兆声大基片清洗系统

用于清洗罐的清洁系统用于清洗罐的清洁系统，高容量，全自动化，易于使用，大大提高了实验效率。1、用于清洗罐的清洁系统 EPA方法符合TO-14A/15要求。2、用于清洗罐的清洁系统 强大的泵在30分钟内可以达到50mTorr，供为12个6 L的罐使用。3、用于清洗罐的清洁系统 定制托盘用于不同型号的罐.4、用于清洗罐的清洁系统 保修一年.5、用于清洗罐的清洁系统 完全组装好以供使用。Wasson-ECE的TO罐清洁系统是一个革命性的清洁系统，它设计成自动猜测罐的清洗。该系统完全自动化，允许用户开启一个清洗周期，然后无需人看护。这是一个高性能的系统，容易使用，并持续产生良好的结果。缩短一半的清洗时间更快地完成清洁工作—内部持有比类似型模型2倍的高强性能，这就使得你在一半的时间内完成清洁工作。EPA 方法TO-14A/15 最多可容纳12个6升或24个1升的罐。用你的指尖控制炉温恒温箱清洗能同时罐和阀门，比加热频带系统更快更彻底。温度可调，最高为110°C。容易创建客户清洗程序使用主板上的触摸屏控制器，可创建多达10种不同的方法。自定义循环周期的数量，压力，和浸泡时间。然后保存方法供以后使用。确保一致的操作程序，并让操作更加简单到只要按下“启动”键。容易创建客户自定义方法。选择保存一个快速启动的方法和一致的程序。确保性能简单，可用于车载诊断用嵌入式诊断软件，你触摸一个按钮就可以检查泄漏和测试阀的操作。快速和简便的系统验证，确保有效的清洁。不再需要单独的计算机控制。产品描述 包装量 货号# TO-清洁烘箱, 120 V, 60 Hz 单个 22916TO-清洁烘箱, 220/230 V, 50/60 Hz 单个 22917可选的附件（不包括TO清洁烘箱） 包装量 cat.# 烘箱推车, 高29" x 宽48" x 深30" , 12号钢，推柄和脚轮 单个 22919 1L选项：包括油管，接头，可容纳24个1 L的罐 单个 22920 3 L 选项：包括油管，接头，可容纳12个3 L的罐 单个 22126 Mini-型 选项：包括油管，接头，可容纳48个400毫升的罐或48个1,000毫升迷你罐。 单个 22127运输：除非另有要求，联邦地面快递，运输成本取决于船舶的位置。备注：烘箱是根据客户要求的制造的，因此，所有订单需要10周的交货时间。取消和退货政策适用于TO-清洁烘箱 细节请您联系Restek的客服。

小瓶清洗系统是清洗实验室器皿最安全、最有效的方法。该清洗系统由高纯PFA材质制成，专为热浸泡清洗设计，与传统玻璃烧杯相比，更结实耐用。该小瓶清洗系统为全密闭系统，可以消除空气引入的污染，同时避免酸挥发引起的环境污染。可拆卸的倒酸口，可安全倒出酸液，便于取出实验器皿。 设计特点小瓶清洗系统搭配实验室电热板使用，可清洗各种实验室器皿。清洗液可用皂液或无机酸。所有接触酸的部件均由高纯PFA制成。将待清洗的器皿和清洗液放入容量为4L的系统中，盖上容器盖，并用密封圈拧紧密封。附带一个硅橡胶垫片，用于密封时使清洗系统保持在原位。清洗系统的盖子上带有放气阀，内置PTFE过滤膜，避免加热时系统内产生高压。该系统可保持亚沸状态连续加热数天，不引起酸的挥发损失。这样可避免实验人员监控，节省人力成本，同时节省酸的消耗，不引入环境污染。与玻璃烧杯相比，该小瓶清洗系统不易碎，保证人员的安全，更结实耐用。可拆卸的倒酸口，可安全倒出酸液，便于取出实验器皿。小瓶清洗系统可耐受所有的无机酸，可在稀释酸的沸点或近沸点使用。 系统组件小瓶清洗系统由以下部件组成：清洗罐清洗罐盖子?” 螺盖?” 放气孔螺纽密封圈倒酸口配件硅橡胶垫片 最高工作温度小瓶清洗系统的加热温度不能高于450℉（230℃）。超过此温度，将对清洗系统带来不可逆的损坏。 安全注意事项小瓶清洗系统非耐压容器，在加热时须保证放气孔不密闭。必须在通风橱内加热。小瓶清洗系统不能干烧，否则高温会引起不可逆的损坏。

1、不锈钢基片 原子力显微镜AFM基片用于原子力显微镜承载样本之用，边缘光滑，表面平整，不锈钢材料，适合各种品牌的原子力显微镜。 货号产品名称规格75010-1212 mm Specimen Metal Discs for AFM50/pk75010-1515 mm Specimen Metal Discs for AFM50/pk 2、镀金基片镀金样本台具有抗电迁徙、高导电性、高导热性等优秀性能，所以可以作为AFM/STM(原子力显微镜/扫描隧道显微镜)等电镜样本支撑的首选。黄金是最惰性的金属，它和聚合物的粘合是很困难的，除非使用UV光和等离子辉光处理。 金膜厚度0.25微米，全包被。4种直径大小可选。不锈钢本体厚度大约0.76mm。订购信息：货号产品描述规格TP16207镀金样本基片（镀金样本台），10mm20个TP16208镀金样本基片（镀金样本台），12mm20个TP16218镀金样本基片（镀金样本台），15mm16个TP16219镀金样本基片（镀金样本台），20mm4个其它基片简介： 1）镀金硅片可用作纳米领域的基片、扫描电镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）及其它扫描探针显微镜的测距，以及细胞培养，蛋白质DNA 微阵列和反射计等方面。尽管很多实验室拥有镀金能力，但由于很多用户共同使用的原因，设备难免受到不同程度的污染。有资料表明即使轻微污染，也会对细胞成长表层特性造成影响。直径100mm，金镀层10nm，基片厚度525un。 2）镀金云母片 通过将金蒸镀到刚剥离的云母基片制成。建议使用前先进行退火处理。基片的原子表层一经生产便会有玷污发生，退火的金基片也不例外。建议在收到产品后立即使用，可能基片还未被玷污，处于待用状态。但在到货三至四个月后，基片会发生玷污，即使我们将其封装在一个惰性无尘的环境中。通常原子能平台约为300nm宽。经氢焰退火后，尺寸略有增大。原材料为厚度100μm至150μm的云母条。它接下来会被剥离成两片，形成两片厚度大约在50μm至75μm的薄条。

TO-Clean 苏玛罐清洗仪容量大，全自动化，使用方便的采样罐烘箱可以大大地提高实验室的效率。符合美国环保署（EPA） TO-14A/15规范强大的泵在30分钟内可以达到50mTorr，供为12个6 L的罐使用嵌入式触摸屏式控制器自动检测系统内部泄漏情况电动阀控制可依照各种苏玛罐尺寸，进行苏玛罐托盘尺寸定制最多可储存10个由用户自定义的清洗方案恒温炉箱使用Edwards RV-8真空油泵，能将系统内管路压力降至-40 mTorr。用户也可选择升级为干泵不锈钢无缝焊接接头带数码显示的电子压力传感器冷阱和加湿器 泵抽力强，可将6L罐在30分钟内抽空到50 mTorr 托盘可以定做，适应所有尺寸的采样罐 一年的保质期出厂前装配完毕，开包即可使用嵌入式触摸屏式控制器能够让用户只需简单的轻点开始按钮，便可以启动TO-Clean系统的清洗进程。控制器允许用户对清洗方案中的多种参数进行设置，例如清洗循环次数、压力设定和浸泡持续时间。清洗方案在设定完毕后可以储存起来以便以后使用。TO-Clean的触摸屏式控制器能够储存最多10种不同的方案Wasson-ECE的TO罐清洁系统是一个革命性的清洁系统，它设计成自动猜测罐的清洗。该系统完全自动化，允许用户开启一个清洗周期，然后无需人看护。这是一个高性能的系统，容易使用，并持续产生良好的结果。订货信息：货号 描述 电压 26379 Edwards nXDS6i Dry Scroll Pump 120 V, 60 hz 26380 Edwards nXDS6i Dry Scroll Pump 220/230 V, 50/60 hz 26381 Edwards nXDS10i Dry Scroll Pump 120 V, 60 hz 26382 Edwards nXDS10i Dry Scroll Pump 220/230 V, 50/60 hz 清洁罐清洗系统附件可更换:TO-清洁烘箱尺寸: 高 44"x 宽48"x 深27"重量: 525 磅购物车尺寸: 高29" x 宽48"x 深30"重量: 486 磅可选的附件（不包括TO清洁烘箱）包装量cat.#无油真空泵消声器单个26383无油真空泵排气管（20 PVC管材、夹、适配器、O型圈）单个26384烘箱推车, 高29" x 宽48" x 深30" , 12号钢，推柄和脚轮单个229191L选项：包括油管，接头，可容纳24个1 L的罐单个22920Mini-型 选项：包括油管，接头，可容纳48个400毫升的罐或48个1,000毫升迷你罐。单个22127

高通量微阵列清洗器配件专业为玻片清洗，微阵列芯片清洗而设计，拥有耐用的载玻片架，可容纳1-25个25×76毫米规格的玻璃玻片微阵列，可浸入到500ml的缓冲溶液槽。高通量微阵列清洗器配件特色该缓冲溶液槽配备有磁力搅拌棒和盖子，可以防止缓冲物蒸发。高通量微阵列芯片清洗器大大了微阵列芯片干燥前的清洗效率和效果。含独立的缓冲液加快微阵列芯片的处理和清洗速度。是提高基因学，生物医学，制药和农业研究的质量和速度的理想的工具高通量微阵列清洗器配件规格?容量：1?25个微阵列基片?体积：每个清洗步骤400毫升缓冲液。?缓冲液温度：4至50℃?材质：亚克力箱使温和溶剂稳定，如乙醇

SQ型酸逆流器皿清洗装置一、 基本信息 1、名称：酸逆流器皿清洗装置，型号：SQ-210型 SQ-330型 2、清洗对象：适配我厂PFA溶样罐（7、15、30、60ml）、钢套消解罐内衬（10ml等）、各厂家微波消解仪内罐（如美国CEM、迈尔斯通、安东帕、屹尧、新仪、海能、新拓、莱伯泰科等厂家）、各类消解管、离心管、试管、烧杯、坩埚、试剂瓶等实验室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的雾化室和火炬管等的痕量清洗。 3、主要材质 （1）腔体为高纯所有与器皿接触的部分均为高纯实验级PTFE材质。 （2）加热系统可按照客户要求做成节能环保型的硅胶加热片，功率为350W；或者是我公司的特氟龙加热电热板,功率为2000W。二、工作原理 利用亚沸的HF、HCL、HNO3、高纯水、碱类等等实验室常用酸、碱等常用溶剂的热蒸汽来清洗反应管、试管、消解管、烧杯、坩埚、容量瓶等实验室常用器皿。整个清洗过程是通过加热板加热产生的高纯酸碱蒸气对器皿的反复对流和冷凝淋洗作用下完成的，清洗器采用空气冷却而无需额外冷却水，可以实现经济安全的过夜工作，与常规的清洗或酸泡方法相比，蒸汽清洗法的清洗效果更好、更加洁净无污染。三、仪器性能及特点 1、专业设计，结构简单，操作方便，操作人员无需培训； 2、适用痕量分析器皿清洗，PFA及PTFE溶样罐、微波消解罐内罐、烧杯、消解管、试管等； 3、一次性处理量多达26、52、104个样品（根据器皿大小而定），也可以根据器皿高矮设计成多层，效率高，快捷； 4、清洗过程中酸用量少，且清洗后的酸可重复使用，多次循环清洗，节省成本； 5、密闭条件下进行酸蒸气超净清洗，防止实验室污染； 6、只有超纯的酸蒸汽接触需要清洗的器皿表面，所有接触部件均采用高纯实验级Teflon材料，保证清洁与低的本底值； 7、表面污染物被清除后，干净的器皿将不再接触清洗过的溶剂——相比较酸缸浸泡，这是更为纯净的清洗。四、特别说明： 1、清洗器皿外径在30mm 及以内， 桶总高度：260mm, 桶外径210mm, 一层26孔 （可做3层，即一次性可清洗78个样品）； 2、清洗器皿外径在30mm 及以内， 桶总高度：280mm, 桶外径330mm, 一层50孔（可做3层，即一次性可清洗150个样品）； 3、以上所说的样品数量是以我厂10ml消解罐内衬或PFA 15ml溶样罐为参考，若是其他细长器皿，可根据实际长度设计层数和批次处理量；也可以按照客户需求进行定向加工。五、数据说明 PPb级的清洗结果利用酸蒸清洗系统清洗后，结果证明，含PPm级金属污染的容器可以降低为PPb级。

869集成型样品处理系统使用的清洗/排空 配电器Distributor Rinsing / Aspiration for 869 Compact Sample Changer订货号：6.1808.240869集成型样品处理系统的清洗与/或排空设备所用的3 x M6, 1 x M8 和 2 x 1/8接口的配电器。

产品概要：MPI提供AC 系列校准基片具备至多二十六组的校准标准，提供 GS、SG、GSG 等多种信号探针，可支持SOLT, LRM, SOLR, TRL and multiline TRL等多选的校准方法。基本信息：AC系列校准基片具备至多二十六组的校准标准，供 GS/SG、GSG 探针在晶圆测量前，可支持SOLT, LRM, SOLR, TRL and multiline TRL等多选的校准方法，五条共面线提供宽带参考多线TRL校准以及常规方法的准确性验证，添加了直角倒角元件，以通过RF探头的直角配置来支持系统的SOLR校准，还提供用于宽螺距探头的校准基板。技术优势：1、支持SOLT, LRM, SOLR, TRL and multiline TRL等多选的校准方法2、添加了直角倒角元件，提供用于宽螺距探头的校准基板应用方向：应用于宽带参考多线TRL校准以及常规方法的准确性验证。

半导体清洗机在现代工业生产中占据着举足轻重的地位，其配件的质量和性能直接影响到整个设备的运行效率和清洗效果。高纯PFA扩口90度弯头作为半导体清洗机的重要配件之一，具有优异的耐腐蚀性、耐高温性和高纯度等特点，因此被广泛应用于半导体清洗机的管路系统中。　　高纯PFA扩口90度弯头的优势不仅在于其卓越的化学稳定性，更在于其独特的设计和制造工艺。扩口设计使得弯头在连接时更加牢固可靠，不易发生泄漏 而90度弯曲则能够灵活适应各种复杂的管路布局需求，提高设备整体的空间利用率。同时，高纯度的材料选择保证了弯头在使用过程中不会引入任何杂质，从而保证了半导体清洗机的清洗效果和产品质量。　　在半导体清洗机的运行过程中，高纯PFA扩口90度弯头发挥着至关重要的作用。它不仅能够承受高温高压的清洗环境，还能有效抵抗各种化学清洗剂的侵蚀，确保管路系统的长期稳定运行。此外，弯头的优良性能还能够降低设备的维护成本，延长设备的使用寿命，为企业的可持续发展提供有力支持。　　然而，高纯PFA扩口90度弯头的选择和使用也需要注意一些问题。首先，要确保所选弯头的规格和型号与半导体清洗机的实际需求相匹配 其次，在安装和使用过程中要遵循相关操作规程和安全要求，避免因操作不当导致设备损坏或安全事故的发生。　　总之，高纯PFA扩口90度弯头作为半导体清洗机的重要配件，在提升设备性能、保证产品质量和降低维护成本等方面发挥着重要作用。在未来的发展中，随着半导体产业的不断壮大和技术的不断进步，相信这种弯头将会有更广阔的应用前景和市场空间。

超声波清洗甚至能够穿透微观开口，能够彻底清洗所处理物品。这使其成为最有效、经济而强大的清洗方法之一。可用于实验室、牙科和医疗技术、微电子、精密工程、化妆品、光学和汽车工业。 外壳和清洗槽采用防锈不锈钢制成带陶瓷技术的高性能PTZ超声波变换器9.2升容量槽，上部配有放泄旋塞 该款清洗槽配有大型超声波发生器，无论槽温度、装填水平和清洁材料如何，都能确保稳定的超声波输出。该功能确保了连续且可重复的清洗结果。“扫频”是所产生超声波输出的一种调制频率，能够防止产生“驻波”，确保清洗槽内极其均匀的能量分布。 所有型号都配有计时器。模拟版配有最长计时15分钟的机械计时器。其还具有可调节超声波功能，可以在10到100%有效输出间调节。因此，可以根据所清洁的物品精准地调节能量。

大清洗框篮架 大量待清洗瓶尺寸：10～2000ml左右用于清洗广口瓶、玻璃棒、瓶盖等每层仅能放置一个篮架

SPS 3 自动进样器备件 订货信息：稀释器备件说明部件号注射器与阀的连接管组件包9910062700自动稀释器替换管组件包，螺纹连接 包括所有管和接头9910083100清洗池，12升6610011800

四氟清洗器、清洗罐设计特点：小瓶清洗系统搭配实验室电热板使用，可清洗各种实验室器皿。清洗液可用皂液或无机酸。所有接触酸的部件均由高纯PTFE制成。将待清洗的器皿和清洗液放入容量为4L的系统中，盖上容器盖，并用密封圈拧紧密封。清洗系统的盖子上带有放气阀，避免加热时系统内产生高压。该系统可保持亚沸状态连续加热数天，不引起酸的挥发损。这样可避免实验人员监控，节省人力成本，同时节省酸的消耗，不引入环境污染。与玻璃烧杯相比，该小瓶清洗系统不易碎，保证人员的安全，更结实耐用。可拆卸的倒酸口，可安全倒出酸液，便于取出实验器皿。小瓶清洗系统可耐受所有的无机酸，可在稀释酸的沸点或近沸点使用。四氟清洗器系统组件：1、四氟清洗罐盖子2、放气孔螺纽3、倒酸口配件四氟清洗系统的加热温度不能高于230℃。超过此温度，将对清洗系统带来不可逆的损坏

镀金不锈钢基片（镀金样本台）镀金样本台具有抗电迁徙、高导电性、高导热性等优秀性能，所以可作为AFM/STM(原子力显微镜/扫描隧道显微镜)等电镜样本支撑的首选。黄金是最惰性的金属，它和聚合物的粘合是很困难的，除非使用UV光和等离子辉光处理。 在磁性不锈钢圆盘表面镀金膜，圆盘厚度约0.76mm，金膜厚度0.25微米，全包被。圆盘大小有4种直径可选。订购信息：货号产品描述规格TP16207镀金不锈钢基片（镀金样本台），10mm20个TP16208镀金不锈钢基片（镀金样本台），12mm20个TP16218镀金不锈钢基片（镀金样本台），15mm16个TP16219镀金不锈钢基片（镀金样本台），20mm4个同时提供EMS公司的盒装镀金不锈钢基片，磁性不锈钢圆盘表面镀金膜，筋膜厚度1um。同样具有抗电迁徒，高导电性、高导热性等优秀性能。货号产品描述规格75011-10镀金不锈钢基片（镀金样本台），10mm4个/盒75011-12镀金不锈钢基片（镀金样本台），12mm4个/盒75011-15镀金不锈钢基片（镀金样本台），15mm4个/盒75011-20镀金不锈钢基片（镀金样本台），20mm4个/盒

&bull 卓越的热稳定性&bull 非常适用于对重量敏感的应用&bull 提供超过玻璃基片反射镜的耐用性通用规格表面平整度 (P-V):1λ基底:Silicon (Si) 后表面:Commercial Polish表面质量:60-40涂层规格:Ravg 97% @ 800 - 2000nmRavg 94% @ 700 - 800nm涂层:Protected Gold (700-2000nm)有效孔径 (%):90.00厚度容差 (mm):±0.1波长范围 (nm):700 - 2000Damage Threshold, Reference:0.8 J/cm2 @ 1064nm, 10ns产品介绍硅基片黄金反射镜是为集成到对重量极为敏感的应用中而特别设计的，如抬头显示。轻质硅基片的热稳定性使这款光学反射镜成为最佳解决方案，适用于在近红外或红外区域内工作的应用。我们的硅基片黄金反射镜提供超过玻璃基片反射镜的耐用性，保护性黄金金属镀膜提供大于97％的平均反射率。订购信息 12.50 +0.0/-0.11λ Ravg 97% @ 800 - 2000nm Ravg 94% @ 700 - 800nm Protected Gold (700-2000nm) 2.00 ±0.133-24625.00 +0.0/-0.11λ Dia. (mm)表面平整度 (P-V)涂层规格涂层厚度 (mm)产品编码 Ravg 97% @ 800 - 2000nm Ravg 94% @ 700 - 800nm Protected Gold (700-2000nm) 1.00 ±0.133-24750.00 +0.0/-0.11λ Ravg 97% @ 800 - 2000nm Ravg 94% @ 700 - 800nm Protected Gold (700-2000nm)1.00 ±0.133-248

产品概述 ATT1500是专门为Hamamatsu滨松的S10420、S10850、S11510、S11511、S11071系列背照式CCD而设计的驱动控制电路，可用于搭建高灵敏度的光谱仪或者对滨松的S10420、S10850、S11510、S11511、S11071系列CCD进行性能评估。电路采用18-bit的ADC对CCD信号进行采样，USB2.0-HighSpeed进行光谱数据的高速传输，还专门设计了激光器控制端口和TEC制冷控制端口用于激光器的开关及电流调节控制，TEC制冷控制端口可以用来进行对CCD的制冷电路进行开关和温度调节，以便用户进行系统集成。　　为方便进行系统集成和快速软件开发，ATT1500还配备了专业的光谱处理软件OptoskySpectral，另外，还提供DLL动态链接库供您自主开发应用软件，用户可以轻松实现CCD信号的读取，以及激光器模块和TEC制冷模块的控制。 本产品，还可以根据您的需求，完全进行定制，以匹配您的光路、结构设计要求。特性l 板上18-bit ADC采集器l 板上激光器控制端口l 板上TEC制冷控制端口l USB2.0高速端口l USB端口供电（制冷模块需要单独供冷）典型应用l 光谱仪l 控制CCD传感器及数据采集参数条件ATT1500单位扫描时钟25kHzADC分辨率（位深）18bitAD采集噪声4counts模拟信号输入范围0 ~ 4VCCD信号读出噪声（p-p）CCD制冷12counts数据输出接口USB2.0高速供电电压DC 4.5~5.5V供电电流360mA保存温度-20 ~ 70℃工作温度0 ~ 50℃尺寸50x120mm订购指南型号适应CCDATT1500-S11510S11510、S11511红外增强型背照式CCDATT1500-S10420S10420、S10850 紫外可见高灵敏度背照式CCDATT1500-S11071S11071 CCD

产品名称：Al2O3陶瓷基片技术参数： 纯度(Wt%) 96% 密度(g/cm3)3.75 热导率(w/m.k) 24热膨胀(x10-6/oC) 7.7电介质强度 (Kv/mm) 14介电常数(at 1MHZ) 9.8损耗正切 (x10-4 @1MHZ) 4 抗弯强度 (N/mm2) 330 体积电阻率 (ohm-m)1013 20oC 3x107 at 500oC表面粗糙度：Ra80A 注：现在产品供应纯度可达：99.6%产品规格： 氧化铝陶瓷基片2"x2"x 0.5mm 2sp 氧化铝陶瓷基片3"x3"x 0.635mm, fine ground 氧化铝陶瓷基片10x10x0.5毫米，1sp 2sp氧化铝陶瓷基片1" x 1" x 0.5 mm fine ground.注：可按客户需求定制特殊的方向和尺寸。标准包装：1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装

产品名称：清洗标液仪器厂商：PerkinElmer/美国 珀金埃尔默 价格：面议 库存：是基体体积零件编号ELAN DRC 清洗溶液0.5% HNO3250mLN8125033ELAN 9000/6X001% HNO31LN8122038NexION Wash Solution1% HNO3250 mLN8145050水空白ASTM类水, 18兆欧100mLN9303814

数字超声波清洗器配件具有铁丝筐，盖子等附件，采用不锈钢制造，能够高效清洗样品，温度高达70摄氏度，数字超声波清洗器清洗配件提供40Khz的频率和0-99分钟的清洗时间。 数字超声波清洗器特点清洗去除实验室仪器的赃物，油脂，蜡，油等微处理器控制计时器，温度和输出控制频率高达40KHz温度范围室温到70摄氏度方便的预先设置功能，预先加热和计时最大清洗时间99分钟具有铁丝筐和盖子 数字超声波清洗器应用实验室应用：清洗，消毒，均质，乳化医药应用：清洗外科器具光学：清洗镜片，镜头珠宝：清洗链子，环状物等化工：清洗反应器塑料：清洗注塑模具汽车航空：清洗发动机部件等。数字超声波清洗器参数 孚光精仪是全球领先的进口精密科学仪器领导品牌服务商，拥有包括超声波清洗器在内的齐全精密科学仪器品类，具有全球领先的制造工艺和质量控制体系。我们国外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于数字超声波清洗器特点,数字超声波清洗器参数,数字超声波清洗器应用等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取！

Thermo Scientific UV 800 实验室玻璃器皿消毒 清洗机配件 清洁、高效是您实验室身边的得力助手 关于赛默飞世尔科技赛默飞世尔科技（纽约证交所代码：TMO）是科学服务领域的世界领导者。我们的使命是帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。公司年销售额120 亿美元，员工约39000 人。主要客户类型包括：医药和生物技术公司、医院和临床诊断实验室、大学、科研院所和政府机构、以及环境与过程控制行业。借助于Thermo Scientific、FisherScientific 和Unity™ Lab Services 三个首要品牌，我们将创新技术、便捷采购方案和实验室运营管理的整体解决方案相结合，为客户、股东和员工创造价值。我们的产品和服务帮助客户解决在分析领域所遇到的复杂问题与挑战，促进医疗诊断发展、提高实验室生产力。 应用领域：◇ 大学、研究所◇ 环境监测◇ 食品药品监测◇ 制药和QC 质控◇石化、石油◇生命科学生化研究 硬件设计 清洁高效UV800 型使用高质量材料制造，外壳与内胆都使用高规格不锈钢，确保经久耐用。全腔采用钝化工艺，表面形成钝化膜，极大地提高了仪器的耐腐蚀能力。底仓采用斜坡设计，减少了清洗过程中的污染。清洗内腔体积为211 升，清洗篮架体积更是高达178 升，可放置双层清洗栏架，从而具有一次清洗大量玻璃器皿的能力。电源是380V，50Hz，峰值最大功率11KW。加热功率高达9KW，升温速率快，大大地提高了清洗效率。 清洗干燥UV800 型强有力的清洗泵保证了出色的清洗效果，其可以提供的最大流量为每分钟550 升，提升了器皿外壁和下层广口器皿清洗的洁净度。本机循环水泵具有软启动功能，可以根据器皿的重量调节水循环量和喷淋压力，防止水泵瞬间启动水压过大给玻璃器皿带来的伤害。完美的喷淋控制确保了有效的清洗。最多可配置三层360 度旋转喷淋臂装置，保证了玻璃器皿能得到有效清洗。将满载的清洗篮架推入腔体后，本机通过完美的中央塔式供水结构和顶部供水结构向清洗篮架注入热风和清洗水。在清洗过程中，用户除了可以采用标准清洗程序，也可按用户需求针对不同器皿预设多个程序，程序的每个步骤都在显示屏上清楚显示，使您一目了然。高效的干燥单元把热空气直接送入器皿内部和外部，使得整个循环时间最短，大大地提高了清洗效率。最高热风输入温度为120℃。 安全保护UV800 型提供了多重安全保障。防水系统、电动开门、高温禁止开门保护、水加热管过温保护、风加热管过温保护、漏电保护、清洗剂缺液报警、水泵过热保护等等保护功能，再加上自动故障诊断程序、警示信息提醒以及故障语言提醒功能，不仅保障了仪器的正常使用，还可以为日常维护和维修提供帮助。 软件设计法规遵循UV800 型预设93℃的消毒程序，仪器提供国际标准EN ISO15883-1/2 规定的热消毒功能。而且符合美国FDA 制药清洗标准，提供清洗验证和清洗残留可追溯文件并提供IQ、OQ认证文件。简便易用一键启动清洗程序：电脑自动控制，操作简单。计算机控制整个循环中每一步的进程、温度、工作步骤和运行时间。操作简单，只要在控制面板上轻轻一按便可运行。在自定义程序中，用户可以调节清洗温度、清洗时间、清洗剂泵入量、清洗剂通道、水源类型、烘干时间、烘干温度，实现了灵活的清洗方案设定。清洗剂精确添加：可实现三通道蠕动泵独立操作运行，按清洗需要进行准确泵入，控制精度高达1.8 毫升/ 秒。普通理化检测清洗剂、重金属离子清洗剂、酸性中和剂可以在不同清洗时间、不同清洗程序进行泵入，本机的独立三通道蠕动泵体系能够完成上述要求。 仪器内部可以存储4 桶5L 装清洗剂，满足多通道多种清洗剂使用。清洗剂的选择与用量适用于几乎所有的清洗剂（碱性清洗剂、酸性中和剂和重金属离子清洗剂等）。碱性清洗剂的用量为：使用软水为3-5ml/L，使用硬水为5-10ml/L；使用酸性清洗剂用量为1-3ml/L。UV 800 实验室玻璃器皿清洗消毒机订货信息：部件号清洗器皿范围描述图例200-048009单层喷淋瓶架 42 位：适用于清洗 20-3000ml 的广口瓶、容量瓶，配三角瓶瓶托图一200-048029上层喷淋瓶架 42 位 适用于清洗 20-250ml 的广口瓶、容量瓶，配三角瓶瓶托图二200-048039下层喷淋瓶架 42 位 适用于清洗 20-250ml 的广口瓶、容量瓶，配三角瓶瓶托图二200-048049上层喷淋瓶架 42 位 适用于清洗 20-250ml 的广口瓶、容量瓶，配三角瓶瓶托图三200-248001广口瓶清洗篮架，用于清洗如：烧杯、广口瓶、瓶盖等图三200-230001下层色谱进样瓶喷淋瓶架 210 位 待清洗瓶尺寸：2ml 左右 用于清洗色谱进样瓶图四200-172001移液管清洗插件：移液管喷淋器 150 位图五200-172002试管清洗插件：试管喷淋器 150 位图五200-172003综合清洗插件：试管喷淋器 75 个、进样瓶 50 个、移液管 25 个总计 150 位图五200-148001培养皿清洗篮架（可插入直径 60-150mm 培养皿，例如：90mm 直径可以放入 48 个）—三角瓶托采用浸塑工艺，有效保护玻璃器皿。四大特点 省时高效UV800，采用高效的清洗升温系统，高达9千瓦的加热功率，保证了快速的升温速度。专业的热声材料，使得热量流失更少，节约了清洗成本。UV800 提供了211 升超大的清洗空间，高达200 多位的清洗篮架，可以一次性清洗大量的玻璃器皿，大大提高了清洗效率，节约了您的时间。变频清洗UV800 采用变频技术控制的强力水泵，提供最大流量高达550 升/ 分钟，从而保证了出色的清洗效果。变频器带来的软启动模式，解决了不同材质和不同重量器皿同时清洗的难题，而且避免了水泵瞬间启动水压过大对玻璃器皿的伤害。灵活定制UV800 针对不同的器皿残留物设置高达80 种不同的针对性清洗方案，调整多样化的清洗参数（清洗温度、清洗剂进入量、清洗剂泵入程序、水源类型、清洗次数、烘干时长、烘干温度），从而保证了最佳的清洗效果。UV800 可以针对您特殊的器皿定制清洗篮架，实现了特定器皿的无死角清洗。简便易用UV800 提供了一键式清洗操作模式，只要专业人员针对不同残留物设定了不同清洗方案，日常使用人员不必具有专业化学知识设定复杂的清洗参数，就可以调取相应方案，一键完成清洗全过程，保证清洗的重复性。配置和技术参数UV800高质量 316L 不锈钢腔体●清洗剂蠕动泵（个）3清洗泵功率（W）880W泵流量（L/min）550L/min排水泵●电加热清洗腔，功率9kW干燥系统风流量 (m3/H)55热风最高输入温度（可调）120℃烘干时间0-120min蒸汽冷凝器●彩色显示，保护式触摸屏●微电脑芯片控制●预置清洗程序数量15可自由设定数量65通讯接口 RS232, 用于打印机●软水器●防水系统●电源连接单项 220V,50Hz，外置电缆长度 5 米，3X4 平方毫米选配加热功率4kW峰值最高功率5kW三相交流电 380V,50Hz，外置电缆长度 5 米 ,5X2.5 平方毫米-加热功率9kW峰值最高功率10.5kW外部尺寸（深 X 宽 X 高）760x980x1240内部尺寸（深 X 宽 X 高）546x548 x706清洗篮架（深 X 宽 X 高）546X548X600

超精密抛光的基片&bull 两个表面都经过超精密抛光，表面粗糙度 RMS 值 ≤1&angst &bull 具有低散射表面，非常适用于 UV 或高功率激光应用&bull 采用具有抛光倒角和边缘的 UV 熔融石英基片&bull 采用内部制造，可实现从 6 至 76.2mm 的定制大小和形状，以及 0.5&angst 的表面粗糙度通用规格倒角:Protective as needed基底:Fused Silica (Corning 7980)平行度（弧秒）:30折射率 nd:1.458有效孔径 (%):90波长范围 (nm):200 - 2200涂层:Uncoated色散系数 (vd):67.8表面平整度 (P-V):λ/10表面质量:10-5表面粗糙度（埃）:≤1 RMS as measured using an optical profiler using a 20x objective at a spatial frequency bandwidth of 9 to 250 cycles per mm边缘:Commercial Polish产品介绍这些窗口片的超精密抛光表面可减少散射，因此非常适用于对散射有所担忧的 UV 或高功率激光应用。这些窗口片凭借低散射，还可以用作离子束溅射 (IBS) 镀膜的基片。TECHSPEC 超精密抛光基片用于包括光腔衰荡光谱学、散射测量与环形激光陀螺仪在内的计量应用中，以及诸如眼外科等 UV 医疗应用中。若您的应用需要使用定制尺寸的超精密抛光基片，或者您对定制镀膜机会感兴趣，或者希望讨论这些低散射基片对您的镀膜光学性能有何影响，请 联系我们。我们还提供单面超精密抛光基片。订购信息涂层Dia. (mm)基底厚度 (mm)产品编码Uncoated 12.70 +0.00/-0.10Fused Silica (Corning 7980)6.35 ±0.1011-554Uncoated 25.40 +0.00/-0.10Fused Silica (Corning 7980)6.35 ±0.1011-555Uncoated 50.80 +0.00/-0.10Fused Silica (Corning 7980)9.53 ±0.1011-556

在现代半导体工业中，清洗设备的重要性不言而喻。作为半导体清洗设备的关键组成部分，PFA扩口法兰接头不仅承载着传递介质的重要任务，更在设备的稳定运行和延长使用寿命方面发挥着至关重要的作用。　　PFA扩口法兰接头以其独特的性能和优势，在半导体清洗设备中占据了不可或缺的地位。这种接头采用PFA材质，具有优异的耐腐蚀性和耐高温性，能够抵御清洗过程中产生的各种化学物质的侵蚀，确保设备的长期稳定运行。同时，其扩口设计使得接头在连接时更加紧密，有效防止了介质泄漏的发生，进一步提升了设备的安全性和可靠性。　　然而，正如任何精密设备一样，PFA扩口法兰接头也需要定期的维护和保养。在使用过程中，我们需要密切关注接头的运行状态，定期检查其是否出现磨损或老化现象。一旦发现问题，应及时进行更换或维修，以避免因接头问题导致整个清洗设备的故障。　　此外，随着半导体技术的不断发展，对清洗设备的要求也越来越高。因此，我们还需要不断研发新型的PFA扩口法兰接头，以满足日益严格的工艺需求。例如，我们可以尝试优化接头的结构设计，提高其承压能力和耐腐蚀性 或者研发新型的PFA复合材料，以进一步提升接头的性能和寿命。　　总之，PFA扩口法兰接头作为半导体清洗设备的关键配件，其性能和使用寿命直接影响到整个设备的运行效果和稳定性。因此，我们需要对其给予足够的重视和关注，确保其始终保持在最佳的工作状态。

半导体清洗机作为半导体生产线上不可或缺的关键设备，对于提高生产效率、保障产品质量具有重大意义。而PFA卡套式接头作为半导体清洗机的重要配件，其性能和质量直接影响到设备的运行稳定性和使用寿命。　　PFA卡套式接头以其独特的优势在半导体清洗机领域得到了广泛应用。首先，PFA材料具有优异的耐腐蚀性，能够抵抗各种强酸、强碱和有机溶剂的侵蚀，从而确保在半导体清洗过程中不会发生泄漏或污染。其次，卡套式设计使得接头的安装和拆卸变得非常简单快捷，提高了设备的维护效率。此外，PFA卡套式接头还具有良好的密封性和耐高温性能，能够满足半导体清洗机在高温、高压环境下的稳定运行需求。　　然而，为了确保半导体清洗机的稳定运行和延长使用寿命，对PFA卡套式接头的选用和维护也需格外注意。在选用时，应优先选择品牌知名度高、质量有保障的厂家生产的接头，确保接头的材质、尺寸和性能符合设备要求。同时，在安装和使用过程中，应严格按照操作规程进行，避免过度用力或不当操作导致接头损坏。　　在维护方面，应定期对PFA卡套式接头进行检查和更换。一旦发现接头出现磨损、老化或变形等现象，应及时进行更换，以免影响到整个半导体清洗机的正常运行。此外，对于长期未使用的设备，也应定期对接头进行清洗和保养，以确保其始终处于良好的工作状态。　　总之，PFA卡套式接头作为半导体清洗机的重要配件，其性能和质量对于保障设备的稳定运行具有重要意义。因此，在选用、安装、使用和维护过程中，都应给予足够的重视和关注。

太赫兹高阻抗本征硅基片 除了人造金刚石，高阻抗的本征硅（高阻硅）材料是适合极宽范围从(1.2 μm) 到mm (1000 μm甚至8000um)波的各项同性晶体材料。和钻石相比，它要便宜的多，并且生长制造更容易。而且他尺寸更大，更容易制造，THZ技术的快速发展，就基于该优点。对于THZ应用，我们提供在1000 μm (对于更长波长，3000甚至8000微米)透过率达到50-54%的High Resistivity Float Zone Silicon (HRFZ-Si)。高阻抗浮区本征硅材料，和相关光学元件。 合成电解质硅的介电常数由传导率决定（例如：自由电子-载流子浓度）。图3显示的是在1THZ下，不同纯度下的硅的介电常数.低掺杂的介电常数接近真实值，大约等于高频介电常数。随着掺杂浓度的提高，真实的介电常数将变成负数，而且不能被忽略。介电常数表征的是THZ波的传输损耗特性。损耗系数可以用下面的公式计算：tanδ=1/(ω*εv*ε0*R), 这里 ω – 圆频率, εv – 真空下的介电常数（8.85*10-12 F/m）。ε0 –硅的介电常数(11.67), R是电阻值。例如，1THZ下，10 kOhm 阻值的HRFZ-Si损耗系数为1.54*10-5。 1mm厚度的高阻抗本征硅窗片的太赫兹时域光谱仪测试数据高阻抗本征硅产品 - 高阻抗硅衬底/基片/窗片- 高阻抗硅球透镜- 高阻抗硅分束镜- 高阻抗硅镜头 1，高阻硅基片 2，高阻硅F-P标准具 3，高阻硅太赫兹半球透镜 4，高阻硅太赫兹子弹型透镜 5，高阻硅镜头 6，高阻硅棱镜

安捷伦的优质 ICP-MS 雾化器将蠕动泵泵入的样品溶液雾化成细小雾粒后再载入到雾化室。这个过程是通过氩气流实现的。有三种雾化器可供选择：用于引入高盐基质和高 TDS（总溶解固体）样品的 Babington 雾化器、用于干净样品的同心雾化器 （Pyrex 或石英同心雾化器）以及 ICP-MS 惰性组件包的标准雾化器 — 交叉流雾化器。三种雾化器均提供各种连接附件，包括管线、端盖、 O 型圈和其他接头。 Babington 雾化器用于引入高盐基质和高 TDS（总溶解固体）的样品，安捷伦提供用于该雾化器的 O 型圈、样品管和接头。 一旦节流塞阻塞或受到污染，请及时清洁系统以保证 Babington 雾化器的高性能。如果清洗后仍存在高基质样品导致的严重污染而造成的记忆效应，请更换管线。 还提供 Babington 雾化器尾端盖，包括 O 型圈和混合器气路接头。 我们推荐将同心雾化器用于干净样品，因为颗粒或高浓度的盐可能会堵塞内部的毛细管。 可提供两种同心雾化器：Pyrex（只能用于干净样品 — 不耐盐酸）和石英（推荐用于干净样品的痕量分析 — 污染水平比 Pyrex 雾化器更低）。 可提供各种连接附件，包括尾端盖、混合气气路接头、端盖 O 形圈、端盖接头 O 形圈、PTFE ，所有这些附件都是按照安捷伦的严格标准进行生产的。 请定期使用 5% HNO3 (v/v) 浴（不能使用超声浴）清洗雾化器以保证其寿命，一旦毛细管出现断裂或雾化器破损，则应进行更换。 交叉流雾化器是 ICP-MS 惰性组件包的标准雾化器，它能耐氢氟酸。 交叉流雾化器包括套管、载气气路接头、混合气气路接头、样品管和气路管。 在使用时将载气压力设为 500 kPa 并用 5% HNO3(v/v) 浴清洗系统。如果清洗后仍有记忆效应，请更换交叉流雾化器。

产品名称：三氧化二铝(Al2O3)晶体基片产品简介：Al2O3单晶（Sapphire,又称白宝石，蓝宝石）有着很好的热特性，极好的电气特性和介电特性，并且防化学腐蚀，它耐高温，导热好，硬度高，透红外，化学稳定性好。广泛用于耐高温红外窗口材料和III-V族氮化物及多种外延薄膜基片材料，为满足日益增长的蓝、紫、白光发光二极管（LED）和蓝光激光器（LD）的需要，科晶公司专业生产高质量的蓝宝石晶体和外延抛光基片，将为您提供大量高质量低价格的单晶和基片。 技术参数： 晶体结构六方 a =4.758 ? c= 12.992 ?结晶方向(11-20 ) - a plane: 2.379 ? (1-102) - r plane: 1.740 ?(10-10) - m plane: 1.375 ? (0001) - c plane: 2.165 ? 单晶纯度 99.99% 熔点2040 oC 密度3.98 g/cm3 硬度9 ( mohs)热膨胀7.5 (x10-6/ oC) 热容0.10( cal / oC) 热导46.06 @ 0 oC 25.12 @ 100 oC, 12.56 @ 400 oC ( W/(m.K) )介电常数~ 9.4 @300K at A axis ~ 11.58@ 300K at C axis正切损耗 2x10-5 at A axis , 5 x10-5 at C axis产品规格： C, A, M, R 公差：±0.5度dia3"x0.5mm, dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm单抛或双抛，Ra5A 注：可按客户需求定制相应的方向和尺寸。标准包装：1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装

太阳能电池硅片清洗花篮聚四氟乙烯清洗花篮 ITO、FTO导电玻璃、硅片PTFE清洗架、F4硅片花篮 品牌：瑞尼克型号：RNKHL加工定制：是 用途：清洗 别名：花篮、承载篮 用于半导体硅片,晶片,玻璃,液晶屏等清洗、腐蚀设备的承载花篮，太阳能电池片花蓝、太阳能硅片花蓝_太阳能硅片承载器、光伏电池片花蓝、光伏硅片花蓝，用于太阳能电池硅片清洗设备中,用于承载方形太阳能电池硅片，材质为PTFE，本产品即在100℃以下的NaOH溶液、HCl溶液、HF等溶液中对硅片进行清洗、转换，且长期使用不变形、不污染硅片.特点：1.外观纯白色。2.耐高低温：可使用温度-200℃～＋250℃。3.耐腐蚀：耐强酸、强碱、王水和有机溶剂，且无溶出、吸附和析出现象。4.防污染：金属元素空白值低。5.绝缘性：不受环境及频率的影响，介质损耗小，击穿电压高。6.耐大气老化，耐辐照和较低的渗透性。7.自润滑性：具有塑料中小的摩擦系数。8.表面不粘性：是一种表面能小的固体材料。 9.机械性质较软，具有非常低的表面能。聚四氟乙烯（PTFE）系列产品：培养皿、坩埚、试剂瓶、试管、镊子、药匙、烧瓶、烧杯、漏斗、容量瓶、蒸发皿、表面皿、阀门、接头、离心管等。

微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机，采用微波能量生产等离子体，在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时，微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体，这种等离子流经污染表面与之发生反应，污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同，这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能，具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品，可以获得更高的气压，更高的功率和更高的温度，当然，您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高，安全而易于使用，而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾，不排放有毒有害的溶解物或气体，不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器，这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长，第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’，第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度，这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置：1.水循环浴；2.双气真空流动控制器：可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件，它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出，两个流量（0-5SCFM）计，两个压力计(0-60帕)，一个真空压力计（0-30’’Hg）和一个开关；3.离子阱：该离子阱用于保护易损伤材料，如：激光二极管发光面，光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子，从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。

半导体光伏清洗设备配件中的PFA氟材料NPT接头，是确保设备高效、稳定运行的关键组件之一。这一接头以其卓越的耐化学腐蚀性能和优异的耐高温特性，在半导体光伏清洗设备中发挥着不可替代的作用。　　PFA氟材料，作为一种高性能的特种塑料，具有极强的化学稳定性和良好的机械性能。它能够在极端的工作环境下保持稳定的性能，不受强酸、强碱等腐蚀性物质的侵蚀，从而确保接头的长期可靠性。同时，PFA氟材料还具有良好的耐高温性能，能够在高温下保持稳定的物理和化学性质，满足半导体光伏清洗设备对高温工作条件的需求。　　NPT接头，作为连接管道和设备的关键部件，其密封性和连接强度直接影响到整个系统的稳定性和安全性。采用PFA氟材料制作的NPT接头，不仅能够提供优异的密封性能，有效防止泄漏和污染，还能够承受较高的压力和温度波动，确保设备的稳定运行。　　此外，PFA氟材料NPT接头还具有优良的绝缘性能和低摩擦系数，能够减少设备运行过程中因摩擦而产生的热量和磨损，延长设备的使用寿命。同时，其轻便的材质和易于加工的特点，使得接头的安装和维护变得更加便捷和高效。　　综上所述，半导体光伏清洗设备配件中的PFA氟材料NPT接头，以其卓越的耐化学腐蚀性能、耐高温特性以及优良的密封性和连接强度，为设备的稳定运行提供了有力的保障。

全自动器皿清洗机，实现器皿的原位清洗、干燥，使用欧洲进口高效循环泵，清洗压力稳定、可靠 依据流体力学原理设计排列清洗位，确保每件物品清洗的洁净度 优化设计的扁口型喷嘴的旋转喷淋臂，确保喷淋360°无死角覆盖 清洗柱侧面斜切口确保器皿内壁360°清洗覆盖等特点。　　一、适用范围：　　全自动器皿清洗机SHLW-120/SHLW-220适用于制药企业、疾控系统、科研院所、环境保护、水务系统、医院、石化系统、电力系统等各类实验室对进样瓶、试管、烧杯、移液管、三角瓶、容量瓶等器皿的清洗、干燥。　　二、产品特点:　　全自动器皿清洗机拥有专利技术TWINS清洗干燥系统，实现器皿的原位清洗、干燥，清洗腔材质SUS316L，外壳材质SUS304。　　高洁净度　　1.欧洲进口高效循环泵，清洗压力稳定、可靠 　　2.依据流体力学原理设计排列清洗位，确保每件物品清洗的洁净度 　　3.优化设计的扁口型喷嘴的旋转喷淋臂，确保喷淋360°无死角覆盖 　　4.清洗柱侧面斜切口确保器皿内壁360°清洗覆盖 　　5.高度可调托架，确保不同规格器皿的有效清洗 　　6.双重水温控制，确保整个清洗水温 　　7.清洗液可设定并自动添加 　　高效干燥　　1.原位干燥系统　　2.内置HEPA高效过滤器，确保干燥空气的洁净度 　　3.同步干燥水循环管路，避免管路潮湿污染清洗系统 　　4.双重气温控制，确保干燥温度 　　操作管理　　1.PLC(可编程控制器)控制系统，稳定可靠 　　2.清洗程序可根据需要自由组合使用 　　3.7寸彩色液晶触摸屏，设备运行信息全部文字显示 　　4.3级密码管理，可满足不同管理权限的使用 　　5.设备故障自诊断并声音、文字提示 　　6.清洗数据自动存储功能(选配) 　　7.USB清洗数据导出功能(选配) 　　8.微型打印机数据打印功能(选配) 　　保护功能　　1.两点式电子门锁，防止随意开启 　　2.水温、气温双重温度保护 　　3.循环泵高温自动保护 　　4.断电保护功能 　　5.排水管路水封设计防止污水逆流 　　清洗程序　　1.标准程序：满足一般污染器皿清洗 　　2.快速清洗程序：满足轻度污染器皿清洗 　　3.自定义清洗程序：按照不同清洗需求，用户可自定义组合清洗程序 　　4.自洁清洗程序：可选择定期进行清洗循环管路、内腔可能残存的水垢 　　5.干燥程序：配置高性能干燥系统，可快速完成各种器械的干燥清洗 　　6.手动测试程序：满足用户取水样检测清洗洁净率，以及自检设备各部件运行状态。　　三、技术参数