世界级镀膜型高相机

品牌： GATAN 名称型号：精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制造商： 美国GATAN公司经销商：欧波同有限公司产品综合介绍： 产品功能介绍Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™ ) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，Gatan品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。产品主要技术特点： 精密刻蚀镀膜仪 (PECS™ ) II，采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光，去除损失层，从而得到高质量的样品，用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外将这两支离子枪对准靶材溅射，可用来对样品做导电金属膜沉积处理，以防止样品在电镜中发生荷电效应。这款仪器被设计为不破坏真空，不将样品新鲜表面暴露在大气中，即可对抛光样品进行处理。样品的装卸是通过一个专门设计的装样工具在真空交换舱中完成。 两支具有更大电压范围的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持一致。每个离子枪都能准确独立地进行对中。在仪器运行过程中，离子枪的角度可随时进行调整。离子枪的气流可在触摸屏上通过手动方式或者自动方式进行调整， 用于优化离子枪的工作电流。PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品，避免离子束热损伤，消除可能的假象。集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对PECS II系统的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。通过Gatan的样品装卸工具能实现快速样品交换（ 1min），这样就能保证换样过程中加工舱室始终处在高真空状态。 图片说明：（A）PECSII 抛光的样品表面的二次电子像，显示出高度孪晶的晶粒（B）PECSII 抛光后的锆合金的菊池花样（C）EBSD欧拉角分布图（D）IPFZ面分而战。照片由牛津大学材料学院Angus Wilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。数据是在配有Bruker Quantax EBSD系统的Zeiss Merlin Compact扫描电镜上采集。产品主要技术参数： 离子源*离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪，高性能无耗材*抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节离子束能量100 eV 到 8.0 keV离子束流密度10 mA/cm2 峰值离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节样品台样品大小：最大直径 32mm， 最大高度 15mm样品装载： 对于截面样品抛光采用 Ilion™ II 专利的样品挡板，二次再加工位置精确。样品抛光及镀膜功能：兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能，靶材数：2个靶材切换：无需破坏真空，可直接切换样品旋转：1 到 6 rpm 可调束流调制：角度可调的单束调制或双束调制真空系统干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵压力5 x 10-6 torr 基本压力8 x 10-5 torr 工作压力真空规冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵*样品空气锁Whisperlok专利技术，无需破坏主样品室真空即可装卸样品，样品交换时间 1 min用户界面*10 英寸触摸屏操作简单，且能够完全控制所有参数和配方式操作*操作界面语言：提供中文、英文等多种选择 产品主要应用领域： EBSD样品制备截面样品制备金属材料（合金，镀层）石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料

高光谱成像技术常见的有光栅分光、声光可调滤波分光、棱镜分光、芯片镀膜等。莱森光学iSpecHyper-Mini研发了一种新型的马赛克镀膜快照式高光谱成像技术，该技术可以通过在探测器的像元上镀上不同波段滤波膜实现高光谱成像。iSpecHyper-Mini快照式画幅成像高光谱相机是一种采用芯片镀膜的分光方式、无需分光光谱仪模块即可根据应用实现9/25个波段、每秒90个数据立方体的光谱成像以快速实时获取高光谱原始数据和影像信息的高光谱成像相机。同时，iSpecHyper-Mini马赛克镀膜式成像高光谱相机采用多光谱滤波阵列(MSFA)覆盖的单个成像传感器，一次曝光即可捕获多个波段的光谱图像。产品主要优点为集成化程度高、轻量化、可靠性高、成像速度快、低功耗。iSpecHyper-Mini快照式成像高光谱相机的产品广泛应用于工业分选（果蔬分选、塑料分选、烟丝分选、垃圾分选等）、生态环保（河湖水质参数监测等）、精准农业（作物长势监测、作物病害监测评估等）、精准林草（林木长势监测、林木病虫害监测、林木分类等）、生物医学（药品监测、舌苔检测、皮肤检测等）、刑侦物检（指纹识别、字迹篡改修复、真伪钞检测等）等领域。技术原理像元级（马赛克）多通道滤光片具有多个光谱通道单元，通道数远多于RGB滤光片，承载着更多的光谱信息；每个光谱通道与传感器像元一一对应，极大简化光谱相机分光结构，具备高速获取多光谱图像或视频数据的能力，即可实现小型化、轻量化又可实现快照式成像。马赛克镀膜式高光谱成像原理主要技术指标型号iSpecHyper-Mini光谱范围420-570nm/559-740nm/620-800nm/700-920nm(其它波段支持定制)成像方式马赛克镀膜（画幅快照式）光谱分辨率（FWHM）9nm成像镜头16mm/25mm/35mm光谱通道数9/16/25等可选曝光时间28 us-1 s探测器类型CMOS 全局快门像元分辨率2048*2048探测器像元尺寸5.5*5.5μm数据获取形式连拍/单拍帧频90 fps(8 bit),45 fps(10 bit)功率能耗1.5W数据接口USB 3.0工作温度0℃ ~ 50℃（推荐25℃）尺寸/重量49x43x75mm/150giSpecHyper-Mini马赛克镀膜式成像高光谱相机尺寸三视图（单位：mm）应用案例&bull 监测农作物的长势，如农作物的氮含量、叶绿素、生物量等，也可用于监测农作物的病害及土壤肥力情况，从而为农业精细化管理作技术支撑。&bull 采集不同树种的叶片，通过光谱分析法和纹理分析法，对其高光谱影像数据进行分析，可区分不同树种的叶片和叶片的农学指标分布情况，为航拍区分不同树种作理论依据。 松材线虫病变色松树监测接种链格孢油菜叶的高光谱成像图与光谱曲线&bull 果蔬品质监测可对果蔬的质量进行评估并及时清除低品质的果蔬。果蔬的品质包括水分、糖分、维生素等物质的含量，品质缺陷包括果蔬采摘、运输过程造成的擦伤，害虫咬伤，冷藏过程造成的冻伤等。不同浓度梯度的叶菜样品的农药荧光光谱曲线 无残留和不同种类农药残留菠菜叶片表面光谱曲线&bull 实时检测水质参数指标，如总磷、总氮、叶绿素a、悬浮物、PH值、化学需氧量、氨氮、溶解氧等10余种水质指标。水环境监测水质指标&bull 应用于烧伤皮肤检测，通过成像图分析不同位置的皮肤烧伤程度，能够有效地辅助医生判断患者病症。皮肤烧伤程度检测&bull 适用于烟草行业的烟丝种类、杂质判别。可用于烟丝生化成分的检测，通过分析高光谱图像中的光谱信息判别烟丝的种类、识别烟丝中的杂质等。检测烟丝生化成分、烟丝种类判别、杂质识别等&bull 将iSpecHyper-Mini系列光谱成像系统搭载于配备有光源的暗箱系统，可用于不同工业塑料种类的分选，如PE、PP、PS、PC、PA、PU、PET、PVC、POM和ABS等用于工业塑料分选

iSpecHyper-Mini-Pro是莱森光学一款采用芯片镀膜渐变薄膜滤光片来实现分光的成像高光谱相机系统。是一款将不同波段的渐变薄膜镶镀在探测器上（CMOS/CCD/InGaAs面阵探测器等），通过对目标成像，可同时快速获取光谱和影像信息的无损检测分析仪器。iSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机可根据应用实现400-1000nm或900-1700nm范围内的高光谱成像。该系统结构包括：成像高光谱相机、驱动电源、运动控制模块、数据采集模块等。能够实现自动曝光、自动匹配扫描速度，通过携带的辅助摄像功能对监测范围进行确定等功能。在数据处理方面，实现数据的预处理、数据选择性的导出、不同数据和图像的校准。该系统广泛应用于需要物质分辨的各个领域，如农业、水质检测、材料检测、生物医学、食品加工、废物处理等。iSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机利用特殊的镀膜技术，无需分光光谱仪模块，使得在光谱覆盖范围内的数十或数百条光谱波段对目标物体连续成像，在获得物体空间特征成像的同时获得被测物体的光谱信息。其拥有的高速采集能力能够满足客户各种高光谱成像分析要求，同时，因其具有体积小、重量轻、鲁棒性好，以及1.8W低功耗的特性，是工业、无人机或手持设备等移动环境的最佳选择。线性渐变滤光片结构及分光示意图技术原理线性渐变滤光片采用连续镀膜的方式，基于多层楔形薄膜结构实现空间连续变化的滤光特性。可根据色散需求调节薄膜斜率从而获得目标线性变化率。线性渐变滤光片具备高级成度的分光能力，在光谱仪器的小型化、轻量化设中具备不可替代的优势。其广泛应用于轻量化高光谱成像光谱仪、便携式光谱仪、医用内窥镜。 基于线性渐变滤光片的镀膜式高光谱成像相机原理主要技术参数型号iSpecHyper-Mini-Pro光谱范围400-1000nm成像原理芯片渐变滤光片镀膜光谱分辨率1nm@600nm光谱通道数32成像镜头16mm/25mm/35mm探测器CMOS探测器像素尺寸5.5 × 5.5μm像元分辨率2048*2048曝光时间28us-1s数据格式8，10bit RAW数据接口USB 3.0功耗1.8W工作温度0°C ~ 50°C储存温度-20°C ~ 60°C相对湿度80% RH 非冷凝尺寸（mm）/重量（g）96.1mm × 43mm × 46.5mm/200giSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机尺寸三视图（单位：mm）应用案例&bull 监测农作物的长势，如农作物的氮含量、叶绿素、生物量等，也可用于监测农作物的病害及土壤肥力情况，从而为农业精细化管理作技术支撑。&bull 采集不同树种的叶片，通过光谱分析法和纹理分析法，对其高光谱影像数据进行分析，可区分不同树种的叶片和叶片的农学指标分布情况，为航拍区分不同树种作理论依据。 松材线虫病变色松树监测接种链格孢油菜叶的高光谱成像图与光谱曲线&bull 果蔬品质监测可对果蔬的质量进行评估并及时清除低品质的果蔬。果蔬的品质包括水分、糖分、维生素等物质的含量，品质缺陷包括果蔬采摘、运输过程造成的擦伤，害虫咬伤，冷藏过程造成的冻伤等。 不同浓度梯度的叶菜样品的农药荧光光谱曲线 无残留和不同种类农药残留菠菜叶片表面光谱曲线&bull 实时检测水质参数指标，如总磷、总氮、叶绿素a、悬浮物、PH值、化学需氧量、氨氮、溶解氧等10余种水质指标。水环境监测水质指标&bull 应用于烧伤皮肤检测，通过成像图分析不同位置的皮肤烧伤程度，能够有效地辅助医生判断患者病症。皮肤烧伤程度检测&bull 适用于烟草行业的烟丝种类、杂质判别。可用于烟丝生化成分的检测，通过分析高光谱图像中的光谱信息判别烟丝的种类、识别烟丝中的杂质等。检测烟丝生化成分、烟丝种类判别、杂质识别等&bull 将iSpecHyper-Mini系列高光谱成像系统搭载于配备有光源的暗箱系统，可用于不同工业塑料种类的分选，如PE、PP、PS、PC、PA、PU、PET、PVC、POM和ABS等用于工业塑料分选

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统 DCR DCT真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 DCTDCT涡轮泵送碳涂层系统 SEM/TEM制备碳涂层器，低真空和高真空系统台式紧凑型碳纤维镀膜系统，适用于扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）和X射线分析（EDX）中使用的样品制备。此设备有两种模式：DCR是一种旋转泵送碳涂层机，适用于SEM样品制备、EDS/WDS和薄膜应用。DCT是一种涡轮泵送碳涂层机，非常适合FE-SEM、EDS/WDS、TEM、EBSD和薄膜应用。这种高真空镀膜机提供了具有精细晶粒尺寸的高质量均匀碳膜，适用于需要高分辨率和高质量表征的样品。 使用碳涂层制备样品是非导电和低导电样品或样品的公认方法。Vac-Techniche DCT系统是一种多功能碳蒸发器，用于制备电子显微镜或EDXA分析样品。它被设计成一种能够蒸发碳棒和碳纤维的大电流电源。换句话说，它可以将碳涂覆在不同类型的基材上进行X射线分析，并涂覆导电碳纤维和棒进行SEM分析。该系统的卓越设计使用户能够轻松装载和卸载样品，并快速更换碳纤维/棒。该系统配备了薄膜厚度监测器（FTM），该监测器以1nm的精度测量安装在真空室中的石英晶体上的涂层厚度。当达到所需的厚度或时间时，该系统可以自动终止涂层循环。。紧凑且易于使用的碳涂层机，可以选择使用现有的泵或随泵提供。对于外部泵送，车载计算机控制泵或泵送设备。我们增加的真空室DCR-L和DCT-L系统可以容纳更大的样本碳涂层由于其优异的透明度和良好的导电性，沉积的碳薄膜被广泛用于电子显微镜（EM）或X射线显微分析应用，例如：&bull 用于TEM（高真空（HV）蒸发）的支撑膜&bull 用于SEM/EDS样品的导电膜（低真空蒸发）&bull 非导电微探针样品的导电表面膜（高压蒸发）&bull 非导电EBSD样品的导电表面膜（高压蒸发）&bull 非导电FESEM样品的导电表面膜（高压蒸发）&bull 非导电FIB样品的导电表面膜（高压蒸发）我们的板机集成使台式溅射镀膜机成为扫描电子显微镜（SEM）和隧道电子显微镜分析（TEM）的理想实验室和研究工具。约5纳米（50&angst ）的薄膜用于粒子支撑和放射自显影中的隔离层。较厚的薄膜也用于扫描电镜和X射线显微分析。一般来说，沉积的薄膜应该是均匀的，具有精细的晶粒尺寸和可重复的膜厚度。碳棒和碳纤维是世界各地实验室中广泛使用的两种碳蒸发源。它们每个都有自己的功能，这使得它们对用户具有特定的兴趣。为了更好地理解，这些功能的进一步细节将在以下部分中介绍。碳棒与碳纤维蒸发蒸发碳线或预成型碳棒都是蒸发碳的常用方法。使用具有正确控制系统（脉冲、连续和自动）的预成型棒可以提供高质量的碳层，还可以很好地控制碳层的厚度。然而，一些用户更喜欢使用碳纤维，因为与碳棒相比，碳纤维的工艺更快、更简单。

1. 产品概述：HVD-1800 Series 是韩国真空公司推出的一款高性能部件镀膜设备。它采用了先进的真空镀膜技术，能够在各种部件表面镀上一层或多层具有特定功能和性能的薄膜，如耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、光学等特性的薄膜，以提升部件的性能和使用寿命。 2. 设备应用： 汽车工业：用于汽车零部件的镀膜，如发动机零部件、传动部件、制动部件等，可提高其耐磨性、抗腐蚀性和耐高温性能，减少摩擦损耗，延长部件的使用寿命，进而提升汽车的整体性能和可靠性。 电子行业：应用于电子元器件的镀膜，像半导体芯片、电容器、电阻器等。镀膜可以改善电子元器件的电学性能，如提高导电性、降低电阻，同时也能提供一定的保护作用，防止外界环境对元器件的影响，增强电子设备的稳定性和可靠性。 光学领域：可对光学元件进行镀膜，包括透镜、棱镜、反射镜等。通过精确控制镀膜的厚度和材料，可以实现对光的反射、折射、透射等特性的调控，提高光学元件的光学性能，如增加反射率、提高透过率、减少色散等，广泛应用于相机镜头、望远镜、显微镜等光学仪器中。 机械制造：为机械零部件提供镀膜服务，例如刀具、模具、轴承等。镀膜能够赋予机械零部件更高的硬度、更好的耐磨性和抗腐蚀性，使其在复杂的工作环境下保持良好的工作状态，减少磨损和损坏，提高机械加工的精度和效率，降低生产成本。3. 设备特点： 先进的镀膜技术：采用了多种先进的镀膜工艺，如物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等，能够满足不同材料和镀膜要求，确保镀膜的质量和性能。 高精度的膜层控制：配备了精密的膜厚监测和控制系统，可以精确控制镀膜的厚度和均匀性，保证每一批次产品镀膜的一致性，满足对膜层厚度和质量要求较高的应用场景。 高效的生产能力：具备较高的镀膜速率和较短的工艺周期，能够实现大规模的部件镀膜生产，提高生产效率，满足市场对大量镀膜部件的需求。 良好的兼容性：可以适应多种不同形状、尺寸和材料的部件镀膜，对于复杂形状的部件也能实现均匀镀膜，具有广泛的适用性。 可靠的设备稳定性：采用了高品质的材料和先进的制造工艺，确保设备在长时间运行过程中保持稳定的性能，减少设备故障和停机时间，提高设备的利用率和生产效率。4. 产品参数： 镀膜腔室尺寸：通常具有较大的镀膜腔室空间，以容纳不同尺寸的部件，可能在直径和高度上有不同的规格选择，如直径 1.8 米，高度 2 米等。 极限真空度：能够达到较高的极限真空度，比如优于 10^-4 Pa，以保证镀膜过程在高真空环境下进行，减少杂质和气体对镀膜质量的影响。 镀膜温度：可在一定温度范围内进行镀膜，根据不同的镀膜工艺和材料，温度范围可能有所不同，例如常温到几百摄氏度。 电源功率：根据设备的规模和镀膜工艺的需求，配备相应功率的电源，可能在几十千瓦到上百千瓦不等。 气体流量控制：精确控制各种镀膜气体的流量，以确保镀膜过程中气体的比例和供应稳定，气体流量控制精度可能达到 ±1% 或更高。 实际参数可能会因设备的具体配置和定制需求而有所不同。

产品详情美国Denton 金/碳镀膜机Vacuum详细介绍 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。 自一九六四年成立至今丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大型工业生产、科研开发和小规模制造。 丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。 蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行，有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了，直到找到最佳排列。在本文中，我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度，在真空蒸发室中的单个旋转平板架上，并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生最佳厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。 更低的成本...更高的投资回报率 离子辅助沉积可提供高要求的光学应用所需的高品质，无缺陷，低应力，环境稳定（无漂移）的薄膜。 您将受益于： 独立控制离子电流密度和离子能量以优化薄膜性能长期运行，100％氧气或氮气反应气体稳定运行，延长运行时无过程漂移 冷阴极离子源是差分泵浦器件，等离子体腔室的一端通向真空环境。离子源的操作参数和薄膜的质量受控制真空度的参数的影响。在抽速很高的系统中制作好的薄膜要容易得多。当比较IAD薄膜沉积参数时，压力的差异可能是由泵浦速率引起的。 Desk V HP 专用电子显微镜样品制备– 金/碳镀膜机特点(SEM / TEM / FE-SEM)● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

Zygo光学元件光学镀膜ZYGO世界一流的镀膜设计工程师和技术人员与我们的计量和光学制造团队紧密合作，为我们的客户提供“一站式购物”体验。这简化了您的供应链，降低了项目风险和整体时间。如果您的基材在镀膜后必须满足所有要求，请选择一个单一的垂直整合制造商。反射涂层保护性和增强金属（金、银、铝）铬镍铁合金、镍、铬和钛多层定制电介质设计减反射涂层UV到MWIR光谱范围（248nm到5μm）宽带（BBAR），单频或双频，还提供定制设计EMI网格上的减反射涂层特殊涂层高LIDT，包括飞秒激光应用滤波器分光镜ZYGO的优势工程设计、制造、计量、镀膜一应俱全直径达45英寸[1145mm]和重量达300磅[136kg]的大型基板在各种材料上沉积定制镀膜设计根据标准MIL、ISO规格在内部进行环境和耐久性测试成熟的涂层应力补偿技术ZYGO业界领先的计量系统会在镀膜后对所有规格进行认证我们还提供涂层翻新服务

iXon Ultra 888是目前世界上百万像素级别中速度快的背照式EMCCD相机，它使用了目前的EMCCD芯片，并将USB3.0接口技术运用到EMCCD上，使得该相机拥有视野大、单光子敏感性、满分辨率速度可达26帧等特性，综合性能高于市场中统计产品3倍之多。 iXon Ultra 888采用全新设计，并集成了iXon系列的先进属性，在确保定量稳定性的同事，像素读出速度达到30MHz。另外Andor独特的Crop Mode支持中心开窗，可以让用户选择ROI区域，因而大大提高帧速率。例如，512×512像素时帧速率为93fps，而128×128像素时帧速率为697fps。产品特性：高灵敏度 高速度 首创U3接口 高时间精度 Crop Mode主要应用：目标跟踪弱光探测自适应光学天文探测分辨率显微成像

高分辨率成像如何？法国NeutronOptics高分辨率中子相机，这些相机通常由几个大型实验室定制，而不是商业上可用的。或者其他组件由大公司销售，对中子甚至X射线的实践经验很少。由于是一家大公司的小市场，价格很高。NeutronOptics是一家成立于2007年的小型科技公司，专门从事中子和X射线CCD相机。由Alan Hewat博士管理，拥有多年的中子散射经验，其中包括在格勒诺布尔的Laue-Langevin研究所（ILL）的欧洲高通量反应堆的衍射组领导13年。简单而有效的技术CCD相机的进步意味着您可以在光束挡板前安装廉价的照相机，并实时远程可视化您的样品和光束的均匀性。或者您可以通过针孔替换样品，并可视化单色仪的反射表面，在对齐时创建视频。或者，使用适当的准直光束，即使在3D中，也可以将大对象成像为高分辨率。我们的相机比普通CCD相机更加敏感，其市场以高分辨率驱动，牺牲敏感度。然而分辨率通常受到光束准直的限制，而不是CCD相机。我们使用与分辨率兼容的最大像素。大像素聚集更多的光，像微透镜一样覆盖像素。大孔径透镜用于将图像聚焦到不含颜色或其他吸收滤光片的CCD上，如果需要，可以在数秒甚至数分钟内累积图像，噪音低。我们使用Peltier冷却和慢速读出来降低噪音（和成本）。当图像本身需要几秒钟才能积累时，较慢的读数不是问题。这项技术最初是为业余天文学研制的，而NeutronOptics则以专业技术为基础，将世界级摄像机推向市场，同时保持低成本。我们在大多数先进国家，也在发展中国家的国际组织的帮助下，为全球超过50多个实验室提供中子和X射线相机

仪器简介： 英国Q150GB涡轮泵高真空、模块化镀膜系统，自动程序控制，傻瓜相机式的简单操作。其镀膜单元可置于各种手套箱内，外置触摸屏用户界面、电源单元和前级机械泵。可监测手套箱压力。该系统不同的配置可以实现离子溅射镀膜、碳蒸发/金属蒸发镀膜或溅射蒸发二者兼有之功能，可用于SEM、TEM及薄膜样品镀膜，也常用于锂电池科研等需要在手套箱内镀膜的样品。 技术参数： 技术规格 仪器尺寸:267mm W x 490mm D x 494mm H 总重量:40公斤 工作腔室:硼硅酸盐玻璃152mmDia (内部) x 214mm H 安全钟罩:整体PET 样品台：直径为50mm的旋转样品台。转速8-20 rpm 真空范围: 10-5 mbar量级 溅射可选靶材：Au金、Au/Pd金钯合金、Pt铂、Pt/Pd铂钯合金、Ag银、Al铝、C碳、Cr铬等 蒸发源：可选用碳棒进行热蒸发镀碳，也可使用钨丝篮或钨舟/钼舟进行热蒸发镀各种金属膜。 主要特点： &bull 可安装在手套箱内的模块化系统 &bull 整体手套箱压力监测 &bull 金属溅射、碳蒸发 – 或二者兼有 &bull 触摸屏控制模块置于手套箱外部操作 &bull 镀膜颗粒精细 &bull 高真空涡轮分子泵抽真空 &bull 可选通过膜厚监控仪实现厚度控制

真空镀膜冷水机 产品简介 1、高品质压缩机作为反应釜冷水机、反应釜冷冻机的心脏（产地欧美日全新原装进口压缩机）内置安全保护，低噪音，省电耐用。 2、蒸发器内置自动补水装置，省去工程安装中的膨胀水箱方便安装及保养，适用于大温差小流量等特殊场合。详细介绍 真空镀膜冷水机，系统的运作是通过三个相互联系的系统来工作的：制冷剂循环系统、水循环系统、电器自控系统。 真空镀膜冷水机的特点： 1、高品质压缩机作为真空镀膜冷水机的心脏(产地欧美日全新原装压缩机，内置安全保护，低噪音，省电耐用)。 2、蒸发器内置自动补水装置，省去工程安装中的膨胀水箱方便安装及保养，适用于大温差小流量等特殊场合。 3、水冷式冷凝器使用高效外螺纹铜管制作，散热量大，体积小巧。运用CAD/CAM加工技术，配合CNC加工中心制作完成，结构紧凑，可靠性高，外形美观，高效节能。 4、工业冷水机机组配置：配置单片式控制系统，内置压缩机干燥过滤器及（毛细管）膨胀阀，维修手阀接口等装置，确保了机器可靠安全运行方便保养维修。镀膜冷水机,真空镀膜专用冷水机采用涡旋式压缩机，节省能耗，同时故障率更低，性能更卓越、可靠。 5、镀膜专用冷水机的水泵采用进口轴承，振动小、噪音低，叶轮采用水力模型设计，具有极好的动静平衡，性能稳定；同轴直接式构造，效率高、体积小、重量轻、安装保养 容易；采用机械密封，保证不损轴心，不漏水，使用寿命长。 6、采用的电器控制系统与制冷系统中，继电器、热保护器、膨胀阀、压力控制器、干燥过滤等主要部件均为世界品牌产品，为镀膜冷水机,真空镀膜冷水机极大地提高了整机的可靠性。 镀膜机冷水机，真空镀膜冷水机，镀膜分体式冷水机，风冷式冷水机，镀膜水冷机，扩散泵冷水机，分子泵冷水机，真空泵和扩散泵冷水机，智能控制，人性方便； 1、镀膜冷水机,真空镀膜冷水机采用欧美高精度数字恒湿器，能直观精确测出冷水温度精确至+0 1℃； 2、操作面板直观的将压缩机、水泵、制冷系统运行状况及故障状况一一显示； 3、操作简便，只需按下开关，机组便能自动运行。 镀膜冷水机,真空镀膜冷水机特点： 1、镀膜机水冷机采用国际进口涡旋式或活塞式压缩机，镀膜冷水机,镀膜水冷机电器及制冷系统原器件全部为世界品牌产品； 2、镀膜机冷水机风冷冷凝器采用进口风机及大风量轴流设计，换热效果高： 3、风冷式系列无需配置冷却泵及水塔，安装简便，适合生产场地比较紧缺(水源缺乏)的环境使用： 4、冷冻水出水温度可控制-15℃以下： 5、镀膜水冷机 BCY系列备有双个制冷回路，即使一条回路失灵，另一条回路可照常运行； 6、冷却水循环机BCY型机身底部装有活动脚轮，使用灵活方便： 7、线型美观设计，操作程序一目了然： 8、镀膜冷水机，镀膜机冷水机，内装置不锈钢水箱，高性能、高流量专用水泵： 深圳市宝驰源制冷设备有限公司生产销售各种反应釜冷水机，化工反应釜专用冷 水机，反应釜夹套冷水机化工反应釜冷冻机，发酵罐冷水机，食品冷水机，不锈 钢冷水机，不锈钢反应釜冷水机，点焊机冷水机，碳酸饮料灌装加气冷水机，果 汁生产冷水机，反应釜制冷机，反应釜水冷机，反应釜配套水冷机，反应釜专用 冰水机，反应釜制冷机，制药反应用冷水机，制药反应釜冷冻机，反应釜冷冻机， 发酵罐冷水机，发酵罐专用冷水机，生物发酵罐专用冷水机，发酵罐水冷机，发酵罐制冷机，发酵罐冰水机，夹套冷水机，夹套用冷冻机 反应釜冷水机，反应釜专用冷水机，发酵罐冷水机特点： 1、高品质压缩机作为反应釜冷水机、反应釜冷冻机的心脏（产地欧美日全新原装进口压缩机）镀膜专用分体式冷水机内置安全保护，低噪音，省电耐用。 2、蒸发器内置自动补水装置，省去工程安装中的膨胀水箱方便安装及保养，适用于大温差小流量等特殊场合。 3、冷凝器使用高效外螺纹铜管制作，散热量大，体积小巧。运用CAD/CAM加工技术，配合CNC加工中心制作完成，结构紧凑，可靠性高，外形美观，高效节能。 所有的镀膜冷水机、真空镀膜冷水机在出厂之前已进行检验、调试。

1/我公司与日本JCU公司合作，成功开发了一种新型磁控溅射彩镀镀膜机，改变了现有装饰镀膜产品色彩单一的状况，大幅提高了装饰镀膜的技术工艺水平2. 可用于如手机壳、化妆品盒盖、化妆品瓶、汽车零部件、洁浴产品部件等镀膜，塑料表面金属化。3. 6个磁控靶，各自配有挡板4. 采用自动化程序控制，实现自我诊断和自我处置，有很高的控制水平和可靠性5. 可配选水蒸汽捕集泵和阳极层离子

自从1993年起SURFACE公司就从事脉冲激光沉积镀膜系统（以下简称PLD）的研发和制造工作，在这期间SURFACE公司不但向市场提供了标准的PLD系统，而且也提供专门为客户订制的PLD系统。经过了这么多年的发展，SURFACE公司开发出许多能够满足客户需求的产品和技术。以下就是由SURFACE公司独家提供的这些产品和技术的简要介绍： 一． 基本资料 1.、SURFACE基底运载系统 对机械手来说，热均匀和热隔离的有效性是十分重要的。这其中，精确的热电偶是关键的质量因素。 （图上的文字） SURFACE常规电阻1英寸基底运载器 嵌入式Omicron原子力基底夹 热电偶直接嵌入基底运载系统，30mm的基底中间区域 基底和银酱一起安装在激光切边运载器上。运载系统可转换并直接嵌入热电偶（请见另一页）这保证绝大多数的温度测量。 2、靶切换系统 超高真空技术需要反应釜通过一个负载锁的腔体进行相互作用。从一开始，SURFACE就意识到这一点，并设计了一个靶转盘来实现这一需求。 多层盖板避免了强热的基底转移到靶材。所有靶材是受保护，以防止交叉污染。盖板能够非常容易地被更换，无需工具。靶材将通过磁场操纵或位于中央转移腔的内部转移操纵手被转移。该耦合和靶材的精确检索是自动完成的。靶转盘和切换动力保证了均质烧蚀过程。 3、模块化的系统概念 SURFACE公司多年来一直从事于研发超高真空材料科学系统。在大多数情况下，一个系统的工作负载起始于一个单一的过程控制，往往过了一段时间以后，客户的需求会增多。为了通过附加的过程控制提升整套设备的功能，SURFACE公司认识到需要用完整的模块化概念来解决这个问题。 从向市场提供单一的腔体加上负载锁，一直到提供更多的扩展，而不需要冒任何将来转换而产生的风险。 可以方便客户的细节： 1、 转换过程有照相机支持 从开始我们的束工具生产，我们就决心让使用设备变得更加简便。最早我们使用了一个独立的监视器，连接一台独立的BW照相机。为了实现自动化，增加了第二个TTL监视器来观测实时的彩色照片和相关的其他过程数据。尤其是当我们的激光加热系统应用以后，另外一台显示器对显示实际得图表和数据非常有用。毫无疑问，所有的照片都能够被实时地存储在过程控制系统的硬盘驱动器上。 2、 整套系统的紧凑安装 实验室里的空间是昂贵的，所以任何空间都必须被非常有效地使用。SURFACE公司从一开始就设计将激光放置在控制箱的顶部，并可将其他的激光气舱加入这一过程。 将气舱整合到这个配置里面将使安装变得非常容易和迅速。 这种节约成本的设计克服了PLD安装之前昂贵的本地安装&mdash &mdash 所有项目都被包括在SURFACE的交货中。 气舱通过一个大的方便的管子与客户端的排气设备相连接。 3、 SURFACE公司的交货与交钥匙工程 这方面包括从SURFACE公司将系统直接运来（这些设备的生产基地都是在西欧及周边地区）。运输到客户的卸载地点是关键。但SURFACE公司帮助，甚至客户实验室的建设。客户只需要提供当地的交通和吊车来将货物运送到设备使用地。所有的运输路线在采购决定之前都会被考察到。 4、 SURFACE公司支持S3处理软件。 S3处理软件提供一个全新的立体支持：一键式操作，客户可以直接与SURFACE的技术支持团队进行沟通。软件使用中的问题和操作中的问题经常会发生，通过完全的远程操控，技术支持人员可以为客户提供设备使用各个阶段的帮助。这将防止一些不必要的困难的发生，并为客户提供快捷的响应。这个支持工具在SURFACE系统中是免费的，客户只需提供正确的网络链接。

Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统 DSCTDesktop SEM/TEM Sputter and Carbon Coater DSCT 使用溅射涂层制备样品是非导电和低导电样品或样品的公认方法，该系统也适用于光学涂层。Vac Techniche DSCT的开发超过了SEM/TEM样品制备的要求。紧凑且易于使用的溅射镀膜机，带有机载涡轮分子泵使用提供的备用真空泵或您自己的，全部由处理器控制器控制。Vac Techniche台式溅射镀膜机能够在不导电或导电性差的样品或设备上对贵金属进行薄膜溅射镀膜：金（Au）、钯（Pd）、铂（Pt）和金/钯（Au/Pd）。我们的板处理器集成使台式溅射镀膜机成为扫描电子显微镜（SEM）和透射电子显微镜分析（TEM）的理想实验室和研究工具。我们的DSCT设计的好处之一是快速的泵停时间，使其成为除研究仪器外的生产工具，用于光学涂层等应用。薄膜沉积具有精细的气流控制，在自动模式下使用时产生可重复的结果。碳涂层附件DSCT具有容纳碳涂层附件的设施，非常适合SEM/TEM制备，使用单独的附件使碳涂层远离溅射头，避免和交叉污染问题。碳棒蒸发也可根据要求提供。

普林斯顿仪器（PI）领先的成像产品，包括：CCD相机，高速增强型ICCD，电子增益型EMCCD，高速增益emICCD，X射线相机，铟镓砷相机。我们致力于为您提供独特创新的方案，解决你棘手挑战性的问题。我们坚持技术创新来为科研工作者提供高性能的成像技术，包括SOPHIA，ProEM，PI-MAX4，NIRvana等突破性的产品。 ProEM EMCCD电子增益相机 高速，精准，低噪声！ProEM-HS系列相机采用了热点制冷的后照式EMCCD芯片，结合普林斯度仪器专利研发的eXcelon3技术。这款高速、精准、低噪声的EMCCD可以实现许多在超低光强度下的成像和成谱应用。 ProEM系列的EMCCD产品具有以下重要特点:• 专利研发eXcelon3 技术提供紫外到近红外波段超高的感光灵敏度• 独特的真空封存技术，终生真空质保• Spectra-kinetics采集模式实现超快的读出速度• 相机内置的电子增益校准系统• 简单的控制方式，采用GigE高速数据传输• 功能强大的LightField 64位系统操作平台 产品综述这款相机是普林斯顿仪器30多年在低噪声、高性能科学级相机领域耕耘的结晶。ProEM-HS 系列的成像和成谱相机，专为世界级科研实验室量身打造。 该系列相机为许多苛刻的低光实验提供了必要的成像条件，例如拉曼光谱，单分子荧光等。 在这些实验中，相机的电子增益功能保证了相机的单光子敏感度。 ProEM-HS系列拥有高分辨率，背照式的EMCCD芯片结合独有的eXcelon技术，不仅去除了近红外波段的干涉条纹，还极大提升了紫外到近红外波段的感光度。光谱采集速度可高达20kHz。Temporal variation of laser vibrational Raman spectra of combustion species in a high-pressure turbulent methane-air combustion.(Image credit: Dr. Jun Kojima, NASA). 产品特点eXcelon专利技术紫外到近红外波段最高的敏感度去除背照式CCD存在的近红外干涉问题 独特的真空封存技术终生真空质保深度制冷至 -70°C降低在长时间曝光时的暗噪声问题单层入射窗口，减少反射层和强度损失简单操作，无需维护多种读出模式，适合不同的应用超高速读取Spectra kinetics 模式Kinetics模式电子增益低噪声 全幅转移的高速采谱技术无需机械快门允许连续成像或成谱全幅成像速度达 34 fps，超高速模式可超过3kHz偏置电压矫正系统提供平稳的信号基线 光谱型EMCCD 20 kHz 成谱速度Spectra Kinetics成谱模式可达 300kHz 成谱速度偏置电压矫正系统提供平稳的信号基线超低像素合并噪声 电子增益校准 – OptiCAL内置的参考光源保证了一键快速校准保证长时间的稳定工作 探测范围： 180nm ~ 1100nm超宽波长覆盖范围，应用范围广 95% 量子效率 （QE）紫外波段采用 Unichrome 镀膜，高量子效率第三代eXcelon 技术，增强感光度，更好抑制干涉 高速GigE接口:标准电脑网卡接口，无需额外硬件即插即用，适合台式机与笔记本电脑真正的16位数据传输速度，适合2MHz，5MHz，10MHz读出速度 强大的64-位操作平台:直观易上手的用户界面设计可以自动读取保存实验参数，适合多用户的实验平台简单快捷的背景扣除，平场校准，坏点纠正功能Intellical精准的波长校准和强度校准，一键完成PICAM（64）位通用程序语言，方便的程序修改与编译 型号规格ProEM EMCCD相机型号比较和数据表ModelImaging ArraySensor TypePixel SizePeak QEProEM HS: 512BX3 512 x 512B/I, eXcelon3 FT (PI Exclusive)16 x 16 μm~95%ProEM HS: 1024BX3 1024 x 1024B/I, eXcelon3 FT (PI Exclusive)13 x 13 μm~95%ProEM: 16002 eXcelon3 1600 x 200B/I, eXcelon3 (PI Exclusive)16 x 16 μm~95%ProEM: 16004 eXcelon3 1600 x 400B/I, eXcelon3 (PI Exclusive)16 x 16 μm~95%B/I = Back IlluminatedFT = Frame Transfer 产品应用Fluorescence, Phosphorescence, and Photoluminescence SpectroscopyFluorescence, phosphorescence and photoluminescence occur when a sample is excited by absorbing photons and then emits them with a decay time that is characteristic of the sample environment. Astronomical ImagingAstronomical imaging can be broadly divided into two categories: (1) steady-state imaging, in which long exposures are required to capture ultra-low-light-level objects, and (2) time-resolved photometry, in which integration times range from milliseconds to a few seconds. Bose-Einstein CondensateBose-Einstein condensate (BEC) can be regarded as matter made from matter waves. It is formed when a gas composed of a certain kind of particles, referred to as “bosonic” particles, is cooled very close to absolute zero. CombustionCombustion researchers rely on laser-based optical diagnostic techniques as essential tools in understanding and improving the combustion process. NanotechnologyNanotechnology helps scientists and engineers create faster electronics as well as ultrastrong and extremely light structural materials.

总览我们的TLS-1200可调谐激光器是新一代高性能连续波（CW）可调谐激光源，适用于各种单波段或组合波段窗口，范围从1050 nm到1680 nm。 创新设计采用先进的可调谐技术，并在宽波长范围内实现增益连续。 由于没有移动部件，压控波长调谐可以在整个工作波长窗口内快速切换波长。本数据表描述并定义了 我们的高相干（A 型：窄线宽）CW 可调谐光源及其测试和测量应用。 它们提供快速波长调谐、高功率输出、高功率稳定性和高信号-ASE 比。我们的可调谐激光器产品支持O波段、E波段、S波段、C波段、L波段等单波段工作、相邻波段组合以及全波段（1250~1650 nm）。系统控制和通信通过RS232接口提供，允许用户轻松动态设置工作波长。GuxMax 高相干组合波段连续可调谐光源 (A型窄线宽) 1250-1630nm,GuxMax 高相干组合波段连续可调谐光源 (A型窄线宽) 1250-1630nm产品特点功率稳定性: 0.05 dB高速扫描: 高达 800 nm/s信号源ASE比: 70 dB高相干光源产品应用测试和测量长期过程监控动态对准优化仪表装置通用参数参数单位O+E-波段S+C+L-波段波长范围 1)nm1250 ~ 14501480 ~ 1630Min. 输出功率dBm≥ 5≥ 5功率稳定性 2 ), 3)dB± 0.05功率重复性 3), 4)dB± 0.01波长精度 2), 3)pm± 5波长重复性 3), 4)pm± 3波长稳定性 2), 3)pm≤ 5波长调谐分辨率pm≤ 1线宽 (FWHM)kHz 100信源ASE比 5)(Signal to Source ASE Ratio)dB≥ 70Max. 扫描速度 6)nm/s400步进调谐时间ms50操作模式-手动调谐/连续扫描/步进扫描通讯接口-RS232/UART注:1) 波长校准为“峰值波长”。2) 预热后测量时，在 25±1°C 下测量 1 小时以上。3) 对于 0 dBm 的输出功率。4) 预热后测量时，在 25±1°C 下测量 100 次以上。5) ASE 在 0.1 nm 波长带宽内测量。6) 对于连续扫描，高达 800 nm/s。

恒奥德仪器加热型提拉镀膜机 恒温浸渍提拉涂膜机 H18059 主要参数 标温度范围 室温-200℃样行程 150mm提拉速度范围 1um/s-20000um/ss提拉分辨率 1um/s浸渍时间 0-9999S镀膜次数 1-9999次每次镀膜间隔时间 0-9999S额定线性推力 20N控制度 ≤0.5%本公司主营 不锈钢采水器，弯曲测量装置，鼓风干燥箱，色度计，化学试剂沸点测试仪，提取仪，线缆探测仪，溶解氧测定仪，活性炭测定仪，磁导率仪，比浊仪，暗适应仪，旋转仪，酸度计，硅酸根测定仪，过氧化值测定仪，腐蚀率仪，电阻率测定仪，耐压测定仪，污泥比组测试仪，粉体密度测试仪，机械杂质测定仪，运动粘度测试仪，过氧化值酸价测定仪，噪声源，土壤腐蚀率仪，直流电阻测试仪，厌氧消化装置，耐压测试仪，甲醛检测仪，硅酸根测试仪，PH酸度计，测振仪，消解仪，读数仪，空气微生物采样器，，双波长扫描仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，钢化玻璃表面平整度测试仪，腐蚀率仪，凝固点测试仪，水质检测仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，气体采样泵，自动结晶点测试仪，凝固点测试仪，干簧管测试仪，恒温水浴箱，汽油根转，气体采样泵，钢化玻璃测试仪，水质检测仪，PM2.5测试仪，牛奶体细胞检测仪，氦气浓度检测仪，土壤水分电导率测试仪，场强仪，采集箱，透色比测定仪，毛细吸水时间测定仪，氧化还原电位计 测振仪，二氧化碳检测仪，CO2分析仪，示波谱仪，黏泥含量测试仪，汽车启动电源，自动电位滴定仪，，干簧管测试仪，电导率仪，TOC水质分析仪，微电脑可塑性测定仪，风向站，自动点样仪，便携式总磷测试仪，腐蚀率仪，恒温水浴箱，余氯检测仪，自由膨胀率仪，离心杯，混凝土饱和蒸汽压装置，颗粒强度测试仪，斯计，自动涂膜机，，气象站，动觉方位仪，，气味采集器，雨量计，四合气体分析仪，乳化液浓度计，溶解氧仪，温度测量仪，薄层铺板器，温度记录仪，老化仪，噪音检测仪，恒温恒湿箱，分体电阻率测试仪，初粘性和持粘性测试仪，红外二氧化碳分析仪，氢灯，动觉方位仪，冷却风机，油脂酸价检测仪，粘数测定仪，菌落计数器，气象站，雨量计，凯氏定氮仪，荧光增白剂，啤酒泡沫检测仪，发气性测试仪，低频信号发生器，油液质量检测仪，计数器，漏电流测试仪，标准测力仪，毛细吸水时间测定仪，大气采样器，流速仪，继电器保护测试仪，体积电阻率测试仪，侧面光检测仪，照度计，体化蒸馏仪，涂布机，恒温加热器，老化仪，烟气分析仪 本产品价格仅为配件价格，由于检测参数不同对仪器的终要求也不同，所展示的价格并非产品终价格，如给您带来不便请谅解请您在购买前联系我们客服人员，我们会给你确认产品信息，术参数以及报价，我们会以优惠的价格，诚恳的态度为您服务，期待您的来电！ 以上参数资料与图片相对应

. 1适用于铟等金属材料的蒸发镀膜2. 由真空镀膜室、蒸发源、工件架、分子泵真空获得和测量系统、膜厚控制仪、机架及电气控制系统等组成3. 配置多组蒸发源，均有电动挡板，多个水冷电极，蒸发源交替使用4. 工件架可放置不同尺寸样品，镀膜均匀性良好，蒸发距离较远，转速连续可调，样品盘水冷

产品简介：450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。产品型号450型电子束蒸发镀膜系统技术参数系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。　　技术指标：　　极限真空度：≤6.7×10 Pa　　恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统e型电子枪：阳极电压：6kv、8kv(1套)　　坩埚：水冷式坩埚，四穴设计，每个容量11ml　　功率：0-6KW可调　　电阻蒸发源(可选)　　电压：5、10V　　功率：电流300A，输出功率3Kw1套，可切换水冷电　　极3根，组成2个蒸发舟　　基片尺寸：可放置4″基片　　样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm加热温度 ≤800°C±1°C，可调手动控制样品挡板组件1套　　气路系统：质量流量控制器1路　　石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显示范围：0-99μ9999?

1.由镀膜室、蒸发源、样品台、涡轮分子泵真空获得及测量系统、电源及控制系统和机架等组成2. 样品架自转，转速连续可调。镀膜均匀性良好，有加热功能3. 底部多组蒸发源，交替使用，上方有电动挡板，可通过手持控制盒进行蒸发镀膜操作，便于操作和观察

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电路板、医疗器械等产品的立式固定涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于磁性材料、电路板等产品也有较理想的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电池等产品的滚动涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于电池等产品也有较好的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性。

派瑞林真空镀膜机用独特的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材表面“生长〞出完全敷形的聚合物薄膜涂层 ，具有其他涂层难以比拟的性能优势。它能涂敷到各种形状的表面，包括尖说的校边 ，裂缝里和内表面。可应用于航空航天、新能源汽车、电路板、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械等行业，具有广阔的市场前景。这款MQP-3001小设备腔体小，均匀性良好，适合科研单位进行实验研究，操作简便，稳定性强。公司始终以信誉求发展，以质量求生存为宗旨，坚持以人为本，与时俱进科技创新，公司将一如既往，努力打造优良品牌，同时也真诚地为用户提供周详的服务．有充足的技术及生产加工能力，欢迎广大客户选购本公司真空镀膜设备和派瑞林（Parylene）原材料以及来件涂层加工。

产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。 产品型号钙钛矿镀膜机主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW； 蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999?

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钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸　　　　　 发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A

Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DST1-300Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DST1-300Vac Techniche DST1-300 Turbo-Pumped Sputter Coater DST1-300具有最小的台式机占地面积之一，可为高分辨率SEM和TEM样品制备提供直流和射频溅射。 DST1-300系列提供以下版本，以满足大多数实验室应用。DST1-300单磁控管，直流，射频，样品偏置，样品加热，样品旋转DST2-A两个磁控管倾斜中心焦点，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转。 DST2-TA两个磁控管成角度的中心焦点，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST2-S两个磁控管，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST2-TS两个磁控管，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST3-A三个磁控管倾斜中心焦点，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转。DST3-TA三个磁控管倾斜中心焦点，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST3-S三个磁控管，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转。DST3-TS三个磁控管，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，碳、电线或船的单次热蒸发。也可选择4〃磁控管。

1 产品概述: 立式溅射镀膜设备，如TS-CJX/M系列，是一种广泛应用于制备各类光学膜和装饰膜的先进设备。该设备采用磁控溅射技术，通过高能离子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材表面，形成所需的薄膜层。立式结构设计使得设备在处理大面积基片时具有更高的效率和稳定性。2 设备用途：溅射镀膜设备（立式）的用途广泛，主要包括以下几个方面：光学领域：用于制备眼镜、光学镜片、摄影镜头等光学设备的镀膜，增加其防反射、增透、反射率等光学性能。电子领域：在半导体器件、集成电路、显示器件、太阳能电池板等电子元件的制造中，用于增加导电性、隔热性、防蚀性等功能。汽车工业：用于汽车镜片、灯具、车身涂层等零部件的制造，提高表面硬度、耐蚀性、抗划伤性等性能。医疗设备：在医疗器械的金属镀膜中采用溅射镀膜技术，以提高耐腐蚀性、生物相容性，并增加设备的功能性。3 设备特点溅射镀膜设备（立式）具有以下显著特点：高效沉积：溅射镀膜技术以其高沉积速率著称，能够在较短时间内形成均匀且高质量的薄膜。磁控溅射通过施加磁场进一步增加等离子体密度，提高溅射速率和沉积效率。低温操作：溅射镀膜过程中的低温环境能够有效避免基片材料因高温而发生降解或形变，保证薄膜和基片的整体性能。这对于温度敏感材料的镀膜尤为重要。均匀薄膜：溅射过程中，等离子体在靶材表面均匀分布，确保靶材原子的溅射均匀性。旋转基片技术进一步提高了薄膜在大面积基片上的均匀性。多样化靶材选择：溅射镀膜技术能够处理多种材料，包括金属、合金、陶瓷和复合材料，适用于不同工艺需求。 4 技术参数和特点：溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。仅基板搬送和侧面镀膜的方式节约空间的设计可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件根据镀膜物不同选择不同的阴排列丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应

高真空镀膜机 Leica EM ACE600 您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于最高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。高真空镀膜仪 – 配置您的镀膜体系 – 我们铸造您真正需要的镀膜仪Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式: 金属溅射镀膜 碳丝蒸发镀膜 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件） 电子束蒸发镀膜 辉光放电 连接VCT样品交换仓，与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输Leica EM ACE 镀膜仪 为您开启最优越的镀膜体验 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。让我们开启大门来体验全新镀膜设备的先进技术。我们的理念只有一个，即“力求简约，简便，快速并可靠地实现样品表面镀膜，使您的样品在EM中获得最好的图像”。