GD-OES在电化学涂镀层中的应用
• 测试元素: 氢(H) – 铀 (U),~76个元素• 含量范围:0.X ppm级 至 %含量• 测试深度:表面(纳米)至几百个微米• 测试精度:含量 – RSD 优于2%深度 – RSD 优于5%• 涂镀层种类:- PVD / CVD / ECD- 电镀(锌、铜、镍、铬、钛、锡等各类金属涂镀层)- 磷化、钝化等各类化学层- 薄膜电池 / 柔性电池(CIGS, LIB ̷.),- 非晶硅、碲化镉、铜锌锡硫化物等- 类金刚石涂层- 热处理(渗碳、渗氮、共渗等̷)- 真空蒸镀、磁控溅射镀膜• 适合样品:- 导体材料表面各类涂镀层(导体或非导体)- 非导体材料表面各类涂镀层(导体或非导体)- 薄膜/柔性材料表面各类涂镀层• 测试样品形态:- 固态:平面、曲面- 薄膜̷̷