台式无掩模光刻系统

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台式无掩模光刻系统相关的厂商

  • 复纳科学仪器(上海)有限公司,2012 年创立于上海,为高校,企业和研究所提供台式扫描电镜,及与台式扫描电镜相关的技术支持和测试服务。复纳科学仪器(上海)有限公司成立以来,一直专注显微技术,致力于实现扫描电镜平民化。飞纳电镜——复纳科学仪器(上海)有限公司为用户提供从扫描电镜基础理论到 Level 5 应用工程师的进阶培训,在上海、北京、广州、成都设立了测试中心和售后服务中心,目前飞纳电镜在中国已经拥有超过 2000 名用户。2017 年起,复纳科技与荷兰 Sioux 集团(ASML 光刻机研发供应商)合作开发基于分析仪器的数字化应用解决方案;2018 年,复纳科技引入并组建以 VSParticle 纳米粒子发生器、ForgeNano 原子层沉积系统(美国)为主要产品的纳米部门。复纳又陆续引进海外优质高科技设备:Technoorg Linda 离子研磨仪、DENSsolutions 原位透射样品杆、NEOSCAN 台式显微 CT 到中国,旨在提高分析结果准确性,提升仪器使用效率,节省人力成本。
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  • 东莞市创力研磨科技有限公司是一家专业从事金刚石单晶、多晶微粉、抛光液、研磨盘、抛光皮及微米、纳米尺寸超硬粉体材料、超精密研磨抛光产品的研发设计、生产制造、销售和售后服务于一体的科技型企业,公司拥有雄厚的专业技术力量,精湛的生产工艺和先进的加工设备,拥有国际上最先进的现代化检测仪器设备以及优质的服务得到了国内外高端客户的广泛好评及信赖。自创建以来,公司以提供高端应用的超精密研磨抛光材料,专业为客户提供全系列的研磨材料和全方位的技术服务,产品主要分为:金刚石粉体、研磨抛光液和抛光辅料三大系列,广泛应用于LED蓝宝石晶体、LED芯片、精密光学玻璃、半导体晶片、超硬材料精密工具以及硬盘、磁头、陶瓷、金属的研磨抛光表面加工领域,耐磨工件的表面复合镀领域。公司相继通过严格的ISO9001 /ISO14001和OHSAS18000管理体系,构建合理的运营管理机制,以技术创新为动力,协助客户提高产品性能和科技含量,使客户在其相关行业内长期保持创新优势,为客户创造了良好的经济效益。 公司崇奉“诚信、务实、创新、超越”的团队精神,将及时、有效地为客户提供优质的服务。
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  • 我们公司是PCB,FPC及半导体行业周边研磨材料生产,在国内生产不织布刷辊,尼龙针状刷辊,陶瓷刷辊,火山灰,涂布辊轮,耐高温耐酸碱研磨特种橡胶滚轮,吸水滚轮,麦拉膜等一系列产品。
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台式无掩模光刻系统相关的仪器

  • 超高速高精度双光子聚合微纳无掩模光刻直写系统-----国家级实验室的技术型号S600典型加工线宽200nm最小加工分辨率200nm特征结构加工均匀度10nm最高加工产率60mm2/min加工尺寸标配100×100mm可选配最大300×300mm电力要求220V AC 50HZ超高速高精度双光子聚合微纳无掩模光刻直写系统应用领域:工业:无掩膜版制造、医疗器械、晶圆级微纳加工、光子封装、快速原型制作、小批量系列生产生物医学应用:细胞支架、皮肤/组织模型、智能/活体材料、微针阵列、药物输送载体、纳米/柔性机器人、血管模型、细胞力学和迁移的拓扑结构、生物传感器、亚微米级图案设计科研:生命科学、材料工程、微流控技术、微纳力学及MEMS、折射微光学、衍射为光学、集成光子学、光学传感、量子技术 超高速高精度双光子聚合微纳无掩模光刻直写系统材料:光刻胶:生命科学用光刻胶、石英玻璃光刻胶、光刻负胶、无机固态光刻胶、有机无机杂化光刻胶、功能性光刻胶等联系人:平生
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  • 小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。------------------------------------------------------------------------------------------------------------ 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。------------------------------------------------------------------------------------------------------------- 产品特点 Focus Lock自动对焦功能 Focus lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。光学轮廓仪 Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。 标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。别直写前预检查软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。简单的直写软件MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 Clewin 掩模图形设计软件 ?可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)?可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式?书写范围只由基片尺寸决定 产品参数为了更好满足客户需求,同时节省客户采购成本,第三代Microwriter分为三个型号,基本型,增强型,旗舰型: 应用案例 直写分辨率1μm 直写分辨率0.6μm
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  • ARMS SYSTEM无掩模光刻机/直写光刻机UTA-IA UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统,其价格低于传统系统(用于掩模光刻的图案投影曝光系统) 可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。特点:显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪,将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。图案可以在PC上自由创建。因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极,所以它比电子束光刻便宜且简单,不需要制造昂贵的电极图案掩膜。应用:薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成。从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性。研发应用的图案形成。技术参数:由于显微镜和DLP的结合,可以用很低的成本来构建系统易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案通过物镜放大倍率图案,可以进行大范围的批量曝光 可以连接到您自己的显微镜上(可选)分辨率1um
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台式无掩模光刻系统相关的资讯

  • 微纳光刻好助手!小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3
    随着国内各学科的发展和产业的升级,相关的科研院所和企事业单位对各种微纳器件光刻加工的需求日益增多。然而,这些微纳器件光刻需求很难被传统的掩模光刻设备所满足,主要是因为拥有这类的光刻需求的用户不仅需要制备出当前的样品,还需要对光刻结构进行够迅速迭代和优化。为了满足微纳器件对光刻的需求,Quantum Design中国推出了小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3作为微纳器件光刻的解决方案。与传统的掩模光刻相比,MicroWriter ML3根据用户计算机中设计的图形在光刻胶上制备出相应的结构,节省了制备光刻板所需要的时间和经费,可以实现用户对光刻结构快速迭代的需求。此外,MicroWriter ML3 可用于各类正性和负性光刻胶的曝光,最高光刻精度可达0.4 μm,套刻精度±0.5 μm,最高曝光速度可达180mm2/min。目前,MicroWriter ML3在国内的拥有量超过150台,被用于各类微纳器件的光刻加工。 人工智能领域器件制备人工智能相关的运算通常需要进行大量的连续矩阵计算。从芯片的角度来说,连续矩阵运算主要需求芯片具有良好的乘积累加运算(MAC)的能力。可以说,MAC运算能力决定了芯片在AI运算时的表现。高效MAC运算可以由内存内运算技术直接实现。然而,基于的冯诺依曼计算架构的芯片在内存和逻辑运算之间存在着瓶颈,限制了内存内的高速MAC运算。理想的AI芯片构架不仅要有高效的内存内运算能力,还需要具有非易失性,多比特存储,可反复擦写和易于读写等特点。复旦大学包文中教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3制备出基于单层MoS2晶体管的两晶体管一电容(2T-1C)单元构架[1]。经过实验证明,该构架十分适用于AI计算。在该构架中,存储单元是一个类似1T-1C的动态随机存储器(DRAM),其继承了DRAM读写速度快和耐反复擦写的优点。此外,MoS2晶体管极低的漏电流使得多层级电压在电容中有更长的存留时间。单个MoS2的电学特性还允许利用电容中的电压对漏电压进行倍增,然后进行模拟计算。乘积累加结果可以通过汇合多个2T-1C单元的电流实现。实验结果证明,基于此构架的芯片所训练的神经网络识别手写数字可达到90.3%。展示出2T-1C单元构架在未来AI计算领域的潜力。相关工作发表在《Nature Communication》(IF=17.694)。 图1. 两晶体管一电容(2T-1C)单元构架和使用晶圆尺寸的MoS2所制备的集成电路。(a)使用化学气相沉积法(CVD)批量制备的晶圆尺寸的MoS2。(b)CVD合成的MoS2在不同位置的Raman光谱。(c)在2英寸晶圆上使用MicroWriter ML3制备的24个MoS2晶体管的传输特性。(d)MicroWriter ML3制备的2T-1C单元显微照片。图中比例尺为100 μm。(e)2T-1C单元电路示意图,包括储存和计算模块。(f)2T-1C单元的三维示意图,其中包括两个MoS2晶体管和一个电容组件。(g)2T-1C单元阵列的电路图。(h)典型卷积运算矩阵。 生物微流控领域器件制备酿酒酵母菌是一种具有高工业附加值的菌种,其在真核和人类细胞研究等领域也有着非常重要的作用。酿酒酵母菌由于自身所在的细胞周期不同,遗传特性不同或是所处的环境不同可展现出球形单体,有芽双体或形成团簇等多种形貌。因此获得具有高纯度单一形貌的酿酒酵母菌无论是对生物学基础性研究还是对应用领域均有着非常重要的意义。澳大利亚麦考瑞大学Ming Li课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3制备了一系列矩形微流控通道[2]。在制备的微流控通道中,通过粘弹性流体和牛顿流体的共同作用对不同形貌的酿酒酵母菌进行了有效的分类和收集。借助MicroWirter ML3中所采用的无掩模技术,课题组可以轻易实现对微流控传输通道长度的调节,优化出对不同形貌酵母菌进行分类的最佳参数。相关工作结果在SCI期刊《Analytical Chemistry》(IF=8.08)上发表。图2.在MicroWriter ML3制备的微流控通道中利用粘弹性流体对不同形貌的酿酒酵母菌进行微流控连续筛选。图3.在MicroWriter ML3制备的微流控流道中对不同形貌的酿酒酵母菌的分类和收集效果。(a)为收集不同形貌酿酒酵母菌所设计的七个出口。(b)不同形貌酵母菌在通过MicroWriter ML3制备的流道后与入口处的对比。(c)MicroWriter ML3制备的微流控连续筛选器件对不同形貌的酵母菌的筛选效果。从不同出口处的收集结果可以看出,单体主要在O1出口,形成团簇的菌主要O4出口。(d)MicroWriter ML3制备的微流控器件对不同形貌的酿酒酵母菌的分类结果,单体(蓝色),有芽双体(黄色)和形成团簇(紫色)。(e)和(f)不同出口对不同形貌的酿酒酵母菌的分离和收集结果的柱状图。误差棒代表着三次实验的误差结果。 医学检测领域器件制备在新冠疫情大流行的背景下,从大量人群中快速筛查出受感染个体对于流行病学研究有着十分重要的意义。目前,新冠病毒诊断采用的普遍标准主要是基于分析逆转录聚合酶链反应,可是在检测中核酸提取和扩增程序耗时较长,很难满足对广泛人群进行筛查的要求。复旦大学魏大程教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3制备出基于石墨烯场效应晶体管(g-FET)的生物传感器[3]。该传感器上拥有Y形DNA双探针(Y-双探针),可用于新冠病毒的核酸检测分析。该传感器中的双探针设计,可以同时靶向SARS-CoV-2核酸的ORF1ab和N基因,从而实现更高的识别率和更低的检出极限(0.03份μL&minus 1)。这一检出极限比现有的核酸分析低1-2个数量级。该传感器最快的核酸检测速度约为1分钟,并实现了直接的五合一混合测试。由于快速、超灵敏、易于操作的特点以及混合检测的能力,这一传感器在大规模范围内筛查新冠病毒和其他流行病感染者方面具有巨大的前景。该工作发表在《Journal of the American Chemical Society》(IF=16.383)。 图4. 利用MicroWriter ML3制备基于g-FET的Y形双探针生物传感器。(a)Y形双探针生物传感器进行SARS-CoV-2核酸检测的流程图。(b)选定的病毒序列和探针在检测SARS-CoV-2时所靶向的核酸。ORF1ab: 非结构多蛋白基因 S: 棘突糖蛋白基因 E: 包膜蛋白基因 M: 膜蛋白基因 N: 核衣壳蛋白基因。图中数字表示SARS-CoV-2 NC_045512在GenBank中基因组的位置。(c)经过MicroWriter ML3光刻制备的生物传感器的封装结果。图中的比例尺为1 cm。(d)通过MicroWriter ML3制备的石墨烯通道的光学照片。(e)在石墨烯上的Cy3共轭Y型双探针。图中的比例尺为250 μm。 二维材料场效应管器件制备石墨烯的发现为人类打开了二维材料的大门,经历十多年的研究,二维材料表现出的各种优良性能依然吸引着人们。然而,在工业上大规模应用二维材料仍然存在着很多问题,所制成的器件不能符合工业标准。近日,复旦大学包文中教授课题组通过利用机器学习 (ML) 算法来评估影响工艺的关键工艺参数MoS2顶栅场效应晶体管 (FET) 的电气特性[4]。晶圆尺寸的器件制备的优化是利用先利用机器学习指导制造过程,然后使用小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3进行制备,最终优化了迁移率、阈值电压和亚阈值摆幅等性能。相关工作结果发表在《Nature Communication》(IF=17.694)。图5. MoS2 FETs的逻辑电路图。(a),(b),(c)和(d)各类电压对器件的影响。(e)使用小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3制备的正反器和(f)相应实验结果(g)使用小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3制备的加法器和(h)相应的实验结果。图6. 利用MoS2 FETs制备的模拟,储存器和光电电路。(a)使用MicroWriter ML3无掩膜光刻机制备的环形振荡器和(b)相应的实验结果。(c)通过MicroWriter ML3制备的基于MoS2 FETs制备的存储阵列和(d-f)相应的实验结果。(g)利用MicroWriter ML3制备的光电电路和(h-i)相应的表现结果。图7. 使用小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3在晶圆上制备MoS2场效应管。(a)MicroWriter ML3在两寸晶圆上制备的基于MoS2场效应管的加法器。(b),(c)和(d)在晶圆上制备加法器的运算结果。 钙钛矿材料柔性器件制备质子束流的探测在光学基础物理实验和用于癌症治疗的强子疗法等领域是十分重要的一项技术。传统硅材料制备的场效应管装置由于价格昂贵很难被大规模用于质子束流的探测。塑料闪烁体和闪烁纤维也可以被用于质子束流的探测。可是基于上述材料的设备需要复杂的同步和校正过程,因此也很难被大规模推广应用。在最近十年间科学家把目光投向了新材料,为了找出一种同时具有出色的力学性能和造价低廉的材料,用以大规模制质子束流探测设备。钙钛矿材料近来被认为是制备质子束流探测器的理想材料。首先,钙钛矿材料可以通过低温沉积的方法制备到柔性基底上。第二,该材料的制造成本相对较低。钙钛矿材料已被用于探测高能光子,阿尔法粒子,快中子和热中子等领域。对于利用钙钛矿材料制备的探测器探测质子束的领域尚属空白。近日,意大利博洛尼亚大学Ilaria Fratelli教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3制备出用于质子束探测的3D-2D混合钙钛矿柔性薄膜检测器[5]。在5MeV质子的条件下,探测器的探测束流范围为从4.5 × 105 到 1.4 × 109 H+ cm&minus 2 s&minus 1,可连续检测的辐射最高敏感度为290nCGy&minus 1mm&minus 3,检测下限为72 μGy s&minus 1。该工作结果发表在学术期刊《Advanced Science》(IF=17.521)。图8. MicroWriter ML3在PET柔性基板上制备的3D-2D钙钛矿薄膜器件。(A)MAPbBr3 (3D) 和(PEA)2PbBr4 (2D)钙钛矿材料的结构示意图。(B)通过MicroWriter ML3无掩模激光直写机制备出的检测器,图中标尺长度为500 μm。(c)3D-2D混合钙钛矿材料的低掠射角XRD结果。(d)3D-2D混合钙钛矿材料的AFM表面形貌图。图9. 3D-2D钙钛矿材料的电学和光电学方面的性能。(A)由MicroWriter ML3无掩模光刻机制备柔性器件。(B)通过MicroWriter ML3制备的柔性器件在不同弯曲程度条件下的电流-电压曲线图。(C)3D-2D钙钛矿材料柔性器件的PL光谱结果。(D)3D-2D钙钛矿材料柔性器件的紫外-可见光光谱。参考文献[1] Y. Wang, et al. An in-memory computing architecture based on two-dimensional semiconductors for multiply-accumulate operations. Nature Communications, 12, 3347 (2021).[2] P. Liu, et al. Separation and Enrichment of Yeast Saccharomyces cerevisiae by Shape Using Viscoelastic Microfluidics. Analytical Chemistry, 2021, 93, 3, 1586–1595.[3] D. Kong, et al. Direct SARS-CoV-2 Nucleic Acid Detection by Y-Shaped DNA Dual-Probe Transistor Assay. Journal of the American Chemical Society, 2021, 143, 41, 17004.[4] X. Chen, et al. Wafer-scale functional circuits based on two dimensional semiconductors with fabrication optimized by machine learning. Nature Communications, 12, 5953 (2021).[5] L. Basirico, et al. Mixed 3D–2D Perovskite Flexible Films for the Direct Detection of 5 MeV Protons. Advanced Science, 2023,10, 2204815. 小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3简介小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3由英国剑桥大学卡文迪许实验室主任/英国皇家科学院院士Cowburn教授根据其研究工作的需要而专门设计开发的科研及研发生产光刻利器。 图10. a)小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3。MicroWriter ML3 b)在正胶上制备线宽为400 nm的结构,c)正胶上制备的电极结构,d)在SU8负胶上制备的高深宽比结构和e)灰度微结构。 MicroWriter ML3的优势:☛ 实验成本低:相比于传统光刻机,该光刻系统无需掩膜板,同时它也可以用来加工掩膜板,年均可节省成本数万元;☛ 实验效率高:通过在计算机上设计图案就可轻松实现不同的微纳结构或器件的加工,同时具有多基片自动顺序加工功能;☛ 光刻精度高:系统具有多组不同分辨率的激光加工模块(0.4 μm,0.6 μm, 1 μm,2 μm, 5 μm),且均可通过软件自由切换;☛ 加工速度快:最高可实现180 mm2/min的快速加工;☛ 具有3D加工能力:256级灰度,可实现Z方向的不同深浅的加工;☛ 适用范围广:可根据光刻需求的不同,配备365 nm,385 nm和405 nm波长光源或安装不同波长双光源;☛ 使用成本低:设备的采购,使用和维护成本低于常规的光刻系统。
  • 再交付2套!小型台式无掩膜直写光刻系统顺利落户,无需掩膜版,更高效!
    近日,由英国科学院院士Russell Cowburn教授团队研制的小型台式无掩膜直写光刻系统(Durham Magneto Optics, MicroWriter ML3)分别落户中科院沈阳金属所和合肥师范学院,将助力国内各科研院所在新型材料加工、微纳电子、光机电、微流控等诸多重点研究领域取得近一步发展。小型台式无掩膜直写光刻系统(MicroWriter ML3)进入国内科研领域已有十年时间,在国内约有200台设备安装落户。凭借小巧紧凑的结构(70 cm x 70 cm x 70 cm)、友好的操作系统、简单的维护需求、超高的直写速度,特别是无需掩膜版即可直写曝光的特点极大地优化了设计成本和研究效率,深受广大科研用户的喜爱。在小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter优秀表现和Quantum Design中国全博士售后工程师团队的努力下,清华大学、北京大学、中国科技大学、南京大学、复旦大学、中科院等重点高校和研究机构已复购多台小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter,成为MicroWriter的“回头客”。图1中科院沈阳金属所安装的配备0.4 μm镜头的MicroWriter旗舰型无掩膜光刻机 近日,中科院沈阳金属所成功安装了第一套小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3。结合新硬件配置,该系统可以实现0.4 μm的极限分辨率,同时拥有包括0.4 μm、0.6 μm、1 μm、2 μm和5 μm五种特征分辨率镜头,可以实现不同精度下的快速曝光应用。结合无掩膜版图设计,科研人员可以随时尝试修改曝光图形,并可以通过设备特有的虚拟掩膜(Visual Mask aligner)功能实现实时对准观测(如图2所示),极大地提高了科研工作的时效性和便捷性。图2. (左)虚拟掩膜对准的实时界面(蓝色区域是要曝光的电极图案)及(右)终曝光显影结果图3. 0.6 μm宽度的线条阵列曝光结果及局部细节图4. 0.4 μm孔径的点阵曝光结果及局部细节同时,合肥师范学院根据自身教学与科研的需要选择了小型台式无掩膜直写光刻系统Baby Plus型号。相比于功能全面的MicroWriter旗舰机型,Baby Plus着重于客户的基本需求。Baby Plus配备有1 μm和5 μm两个精度的镜头,可以满足大部分的科研需求。图5. Quantum Design工程师为合肥师范学院师生进行无掩膜光刻机操作培训这次在合肥师范学院安装的MicroWriter Baby Plus配备的是405 nm波长光源,特别适用于在正性光刻胶上制备二维微纳结构和三维灰度结构,助力客户在微纳机电,微纳光学等领域的研究以及小批量的试产。Baby Plus也可升级成365 nm波长光源或365 nm-405 nm波长双光源,方便研究人员制备以负性光刻胶为主的结构,满足客户的各种需求。图6.左图为利用405nm光源制备的微纳电极图形,右图为三维灰度图形小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter的广泛应用在助力国内科研发展的同时,也在全球其他知名单位获得持续应用和好评,包括斯坦福大学、东京大学、新加坡国立大学、伯克利大学(UC Berkeley)和美国航天局(NASA)等,证明了国内外研究单位对其广泛应用及可靠性的认可。
  • 小型台式无掩膜光刻机制备微流控通道助力不同形貌酿酒酵母菌的有效分类和收集
    【引言】酿酒酵母菌是一种具有高工业附加值的菌种,其在真核和人类细胞研究等领域也有着非常重要的作用。酿酒酵母菌由于自身所在的细胞周期不同,遗传特性不同或是所处的环境不同可展现出球形单体,有芽双体或形成团簇等多种形貌。因此获得具有高纯度单一形貌的酿酒酵母菌无论是对生物学基础性研究还是对应用领域均有着非常重要的意义。 【成果简介】麦考瑞大学Ming Li课题组利用MicroWriter ML3小型台式无掩膜光刻机制备了一系列矩形微流控通道。在制备的微流控通道中,通过粘弹性流体和牛顿流体的共同作用对不同形貌的酿酒酵母菌进行了有效的分类和收集。借助MicroWirter ML3中所采用的无掩模技术,课题组轻松实现了对微流控传输通道长度的调节,优化出对不同形貌酵母菌进行分类的佳参数。 【图文导读】图1.在MicroWriter制备的微流控通道中利用粘弹性流体对不同形貌的酿酒酵母菌进行分类。(a)对不同形貌酿酒酵母菌,而非根据尺寸进行分类的原理图。微流控结构有两个入口,一个是用于注入酿酒酵母菌溶液,另一个用于注入聚氧乙烯(PEO)鞘液。除此之外,该结构还有一个微流控传输通道,一个扩展区和七个出口。所有的酵母菌初期排列在鞘液的边缘,在界面弹性升力和内在升力的共同作用下,酿酒酵母菌根据形貌在鞘液内被分类。(b)对酿酒酵母菌进行形貌分类的微流控通道设计图(左)和用MicroWirter ML3制备出的实际微流控通道(右)的对比。图中比例尺为10 μm。图2. 微流控传输通道的长度对不同形貌酿酒酵母菌分类的影响。(a)不同形貌的酿酒酵母菌在不同长度传输通道参数下的实际结果。黑色虚线代表传输通道的中心线。图中比例尺是50 μm。(b)不同形貌的酿酒酵母菌在侧向的分布结果,单体(蓝色),有芽双体(黄色)和形成团簇(紫色)。误差棒代表测量100次实验的分布结果。图3. PEO浓度1000 ppm,微流控传输通道长度15 mm,酵母菌流量为1μL/min, 鞘液流量为5μL/min的条件下不同形貌的酿酒酵母菌的分类和收集效果。(a)收集不同形貌酿酒酵母菌的七个出口。(b)不同形貌酵母菌在入口和出口的比较图。(c)实验表明不同形貌的酵母菌可在不同出口处进行收集。单体主要在O1出口,形成团簇的菌主要O4出口。(d)不同出口处对不同形貌的酿酒酵母菌的分类结果,单体(蓝色),有芽双体(黄色)和形成团簇(紫色)。(e)和(f)不同出口对不同形貌的酿酒酵母菌的分离和收集结果的柱状图。误差棒代表着三次实验的误差结果。 【结论】随着微流控在生物领域的应用逐渐增多,影响力逐渐扩大,如何快速开发出符合实验设计的原型微流控结构变得十分重要。由于实验过程中需要及时修改相应的参数,得到优化的实验结果,灵活多变的光刻手段显得尤为重要。从上文中可以看出,MicroWirter ML3小型台式无掩膜光刻机可以帮助用户快速实现原型微流控结构的开发,助力生物相关微流控领域的研究。 【参考文献】[1]. Liu P , Liu H , Yuan D , et al. Separation and Enrichment of Yeast Saccharomyces cerevisiae by Shape Using Viscoelastic Microfluidics[J]. Analytical Chemistry, 2021, 93(3):1586-1595.

台式无掩模光刻系统相关的方案

  • 小型台式无掩膜光刻机助力开发新型晶体管实现新冠肺炎快速筛选
    在新冠疫情大流行的背景下,从大量人群中快速筛查出受感染个体对于流行病学研究有着十分重要的意义。目前,新冠病毒诊断方法包括血清学和病毒核酸测试,主要是以分析逆转录聚合酶链反应作为金标准,此方法在检测中核酸提取和扩增程序耗时较长,很难满足对广泛人群进行筛查的要求,因此,亟需发展一种快速的监测方法应对新冠疫情。近期,复旦大学魏大程教授课题组利用MicroWriter ML3小型台式无掩膜光刻机制备出基于石墨烯场效应晶体管(g-FET)的生物传感器。该传感器上拥有Y形DNA双探针(Y-双探针),可灵敏且快速的实现新冠病毒的核酸检测分析。该传感器中的双探针设计,可以同时靶向新冠病毒核酸的两个目标基因区域:ORF1ab和N基因,从而实现更高的识别率和更低的检出限(0.03份μ L− 1)。这一检出限比现有的核酸分析低1-2个数量,可避免混检过程中样本病毒载量较低而产生漏网之鱼,实现的混合测试。该传感器也具有快的检测速度,快的核酸检测速度约为1分钟。由于快速、超灵敏、易于操作等特点以及混合检测的能力,这一传感器在大规模范围内筛查新冠病毒和其他流行病感染者方面具有巨大的应用前景。
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    飞纳台式扫描电镜结合颗粒系统使用。利用颗粒分散仪,颗粒系统做出来的颗粒系统非常漂亮,每个颗粒都能读取出来。颗粒统计分析测量系统引起用户兴趣,用户是质控部,想利用颗粒系统找出团聚颗粒杂质。这正是颗粒系统另一优势:在规则的颗粒样品基础上找出不规则的颗粒。

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  • 光刻工艺与刻蚀技术的研究

    光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅等;(c) 再用甩胶机在阻挡层上均匀地甩上一层几百 A厚的光敏材料——光刻胶。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关 ,并与甩胶机的旋转速度的平方根成反比;(d) 在光掩模上制备所需的通道图案。将光掩模复盖在基片上,用紫外光照射涂有光刻胶的基片,光刻胶发生光化学反应;(e)用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样,可用制版的方法将底片上的二维几何图形精确地复制到光刻胶层上;(f) 烘干后 ,利用未曝光的光刻胶的保护作用 ,采用化学腐蚀的方法在阻挡层上精确腐蚀出底片上平面二维图形。掩模制备用光刻的方法加工微流控芯片时 ,必须首先制造光刻掩模。对掩模有如下要求:a.掩模的图形区和非图形区对光线的吸收或透射的反差要尽量大;b.掩模的缺陷如针孔、断条、桥连、脏点和线条的凹凸等要尽量少;c.掩模的图形精度要高。通常用于大规模集成电路的光刻掩模材料有涂有光胶的镀铬玻璃板或石英板。用计算机制图系统将掩模图形转化为数据文件,再通过专用接口电路控制图形发生器中的爆光光源、可变光阑、工作台和镜头,在掩模材料上刻出所需的图形。但由于设备昂贵,国内一般科研单位需通过外协解决,延迟了研究周期。由于微流控芯片的分辨率远低于大规模集成电路的要求,近来有报道使用简单的方法和设备制备掩模,用微机通过CAD软件将设计微通道的结构图转化为图象文件后,用高分辨率的打印机将图象打印到透明薄膜上,此透明薄膜可作为光刻用的掩模,基本能满足微流控分析芯片对掩模的要求。湿法刻蚀在光刻过的基片上可通过湿刻和干刻等方法将阻挡层上的平面二维图形加工成具有一定深度的立体结构。近年来,使用湿法刻蚀微细加工的报道较多,适用于硅、玻璃和石英等可被化学试剂腐蚀的基片。已广泛地用于电泳和色谱分离。湿法刻蚀的程序为 :(a) 利用阻挡层的保护作用,使用适当的蚀刻剂在基片上刻蚀所需的通道 ;(b) 刻蚀结束后 ,除去光胶和阻挡层,即可在基片上得到所需构型的微通道;(c)在基片的适当位置(一般为微通道的端头处)打孔,作为试剂、试样及缓冲液蓄池。刻有微通道的基片和相同材质的盖片清洗后,在适当的条件下键合在一起就得到微流控分析芯片。玻璃和石英湿法刻蚀时,只有含氢氟酸的蚀刻剂可用,如HF/HNO3,HF/ NH4。由于刻蚀发生在暴露的玻璃表面上,因此,通道刻的越深,通道二壁的不平行度越大 ,导至通道上宽下窄。这一现象限制了用湿法在玻璃上刻蚀高深宽比的通道。等离子体刻蚀等离子体刻蚀是一种以化学反应为主的干法刻蚀工艺,刻蚀气体分子在高频电场作用下,产生等离子体。等离子体中的游离基化学性质十分活泼,利用它和被刻蚀材料之间的化学反应,达到刻蚀微流控芯片的目的。等离子体刻蚀已应用于玻璃、石英和硅材料上加工微流控芯片 , 如石英毛细管电泳和色谱微芯片。先在石英基片上涂上一层正光胶 (爆光后脱落的光胶),低温烘干后,放置好掩模,用紫外光照射后显影,在光胶上会产生微结构的图象。然后用活性CHF3等离子体刻蚀石英基片 ,基片上无光胶处会产生一定的深度通道或微结构。这样可产生高深宽比的微结构。近来,也有将等离子体刻蚀用于加工聚合物上的微通道的报道。http://www.whchip.com/upload/201610/1477271936108203.jpg

  • 微流控芯片光刻机优势及特色

    [b]微流控芯片光刻机[/b]专业为[b]微流控芯片制作[/b]而设计,用于[b]刻画制作微结构[/b]表面,全自动化和可编程操作,适合几乎所有常用材料。[b]微流控芯片光刻机[/b]采用多功能一体化设计理念,一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能,而且不需要无尘环境,用户安装使用不再需要单独建设超净间,从而大大提高用户的使用经济性和方便性。[b][url=http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html]微流控芯片光刻机[/url]特色[/b]可以根据用户的芯片衬底基片尺寸,形状和厚度进行调节。是一种无掩模光刻系统,具有两个易操作的软件,用户可以创建个人微结构图案,从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。具有技术突破性设计和灵活性优势,非常适合加工微纳结构用于MEMS,BioMEMS,微流控系统,传感器,光学元件,MicroPatterning微图案化,实验室单芯片,CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。[img=微流控芯片光刻机]http://www.f-lab.cn/Upload/photolithography-MS10.JPG[/img]无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构,从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管(波长405纳米- 50毫瓦),光学扫描器和F-θ透镜(405纳米)。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用,较好的再现性和较高的质量,焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用,修改或其他用户使用。[img=微流控芯片光刻机]http://www.f-lab.cn/Upload/microcontact-printing.JPG[/img]微流控芯片光刻机:[url]http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html[/url]

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    微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计,用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念,一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能,而且不需要无尘环境,用户安装使用不再需要单独建设超净间,从而大大提高用户的使用经济性和方便性。 微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作,适合几乎所有常用材料,可以根据用户的芯片衬底基片尺寸,形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统,具有两个易操作的软件,用户可以创建个人微结构图案,从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势,非常适合加工微纳结构用于MEMS,BioMEMS,微流控系统,传感器,光学元件,MicroPatterning微图案化,实验室单芯片,CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构,从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管(波长405纳米- 50毫瓦),光学扫描器和F-θ透镜(405纳米)。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用,较好的再现性和较高的质量,焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用,修改或其他用户使用。 编号 名称 MSUP 基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。
  • 无掩膜光刻机配件
    无掩模光刻机配件具有无掩模技术的便利,大大提高影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球领先的无掩模光刻系统。无掩模光刻机配件特色尺寸:925x925x1600mm直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上内置计算机控制接口激光光源:375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置无掩模光刻机配件参数线性写取速度:500mm/s重复精度: 100nm晶圆写取面积:1—6英寸衬底厚度:250微米-10毫米激光点大小:1-100微米准直精度:500nm
  • 飞秒激光直写光刻系统配件
    秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机,基于多光子聚合技术,适合市场上的各种光刻胶,能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制,简单的3D模型通过这种软件即可生成,对于比较复杂的3D模型,用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作,然后导入到三维光刻机的软件中,这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源,精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先,待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。100nm的尺寸可自形成结构,200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复,这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择,从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后,未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序: 在所需的微纳结构形成后,它被浸入到几种不同的溶剂中,以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的,重要参数可以根据要求而设定:浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象,可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件(三维光子晶体) ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学(光学端面微结构制作) ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学
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