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宽束氩离子抛光系统
仪器信息网宽束氩离子抛光系统专题为您提供2024年最新宽束氩离子抛光系统价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括宽束氩离子抛光系统参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的宽束氩离子抛光系统您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合宽束氩离子抛光系统相关的耗材配件、试剂标物,还有宽束氩离子抛光系统相关的最新资讯、资料,以及宽束氩离子抛光系统相关的解决方案。
宽束氩离子抛光系统相关的方案
新型扫描电镜样品制备系统在不同领域的应用
它就是GATAN Ilion II 697氩离子束抛光系统,该款设备是在Gatan公司经典的691离子减薄仪技术上发展而来。它的问世改变了此前人们用手动或机械研磨的方法对样品进行研磨抛光的局限性。利用氩离子精密抛光装置,可以获得平滑的截面和平面,而不会对样品造成机械损害,是扫描电镜样品制备的新型手段,目前已经广泛应用于全球各大高校科研院所。
EBSD 样品制备的最有效手段——氩离子抛光系统
EBSD 技术可以通过研究晶粒取向关系、晶界类型、再结晶晶粒、微织构等,反应材料在凝固、形变、相变、失效破坏等过程中晶粒是如何形核长大及晶粒间的取向转换等,可以作为技术人员提高材料性能的理论依据,目前 EBSD 技术广应用于金属、陶瓷、地质矿物等领域。
FIB-SEM双束电镜应用之样品的截面抛光
截面抛光是FIB主要用途之一。所谓截面抛光就是利用离子束将样品剖开观察内部的结构,从而分析样品内部的微观组织或缺陷。如下图所示,为了分析焊接界面处的产物,需要将焊接处剖开,从而可以对界面进行成份和晶体结构进行研究。
EBSD样品制备新方法——氩离子抛光技术
您还在为得到一个优秀的 EBSD样品而进行各类电解液的配方调制而发愁吗?您还在为得到一个优秀的 EBSD样品,而花费大量时间泡在实验室进行各类机械抛光处理而苦恼吗?您还在为使用 FIB技术得到的优秀小面积 EBSD样品所花费的高额费用而担心吗?
低合金钢金相样品的研磨抛光方法
合金总量低于5%时称为低合金钢,其金相样品制备过程中,从切割、镶嵌到研磨抛光,每一道工序都需要选择合适的耗材,诸如切割应选择金属粘结剂的金刚石刀片,采用黑色粉末酚醛树脂进行热镶嵌更为合适,使用碳化硅砂纸研磨,抛光使用金刚石抛光膏等细节做到了,自然可以制备出高品质的金相样品。
机械+化学作用下的抛光应用
越软、延展性越好的材料,在机械抛光作用下,划痕越难去除,越容易被掩盖。在机械+化学作用下抛光理论的提出,才使得这些疑难逐渐被破解。本文主要介绍一些常见的使用机械+化学作用抛光的应用。
使用SALD-2300测试抛光粉的粒度
本文利用岛津激光粒度仪SLAD-2300,建立了测定3种类型抛光粉(氧化铝、金刚石和氧化铈)粒径大小和分布的测定方法,可为了解抛光粉的粒度信息提供重要参考。实验表明,样品制备简单,测试速度快,重复性优良,本法满足此类抛光粉的粒度测试要求。
抛光陶瓷板形貌像
抛光陶瓷板形貌像,该陶瓷材料可用于牙科医学。瑞士Nanosurf公司,全球知名的专业研发扫描探针显微镜制造商和技术服务供应商,在扫描探针显微镜领域有超过15年的研发经验,一直致力于新型扫描探针显微镜的创新性研发和制造。目前已推出新一代低噪音-快速扫描-超高稳定性的AFM 和大扫描范围Nanite AFM系统。瑞士Nanosurf公司承诺提供最高品质的服务和客户支持,同时还提供纳米技术的OEM 客户定制,外包等业务。
抛光陶瓷材料上金膜形貌粗糙度测量
同时测量了空白抛光陶瓷材料和覆盖金膜的形貌像和粗糙度,可以清晰的分析单个陶瓷颗粒和粗糙度的差别,覆盖金膜区域的粗糙度比抛光陶瓷高出50%。使用标准样品托和Nanosensor探针。
LC-MS/MS法分析抛光液中的烷基酚聚氧乙烯醚成分
本文建立了三重四极杆液质联用仪检测抛光液中烷基酚聚氧乙烯醚(APnEO,n=3~16)成分的方法。烷基酚聚氧乙烯醚(APnEO,n=3~16)主要指辛基酚聚氧乙烯醚(OPnEO)和壬基酚聚氧乙烯醚(NPnEO),以各成分的保留时间、定性离子进行定性检验,并基于选定的定量离子采用MRM模式进行组校准定量分析,在5~800 µg/L浓度范围内标准曲线线性良好,相关系数均在0.99以上。各组分在5 µg/L浓度下信噪比均大于10.0,灵敏度良好。对50.0 µg/L和500.0 µg/L标准品溶液,连续进样6次,其峰面积重复性结果分别为1.24%和0.73%,精密度良好。50 µg/L和100 µg/L的加标样回收率考察,其回收率分别在90.2%~109.2%之间和107.6%~118.4%之间。本方法适用于抛光液中烷基酚聚氧乙基醚成分的测定,也可为相关从业人员分析检测提供参考。
热裂解-气相色谱质谱法定性分析抛光液中的有机成分
本文使用热裂解-气相色谱质谱联用仪对抛光液样品分别进行裂解气模式(EGA)分析和双步裂解模式(Double-Shot)分析,通过谱库检索功能可获得样品中大分子聚合物和低沸点小分子的信息。该方法样品用量少,操作简单,结果可靠,可较全面地定性抛光液中的有机成分。
电位滴定法测定电化学抛光液中混酸含量
目前,对于混酸的分析主要用滴定法,其中传统的人工滴定方法需要根据指示剂颜色变化判断终点,对操作人员的技术要求较高;利用自动电位滴定仪进行常规分析时,有操作简单,分析准确度高等优点。本文主要利用电位滴定法,对混酸含量进行测定,为科研及生产提供了电化学抛光液中混酸组成比例的检测方法。
用于SEM(EBSD)分析的大面积样品制备新手段
GATAN 第二代精密刻蚀镀膜仪(PECS II)是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。PECSII是一款完全独立、结构紧凑的台式设备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光,去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在SEM,光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。
用于SEM(EBSD)分析的大面积样品制备新手段
GATAN 第二代精密刻蚀镀膜仪(PECS TMII)是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。PECSII是一款完全独立、结构紧凑的台式设备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光,去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在SEM,光镜或者 扫 描 探 针 显 微 镜 上 进 行 成 像 、 EDS、 EBSD、 CL、 EBIC或其它分析。
离子束研磨金属样品观察电子通道衬度图像
使用Leica EM TIC 3X三离子束切割仪的平面旋转抛光台抛光大概90分钟后,整片数毫米的样品在电镜下已经看不到划痕,无论在二次电子图像还是背散射电子图像下都非常平整。
50nm超纯水液体颗粒计数器解决纯水抛光线上纯水的颗粒管控方案
检测仪器:50nm超纯水液体颗粒计数器应运而生。它的诞生,象征着纯水技术领域的一次革命性飞跃。它的核心功能,在于能够精确检测并计数出纯水中直径达到50纳米及以上的颗粒,为纯水抛光线的颗粒管控提供了强有力的技术支持。
瑞士万通:电位滴定法测定电化学抛光液中混酸含量
目前,对于混酸的分析主要用滴定法,其中传统的人工滴定方法需要根据指示剂颜色变化判断终点,对操作人员的技术要求较高;利用自动电位滴定仪进行常规分析时,有操作简单,分析准确度高等优点。本文主要利用电位滴定法,对混酸含量进行测定,为科研及生产提供了电化学抛光液中混酸组成比例的检测方法。
低场核磁弛豫技术用于CMP抛光液的原位分散性检测
低场核磁弛豫技术以水分子(溶剂)为探针,可以实时检测悬浮液体系中水分子的状态变化。低场核磁弛豫技术可以区分出纳米颗粒与溶剂的固液界面间那一层薄薄的表面溶剂分子,当颗粒尺寸或颗粒分散性发生变化时,颗粒表面的溶剂分子也会发生相应的变化。低场核磁弛豫技术可以灵敏的检测到这这种变化状态和变化过程,从而可以快速地评价例如抛光液以及相关悬浮液样品的分散性和悬浮液中颗粒尺寸的变化过程。
采用电气比例阀串级控制法实现化学机械抛光(CMP)的超高精密压力控制解决方案
为大幅度提高现有CMP工艺设备中压力控制的稳定性,在现有电气比例阀这种单回路PID压力调节技术的基础上,本文提出了升级改造方案,即采用串级控制法(双回路PID控制,也称级联控制),通过在现有电气比例阀回路中增加更高精度的压力传感器和PID控制器,可以将研磨抛光压力的稳定性提高一个数量级,从1~2%的稳定性提升到0.1~0.2%。
钛合金的EBSD制样方法之机械抛光+离子束抛光
钛合金具备强度高、韧性强、密度低、耐蚀性好、耐热性高等优异性能,因此被广泛应用于航天航空、汽车、医疗器械、海洋工程等重要行业。随着各行各业科技的发展,对钛合金的性能要求也不断提高,使得钛合金的研发、制造技术能够日渐改进,当然对钛合金性能的检测技术也随之精进。其中EBSD技术是研究钛合金微观组织和织构的重要手段,然而EBSD对样品的制样要求十分严苛,尤其对于强韧性的钛合金。
瑞士万通:电位滴定法测定电化学抛光液中混酸(HNO3/H2SO4/CrO3)
目前,对于混酸的分析主要用滴定法,其中传统的人工滴定方法需要根据指示剂颜色变化判断终点,对操作人员的技术要求较高;利用自动电位滴定仪进行常规分析时,有操作简单,分析准确度高等优点。本文主要利用电位滴定法,对混酸含量进行测定,为科研及生产提供了电化学抛光液中混酸组成比例的检测方法。
通过密度和粘度在线监测进行半导体 CMP(化学机械抛光)浆料质量控制
半导体行业的关键在于整个工艺过程中保持严格的质量控制。在多掩模工艺中,CMP 浆料定义了后续层沉积的表面纹理。尺寸较小的电子元件需要更复杂的 CMP 工艺,浆料质量标准也变得更加严格。虽然浆料在制造点 (POM) 可能受到严格控制,但随后的操作,如运输、处理、混合、过滤和分配在抛光垫上可能会改变其化学性质(例如,影响氧化剂或添加剂)。更改此类参数可能会影响工艺性能并导致晶圆级缺陷,从而影响产能。为了防止出现这种不良影响,必须在使用时连续监测浆料的化学性质。
高分辨率分光系统_连续光源原子吸_定铀铌铅矿重选流程样品中铅的含量
采用盐酸(15ml)-硝酸(5ml)-氢氟酸(10ml)-高氯酸(2ml)体系溶解铀铌铅矿样品(0.30 0~0.2000g),盐酸(1+9)溶液作为分散介质,选择Pb283.306nm作为分析谱线,提出了高分辨率分光系统-连续光源原子吸收光谱法(HR-CS AAS)测定铀铌铅矿重选流程样品中铅的方法。结果表明:检出限(3s)为0.021mg· L-1。按标准加入法对铀铌铅矿样品中的铅进行回收试验,回收率为97.8%~103%,测定值的相对标准偏差(n=9)均小于5.0%,满足国家地质矿产行业标准 DZ/T 0130-2006的要求。
使用石蜡镶嵌法解决薄片样品金相抛光后还要完好取出的问题!
薄片样品,要求磨抛之后,能取出来进行下一步实验。采用石蜡镶嵌法对薄片样品进行镶嵌,简单、易用,满足技术需要,是很好的解决方案。
液压油泡沫倾向性测定方法及标准要求
液压油用途广泛,是工业用油中使用最多的产品。当前液压元件正向着体积小、功率大方向发展,系统压力越来越高,有的已突破50MPa。为此,普通型的L-HL系列已经趋于淘汰,抗磨型L-HM系列应用更多。低温性能也是液压油的重要特性,要求在低温环境下设备启动比较容易,且动力传动灵敏,而且液压油换油周期较长,如露天设备通常一年一换,液压油在使用过程中不可避免地要经历四季的变化,因此露天设备使用低凝产品效果较好。按照液压油标准GB11118.1的技术标准要求,液压油的泡沫倾向性的测定方法是按照GB/T12579这个标准来进行检测的,泡沫特性测定仪SH126或者液晶泡沫测定仪SH126B就是严格按照这个标准设计制作的,此款仪器自带气泵,无需外接气源
用Leica EM TIC3X三离子束切割仪解剖太阳能电池
这种复合型材料要获得有效截面,机械切割磨抛方式很难保证切割面的平整,也无法避免样品剖面的污染和边缘损伤;如果采用聚焦离子束FIB加工,应对几百微米的加工区域,将耗费大量时间和带来极高的使用成本。因此,氩离子束切割仪几乎成为高效率、低成本的获取无应力损伤和无污染的平整剖面的唯一的选择。
KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.
FIB小知识:FIB-SEM双束电镜的应用领域
FIB—SEM双束电镜应用领域:1. 制备TEM样品2. 截面抛光3. 微纳米器件的制备及性能测量4. 三维结构重构5. 其他三维分析能力:3D EBSD, 3D EDS及SIMS
徕卡电镜样品制备之IC芯片篇
本文采用徕卡三离子束切割仪TIC 3X的旋转抛光样品台制备IC芯片。
KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用
上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预清洁 Pre-clean 的工艺, 对基材表面有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等!
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