点：1.2*500L/MIN双大流量双循环喷淋系统设计，上下独立喷淋，清洗仓内水帘分布均匀360无死角，保证高标准备的清洗效果；2.双层隔热玻璃门设计，内置防水照明装置，可实时观察清洗仓内情况。充足清洗空间，可实现单次清洗更多的器皿；3.主机与电脑无线链接，实现洗瓶机局域网内的远程控制功能；4.自动吸合智能门锁装置可实现轻松安静关闭仓门，防止关闭仓门时的引起器皿振动，同时保证仓门完全密闭，防止污水或热气外泄，保证人员安全；5.配置不同的清洗篮架组合方案，轻松实现对不同种类器皿的有效清洗；6.微电脑控制系统，可自由选择30种清洗模式，自由编辑100种自定义清洗模式；7.配备USB接口，可用于升级程序，存储有效数据，真正做到清洗数据可查询、可追溯、可重复。还配备 232串口可选配接打印机，打印清洗记录存档备查；8.进水流量计和水位开关双重测控进水量，有效保障清洗用水与清洁剂的配比；9.三重污水循环过滤装置有助于阻止水中颗粒物、碎片再次循环，循环泵逆流过滤保护部件使用寿命；10.大容积的冷凝装置，快速将水蒸气转换为液体排放掉，避免增加房间的湿度，同时保护电子器元件不受损坏；11.高效烘干系统由空气加热器，大容积冷凝器，HEPA过滤器和高效风机组成，在循环加热，吹汽，冷凝，排放的过程中快速，洁净地烘干器皿内部和外部。实验室清洗机参数： 清洗消毒机DBT-RD-WII整机形态参数立式可视窗外形尺寸635（L)×735(W)×1400(H)重量220Kg主洗仓容量190L进料装载正面装载主洗仓门下拉式/双层中空钢玻透视门外壳材质304不锈钢珠光板主洗仓材质316不锈钢电源及控制程式全自动供电电源AC220V-50Hz加热功率4KW清洗泵功率2*0.9KW烘干功率2.5KW总功率8.5KW电源线缆3.5m-3×4.0mm2清洗消毒程序微电脑控制可自由选择30种系统预设程序设置，自由编辑100种自定义程序设置操作显示界面触摸面板，蓝屏液晶界面门控电子门锁+自吸式设备保护功能程序运行保护+高温保护+流量液位保护安全保护1.防止操作面板的误操作造成的安全隐患。2.在运行状态下锁定清洗仓门，杜绝清洗液溅出的安全隐患。3.在设定的高温状态下锁定清洗仓门，杜绝烫伤隐患。数据传输局域网内通过电脑、手机无线连接，可以远程操作，编辑升级程序,下载打印数据循环清洗后进水循环清洗城市自来水水流压力0.5～4Bar，2m长进水管：4分入水接口纯净水水流压力0～4Bar，2m长进水管：4分入水接口循环泵流量2*500L/min循环进水方式后进水方式纯净水进水泵标配7 L/MIN（可选配）排水泵及排水管DP4.0-50DR大流量排水泵，3.0m长20耐高温波纹软管清洗剂供给泵DB-AZB-L16碱式蠕动计量泵自动定量添加中和液供给泵DB-AZB-L17酸式蠕动计量泵自动定量添加单次耗水量13L温度控制常温～93℃（以1℃为单位可调）蒸汽冷凝器304不锈钢换热器+不锈钢盘管冷凝器清洗篮架装载双层装载清洗篮架依客户洗瓶种类配置（标配AQ032/AH032全注射式（细颈,粗颈瓶））洁净烘干热风烘干风机耐高温旋涡式高压吸风泵空气流量120立方/小时空气过滤高效空滤温度控制常温～120℃（以1℃为单位可调）时间控制1～300分钟（以1分钟为单位可调）

1. 产品概述：GAMA系列6/8英寸全自动槽式清洗机满足全部湿法工艺需求，覆盖RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等应用，可用于典型0.35um、0.18um工艺节点，可支持90nm工艺节点，可兼容6寸和8寸晶圆。2. 设备应用： 晶圆尺寸 6、8 英寸 适用材料 硅，碳化硅，硅基氮化镓 适用工艺 预清洗、去胶清洗、氮化硅去除、金属去除(Co,Ti)、Recycle 清洗、抛光后清洗、Epi 前清洗、 Epi 后清洗 适用领域 集成电路、衬底材料、化合物半导体、功率半导体 3. 特色优点：北方华创 GAMA Series 清洗机在腐蚀均匀性方面表现卓越。腐蚀均匀性对于保证芯片制造的一致性和稳定性具有关键意义。这款清洗机通过精心设计的流体流动系统、化学溶液分布机制以及温度控制策略，确保在整个晶片表面实现高度均匀的腐蚀效果。无论是在大面积的晶片还是复杂的图形结构区域，都能保持腐蚀程度的一致性。可能采用了多喷头均匀喷淋、旋转式清洗等技术，使化学溶液能够均匀地覆盖晶片表面，避免出现局部腐蚀过度或不足的情况。同时，精准的温度控制系统能够确保整个清洗过程中温度的均匀性，因为温度的差异可能会影响腐蚀反应的速率和均匀性。在实际应用中，即使面对不同材质和厚度的晶片，该清洗机也能提供出色的腐蚀均匀性，从而有效提高芯片的质量和性能。 4.设备特点 结构设计紧凑，占地面积小 模块化设计，配置灵活、可扩展 成熟的工艺槽设计，确保工艺稳定性 精确的化学称量系统，实现高质量工艺

清洗机YAMATO实验室清洗机AW47产品介绍：台式、半自动实验室清洗机。使用简单方便，可以一个房间配置1台的个人台式清洗机。● 只要设置时间，按下开关后即可自动运行的简易设备。● 采用上下2个方向的强压喷射方式，以及回旋喷头无死角喷射，高漂洗效果的清洗设备（可使用洗涤剂）。● 标配清洗水加热器，无需另外配备热水器及相应配管作业。● 更换强力喷射框（选配），可以清洗较难清洗污渍。清洗机YAMATO实验室清洗机AW47规格：型号AW47性能清洗方式上下2个方向压力喷射方式，喷嘴回旋式（可更换使用喷射框）供水温度室温~60℃热水供水方式加热器（内置：1kW)供水压力0.1~0.3MPa容器架台架台（标准）（清洗框选配）供排水方法供水：电磁阀开关排水：自然落差排水构造? 规格外装钢板，表面耐药品性喷涂内装不锈钢钢板外形尺寸宽450×深490×高875mm内槽尺寸宽420×深450×高570mm泵AC100V 50/60Hz 200W回转台直径420mm门上下开闭式重量约43kg电源（50/60Hz）AC100V 15A附属品供水管（带结合器）2m 1根排水管（内径25.4mm）1.5m 1根塑料盖1个专用洗涤剂（无磷）1kg、计量勺（50mL用）1个供水口组件 1套

惠柏兆声波清洗机温馨提示：兆声波清洗机有标准品，也可以根据客户需求定制，大陆只有销售兆声波清洗机的核心部件（兆声波电源+振板），标准品没有包含金属水槽，金属水槽也可以特别定制！

台式清洗机ZL1-60A产品介绍： “左乐”品牌加热型超声波清洗器除其本身具有的清洗功能外，还具有提取、乳化、加速溶解、粉碎、分散等多种功能。广泛应用于：机械、电子、塑胶、仪器仪表、环保、医药、包装、军工、航天航空、船舶、汽车等行业的制造及维修清洗；实验材料吸管、吸咀及器皿的清洁，层析前的脱气处理，医疗器械、医用材料及用具的清洁；珠宝、首饰、手表、贵重金属、宝石、硬币、眼镜等的清洗。台式清洗机ZL1-60A主要特征:1.时间设定: 0-30 分钟数码显示可调；2.温度设定: 室温~80℃数码显示可调；3.产品材质：内胆、外壳均采用优质不锈钢；4.产品优点：清洗槽采用冲压成形，无焊缝；5.元件品质:超声波元件均采用进口的高质量配件；6.排水系统：6L及以上机型均安装排水球阀；7.散热系统：10L及以上均安装高效散热风扇。台式清洗机ZL1-60A技术参数:型号容量超声功率超声频率加热功率清洗槽尺寸排水价格LWKHZW(LⅹwⅹH)mm（元）ZL1-60A1.3L604050150×140×65无1900ZL2-80A2L804050150x140x100无2400ZL3-120A3L12040100240x135x100无3100ZL6-180A6L18040200300x150x150有3500ZL10-250A10L24040250300x240x150有4300ZL14-300A14L30040400300×240×200有6300ZL15-360A15L36040400330×300×150有6700ZL19-420A19L42040600330×300×200有11500ZL22-500A22L48040600500×300×150有11800ZL30-600A30L60040800500×300×200有13800实物图展示：

1. 产品概述：G&P 的 CMP 后清洗机是用于晶圆在化学机械抛光（CMP）后的专用清洗设备。它通过一系列清洗工艺，如漂洗、双面刷洗、兆声清洗等，有效去除晶圆表面在 CMP 过程中残留的有机物、颗粒、金属、氧化层等污染物，确保晶圆表面的洁净度，为后续的半导体制造工序提供高质量的晶圆。该清洗机有单工位、转位式、连线式等不同结构，以适应不同的应用场景，其中连线式设备还加配全自动上下片系统，集成度高，占地面积小，可实现湿进干出。2. 设备应用： 半导体集成电路制造：在半导体芯片的生产流程中，CMP 后清洗机是关键的设备之一。经过 CMP 后的晶圆需要通过清洗机进行彻底清洗，以去除各种污染物，保证芯片的性能和质量。例如，在逻辑芯片、存储芯片等制造过程中，CMP 后清洗机确保了晶圆表面的清洁，为后续的光刻、蚀刻、镀膜等工序创造了良好条件。 半导体器件制造：对于各类半导体器件，如二极管、三极管、功率器件等，CMP 后清洗机同样起到重要作用。清洗后的晶圆可以提高半导体器件的成品率和可靠性，满足半导体器件对晶圆表面质量的高要求。 其他电子元件制造：在一些对晶圆表面洁净度要求较高的电子元件制造中，如光电器件、MEMS 器件等，CMP 后清洗机也得到了广泛应用，有助于提升这些电子元件的性能和生产效率。3. 设备特点： 高效清洗能力：具备多种清洗方式，如双面刷洗能够全面清洁晶圆表面，兆声清洗则可以有效去除微小颗粒和污染物，实现高效的清洗效果，确保晶圆表面无 0.1μm 及以上颗粒存在。 高兼容性：通过更换夹具，可兼容 4-12 英寸等不同尺寸的晶圆，满足多种规格晶圆的清洗需求，具有广泛的适用性。 自动化程度高：例如连线式设备配有全自动上下片系统，采用 PLC 系统和触摸屏控制，一键式自动完成刷洗清洗加工，操作简便，使用更加方便，提高了生产效率和减少了人工操作可能带来的误差。 工艺参数精准控制：能够精确控制清洗过程中的各项参数，如兆声频率、清洗温度、清洗时间、转速等，以满足不同晶圆和污染物的清洗要求，保证清洗的稳定性和一致性。 可靠性强：具有稳定可靠的机械结构和控制系统，能够在长时间的生产运行中保持稳定的性能，减少设备故障和停机时间，确保生产的连续性。4. 产品参数： 清洗工位：有单工位、转位式等不同类型。 兼容晶圆尺寸：一般可兼容 4-12 英寸的晶圆。 兆声频率：例如常见的为 0.8-1.0MHz 左右，不同型号设备可能有所差异。 旋转速率：如最大旋转速率可达 2000rpm（具体不同位置的旋转速率可能不同，如 PVA 刷最大转速可能为 400rpm 等）。 清洗流量：像 DIW 清洗最小流量为 1.5L/min，且可能支持多路化学清洗。 烘干方式：通常采用 N2 加热烘干与甩干衬底等方式。实际参数可能会因设备的具体配置和定制需求而有所不同。

GDR-10PM台式等离子清洗机是我公司针对实验室需要专门开发的一款小型台式等离子清洗机，PLC人机全自动控制，内置电极。广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过等离子清洗机的处理,能够改善材料的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。台式小型等离子清洗机技术参数◆ 设备外形尺寸 600(W)×620(D)×400(H)mm◆ 仓体结构(不锈钢，约10升) Φ210 × 300(L) mm◆ 电极面积(内置电容耦合电极) 100(W) ×200(D) mm◆ 等离子发生器(韩国KM) 频率40KHZ,功率0-200W连续调节,自动阻抗匹配 ◆ 控制系统 触摸屏（7寸）+PLC单步法全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界著名品牌电器元件, 并具有手动、自动两种模式◆ 真空系统 德国莱宝(Leybold)真空泵 D16C (20m3/h) SMC截止阀、充气阀，德国(Inficon)压力传感器◆ 压力控制 PID闭环自动稳压控制（专利技术），控制精度±1Pa◆ 气路系统 2路工艺气体配置，电子质量流量计、针阀，美国飞托克(FITOK)气体管路等离子清洗机可用于广泛的表面工程应用，包括表面清洁，表面灭菌，表面活化，表面改性，用于键合和粘合的表面制备，表面化学改性以及聚合物的表面处理。生物材料通过活化，接枝和表面涂覆

Diener Pico 等离子清洗机 详细介绍：TURN][RE

产品详情德国Diener 等离子清洗机Pico 详细介绍

Plasma Cleaner等离子清洗机NPC-4000（M）等离子清洗机概述：NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。NPC-4000（M）等离子清洗机产品特点紧凑型立式系统手动上下载片不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级超净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐最多可支持8个MFC带电抛光的气体管路PC计算机控制的气动阀带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁NPC-4000（M）等离子清洗机应用：有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性，消除键合问题塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面NPC-4000（M）等离子清洗机Features：Stand Alone SystemManual wafer Load/UnloadStainless Steel, Aluminum or Bell Jar ChambersClass 100 Clean Room CompatibleShower Head, ICP or Microwave Plasma SourcesRotating PlatenRF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled PlatenFully Automated or Manual RF tuningUp to 8 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas LinesPC Controlled Pneumatic ValvesMultiple Levels of Access with Password ProtectionPC Controlled with LabVIEWMechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr 250 l/sec Turbomolecular Pump5x10-7 Torr Base PressureFully Safety InterlockedNPC-4000（M）等离子清洗/去胶机 Applications:Removal of Organic and Inorganic Materials without ResiduesPhotoresist Stripping or AshingDesmearing and Etch Back Applications Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead FramesAdhesion Promotion, Elimination of Bonding Problemsurface Modification of Plastics: O2 Treatment for PaintabilityProducing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces