蓝宝石抛光液检测仪

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。 吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光，抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光，悬浮抛光液以液态形式存在，可均匀分布于抛光盘的表面，有利于抛光过程的顺利进行。 产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm 3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

*产品名称*品牌*产品规格*产品价格 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎9MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎6MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎3MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎1MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎1/4MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎3Mpe 1L/瓶2200 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎1Mpe 1L/瓶 2200 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎1/4Mpe 1L/瓶 2200 Bio DIAMANT系列水基环保抛光液遵循欧洲严格的REACH标准，做到零有机物排放（VOC-Free）和生物友好，非常适合制样实验室使用，无需特殊的排放处理程序。M型单晶金刚石抛光液，精准的粒径分布，高效的抛光能力，轻松的色彩识别配套，可以配合全品类抛光织物使用，是制样实验室最适用的产品品种。 M型单晶高效型金刚石磨料悬浮液规格颜色粒度原料：单晶高效型金刚石磨料悬浮液9MMe型红色悬浮液9μm适合高硬度和超高硬度样品材质的试样的预抛光和初抛6MMe型黄色悬浮液6μm 适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的预抛光和初抛3MMe型绿色悬浮液3μm适合需要完美保边和保存夹杂物的制样要求，达成优秀的平整表面的初抛1MMe型蓝色悬浮液1μm适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的最终抛光0.25MMe型灰色悬浮液0.25μm适用于中硬度的最终抛光 P型多晶金刚石抛光液，优质的多晶结构配合高密度织物可以快速提高抛光效率，提升制样表面平整度，推荐配合高密度强支撑高平整度抛光布使用。P型单晶高效型金刚石磨料悬浮液原料：多晶快速分散型金刚石磨料适合高硬度和超高硬度样品材质的试样的预抛光和初抛适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的预抛光和初抛

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的最后精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的最后精抛。技术参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2、W3、W5、W7、W9、W14、W20、W28、W40、W602、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

*产品名称*品牌*产品规格*产品价格氧化物最终抛光液德国古莎L0最终抛光液(0.05um）500ml/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L1最终抛光液(0.05um) 1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L2最终抛光液(0.05um）1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.05um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.25um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（1um）1L/瓶800 精选的氧化物磨料+先进的化学悬浮方法，让氧化物机械化学抛光方法发挥出超级效率，为软质，韧性或者压力敏感制样提供完美表面。推荐配套4FV1型长绒植绒型抛光布或者聚氨酯发泡材料多空弹性抛光布，可以将机械化学抛光的效率最大化。 氧化物金刚石终抛抛光液规格粒度原料作用L0型纳米级水悬浮非团聚氧化硅抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮浓缩液（推荐稀释5-10倍使用）。通用材料型机械化学最终抛光液。L1型化学复合氧化物抛光液， 可以起到去薄的作用，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属钛以及钛合金的最终抛光，特殊设计可以使样品表面的韧性划痕变脆易磨削，从而完成最终抛光。L2型 由陶瓷与氧化硅复合的机械化学抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属铝以及铝合金的在最终超镜面抛光前的精抛准备。ALP型1um应用新型抗团聚技术的高纯氧化铝机械化学最终抛光液，白色悬浮浓缩液（推荐稀释2-3倍使用）。适合于各类材料的精密最终抛光过程，主要用于最终表面极完美平整无划痕。0.25um0.05um

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务 包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光液原装进口美国QMAXIS金刚石抛光液，金刚石浓度高，纯度高，微粉粒径一致，分散均匀，性能稳定，且无害环保。金刚石抛光悬浮液磨削能力强，抛光表面效果好，满足各种材料的金相研磨、抛光需求。PolyDia 水基多晶金刚石抛光液MonoDia 水基单晶金刚石抛光液ComboDia 水基单晶金刚石混合抛光液OilDia 油基单晶金刚石抛光液PolyDia 多晶金刚石抛光液 水基订货信息：颜色粒径8oz [240ml]32oz [950ml]1gal [3.8L]黑色0.05µmPP-005-008PP-005-032-灰色0.25µmPP-025-008PP-025-032-蓝色1µmPP-1-008PP-1-032PP-1-128绿色3µmPP-3-008PP-3-032PP-3-128黄色6µmPP-6-008PP-6-032PP-6-128红色9µmPP-9-008PP-9-032PP-9-128褐色15µmPP-15-008PP-15-032PP-15-128MonoDia 单晶金刚石抛光液 水基订货信息：颜色粒径16oz [470ml]32oz [950ml]1gal [3.8L]木炭色0.1µmPM-01-016PM-01-032-灰色0.25µmPM-025-016PM-025-032-白色1µmPM-1-016PM-1-032PM-1-128黄色3µmPM-3-016PM-3-032PM-3-128红色6µmPM-6-016PM-6-032PM-6-128绿色9µmPM-9-016PM-9-032PM-9-128蓝色15µmPM-15-016PM-15-032PM-15-128ComboDia 单晶金刚石抛光液 + 润滑剂订货信息：颜色粒径32oz [950ml]1gal [3.8L]白色1µmPE-1-032PE-1-128黄色3µmPE-3-032PE-3-128红色6µmPE-6-032PE-6-128绿色9µmPE-9-032PE-9-128OilDia 单晶金刚石抛光液 油基订货信息：颜色粒径16oz [470ml]灰色0.25µmPO-025-016灰色1µmPO-1-016黄色3µmPO-3-016橙色6µmPO-6-016绿色9µmPO-9-016

产品名称：抛光液 产品型号：WG0502 产地：进口

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。 技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

蓝宝石晶锭是孚光精仪进口的优质蓝宝石晶棒和蓝宝石锭,采用Kyropoulos方法生长，是世界上最有质量保证的蓝宝石晶锭和蓝宝石棒.孚光精仪是中国进口光学材料器件的第一品牌, 最大的进口精密光学器件和仪器供应商！精通光学，服务科学.提供的蓝宝石晶锭,蓝宝石晶棒,蓝宝石锭,蓝宝石棒,Sapphire ingot 系高质量原装进口晶体,，质量非常优异，在中科院上海光机所，安徽光机所，中国工程物理研究院等单位成功使用。我们提供的进口优质蓝宝石晶锭（Sapphire ingot) 是一种蓝宝石单晶， 采用Kyropoulos方法生长，是世界上最有质量保证的蓝宝石锭。蓝宝石晶锭特色：* 蓝宝石晶锭位错密度；* 蓝宝石晶棒没有裂纹和凹坑；* 蓝宝石锭高性能；* 蓝宝石棒超低价格；*Sapphire ingot超大尺寸。4' ' 蓝宝石晶锭规格参数：直径：100.2+0.05mm方向：C-plane [0001], M轴 0+/-0.1度， A-axis 0+/-0.1度主平面方向： A轴[11-20]+/-0.2度主平面长度： 30+0.5mm表面粗糙度： 良好抛光 （1+/-0.2um)缺陷区域： 15%平均长度： 40mm

蓝宝石晶片(Sapphire Substrate Discs)蓝宝石晶片由高纯度透明蓝宝石（Al2O3单晶）经双面抛光制得。由于蓝宝石的光学穿透带很宽，从300nm-4500nm都有很好的透光性。晶片是薄膜研究和光学研究的很好基底（衬底）。蓝宝石晶片具有宽范围的抗化学腐蚀，表面可以抛光到微英寸级别。尺寸和厚度偏差±0.025mm，平整度0.0008mm或更高。 订购信息：货号产品描述规格TP-16005-1Sapphire Substrate Disc, ?0.5" x 0.020"片TP-16005-2Sapphire Substrate Disc, ?0.5" x 0.040" 片TP-16005-3Sapphire Substrate Disc, ?0.75" x 0.020" 片TP-16005-4Sapphire Substrate Disc, ?0.75" x 0.040" 片TP-16005-5Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.010" 片TP-16005-6Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.020" 片TP-16005-7Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.040" 片TP-16005-8Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.125" 片

美国QMAXIS抛光冷却润滑液原装进口美国QMAXIS抛光冷却润滑液，有水基、酒精基和油基三种。所有的浓缩金刚石抛光液在制样过程中都需添加抛光冷却润滑液，以避免研磨抛光颗粒聚集，并对试样起到必需的冷却和润滑作用。DiaFluid 水基抛光冷却润滑液AlcoFluid 酒精基抛光冷却润滑液Oil Fluid 油基抛光冷却润滑液DiaFluid 抛光冷却润滑液 水基适用于对水不敏感材料，与水基金刚石抛光液配合使用订货信息：颜色32oz [950ml]1gal [3.8L]绿色PL-032PL-128AlcoFluid 抛光冷却润滑液 酒精基 适用于一般用途和对水敏感的材料，与水基、油基金刚石抛光液、抛光膏或氧化物抛光液配合使用订货信息：颜色32oz [950ml]1gal [3.8L]蓝色PLA-032PLA-128Oil Fluid 抛光冷却润滑液 油基适用于对水敏感材料，与油基金刚石抛光液或抛光膏配合使用 订货信息：颜色32oz [950ml]1gal [3.8L]深蓝PLO-032PLO-128

定期进行泵维护有助于降低操作成本，确保得到精密而一致的分析结果。通过遵循定期维护原则，您可以获得最大限度的正常运行时间、稳定而准确的溶剂流量，并在泵的整个寿命期间保持稳定的压力。此还能使高效液相色谱系统时刻处于最佳状态。适用于岛津高效液相色谱系统的安捷伦泵备件包括最重要的泵组件，如柱塞杆、密封垫和单向阀。安捷伦高效液相色谱备件经精密制造和严格测试，可确保分析仪器的高性能。 有蓝宝石和陶瓷材质的柱塞杆可供选择 蓝宝石柱塞杆由高纯度单晶蓝宝石制成，具有最佳同轴性和耐磨损性 精心切割和抛光确保了良好的耐用性和长寿命 密封垫由超高分子量聚乙烯 (UHMWPE) 或石墨填充的聚四氟乙烯 (GFP) 制成 为精确密封柱塞杆而设计 在高动态流量和压力范围内提供最佳性能 单向阀和组件部件根据岛津的性能指标制造，可在不同压力下操作（最高达 16000 psi 或 1100 bar） 由多种材料（例如不锈钢、钛、陶瓷和 PEEK）制成 精心组装以确保可靠性和一致的性能 每个红宝石或陶瓷球和蓝宝石或陶瓷座都是在操作压力范围内以最严格的容差标准生产

蓝宝石晶片(Sapphire Substrate Discs)蓝宝石晶片由高纯度透明蓝宝石（Al2O3单晶）经双面抛光制得。由于蓝宝石的光学穿透带很宽，从300nm-4500nm都有很好的透光性。晶片是薄膜研究和光学研究的很好基底（衬底）。蓝宝石晶片具有宽范围的抗化学腐蚀，表面可以抛光到微英寸级别。尺寸和厚度偏差±0.025mm，平整度0.0008mm或更高。 订购信息：货号产品描述规格TP-16005-1Sapphire Substrate Disc, ?0.5" x 0.020"片TP-16005-2Sapphire Substrate Disc, ?0.5" x 0.040" 片TP-16005-3Sapphire Substrate Disc, ?0.75" x 0.020" 片TP-16005-4Sapphire Substrate Disc, ?0.75" x 0.040" 片TP-16005-5Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.010" 片TP-16005-6Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.020" 片TP-16005-7Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.040" 片TP-16005-8Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.125" 片

唐海红 13120400643 便携式浊度、悬浮物和污泥界面检测仪在市政和工业废水、 饮用水以及河流检测中是一种非常理想的远程监测工具。该仪器可以做监测过程中的一种优化工具，也可以作为校准或验证在线传感器的一种简便方法。 特点和优点： ● 一台仪器可以监测三个参数 ● 多条校准曲线，便于使用 ● 简便的污泥界面测量 ● 气泡补偿测量保证更高的精度 ● 测量材质，使用寿命长 ● 使用可充电电池供电 技术指标： 操作模式： 单点测量，间歇测量或连续测量 显示： 24mmLCD显示屏，防紫外处理，字母显示4行，每行16字节 操作温度： 0-60℃ 操作压力： 0-10bar 相对湿度： 0-95%相对湿度 电源要求： 测定仪：6节镍氢可充电电池或6节AA标准电池 一体化充电器： 115/230Vac，50/60Hz 传感器电缆线长度： 10米 便携仪防护等级： IP55 传感器防护等级： IP68 输入电流： 约60mA 液接材料： 传感器外壳：不锈钢；传感器视窗：蓝宝石 数据存储： 最多可以存储290个测量值 重量： 测定仪：0.6Kg；传感器：1.6Kg 尺寸： 便携仪：110× 230× 40mm；传感器：290× 40mm；便携箱：320× 450× 110mm

定期进行泵维护有助于降低操作成本，确保得到精密而一致的分析结果。通过遵循定期维护原则，您可以获得最大限度的正常运行时间、稳定而准确的溶剂流量，并在泵的整个寿命期间保持稳定的压力。此还能使高效液相色谱系统时刻处于最佳状态。适用于沃特世高效液相色谱系统的安捷伦泵备件包括最重要的泵组件，如柱塞杆、密封垫和单向阀。安捷伦高效液相色谱备件经精密制造和严格测试，可确保分析仪器的高性能。 有蓝宝石和陶瓷材质的柱塞杆可供选择 蓝宝石柱塞杆由高纯度单晶蓝宝石制成，具有最佳同轴性和耐磨损性 精心切割和抛光确保了良好的耐用性和长寿命 密封垫由超高分子量聚乙烯 (UHMWPE) 或石墨填充的聚四氟乙烯 (GFP) 制成 为精确密封柱塞杆而设计 在高动态流量和压力范围内提供最佳性能 单向阀和组件部件根据沃特世的性能指标制造，可在不同压力下操作（最高达 16000 psi 或 1100 bar） 由多种材料（例如不锈钢、钛、陶瓷和 PEEK）制成 精心组装以确保可靠性和一致的性能 每个红宝石或陶瓷球和蓝宝石或陶瓷座都是在操作压力范围内以最严格的容差标准生产

定期进行泵维护有助于降低操作成本，确保得到精密而一致的分析结果。通过遵循定期维护原则，您可以获得最大限度的正常运行时间、稳定而准确的溶剂流量，并在泵的整个寿命期间保持稳定的压力。此还能使高效液相色谱系统时刻处于最佳状态。适用于沃特世高效液相色谱系统的安捷伦泵备件包括最重要的泵组件，如柱塞杆、密封垫和单向阀。安捷伦高效液相色谱备件经精密制造和严格测试，可确保分析仪器的高性能。 有蓝宝石和陶瓷材质的柱塞杆可供选择 蓝宝石柱塞杆由高纯度单晶蓝宝石制成，具有最佳同轴性和耐磨损性 精心切割和抛光确保了良好的耐用性和长寿命 密封垫由超高分子量聚乙烯 (UHMWPE) 或石墨填充的聚四氟乙烯 (GFP) 制成 为精确密封柱塞杆而设计 在高动态流量和压力范围内提供最佳性能 单向阀和组件部件根据沃特世的性能指标制造，可在不同压力下操作（最高达 16000 psi 或 1100 bar） 由多种材料（例如不锈钢、钛、陶瓷和 PEEK）制成 精心组装以确保可靠性和一致的性能 每个红宝石或陶瓷球和蓝宝石或陶瓷座都是在操作压力范围内以最严格的容差标准生产

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优点。产品工艺及用途：特殊纤维结构高耐磨的抛光材料，适用于碳化硅SIC/再生晶圆/各类三五族或二六族等晶圆，如蓝宝石、砷化镓、氮化铝等抛光，也适用于各类衬底、窗口片或玻璃片的高平坦效果。可定制化：标准槽深为抛光垫厚度1/2，可以按客户不同开槽要求定制抛光垫价格：吉致的抛光垫生产引进国外技术，品质可以媲美进口的抛光垫产品。选择吉致电子抛光垫产品，价格比进口抛光垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

美国QMAXIS金相抛光布原装进口美国QMAXIS抛光布，由各种高品质的抛光织物制成，无绒、短绒和长绒等不同编织属性的金相抛光布，与不同粒度的金刚石或氧化物抛光液配合使用，适用于各种材料的表面抛光。背衬有带背胶和磁性背衬两种，更换更方便——提高制样效率；表面更平整——为高品质的抛光效果奠定基础。粗抛：PlanCloth, PerfoCloth, NylonCloth中抛：DuraCloth, SatinCloth, SilkCloth精抛：MicroMet, VelCloth, FlocCloth, ChemoCloth应用于粗抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] PlanCloth 抛光布 聚酯纤维尼龙紧密编织，无绒 配合6µ m及以上的金刚石抛光 液，应用于铁基、热喷涂金属涂 层和硬的/非常硬的材料的抛光PSA10片/包PCC-01-08PCC-01-10PCC-01-12Magnetic5片/包PCC-01-08MDPCC-01-10MDPCC-01-12MD PerfoCloth 抛光布 带孔的、硬的合成化纤无纺布 配合6µ m及以上的金刚石抛光 液，应用于陶瓷、碳化物、岩 相、硬质合金、玻璃和金属等 材料的抛光PSA5片/包PCC-02-08PCC-02-10PCC-02-12Magnetic5片/包PCC-02-08MDPCC-02-10MDPCC-02-12MD NylonCloth 抛光布 尼龙织物，无绒 配合6μm及以上的金刚石抛光 液，应用于铁基、烧结碳化物和 铸铁等材料的抛光PSA10片/包PCC-03-08PCC-03-10PCC-03-12应用于中等抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] DuraCloth 抛光布 硬的合成压缩无纺布，无绒 配合9µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2 抛光液，应用于 黑色金属、有色金属、电子封 装、印刷电路板、热喷涂涂层、 铸铁、陶瓷、矿物、复合材料 和塑料等材料的抛光PSA10片/包PCI-01-08PCI-01-10PCI-01-12Magnetic5片/包PCI-01-08MDPCI-01-10MDPCI-01-12MD SatinCloth 抛光布 人工合成丝和天然丝紧密编织， 无绒 配合9µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于 黑色金属、有色金属、岩相、 陶瓷和涂层等材料的抛光PSA10片/包PCI-02-08PCI-02-10PCI-02-12Magnetic5片/包PCI-02-08MDPCI-02-10MDPCI-02-12MD SilkCloth 抛光布 纯丝紧密编织，无绒 配合9µ m-1µ m的金刚石抛光 液，特别适合抛光膏及液体抛 光蜡等抛光介质，应用于黑色 金属、有色金属、微电子、涂 层和岩相等材料的抛光PSA10片/包PCI-03-08PCI-03-10PCI-03-12Magnetic5片/包PCI-03-08MDPCI-03-10MDPCI-03-12MD应用于精细抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] MicroMet 抛光布 人造纤维与棉背衬编织，长绒 配合3µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于所 有材料的精细抛光PSA10片/包PCF-01-08PCF-01-10PCF-01-12Magnetic5片/包PCF-01-08MDPCF-01-10MDPCF-01-12MD VelCloth 抛光布 软的人造天鹅绒，短绒 配合1µ m及以下的Al2O3、SiO2 抛光液，应用于软的金属和电子 封装等材料的精细抛光PSA10片/包PCF-02-08PCF-02-10PCF-02-12 FlocCloth 抛光布 软的长绒织物 配合3µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于黑 色金属、有色金属和烧结碳化物 等材料的最终抛光，配合氧化铝 抛光粉则适用于所有材料，特别 适合手动抛光和未镶嵌试样的精 细抛光PSA10片/包PCF-03-08PCF-03-10PCF-03-12Magnetic5片/包PCF-03-08MDPCF-03-10MDPCF-03-12MD ChemoCloth 抛光布 耐化学腐蚀合成织物，无绒 配合1µ m及以下的Al2O3、SiO2 抛光液，应用于钛合金、不锈 钢、铅/锡焊料、电子封装、软 的有色金属和塑料等材料的精细 抛光PSA10片/包PCF-04-08PCF-04-10PCF-04-12Magnetic5片/包PCF-04-08MDPCF-04-10MDPCF-04-12MD

定期进行泵维护有助于降低操作成本，确保得到精密而一致的分析结果。通过遵循定期维护原则，您可以获得最大限度的正常运行时间、稳定而准确的溶剂流量，并在泵的整个寿命期间保持稳定的压力。此还能使高效液相色谱系统时刻处于最佳状态。适用于沃特世高效液相色谱系统的安捷伦泵备件包括最重要的泵组件，如柱塞杆、密封垫和单向阀。安捷伦高效液相色谱备件经精密制造和严格测试，可确保分析仪器的高性能。 有蓝宝石和陶瓷材质的柱塞杆可供选择 蓝宝石柱塞杆由高纯度单晶蓝宝石制成，具有最佳同轴性和耐磨损性 精心切割和抛光确保了良好的耐用性和长寿命 密封垫由超高分子量聚乙烯 (UHMWPE) 或石墨填充的聚四氟乙烯 (GFP) 制成 为精确密封柱塞杆而设计 在高动态流量和压力范围内提供最佳性能 单向阀和组件部件根据沃特世的性能指标制造，可在不同压力下操作（最高达 16000 psi 或 1100 bar） 由多种材料（例如不锈钢、钛、陶瓷和 PEEK）制成 精心组装以确保可靠性和一致的性能 每个红宝石或陶瓷球和蓝宝石或陶瓷座都是在操作压力范围内以最严格的容差标准生产

氧化铝磨料系列（抛光用品）一、氧化铝粉（Alumina powder）EMS公司生产的氧化铝粉严格控制粒度分布和质量，确保用户得到最好的抛光效果。现有三种粒度供用户选择：0.05um、0.3um、1.0um。 应用领域：精密光学；金相断面抛光；光学晶体；硅片；铁矿石；宝石；丙烯酸有机玻璃透镜 氧化铝粉有改良型和未改良型之分，货号分别是50361和50360。货号产品名称规格50360-01Type N, Gamma Alumina Powder, 0.05μm1磅50360-05Type N, Alpha Alumina Powder, 0.3μm1磅50360-10Type N, Alpha Alumina Powder, 1μm1磅50361-01Type DX, Gamma Alumina Powder, 0.05μm1磅50361-05Type DX, Alpha Alumina Powder, 0.3μm1磅50361-10Type DX, Alpha Alumina Powder, 1μm1磅 二、氧化铝膏（Alumina slurry）氧化铝的水悬浮液，没有添加任何粘性物质。货号产品名称规格50368-10Alumina Slurry, 0.05μm6 oz.50368-20Alumina Slurry, 0.3μm6 oz.50368-30Alumina Slurry, 1μm6 oz. 三、氧化铝抛光粉（Aluminum Oxide Powder - Al2O3 ）货号产品名称规格50362-03Aluminum Oxide Powder, 3.0μm1磅50362-05Aluminum Oxide Powder, 5.0μm1磅50362-09Aluminum Oxide Powder, 9.0μm1磅50362-15Aluminum Oxide Powder, 15.0μm1磅 四、胶体氧化铝（colloidal Alumina）作为酸性的胶体，胶体氧化铝在研磨中具有化学和机械的双重功效。锗、硅、砷化镓、硫化锌、氟化物、蓝宝石、铁酸盐、碳化硅等物质的表面均可以得到很好的抛光效果。也可以用于镍、钨、铜、钢铁、铝等金属的低光泽度加工。另外，此通用型的胶体氧化铝还可用于环氧树脂和塑料的抛光。胶体特性：PH3-3.5，固体20％，粘性，摇溶性的应用：根据需要，可以打开即用，也可以稀释后使用。稀释用去离子水即可，稀释比例为1：1或者更高。 产品选购：货号产品名称规格50365-05Colloidal Alumina胶体氧化铝0.473L 货号产品名称规格91045Carbon String 碳绳1m91046Carbon Cord 碳绳 （主要配套250，450机型）1m91046-SPCarbon Cord 碳绳 20m

ADM－300放射性检测仪(多功能射线检测仪) 世界最为广泛采用的军用放射性检测仪器系列，也广泛用于 核设施 环保 反恐 海关 辐射应急 商品检验 卫生 辐射防护等领域 包括ADM-300主机和一系列智能化探头，能够快速、灵活地配置实现多功能测量&alpha ／&beta ／&gamma ／中子／X射线辐射 结实、可靠，抗震抗电磁干扰设计，适合恶劣环境，满足军标规范要求 智能化探头可单独对探头刻度，并保存相关信息，实现探头与主机自由互换 智能探头包括： ABP 100 大面积&alpha ／&beta 闪烁探头 BGP 100 &beta ／&gamma 探头 BP 100 &beta 探头 GP110 宽量程&gamma 探头 GSP 100 NaI(Tl)&gamma 探头 NP 100 中子探头 PCD 100 密闭气体正比计数管&beta ／&gamma 探头 UWP100 水下&gamma 探头 XP100 低能X探头用于测量Pu XP 110 NaI(Tl)低能X射线探头 其它附件可供选择： 通信软件 手提箱 检查源与定位器 手柄 耳机 挎包 电源转换器 腰带 ADM－300便携式辐射检测仪 采用内置双GM管测量 &beta 和&gamma 辐射 采用&ldquo Time-to-count&rdquo 专利技术，实现宽量程和高精度&gamma 剂量测量，可从环境水平到事故水平跨9个量级，直到1000Sv/h不饱和。 结实、可靠，抗震抗电磁干扰设计，适合恶劣环境，满足军标规范要求 铸铝、抛光法郎外壳以及密封膜开关，使仪器易于去污 操作简单，6个密封膜按键，实现设置、控制等多种功能 LCD显示探头参数和测量结果，并具有背光显示功能 全量程可设报警阈值，并可按剂量限值设置报警 可存储100个以上数据，具有定标器和低电压数据保护功能 可与计算机通过RS232通信 &gamma 测量范围：0.1&mu Sv/h&ndash 100Sv/h，0.1&mu Sv&ndash 10Sv &gamma 能量响应：80keV&ndash 3MeV &beta 测量范围：0.1&mu Sv/h&ndash 50mSv/h &beta 能量下限：200keV 精度：± 10%。非线性：± 5% 响应时间：5s(0.1&mu Sv/h)，2s(0.1&mu Sv/h) 电池：100h(0.1Sv/h，25℃) 温度：-30 - +50℃ 湿度：95%(RH) 外形尺寸：101.6x44.5x190.5mm 质量：1.17kg

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。） 产品材质*产品规格*产品价格浸渍增强无纺布抛光布2FC1型,自粘型，200mm 5片/盒7002FC1型,自粘型，250mm 5片/盒9002FC1型,自粘型，300mm 5片/盒1100合成纤维塔夫绸抛光布2TT1型，自粘型，200mm 5片/盒7002TT1型，自粘型，250mm 5片/盒9002TT1型，自粘型，300mm 5片/盒1100超细天然纤维缎编织抛光布2TS3型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS3型,自粘型，230mm 5片/盒7002TS3型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS3型,自粘型，300mm 5片/盒900超细天然纤维绸编织抛光布2TS4型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS4型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS4型,自粘型，300mm 5片/盒900高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）3SE2型，自粘型，200mm 5片/盒6003SE2型，自粘型，250mm 5片/盒8003SE2型，自粘型，300mm 5片/盒900高耐磨羊毛编织抛光布3TL1型,自粘型，200mm 5片/盒 7003TL1型,自粘型，250mm 5片/盒 9003TL1型,自粘型，300mm 5片/盒 1100短植绒抛光布3FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5003FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7003FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800长植绒抛光布4FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5004FV1型,自粘型，230mm 5片/盒6004FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7004FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）4MP1型,自粘型，200mm 5片/盒11004MP1型,自粘型，230mm 5片/盒14004MP1型,自粘型，250mm 5片/盒16004MP1型,自粘型，300mm 5片/盒1900 金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程，初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕，获取平整的样品表面，终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕，达成完美光滑观测面。预抛时底部由硬质磨盘支撑，金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层（深干扰层）预抛时底部由软质织物支撑，金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层（深干扰层）1.抛光布一旦和磨料配伍是很难清洗干净的，如需更换磨料只能向上匹配，如用过3um可使用6um的磨料，但不能在使用1um的磨料.2.抛光布在使用磨料前需要充分润湿，以便磨料颗粒的分散和与纤维空间的结合。a.使用悬浮液的可以用水充分润湿后，甩去浮水开始滴加悬浮液。b.使用抛光膏和抛光喷雾的可以使用具备乳化和悬浮活性的专用润滑稀释液702型（水敏感的使用704型）来润湿，先喷抛光喷雾或者涂抛光膏再喷稀释液润湿。3.抛光布是可以短期内重复使用的，在二次使用前，使用专用润滑稀释液来润湿，可以有效唤醒织物中沉积的磨料重新发挥作用。4.抛光布经过多次使用后会有样品碎屑残留，是需要清洗的，清洗的方法是使用通用复合清洁剂742型或者使用的悬浮液布面用清水，使用抛光膏的用酒精，低转速配合塑料刮片由中心向边缘清洁。