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反应离子刻蚀系统
仪器信息网反应离子刻蚀系统专题为您提供2024年最新反应离子刻蚀系统价格报价、厂家品牌的相关信息， 包括反应离子刻蚀系统参数、型号等，不管是国产，还是进口品牌的反应离子刻蚀系统您都可以在这里找到。 除此之外，仪器信息网还免费为您整合反应离子刻蚀系统相关的耗材配件、试剂标物，还有反应离子刻蚀系统相关的最新资讯、资料，以及反应离子刻蚀系统相关的解决方案。
反应离子刻蚀系统相关的方案
上海伯东 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 用于半导体晶圆刻蚀
某半导体公司为了去除晶圆反应表面产生的反应产物, 进而提高反应效率, 同时提高晶圆的均匀度, 采用 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 用于半导体晶圆刻蚀.
上海伯东 IBE离子束刻蚀（离子铣）基本原理与应用介绍
在半导体制程工艺中，刻蚀（Etch）是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分，以化学反应或物理作用的形式加以去除，完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀（Wet Etching）和干刻蚀（Dry Etching）。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺，即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后，将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种：PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
Hakuto IBE离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
随着微纳制造技术的发展，软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS（聚二甲基硅氧烷）作为一种常用的软刻蚀材料，其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点，为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀
提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻（ALE）是一种技术允许每次精确除去一个原子层，是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。
Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究
重庆某研究所在在氮化硅刻蚀工艺研究中采用 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE.针对氮化硅刻蚀工艺中硅衬底刻蚀损失的问题, 为了提高氮化硅对二氧化硅的刻蚀选择比, 采用 CF4, CH3F和O2这3种混合气体刻蚀氮化硅, 通过调整气体流量比, 腔内压强及功率, 研究其对氮化硅刻蚀速率、二氧化硅刻蚀速率及氮化硅对二氧化硅选择比等主要刻蚀参数的影响.
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度
衍射光学元件因其独特的光学性能在多个高技术领域中得到广泛应用。随着技术的发展，对衍射光学元件的制造工艺提出了更高的要求。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的应用，为实现高精度和高均匀性的光学元件制造提供了新的解决方案。
不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响
岛津AXIS Supra具备全自动传样系统，样品预抽时便可进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪，单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析，低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析，20 kV最大团簇能量可以保证无机材料的有效分析。
伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器（MEMS）加工
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器，用于监测土壤的力学结构变化，一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工，Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层，在完成镀膜（溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam）用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题，刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。
上海伯东IBE离子束刻蚀用于铌酸锂LiNbO3薄膜刻蚀
随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现，铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样，成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台，在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能，IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板
本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制作面阵石英 DNA 芯片模板中的应用。该设备配备 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700，确保了高真空度和刻蚀过程的高均匀性。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的芯片模板表面微结构形貌有利于 DNA 序列样本与芯片模板的吸附耦合，提高了实验效率和准确性。
上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀
深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主
上海伯东KRI离子源在半导体材料中的预清洗及刻蚀应用
半导体材料（semiconductor material）是一类具有半导体性能（导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩcm～1GΩcm范围内）、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的原料，是科学研究的重要材料。本文主要介绍上海伯东KRI离子源在半导体材料SiO2中的预清洗及刻蚀应用。
上海伯东 KRi 大面积射频离子源应用于 12英寸,8英寸 IBE 离子束蚀刻系统
上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大面积射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 刻蚀均匀性（1 σ）达到
电解液中静电力分布的可视化阐明腐蚀和电池反应机理
利用电池、IC芯片、内存等材料和物质电势的系统支撑着我们的日常生活。扫描探针显微镜（SPM／AFM）中经常采用开尔文探针（KPFM）法测定试样表面的电势，但无法在发生电化学反应的电解液中使用。在此报道中，作者在静电力显微镜（EFM）的基础上建立了新的EFM-Phase-ZXY测量方法，，成功实现电解液中静电力分布的可视化。
QCM-D研究光刻蚀分解
光响应高分子（光刻胶）材料被广泛的应用于工业处理，如电子器件和刻蚀。他们对光敏感，并且大量使用在表面上。本文主要采用QCM-D技术对光响应高分子的性能进行了研究。
无反应条件下氧煤燃烧室中颗粒流动的实验研究
采用LaVision公司的粒子成像测速系统(PIV)和粒子跟踪测速系统(PTV)对无反应条件下氧煤燃烧室中颗粒流动的速度场进行了实验测量研究。
多参数全自动全混式厌氧发酵反应系统（RTK-CSTR）
RTK-CSTR全自动厌氧发酵反应过程控制及多参数数据分析系统。可以同时控制6组全自动厌氧反应装置，每组装置由全混式厌氧反应器（CSTR）、单通道气体流量计、pH/ORP控制器、离子选择电极、泡沫感应器、蠕动泵和搅拌电机等部件组成。该系统能实时在线显示多参数如反应温度、pH值、ORP值、特定离子浓度，并能对这些参数进行自动化控制如自动加酸碱调节pH值，自动加氧化还原剂调节ORP值，自动加消泡剂进行消泡，自动控制机械搅拌的工作模式如转速、方向、连续或间歇时间等。同时实时在线显示厌氧发酵过程产生的沼气或甲烷气体体积或流量并自动换算成标况体积，对数据进行记录和存储。
Hakuto 离子蚀刻机20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄
某陶瓷基片制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于 5G 陶瓷基片银薄膜减薄, 通过蚀刻工艺把基片涂层银薄膜刻蚀减薄, 并降低工差, 提高薄膜均匀性.
上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于提升碳化硅微光学元件的品质
某光学元件制造商为了优化碳化硅微光学元件, 降低碳化硅微光学元件表面粗糙度, 采用 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 对其进行优化.1. 经过 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 对碳化硅微纳结构进行刻蚀, 以调控结构的线宽和深度, 使结构表面粗糙度由约106nm降低到11.8nm.2. 碳化硅菲涅尔波带片展现出良好的聚焦和成像效果.
使用单颗粒ICP-MS在反应模式下分析SiO2纳米颗粒
使用ICP-MS测量硅（Si）富有挑战性。等离子体中形成的14N2+和12C16O+ 多原子离子，与丰度最高的Si同位素（28Si 92 %丰度）的m/z相同。因此，当多原子离子未被去除时（标准模式下），m/z 28处的背景等效浓度非常高。它抑制了低水平Si的测定，让SiO2纳米颗粒的检测变得更加困难。此外，Si的电离势相对较高，其电离也更具挑战性，导致其强度低于其它易电离的元素，如Na。然而，如果能提高信背比（S/B），就有可能检测到更小的SiO2纳米颗粒。在之前的应用报告中，2我们介绍过100 nm SiO2纳米颗粒标准品可以使用SP-ICP-MS进行分析，且无需去除干扰（标准模式下）。然而，如果能在反应模式下去除干扰，预期能精准测量更小的SiO2纳米颗粒。本工作将讨论在反应模式下，通过SP-ICP-MS检测、测量和表征SiO2纳米颗粒的能力。
使用 Agilent 8800 ICP-MS/MS 在冷等离子体反应池模式下测量超纯水中的超痕量钾及其他元素
采用 Agilent 8800 ICP-MS/MS 确认了水簇离子H3O(H2O)+ 的存在，其在冷等离子体条件下会在m/z 39 处产生 K 的背景信号。在 MS/MS 模式下，采用 NH3 作为反应池气体可成功除去该水簇离子。采用 8800 ICP-MS/MS 获得的 39K 的 BEC为使用常规四极杆 ICP-MS 获得值的 1/10。这一结果展示了 MS/MS 反应模式的优势，其能阻止所有非目标离子、等离子体衍生离子进入反应池，从而避免在反应池中产生可能造成干扰的产物离子。因此，Agilent 8800 ICP-MS/MS 能够使 UPW 中 K 的 BEC 低至 30 ppq，所有其他元素（包括Ca、Fe 和 Ni）的 BEC 150 ppq。
使用 Agilent 8800 ICP-MS/MS 在冷等离子体反应池模式下测量超纯水中的超痕量钾及其他元素
采用 Agilent 8800 ICP-MS/MS 确认了水簇离子H3O(H2O)+的存在，其在冷等离子体条件下会在m/z 39 处产生 K 的背景信号。在 MS/MS 模式下，采用 NH3作为反应池气体可成功除去该水簇离子。采用 8800 ICP-MS/MS 获得的39K 的 BEC 为使用常规四极杆 ICP-MS 获得值的 1/10。这一结果展示了 MS/MS 反应模式的优势，其能阻止所有非目标离子、等离子体衍生离子进入反应池，从而避免在反应池中产生可能造成干扰的产物离子。因此，Agilent 8800 ICP-MS/MS 能够使 UPW 中 K 的 BEC 低至 30 ppq，所有其他元素（包括Ca、Fe 和 Ni）的 BEC 150 ppq。
使用Open Access大气压气相色谱-质谱联用系统(APGC-MS)进行小分子 反应监测
使用APGC实现“软”电离，生成[M+H]+离 子，然后进行自动化化合物目标解析。 鉴定化学反应中的目标化合物是药物化学实验室中化学家面临的一个主要挑战。使用自助式分析应用快速获得这种化合物的反应信息，对于现代研究部门来说具有重要价值。大气压气相色谱(APGC)是一种支持将气相色谱仪与配备大气压化学电离(APCI)源的质谱仪联用的离子源。它将GC分离与软电离相结合，通常产生分子离子或准分子离子。该系统与带OpenLynx的MassLynx软件相结合，是监测和鉴定小分子的一款强大工具。 通过质子化电离条件下的自动化解析过程，发现化合物目标匹配[M+H]+。 该应用针对在电喷雾电离(ESI)条件下，未表现出最佳响应的化学中间体和化合物进行了优化。APGC-MS系统与自动化解析和报告过程相结合，为研究化学家提供了一款非常强大的自助式分析应用工具。本应用纪要的目的是展示自助式APGC-MS为监测化学反应带来的速度和易用性优势。
理想的化学反应釜温度控制系统
药品研发和化学实验中的温度控制，以及小规模试验生产和工业生产过程中的温度控制，都需要高动态的温度控制系统。对反应釜进行控温时，须对化学反应中的吸放热进行快速补偿。在选择合适的温度控制系统时，需要综合考虑各种条件和影响因素。本文旨在提供壹定的标准和建议，以便用户在应用中选择好的温度控制方案。
在反应流中产生的纳米颗粒表征
用LaVision的图像增强器IRO，Imager Intense 相机和染料激光器构成了一套OH PLIF 自由基测量系统。对在反应流中产生的纳米颗粒特性进行了表征。
【康宁案例】硝化、加氢、重氮化、水解多步反应连续合成
康宁反应器既耐压又透明、可视的玻璃模块极大地提升了连续流工艺开发和优化的效率。康宁反应器模块化设计，可快速、灵活地组装成满足数千种不同化学反应需求的反应器。
景区负离子PM2.5温度湿度监测系统方案
瀑布, , 森林, , 生态公园, , 郊外田野负离子 5 PM2.5 温湿度大屏幕系统方案奥斯恩 OSEN-YFQ 负氧离子监测系统可同时监测多种环境要素，并可根据用户需要进行扩展增减，24 小时全天候对空气中气体浓度数据进行传输。独特的模块式结构设计，各种传感器可互换，标配有安装支架，可将仪器设备安装于墙面上，或者立柱上,后期运营维护极为方便。
IKA实验室反应器在医药行业的应用
IKA LR1000是一种模块化，可扩展的实验室反应系统，旨在优化各种化学反应过程以及多种实验应用，可以在反应器内实现搅拌，加热，冷却以及进行温度控制，并根据客户需求，实现在真空条件下进行搅拌、均质，监测样品扭矩变化趋势及PH值，并且可以直接在反应器上实现称重功能，此外，釜盖上的标准接口可以轻松连接如冷凝管类的玻璃件。
使用 Agilent InfinityLab 在线液相色谱 系统实现对流动化学反应器中反应过 程的实时监测
本应用简报介绍了 Agilent InfinityLab 在线液相色谱解决方案与流动化学反应器结合使用的能力。高度准确的直接进样和采样模式可实现不同反应参数对整体反应及其特性影响的测量。采样和分析由安捷伦在线液相色谱监测软件全面协调控制，该软件能够以安全、经济的方式实现实验监测的全自动化。
OPUS系统在结晶反应过程控制中应用
本文发表于2004年第2期的CPP（Chemical Plant＋Process)杂志上，重点介绍了OPUS系统在结晶反应过程控制中应用的原理、安装方式、以及测试的结果等。
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