红外近场扫描显微镜

2015年Anasys发布了最新一代产品nanoIR2-s，在广受欢迎的第二代纳米红外光谱系统的基础上增加了散射近场光学成像和光谱功能（s-SNOM）。实现了同一平台兼具AFM-IR和s-SNOM两种技术。仪器的空间分辨率达到10nm，广泛用于各种聚合物、有机无机复合材料、生物样本、半导体、等离子体、纳米天线等。纳米红外&散射近场光学成像和光谱系统(nanoIR2-s)AFM-IR &s-SNOM l AFM-IR 消除分析化学研究人员的担忧--与FTIR光谱完全吻合，没有吸收峰的任何偏移l s-SNOM使用金属镀层AFM探针代替传统光纤探针来增强和散射样品纳米区域内的光辐射，空间分辨率由AFM针尖的曲率半径决定l 专利技术实现智能的光路优化调整，无需担心光路偏差拖延你的实验进度l 最准确的定性微区化学表征，得到美国国家标准局NIST, 橡树岭国家实验室等美国权威机构的认可l 简单易用的操作，被三十多位企业用户和近百位学术界所选择l 基于DI传承的多功能AFM实现纳米热学，力学，电学和磁学测量：l 纳米热分析模块（nanoTA, SThM）l 洛仑兹接触共振模块（LCR）l 导电原子力显微镜镜（CAFM）l 开尔文电势显微镜（KPFM）l 磁力显微镜（MFM）l 静电力显微镜（EFM）10纳米空间分辨率化学成像和光谱石墨烯等离子体 高分辨率成像 石墨烯表面等离子体的近场相位和振幅成像；优于10nm的光学成像PTFE的nano FTIR光谱显示相干分子振动时域图（上图）,和相应的近场光谱（下左图）。pNTP分子层的近场光谱（图下右）。

Molecular Vista 散射式扫描近场光学显微镜 ——10nm以下空间分辨可见-红外成像与光谱采集随着近些年对于纳米光子学、表面等离极化激元、二维材料以及范德华异质结构等领域的深入研究，扫描近场光学显微镜 (Scanning Near-field Optical Microscope, SNOM) 已成为研究这些领域的不可或缺的表征手段。虽然扫描近场光学显微镜在散射式模式(s-SNOM)下的空间分辨率有了很大的提升，但是在实际使用上仍然得十分繁杂。在这一背景下，美国Molecular Vista应运而生，推出了全新一代散射式扫描近场光学显微镜Vista-SNOM！有别于传统的扫描近场光学显微镜，Vista-SNOM基于专利的光诱导力显微镜（Photo-induced Force Microscope, PiFM)技术，通过检测探针与样品之间的偶极交互直接获得样品表面的场强分布，无需远场光学探测器。这不仅杜绝了远场信号的干扰，也无需像SNOM那样配置多个不同波段光学探测器。光诱导力显微镜的检测端可无缝适应紫外～射频，用户仅需考虑如何将激发光激发至样品。Vista-SNOM在光诱导力显微镜模式下实测的场强结果与模拟结果高度吻合，同时也具备了s-SNOM模式。这使得科研人员可以将PiFM场强结果与s-SNOM场强结果进行对比分析。s-SNOM 散射式扫描近场光学显微镜案例下图为金铝二聚体分别在480nm和633nm不同偏振方向激发后的场强分布，图a,b的实测场强与图c,d的理论模拟是否吻合，金铝二聚体间隔仅为5nm!摘自“Wavelength-dependent Optical Force Imaging of Bimetallic Al-Au Heterodimers, Nano Lett. 2018”上面提到拉曼信号的增强主要源于局域表面等离子体共振(LSPR)的电磁场增强，下图为基于银颗粒阵列的表面增强拉曼衬底(SERS)的场强分布，图f的FWHM结果显示光诱导力显微镜实现了3.1nm的空间分辨。摘自“Fabrication and near-field visualization of a waferscale dense plasmonic nanostructured array, RSC Adv. 2018”

**********************近场扫描光学显微镜的基本构造******************** 进行NSOM实验，必须将点光源靠到样品表面纳米距离，然后点光源扫描样品表面，再收集探测经过样品表面的光学信号。我们使用经金属涂层处理的带孔洞椎形光纤作为NSOM探针。光经耦合进入探针，从亚光波长孔径的探针尖端发出，NSOM的分辨率就是由孔径的大小决定(最优可以达到50纳米)。点光源和样品表面的距离通常通过正常的力反馈机制(与AFM相同)控制，因此可以进行接触、敲击和非接触模式的NSOM实验。针对不同的材料和实验，通常有四种NSOM操作模式： * 透射模式成像&mdash &mdash 样品经过探针照明，光通过样品并与样品相互作用后被收集探测；* 反射模式成像&mdash &mdash 样品经过探针照明，光从样品表面反射并被收集探测；* 收集模式成像&mdash &mdash 样品经远场光源照明(从上或下面均可)，探针将光信号从样品表面收集；* 照明收集模式成像&mdash &mdash 用同一根探针同时进行照明和收集探测反射光； 在近场光学领域，部分扫描模式只有通过Nanonics提供的独特玻璃光纤探针才能完成，因为我们独特的光纤探针具有很好的波导性能。 收集的光可通过多种探测器探测，如APD(Avalanche Photo Diode)、PMT(Photomultiplier Tube)、InGaAs探测器、CCD或通过光谱仪探测，通过探测器得到的信号经过数据处理得到样品材料的NSOM图像。技术参数：原子力扫描表征-接触模式（可选）-探针或者样品扫描都具有所有原子力显微镜的操作模式。近场光学成像和激发表征 -透射，反射，收集，激发模式界面差别对比表征 -反射和透射模式折射系数分析表征 -反射和透射模式热导和阻值扩散分析表征-接触AC模式-无反馈激光通过外部媒介导入半导体，使用音叉反馈在线远场共聚焦拉曼和荧光光谱成像-反射和透射模式-针尖增强拉曼散射和在超薄层面上做选择性拉曼散射，例如应变硅纳米刻蚀-纳米&ldquo 笔&rdquo 探针输送多种化学物质和气体-近场光学刻蚀和常规方式的纳米刻蚀技术比如电子氧化等，并且可-以同时使用另外一根探针做在线同步分析纳米压痕-使用兆级帕斯卡压强，通过另外一个附加探针的在线同步分析将力学探针精确定位和控制。++++++SPM 扫描头参数样品扫描器-压电扫描平台 （3D 扫描台&trade ）-高度7毫米探针扫描器-四个独立控制的压电扫描平台（3D 扫描台&trade ）模块-高度7毫米扫描范围 -每根单探针扫描范围30 微米 (XYZ方向)-仅样品扫描器扫描范围100微米(XYZ方向)-样品扫描器和单探针扫描器扫描范围130微米 (XYZ方向)-样品扫描器和双探针扫描器扫描范围160微米(XY方向)扫描分辨率- 0.05 纳米 (Z方向)- 0.15纳米(XY方向)- 0.02纳米(XY方向) 低电压模式粗定位-样品粗调定位： XY 马达驱动范围5mm-分辨率0.25微米-针尖粗调定位：-XY方向马达驱动-驱动范围5mm-分辨率0.25微米-Z方向马达驱动-驱动范围10mm-分辨率0.065微米反馈机制-音叉反馈（标准）-激光反射反馈（可选）常规样品尺寸-标准尺寸可达到16毫米-使用上置光学显微镜操可达到34毫米-不使用样品扫描方式可以达到55毫米-有些客户样品尺寸达到200mm也能扫描-非常规尺寸样品：例如横截面高低起伏较大的样品等一些特殊形状样品探针-独特的玻璃探针，针尖可以提供不同的形貌和参杂金属颗粒或者涂层各种形式的常规硅悬臂探针也可以使用 ++++++成像分辨率远场成像分辨率 -到达衍射限制光学成像分辨率 -非共聚焦下光学分辨率500纳米左右共聚焦成像分辨率-200纳米近场光学成像分辨率-安装时保证100纳米分辨率；50纳米分辨率也可以提供形貌成像分辨率-Z 方向噪音有效值0.05 纳米（RMS）-XY 横向分辨率：根据样品和针尖直径情况热学成像分辨率-至少100纳米阻值成像分辨率-至少25纳米++++++热学&阻值成像温度参数-300度或者更高，要考虑样品情况热学参数-独特的双根纳米铂丝嵌在绝缘玻璃探针中-热敏感度0.01 º C-测量阻值改变速率为0.38 &Omega /º C阻值特点-独特的双根纳米铂丝嵌在绝缘玻璃探针中并且可以做出不同的形状结构和涂层-超高电势分辨率-接触电阻极微小-电学稳定& 抗氧化 ++++++在线光学和电子/离子光学扫描同步完成可以完成的表征类别-远场光学，共聚焦光学，近场，微区拉曼，扫描电子显微镜（SEM）或者聚焦离子束（FIB）整合优势 -样品扫描台上下光路开阔，可以做光学或电子/离子光学特征同步扫描联用-将多形式的光学显微镜整合在一起，包括上置光学显微镜和下置光学显微镜同时整合在探针扫描平台上-整合了多种标准微区拉曼180度背反射几何形貌配置。下置光学显微镜和Nanonics独特的上下置光学显微镜可以做不同的透明和非透明样品-具有多种常规的远场光学操作模式包括相位成像和界面差别对比-可以使用上置，下置和双置光学显微镜做任何模式近场光学扫描，无需更换扫描头保证了实验结果稳定性和可重复性。探测器类别-PMT， APD 或者InGaAs 红外探测器激光光源-可提供深紫外到近红外激光电视频系统 -在线CCD 视频成像主要特点： 独特的多探针系统Nanonics原子力显微镜最多可以同时进行四探针测试，光纤探针各自独立控制，可以同时分别、独立进行如滴液、加压，电学，热学方面的测试等不同的工作。专利技术的独特扁平3D 扫描台具有专利技术的扫描台上下光路开阔，可以将上，下置光学共聚焦显微镜整合到AFM扫描平台上，在无需更换任何探头的情况下同步完成的一系列的探针扫描，光学测量，力学测量，热学电学测量等测试手段，节约了用户大量的时间和精力并保证了样品测试的连贯性。通常很多厂家仪器做不同测试的时候探头都需要更换，不能同步联用并且费时费力。Nanonics这项专利是优势技术，并且探针扫描台和样品扫描台可以独自运作，即可以探针不动，样品移动；或者样品不动，探针移动。扫描的步进位移通过压电陶瓷驱动精度极高，Nanonics原子力显微镜分别提供一个85um样品扫描台和30um探针扫描台，XY方向的扫描范围是110*110um。尤其是Z方向的大扫描范围是所有AFM厂家无法提供的。另外一个3D扫描台提供探针扫描和样品扫描两种模式，在所有AFM 电镜中是独特的设计。独特的音叉反馈机制常规的AFM反馈通过激光反射反馈，具有噪音大，调试困难，受干涉情况；尤其在液体中或者做光学测试的时候，例如近场光学，AFM-Raman测试中，容易被干涉或者干涉有效信号。音叉反馈采用常规力学反馈避免了以上所有弊病，安装简单，结构稳定。专利技术的悬臂光纤弯针 。Nanonics 原子力显微镜的玻璃探针可提供畅通的光学通道，光线能以与传统直线式近场光学元件相同的效率和偏振性传输到探针尖端。玻璃探针可以做成中空型，用于加载光纤或实现Nano-Pen功能。多种探针通用平台Nanonics 原子力显微镜系统不仅可以使用玻璃光纤探针，也可以使用传统的商业化AFM/NSOM硅探针，提供了一个通用多探针使用平台。客户也可以要求使用常规硅悬臂探针。另外Nanonics还可以根据客户不同的需要定制探针。无与伦比的Z 方向探测深度MV4000在Z方向最大可探测深度为140um，非常适合深沟状样品。独特的悬臂设计不仅能探测深沟底部的形貌，而且可以对侧面进行检测。常规的硅悬臂探针无法做深沟探测。独特的光学友好性Nanonics原子力显微镜的玻璃光纤探针可提供畅通的光学通道，可同时和正置与倒置显微镜配合使用，实现透射式、反射、照明模式、收集模式（Nanonics独有的）等多个功能。光纤探针具有良好的光学性能和光导性能，这是硅悬臂探针无法做到的。拉曼连用平台MV4000的玻璃光纤探针具有光学友好特性，可与拉曼光谱仪整合，例如常用的Reinshaw 和JY Raman系统。可实现在线AFM形貌扫描，拉曼Mapping，自动共聚焦，提高拉曼的精度。配合NSOM可以完成微区Raman，并且还可以做荧光和微区荧光扫描。由于独特的扫描平台，AFM-Raman 联用不仅可以扫描透明样品还可以扫描不透明的块状和薄膜样品，这也是在AFM-Raman 联用案例中独特的设计。独有的TERS玻璃探针Nanonics在玻璃光纤探针的尖端采用专利的独立金球技术，与其他涂层探针相比，不会因在长时间使用后，受到激光影响而脱落，更为稳定，效率更高。配合独特的扫描台设计，可以在光源位置找到最佳激光偏振位置获得最好的TERS信号源。这也是其独特功能。

alpha300 RS – 原位关联的拉曼和扫描近场光学图像 对于拥有挑战性实验要求的用户来说，alpha300 RS将共聚焦拉曼图像及突破光学衍射极限的扫描近场光学显微镜结合在一起。Alpha 300RS在一台设备上继承了所有的Alpha 300R显微拉曼功能，Alpha 300S扫描近场光学显微镜功能和许多AFM操作模式。 Alpha 300S扫描近场光学显微镜主要特点l 所有alpha300 R (拉曼) 和alpha300 S (近场) 的性能集成到一个显微镜系统内l 优异的原位化学组分分析（拉曼）和超高分辨率表面成像（近场）的结合l 只需要转动物镜转盘即可在两种技术间轻松切换l 两种测量间无需移动样品 Alpha 300S扫描近场光学显微镜应用实例 剥离石墨烯的表面拓扑结构VS拉曼图像左图：表面拓扑结构及沿蓝线的轮廓曲线右图：石墨烯G峰沿红线的强度变化曲线 Alpha 300S扫描近场光学显微镜性能通用拉曼操作模式l 拉曼光谱成像：连续扫描的拉曼高光谱全谱成像，每个样品点都能获得完整的拉曼光谱l 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式l 快速和慢速时间序列l 单点及Z方向深度扫描l 光纤耦合的UHTS 系列光谱仪，专为弱光应用的拉曼光谱设计l 共聚焦荧光显微镜功能l 明场显微镜功能 近场显微镜操作模式l 扫描近场光学显微镜模式：底部激发顶部收集（远场激发近场收集）模式，顶部激发底部收集（近场激发远场收集）模式，探针收集（近场激发近场收集）模式l 共聚焦(CM)模式：透射，反射，荧光（可选）l 近场-原子力联用：Alpha 300A的所有模式均可选l 固定底部透射照明l 全内反射照明模式（可选） 原子力显微镜操作模式l 接触模式l 横向力模式l 其他可选 各类拉曼升级选项（如true surface等）l 多种激光可选择l 多种光谱仪可选择l 自动共聚焦拉曼成像l 自动多区域多点测量l 可升级超快拉曼图像模式(需配置EMCCD和Piezo样品台，可获得每秒1300张光谱的速度)l 可升级落射荧光照明l 自动聚焦功能l 显微镜观察法可选，如暗场，像差，偏光，微分干涉等 超高通光量UHTS光谱仪l 各类透射式波长优化谱仪可选 (UV, VIS or NIR)，均为弱光拉曼光谱设计l 光纤耦合，70%超高光通量l 优异的成像质量，光谱峰形对称无像差 控制电脑WITec控制和数据采集，处理软件

仪器简介：我们的创新NANONICS IMAGING LTD.一直是扫描探针显微镜（SPM）领域中将近场光学显微镜(NSOM)技术和原子力显微镜(AFM)技术完美结合的领头羊之一。公司成立于1997年，在过去的十年里我们将新的概念应用到SPM系统中从而开拓了SPM市场领域一个新的视角。 Nanonics使用悬臂近场光学探针为业内提供了近场光学成像；同时也引入了双探针技术、样品扫描AFM系统；提供近场光学（NSOM）/原子力显微镜（AFM）低温系统，Raman-AFM系统，多探针AFM系统和扫描电镜（SEM）/AFM系统。NANONICS是业界成立最久并且对此类系列产品经验最丰富的公司之一，其产品荣获过许多国际大奖。在强大的NSOM/AFM的整合操作系统推动下，今天NANONICS继续以强大的优势和全面的系统领导着市场。NANONICS凭借实力和品质，其产品涉足的领域从科研到工业，从生物学到半导体，从化学制品到无线电通讯，应用范围极其广泛。 我们的理念 提供SPM，近场光学和显微镜整合方案 Nanonics 致力于制造世界级领先的SPM仪器，我们将SPM技术和其它显微镜表征技术整合在一起。在纳米科技表征技术领域中，为用户提供一个开放并极具潜力的SPM表征技术平台。 我们的技术作为一家商业公司，我们有着自己独特的技术优势。我们能提供大量种类齐全的纳米探针。包括专利的悬臂近场光学（NSOM）探针到热学，电学探针。这些外露光学探针的运用结合具有专利保护的3D平面扫描技术为我们的系统提供了一个广阔开放的光学平台 这是我们能够将AFM技术和其它显微镜表征技术完美结合的重要原因。 我们的团队 我们拥有一支世界级的专家团队为我们提供创新技术和高性能的产品。在过去的十年里我们拥有40多名员工并且组建了SPM专家和科学家团队。 团队直接由近场光学奠基人之一的Aaron Lewis 教授带领十五名科学家为全球客户提供以SPM为平台的产品和技术支持。 我的技术服务我们致力于提供客户高性能的业内领先级产品和高附加值的技术支持。从系统安装开始，我们就区别于其它竞争对手，为你提供高素质的技术专家安装设备，提供SPM技术领域的专家指导。通过一对一的与客户沟通帮助客户使用仪器。Nanonics在业内已经有一大批客户并且客户通过使用我们的仪器发表了不少好的文章。这些客户和客户的成绩也同样见证了我们为客户提供了的完整的SPM和其他表征整合方案和技术支持。**********************近场扫描光学显微镜的基本构造******************** 进行NSOM实验，必须将点光源靠到样品表面纳米距离，然后点光源扫描样品表面，再收集探测经过样品表面的光学信号。我们使用经金属涂层处理的带孔洞椎形光纤作为NSOM探针。光经耦合进入探针，从亚光波长孔径的探针尖端发出，NSOM的分辨率就是由孔径的大小决定(最优可以达到50纳米)。点光源和样品表面的距离通常通过正常的力反馈机制(与AFM相同)控制，因此可以进行接触、敲击和非接触模式的NSOM实验。针对不同的材料和实验，通常有四种NSOM操作模式： * 透射模式成像 样品经过探针照明，光通过样品并与样品相互作用后被收集探测；* 反射模式成像 样品经过探针照明，光从样品表面反射并被收集探测；* 收集模式成像 样品经远场光源照明(从上或下面均可)，探针将光信号从样品表面收集；* 照明收集模式成像 用同一根探针同时进行照明和收集探测反射光； 在近场光学领域，部分扫描模式只有通过Nanonics提供的独特玻璃光纤探针才能完成，因为我们独特的光纤探针具有很好的波导性能。 收集的光可通过多种探测器探测，如APD(Avalanche Photo Diode)、PMT(Photomultiplier Tube)、InGaAs探测器、CCD或通过光谱仪探测，通过探测器得到的信号经过数据处理得到样品材料的NSOM图像。技术参数：原子力扫描表征-接触模式（可选）-探针或者样品扫描都具有所有原子力显微镜的操作模式。近场光学成像和激发表征 -透射，反射，收集，激发模式界面差别对比表征 -反射和透射模式折射系数分析表征 -反射和透射模式热导和阻值扩散分析表征-接触AC模式-无反馈激光通过外部媒介导入半导体，使用音叉反馈在线远场共聚焦拉曼和荧光光谱成像-反射和透射模式-针尖增强拉曼散射和在超薄层面上做选择性拉曼散射，例如应变硅纳米刻蚀-纳米笔 探针输送多种化学物质和气体-近场光学刻蚀和常规方式的纳米刻蚀技术比如电子氧化等，并且可-以同时使用另外一根探针做在线同步分析纳米压痕-使用兆级帕斯卡压强，通过另外一个附加探针的在线同步分析将力学探针精确定位和控制。++++++SPM 扫描头参数样品扫描器-压电扫描平台 （3D 扫描台&trade ）-高度7毫米探针扫描器-四个独立控制的压电扫描平台（3D 扫描台&trade ）模块-高度7毫米扫描范围 -每根单探针扫描范围30 微米 (XYZ方向)-仅样品扫描器扫描范围100微米(XYZ方向)-样品扫描器和单探针扫描器扫描范围130微米 (XYZ方向)-样品扫描器和双探针扫描器扫描范围160微米(XY方向)扫描分辨率- 0.05 纳米 (Z方向)- 0.15纳米(XY方向)- 0.02纳米(XY方向) 低电压模式粗定位-样品粗调定位： XY 马达驱动范围5mm-分辨率0.25微米-针尖粗调定位：-XY方向马达驱动-驱动范围5mm-分辨率0.25微米-Z方向马达驱动-驱动范围10mm-分辨率0.065微米反馈机制-音叉反馈（标准）-激光反射反馈（可选）常规样品尺寸-标准尺寸可达到16毫米-使用上置光学显微镜操可达到34毫米-不使用样品扫描方式可以达到55毫米-有些客户样品尺寸达到200mm也能扫描-非常规尺寸样品：例如横截面高低起伏较大的样品等一些特殊形状样品探针-独特的玻璃探针，针尖可以提供不同的形貌和参杂金属颗粒或者涂层各种形式的常规硅悬臂探针也可以使用 ++++++成像分辨率远场成像分辨率 -到达衍射限制光学成像分辨率 -非共聚焦下光学分辨率500纳米左右共聚焦成像分辨率-200纳米近场光学成像分辨率-安装时保证100纳米分辨率；50纳米分辨率也可以提供形貌成像分辨率-Z 方向噪音有效值0.05 纳米（RMS）-XY 横向分辨率：根据样品和针尖直径情况热学成像分辨率-至少100纳米阻值成像分辨率-至少25纳米++++++热学&阻值成像温度参数-300度或者更高，要考虑样品情况热学参数-独特的双根纳米铂丝嵌在绝缘玻璃探针中-热敏感度0.01 C-测量阻值改变速率为0.38 C阻值特点-独特的双根纳米铂丝嵌在绝缘玻璃探针中并且可以做出不同的形状结构和涂层-超高电势分辨率-接触电阻极微小-电学稳定& 抗氧化 ++++++在线光学和电子/离子光学扫描同步完成可以完成的表征类别-远场光学，共聚焦光学，近场，微区拉曼，扫描电子显微镜（SEM）或者聚焦离子束（FIB）整合优势 -样品扫描台上下光路开阔，可以做光学或电子/离子光学特征同步扫描联用-将所有形式的光学显微镜整合在一起，包括上置光学显微镜和下置光学显微镜同时整合在探针扫描平台上-整合了所有标准微区拉曼180度背反射几何形貌配置。下置光学显微镜和Nanonics独特的上下置光学显微镜可以做不同的透明和非透明样品-具有所有常规的远场光学操作模式包括相位成像和界面差别对比-可以使用上置，下置和双置光学显微镜做任何模式近场光学扫描，无需更换扫描头保证了实验结果稳定性和可重复性。探测器类别-PMT， APD 或者InGaAs 红外探测器激光光源-可提供深紫外到近红外激光电视频系统 -在线CCD 视频成像主要特点： 独有的多探针系统Nanonics原子力显微镜最多可以同时进行四探针测试，光纤探针各自独立控制，可以同时分别、独立进行如滴液、加压，电学，热学方面的测试等不同的工作。专利技术的独特扁平3D 扫描台具有专利技术的扫描台上下光路开阔，可以将上，下置光学共聚焦显微镜整合到AFM扫描平台上，在无需更换任何探头的情况下同步完成的一系列的探针扫描，光学测量，力学测量，热学电学测量等测试手段，节约了用户大量的时间和精力并保证了样品测试的连贯性。通常很多厂家仪器做不同测试的时候探头都需要更换，不能同步联用并且费时费力。Nanonics这项专利是目前市场上的优势技术，并且探针扫描台和样品扫描台可以独自运作，即可以探针不动，样品移动；或者样品不动，探针移动，其它厂家无法提供这种独特的扫描方式。扫描的步进位移通过压电陶瓷驱动精度极高，Nanonics原子力显微镜分别提供一个85um样品扫描台和30um探针扫描台，XY方向的扫描范围是110*110um。尤其是Z方向的大扫描范围是所有AFM厂家无法提供的。另外一个3D扫描台提供探针扫描和样品扫描两种模式，在所有AFM 电镜中是独一无二的设计。独特的音叉反馈机制常规的AFM反馈通过激光反射反馈，具有噪音大，调试困难，受干涉情况；尤其在液体中或者做光学测试的时候，例如近场光学，AFM-Raman测试中，容易被干涉或者干涉有效信号。音叉反馈采用常规力学反馈避免了以上所有弊病，安装简单，结构稳定。专利技术的悬臂光纤弯针 。Nanonics 原子力显微镜的玻璃探针可提供畅通的光学通道，光线能以与传统直线式近场光学元件相同的效率和偏振性传输到探针尖端。玻璃探针可以做成中空型，用于加载光纤或实现Nano-Pen功能。多种探针通用平台Nanonics 原子力显微镜系统不仅可以使用玻璃光纤探针，也可以使用传统的商业化AFM/NSOM硅探针，提供了一个通用多探针使用平台。客户也可以要求使用常规硅悬臂探针。另外Nanonics还可以根据客户不同的需要定制探针。无与伦比的Z 方向探测深度MV4000在Z方向最大可探测深度为140um，非常适合深沟状样品。独特的悬臂设计不仅能探测深沟底部的形貌，而且可以对侧面进行检测。常规的硅悬臂探针无法做深沟探测。独特的光学友好性Nanonics原子力显微镜的玻璃光纤探针可提供畅通的光学通道，可同时和正置与倒置显微镜配合使用，实现透射式、反射、照明模式、收集模式（Nanonics独有的）等多个功能。光纤探针具有良好的光学性能和光导性能，这是硅悬臂探针无法做到的。拉曼连用平台MV4000的玻璃光纤探针具有光学友好特性，可与任何拉曼光谱仪整合，例如常用的Reinshaw 和JY Raman系统。可实现在线AFM形貌扫描，拉曼Mapping，自动共聚焦，提高拉曼的精度。配合NSOM可以完成微区Raman，并且还可以做荧光和微区荧光扫描。由于独特的扫描平台，AFM-Raman 联用不仅可以扫描透明样品还可以扫描不透明的块状和薄膜样品，这也是在AFM-Raman 联用案例中独特的设计。独有的TERS玻璃探针Nanonics在玻璃光纤探针的尖端采用专利的独立金球技术，与其他涂层探针相比，不会因在长时间使用后，受到激光影响而脱落，更为稳定，效率更高。配合独特的扫描台设计，可以在光源位置找到最佳激光偏振位置获得最好的TERS信号源。这也是其它厂家不具备的特点。

WITec alpha 300S独特的悬臂式扫描近场光学显微镜alpha 300S一款操作简易的扫描近场光学显微镜（SNOM），采用独特设备的中空悬臂式近场探针实现超越衍射极限的光学分辨率。alpha 300S系统也具备优越的兼容性和扩展性，可与共聚焦光学/拉面显微镜及原子力显微镜集成在同一台仪器上，仅需旋转物镜转轮即可实现不同模式切换。WITec alpha 300S是一种纯近场光学显微镜，在很多样品上都可获得一致的超高分辨率，并且拥有透射与反射式两种模式。该近场光学显微镜不同于其他的超分辨显微镜，如 STED 和 STORM，后二者往往受限于荧光染料分子的可选种类及特殊的激发光源。 alpha300S 系统采用软件可控的快速自动进针及调节等自动测试流程，操作非常简便、直观。 由于近场光学信号极其微弱，alpha300 S 近场光学显微镜配备高灵敏单光子计数的光电倍增管或雪崩二极管，并同时提供检测器快速超载保护。更重要的是，UHTS 光谱仪可与 alpha300S系统兼容，实现近场光谱与成像测量。 关键特性：突破衍射极限的空间光学分辨率（横向约 60 nm)独家专利的 SNOM 探针技术在空气与液体中均可使用包含多种原子力与光学显微镜模式非破坏性、无需标记的超高分辨成像技术，基本不需要样品制备可升级到关联的共聚焦拉曼成像和近场拉曼成像集成三种技术到一台仪器上：共聚焦显微镜, AFM 和 SNOM技术参数：1）工作模式：近场显微镜，共聚焦显微镜，原子力显微镜三种工作模式； 2）近场光学显微镜分辨率：为50nm 3) 共聚焦拉曼显微镜分辨率：200nm 4) 扫描台扫描范围：100 x 100 x 20 μm 5）探测器：光电倍增管（PMT）或雪崩二极管（APD）

Nanonics多探针平台在纳米材料表征和加工应用中的独特性石墨烯的发现开启了新一代材料的进化史.这引领了低维度纳米材料和混合材料的多样发展.这些材料的发现也导致了对研究平台的反思,新的平台必须适应这些下一代基础材料的纳米表征和加工,以及相应的应用和新器件开发. 对于这种平台的一个基本的要求就是具有能将纳米成像和纳米操作以及其他探测台整合的能力.在Nanonics Imaging Ltd公司进行这一开拓之前,这种联用通常需要在线的扫描电镜（SEM）来有效的指导纳米操作探针进行纳米材料的研究。FEI Inc公司提供的SEM集成纳米操作台正是实例。但是，即使有SEM的指导的纳米操作台也会对这种纳米材料造成物理损伤或者引入有害的电荷。用户真正需要的是能够在原子级别来反映样品结构和性能的平台，这涵盖了高灵敏度的电学，热学，光学甚至化学的纳米表征。这正是Nanonics Imaging Ltd. MultiProbeMultiView 4000 (MV 4000)平台的独特之处。 这个多探针平台可以充分的集成所有扫描探针显微镜的功能，包括结构和性能的纳米成像。 同时保证纳米探针的超精细分辨率，又不会引入电子束伤害。并可以有效地使用常规的纳米探针用于纳米操作应用。因此，Nanonics多探针平台将多探针AFM探针同时用于结构和性能应用测试，并将先进的纳米操作台开放的联用起来。这项技术将扫描探针显微镜和探针塔的所有优势结合了起来。 为了提供这样的系统，Nanonics不仅在仪器设计方面取得了突破，而且还开拓了NanoToolKitTM专利探针的设计用于超精细的结构和性能成像。这些探针实现了一个探针能够真正的碰触另外一个探针。 这甚至可以允许一个AFM探针对另外一个AFM探针或者纳米操作探针进行成像。纳米操作探针和AFM探针的区别是不具有反馈和成像功能。 为了开启这一新领域，Nanonics在建立之后的20年中一直致力于研究现有单探针或多探针AFM设备中灵敏的AFM反馈机制。这种方法采用了音叉反馈。这种反馈机制非常的灵敏，甚至允许用户用于研究单个光子的作用力。 除了使用这种特有的成像模式，Nanonics平台也可以使用常规的AFM激光反馈模式和AFM硅悬臂达到出色的AFM扫描效果。这种悬臂探针需要反射的激光用于反馈调节。另外，这些探针无法相互之间接触因此无法进行多探针应用，这是他的固有限度。并且由于这种反馈机制明显很低的力灵敏度，纳米材料和元器件的研究并不想采用。 一个主要的局限是这种基于激光束的反馈会在材料上引入电荷，在基本表征测试中引入背景噪音。这些电荷会掩盖这些材料与众不同的物理现象。因此，能够在没有干扰的情况下测试电学，热学和光学特性是对于理解材料基本物理和器件功能必不可少的要求。除却多探针的优势以外，不束缚于外部激光反馈干扰的测试这些功能特性与传统的AFM技术相比具有更大的优势。 无光学干扰的优势对于多探针AFM集成的功能测试也尤其重要，如此探针才能真正物理意义上的接触彼此。这才能实现在两个探针纳米量级的距离变化情况下进行传导机制的测试。 因此，Nanonics多探针集成SPM平台实现了多种独特的测试功能。这是首个被引入国家科学基金会支持的报告的系统。Nanonics平台还在多个方面继续创新。首先，在这些研究中真空环境搭配加热/制冷的环境控制具有重要意义。Nanonics平台可将环境控制与扫描探针显微镜领域的成像功能结合。在我们的研究中需要将温度升至最高350摄氏度，这通过Nanonics平台是可以实现的。这一需求还需要搭配改进后的常规纳米操作台用于样品的精确操纵，这也可以通过Nanonics的系统来实现。而且，这些系统的设计都保证了完全开放自由的光学轴。这使标准的研究级光学显微镜可以与系统完美集成，用于从高真空系统的上方和下方观察样品。这种光学的灵活性在以往从未被实现。为了实现这一目的，SPM系统的结构和探针的设计都必须保证没有任何光学吸收，这对于器件研究尤为重要。传统AFM系统中都无法实现这样沿着光轴上下观察的设计。Nanonics系统提供的全视野不仅对于上述提到的未来升级非常必要，而且利用研究级高放大倍数的光学显微镜用户可以快速的将探针之间的距离缩短到微米量级。当然，所有的功能都同时保证AFM扫描的极限噪音在0.2nm级别伸直更低。新一代材料研究的中心还在于在线光谱表征。这些材料都具有很多重要的光谱特性，是非常必要的表征手段。除此之外，光致发光和振动光谱的研究也很必要。Nanonics是在1990年度就将振动光谱和扫描探针显微镜联用起来的公司。为了这一联用，Nanonics研发了第一台探针和样品都可以扫描的系统。样品扫描对于振动光谱是必要的，而Nanonics这种联用系统的首篇文章在1999年就发表了。这种联用功能现在可以复制到多探针系统上，实现了基于上述所有扫描探针，探针台，和真空功能的化学表征，用于研究材料在电运载过程中的化学性质改变。自从开发了第一套集成扫描探针和振动光谱联用系统，Nanonics多年来也一直努力创新于近场扫描成像领域，将独特的等离子探针引入振动光谱测试，实现纳米级别的振动光谱联用，如TERs（针尖增强拉曼测试）。 Nanonics在近场光学成像领域的专业性早已获得世界范围内的认可，使用多探针系统的成果也很广泛的用于顶级文章的发表。这些功能考虑到了纳米光学成像的多样性。针对这些新材料，还有一个重要应用就是使用纳米光源在没有背景干扰的情况下激发纳米光电效应。这对于研究这些低维度材料及其合成材料在金属接触的局部效应下的能量级非常必要。最后，多探针表征和纳米加工的特有结合也可以通过这个平台实现。在最近发表的一篇文章中，具有Nanonics NanoToolKitTM专利设计的纳米加工探针用于在纳米级别氧化一个纳米结构，并记录由于氧化引起的化学势变化。市面上其他能提供气体纳米加工的系统都结合了SEM和聚焦离子束技术，如FEI Inc和Hitachi High-Technology Corporation公司提供的双束产品。这种设备的价格都超过了一百万美金，并且不能提供实时在线测试以及其他Nanonics平台提供的很多优势。比如上面Patsha用户发表的文章中强调的扫描探针显象模式中的在线化学势成像是这种双束系统所不能提供的。总而言之，专利获奖的Nanonics探针平台可以允许科研人员有效的完成多种独特的测试表征功能。

Nanonics公司历史：Nanonics Imaging Ltd.公司在过去的20年一直是近场光学领域的佼佼者，在近场系统领域在市场上具有最丰富的经验和最多的文献发表。经过几十年的发展Nanonics研发了市场上先进的功能性SNOM系统。孔径式SNOM系统，多探针SNOM系统和无孔径散射式SNOM系统可用于UV，可见光，红外和太赫兹波段。设计和集成：最灵活的光路集成，适用于所有操作模式MV2500适用于所有光学照明和收集模式的SNOM/AFM扫描台： 上方-侧面-下方照明/收集光路： MV2500的设计提供给用户针对每个样品不同需求选择最好模式的能力。纳米级别的红外测试需求和现有样品的多样性决定了能够使用多种照明和收集模式来探测样品是非常重要的。 MV2500就可以满足多种照明和收集模式，这完善了纳米级别的红外测试。AFM扫描台：灵活的扫描功能和简单的使用成就了优秀的红外SNOM系统 MV2500的灵活性扩展了扫描探针的工作模式，提供给用户适用于任何样品的极致的控制权限和灵活性。 关键功能包括：l 探针和样品扫描：MV2500具有两个扫描台，一个用于探针扫描功能，另一个用于样品扫描功能。关键优势：n 每个扫描台的XYZ扫描范围都是85*85*85μmn 针尖和样品可以独立扫描。软件控制非常简易。n 组合式扫描范围：两个扫描台的扫描范围可以叠加用于大范围扫描。n XY和Z方向的扫描可以独立控制，如可以用样品扫描XY方向，而探针进行Z方向的反馈，针对特殊的实验设计。n 两个扫描台都可以用于快速和精确的探针或样品位置定位-这能实现针尖和激光相互作用的绝佳优化。 l 音叉（TF）反馈：n 音叉反馈不使用激光光束作为反馈方式，避免样品或光学信号与其互相干扰。n 音叉反馈是现有的最灵敏的AFM反馈方式，在空气和液体环境下都可达到优秀的AFM成像效果。音叉反馈可以用于非常柔软的样品并可具有低至pN级别的力学灵敏度。l 可定制的LabView软件和控制器：软件基于LabView系统，允许用户设计脚本控制多种光谱仪和激光器。

WITec alpha 300S是一种纯近场光学显微镜，在很多样品上都可获得一致的超高分辨率，并且拥有透射与反射式两种模式。该近场光学显微镜不同于其他的超分辨显微镜，如 STED 和 STORM，后二者往往受限于荧光染料分子的可选种类及特殊的激发光源。 alpha300S 系统采用软件可控的快速自动进针及调节等自动测试流程，操作非常简便、直观。由于近场光学信号极其微弱，alpha300 S 近场光学显微镜配备高灵敏单光子计数的光电倍增管或雪崩二极管，并同时提供检测器快速超载保护。更重要的是，UHTS 光谱仪可与 alpha300S系统兼容，实现近场光谱与成像测量。关键特性：突破衍射极限的空间光学分辨率（横向约 60 nm)独家专利的 SNOM 探针技术在空气与液体中均可使用包含多种原子力与光学显微镜模式非破坏性、无需标记的超高分辨成像技术，基本不需要样品制备可升级到关联的共聚焦拉曼成像和近场拉曼成像集成三种技术到一台仪器上：共聚焦显微镜, AFM 和 SNOM

太赫兹近场显微镜TeraCube利用高性能太赫兹探针，结合时域泵浦探测系统成为THz近场系统可以进行高分辨率的成像研究。TeraCube Scientific和新的TeraCube Scientific M2是全自动太赫兹近场扫描系统，可以在光学实验室中运行。这两种系统都可以在距离样品表面受控的距离内对太赫兹场分布进行时域测量。TeraSpike近场微探针通过对平面样品传输宽带太赫兹脉冲进行成像。THz近场显微镜主要特点：▅ 通过同步运动控制和实时位置检测实现连续运动扫描的高速数据采集▅ 结构或弯曲样品在恒定微探针/表面距离下自适应太赫兹表面扫描的光学样品形貌检测▅ 用于偏振相关测量的线偏振和圆偏振太赫兹发射器▅ 高性能太赫兹发射器/探测器组件，加上高动态范围锁定检测，可获得卓越的信号质量▅ 用于监测微探针尖duan和样品位置的集成ccd摄像头模块▅ 集成CCD摄像头模块，用于监测微探针尖duan和样品位置系统控制和测量自动化软件，带有易于操作的图形用户界面，安装于配套PC▅ 软件实现对准监控功能和系统检测▅ 软件辅助微探针针尖到样品表面控制▅ 用于快速光学对准的时域信号预览模式▅ 数据导出为纯文本或Matlab兼容格式▅ 激光防护和防尘系统外壳▅ 开放式可扩展实验室型系统平台THz近场显微镜技术参数：THz近场显微镜安装要求：振动阻尼光学台，1.5米x 1米x 1米的系统放置空间；3B级或以上激光实验室规范THz近场显微镜应用：▅ 太赫兹超材料研究及传感应用 ▅ 半导体晶圆检验 ▅ 薄层电阻成像▅ 石墨烯分析 ▅ 太赫兹器件特性 ▅ 微观结构分析▅ 无损检测另外，我们可以根据客户要求，结合AFM原子力显微镜技术，配置相应的散射式THz近场成像系统。关于昊量光电：昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

仪器简介：NTEGRA平台是一个革命性的技术概念，在拥有所有SPM技术：原子力/磁力/静电力/表面电势/导电原子/扫描电容/压电力/纳米刻蚀等功能的同时，还能配备近场光学显微镜/共聚焦拉曼/外加磁场/超声原子力/纳米压痕等功能！。Prima则是这个平台中的基础SPM，可以在此基础上根据科 研需求提供多达40 中SPM 功能，其中的每种功能都有一套在其专业领域有着杰出表现的独特配置。可选择配备独一无二的双扫描结构可以将扫描范围扩展最大到200x200um。技术参数：在大气环境下：扫描隧道显微镜/ 原子力显微镜(接触 +半接触+非接触)/横向力显微镜/相位成像/力调制/力谱线/粘附力成像/磁力显微镜/静电力显 微镜/扫描电容显微镜/开尔文探针显微镜/扩展电阻成像/纳米压痕/刻蚀: 原子力显微镜(电压+力)/压电力模式/超声原子力/外加磁场/温度控制/气氛控制等功能。在液体环境下：原子力显微镜(接触+半接触+非接触)/横向力显微镜/相位成像/力调制/粘附力成像/力谱/刻蚀:测量头部：AFM和SPM可选配液相模式和纳米压痕测量头 扫描方式：样品扫描、针尖扫描、双扫描最大样品尺寸：样品扫描：直径40mm，厚度15mm。针尖扫描：样品无限制 XY样品定位装置：移动范围5× 5um，精度5um 扫描范围：90× 90× 9um（带传感器/闭环控制），可选配低电压模式实现原子级分辨XY方向非线性度：&le 0.5%（带传感器/闭环控制） Z方向噪音水平（带宽1000Hz时的RMS值）：闭环控制扫描器（典型值0.04nm，最大0.06nm）光学显微系统：配备高数值孔径物镜后，分辨率可由3um提升至1um样品温度控制：室温~300℃ 主要特点：Ntegra Prima 是一个基本的SPM 系统，在这平台上可以根据科研需要提供40 种SPM 功能。 Ntegra Aura 是一款能在气氛控制以及低真空环境下工作的SPM，专门用于电磁等测量。 Ntegra Therma 只有10nm/h 热漂移能长时间可靠工作，并且能在-30℃~300℃环境下测量。 Ntegra Maximus 能够测量100mm 的大样品，在半自动模式下可以连续工作。 Ntegra Solaris 是一款近场光显微镜，能够提供所有近场探测模式，从而突破衍射极限。 Ntegra Vita 能与倒置显微镜联用，专门用于生物方面的检测。 Ntegra Tomo 能与超薄切片机联用，且制备用于研究的纳米片层的新鲜表面（也适用于电镜）。 Ntegra Spectra 集成了AFM-SNOM-Confocal-Raman 从而实现针尖增强（TERS）

alpha300 RS – 原位关联的拉曼和扫描近场光学图像 对于拥有挑战性实验要求的用户来说，alpha300 RS将共聚焦拉曼图像及突破光学衍射极限的扫描近场光学显微镜结合在一起。Alpha 300RS在一台设备上继承了所有的Alpha 300R显微拉曼功能，Alpha 300S扫描近场光学显微镜功能和许多AFM操作模式。 主要特点l 所有alpha300 R (拉曼) 和alpha300 S (近场) 的性能集成到一个显微镜系统内l 优异的原位化学组分分析（拉曼）和超高分辨率表面成像（近场）的结合l 只需要转动物镜转盘即可在两种技术间轻松切换l 两种测量间无需移动样品 应用实例 剥离石墨烯的表面拓扑结构VS拉曼图像左图：表面拓扑结构及沿蓝线的轮廓曲线右图：石墨烯G峰沿红线的强度变化曲线 性能通用拉曼操作模式l 拉曼光谱成像：连续扫描的拉曼高光谱全谱成像，每个样品点都能获得完整的拉曼光谱l 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式l 快速和慢速时间序列l 单点及Z方向深度扫描l 光纤耦合的UHTS 系列光谱仪，专为弱光应用的拉曼光谱设计l 共聚焦荧光显微镜功能l 明场显微镜功能 近场显微镜操作模式l 扫描近场光学显微镜模式：底部激发顶部收集（远场激发近场收集）模式，顶部激发底部收集（近场激发远场收集）模式，探针收集（近场激发近场收集）模式l 共聚焦(CM)模式：透射，反射，荧光（可选）l 近场-原子力联用：Alpha 300A的所有模式均可选l 固定底部透射照明l 全内反射照明模式（可选） 原子力显微镜操作模式l 接触模式l 横向力模式l 其他可选 各类拉曼升级选项（如true surface等）l 多种激光可选择l 多种光谱仪可选择l 自动共聚焦拉曼成像l 自动多区域多点测量l 可升级超快拉曼图像模式(需配置EMCCD和Piezo样品台，可获得每秒1300张光谱的速度)l 可升级落射荧光照明l 自动聚焦功能l 显微镜观察法可选，如暗场，像差，偏光，微分干涉等 超高通光量UHTS光谱仪l 各类透射式波长优化谱仪可选 (UV, VIS or NIR)，均为弱光拉曼光谱设计l 光纤耦合，70%超高光通量l 优异的成像质量，光谱峰形对称无像差 控制电脑WITec控制和数据采集，处理软件

NTEGRA Spectra系统简介： NTEGRA Spectra - AFM / CONFOCAL RAMAN & FLUORESCENCE / SNOM / TERS 它将原子力显微镜、扫描近场光学显微镜，激光共聚焦显微镜、荧光光谱和拉曼光谱等各种分析手段完美地结合到一起。借助于针尖增强拉曼散射效应（TERS），其拉曼散射光谱和图像测量的分辨率达到了50nm！ Confocal optical microscopy/spectroscopy system NTEGRA Spectra系统将激光共聚焦显微镜、拉曼光谱、光学显微镜和扫描探针显微镜完美结合，提供了荧光光谱与Raman散射的空间3D分布测量，而扫描探针显微镜也兼备了纳米压痕、纳米操纵和纳米刻蚀加工等功能！ Scanning probe microscopy system NTEGRA Spectra在进行光学观测的同时，NTEGRA Spectra系统也可以通过多种模式对样品进行SPM表征，包括：原子力显微镜、磁力显微镜、静电力显微镜、扫描隧道显微镜、扫描近场光学显微镜、力曲线等等多大40种功能。这种独有的设计将光学与探针方法联合的设备，赋予了用户对样品同时进行多种性能表征的能力，使得用户可以观测样品的光学性质、化学性能、电学性质、力学性质和磁学性质等等！ System for the investigation of optical properties beyond the diffraction limit NTEGRA Spectra系统区别于其他光学设备的性能在于它能在超过衍射极限的分辨率下，对样品光学性质进行研究。扫描近场光学显微镜与局域的针尖增强拉曼散射效应使得用户可以对光转移、光散射和光极化进行成像，其Raman散射的空间分辨率达到了50nm！ NTEGRA Spectra系统的工作模式 原子力显微镜（力学、电学、磁性质等，纳米操作等多大40种功能） 扫描近场光学显微镜（透射、反射、收集、荧光） 激光共聚焦显微镜、共聚焦拉曼成像、荧光成像、光学成像 针尖增强拉曼散射-TERS（正置+倒置）扫描近场光学显微镜 ( SNOM / NSOM ) 环境控制：温度、气氛控制、液相操作、电化学环境、外加磁场不仅能将原子力显微镜-近场光学显微镜-光学显微镜-共聚焦显微-拉曼光谱完美的联用。此外每个功能还能单独使用即提供了：独立的AFM/独立的SNOM/独立的光学显微镜/独立的共聚焦显微镜/独立的拉曼光谱，所有功能都能在同一个软件下实现联用，并且能够同时得到测量结果。为了更好的体现Ntegra 的扩展性，该系统不但能和NT-MDT 的拉曼系统联用， 也同和市场上主流的拉曼进行联用，例如Renishaw，JY 等拉曼系统联用。

sMIM是由美国PrimeNano公司联合美国顶尖高校（斯坦福大学）发展起来的一款基于AFM的电学测量设备。在测量样品表面形貌的同时得到样品的电学性质，如导电率，介电常数，载流子浓度，载流子类型等。sMIM基于微波频率的阻抗测量，具有良好空间分辨率和电学分辨率，无需样片制备等优点，适用于各类材料包括导体、半导体、绝缘体/电介质、掩埋式结构等材料，在半导体，相变材料，纳米科学，铁电材料等科研领域有着非常重要的应用（如下图所示）。利用sMIM技术取得的科研成果已经发表在著名的国际期刊，例如Science, Nature, Physics Review Letters, Nano Letters 等 sMIM 应用原理 传送微波信号到针尖，微波在针尖部位行成近场电磁场与样品表面和近表面相互作用，相互作用后，反馈微波信号，针尖移动，反馈微波的振幅、相位随着针尖的电信号变化而变化，软件进行信号校准、分析，进行电容、电阻率和形貌同步成像。 6种信号反馈通路Method半导体导体电介质绝缘体包埋结构样品分辨率动态模式CAFM×√×××××SCM√××××××SSRM√√×××××Scanwave√√√√√√√ 半导体领域-半导体器件sMIM技术可以用来测量半导体器件的电学性质，包括载流子浓度分布，载流子类型，金属结构，介质层（绝缘体）结构等。利用sMIM对材料局域进行纳米尺度下的C-V曲线测量。可以应用在器件表征，失效分析等。以下我们给出几个典型的例子。绝缘栅极晶体管 以上左图中为绝缘栅双极晶体管的SEM照片和利用其他技术测量得到的图形；右图中为利用sMIM技术得到的图像。比较结果我们可以看出，sMIM技术显示了器件的更多细节，并且图像更加清晰。sMIM中不仅显示了载流子的类型和浓度分布，并且显示了金属结构，多晶硅结构和氧化层结构以及氧化层中的缺陷。 CMOS感光器件图中为扫描全局快门CMOS感光器件表面的图像，扫描区域大小为5 µ m x 5 µ m。图中数字所对应的区域1是用于存储的n型的扩散区域； 2是光阴极n型扩散区域；3是浅沟道隔离绝缘区域；4是金属接触区域；5是阴极周围的p型衬底。sMIM-C图像清晰地显示了各种材料。 利用sMIM-C信号，我们可以进行纳米尺度下特定位置的C-V曲线测量。 特定位置的C-V曲线测量可以对半导体器件进行失效分析。如右下图是对于不同点的测量得到的 C-V曲线。C-V曲线#1和C-V曲线#2显示被测区域是n型半导体，与器件结构1用于存储的n型的扩散区域和2光阴极n型扩散区域相吻合。 C-V曲线#5显示被测区域是p型半体与器件结构5阴极周围的p型衬底相吻合。C-V曲线#3是平的，说明被测区域是非半导体材料，与器件结构3浅沟道隔离绝缘区域吻合。铁电材料和磁性材料 sMIM可以用来测量铁电材料和磁性材料畴和畴壁的电学性能。 LiTaO3 上图是对于LiTaO3铁电材料的扫描结果。sMIM技术可以在一次扫描过程中同时得到材料的表面形貌，PFM图像和导电性分布的sMIM图像。PFM图像清晰的给出了铁电材料中不同的畴分布。从sMIM图像中可以看到畴壁是导电的。 石墨烯 上图中是利用sMIM技术测量得到的石墨烯的导电性质。sMIM图像清晰的显示了石墨烯上超晶格结构的摩尔纹。其摩尔纹结构的尺寸为14nm。 透过表面测量 sMIM中的微波信号可以穿透介质层，从而测量表面一下的材料的电学性能sMIM可以穿透介质层，扫描表面以下的材料的性质。上图利用sMIM测量银在溶液中电化学生长的过程 。（Seeing through Walls at the Nanoscale: Microwave Microscopy of Enclosed Objects and Processes in Liquids. ACS Nano 10, 3562–3570 (2016).）

仪器简介：以Zeiss显微镜为基础，近场激发光路为正置共焦显微镜加特殊设计的近场物镜头，采用悬臂梁近场光学针尖，近场光激发强度高于光纤针尖2-3个数量级，很大程度改善了近场光学显微镜信号过弱的问题，坚固的近场针尖加柔韧的悬臂梁，经典的原子力显微镜反馈模式，带来逼近和测量时的优异的安全性和稳定性； AlphaSNOM集中而且不相互干扰地提供了共焦光学、近场光学、原子力三种显微测试模式，各取三种显微模式之所长，相互比较，相互验证.

Scanning Microwave Impedance Microscopy，简称为sMIM，扫描微波阻抗显微镜，让您的AFM成为专业的电学显微镜！ 50nm超高分辨率，~100nm内部电学探测，导体、半导体、绝缘体的广泛适用度，为您提供电导率、介电常数、掺杂浓度纳米级高灵敏度电学表征成像的解决方案。 Scan Wave™ 可应用于多种领域材料的研究和发展：微电子材料，铁电材料，工业材料，以及石墨烯、碳纳米管，2D半导体、纳米材料等新星材料等。 独立扫描模块，包括微波信号发生器、探针干涉模块、自主专利同轴屏蔽探针、以及微波近场软件，可应用于各种AFM平台。特殊MEMS结构探针，有效避免散杂磁场的干扰 专业多功能自由切换电学显微镜测试功能体验 sMIM-C成像：介电常数、电容变化； sMIM-R成像：电导率、电阻率变化； dC/dV 振幅：载流子浓度； dC/dV 相位：载流子类型+/- ； dR/dV 振幅：相关损失系数； dR/dV 相位：相关损失系数 高精度电学测试，50nm分辨率； 工业级高灵敏度、低噪音，“Hard stuff”材料电学测试不再是难题； 可实现表面下成像、检测（100nm) 不同材料同步测量：导体、半导体、绝缘体、电介质都可以实现，不同的材料甚至分类都可以 在一次扫描中观测。 简易操作：不需要样品特别处理，不需要将样品放置在导电或电流中，人性化软件设计，操作简单。 接触和非接触模式多种扫描模式：即使在做力曲线，只要你想实现，就可以获得电学数据；

仪器简介：NANONICS IMAGING LTD. （以色列NANONICS有限公司）是业界将近场光学显微镜(NSOM)技术和原子力显微镜(AFM)相技术相结合的领头羊之一。公司成立于1997年，NANONICS是业界成立最久并且对此类系列产品经验最丰富的公司之一，其产品荣获过许多国际大奖。在强大的NSOM/AFM的整合操作系统的推动下，今天NANONICS继续以强大的优势和全面的系统热销市场。NANONICS凭借着实力和品质，其产品涉足的领域从科研到工业，从生物学到半导体，从化学制品到无线电通讯，应用范围极其广泛。 低温NSOM/AFM拥有先进的系统设备、环境友好的样品反应室、化学药品和气体自动传送系统；还有nano-印刷术系统，给消费者提供一个全面的系统配置选择。加上有AFM/NSOM/SEM的整合与AFM/NSOM/micro-Raman的整合系统这样强大的成象结合，可以让用户拥有一个实验平台来完成多个的材料表征应用。探针包括NSOM探针，micro-pipettes是检测热、电性能的，同时探针还可以提供气体和液体加样，这是Nanonics系列产品的特色功能，可以为提供用户在很小的范围内做原位反应等。NAONICS系统可兼容其他供应商提供的SPM探针。 Nanonics仪器设计的特点就是将不同的表征手段整合到一个平台，包括spm、微拉曼光谱、电镜、共聚焦显微镜、离子束、热分析、SHG等等都能实时或一起使用。技术参数： 系统包含了AFM反馈扫描功能? 探针使用中空玻璃纳米移液管包裹Pt纳米线电极电极尺寸50-1000nm? 分辨率形貌XY方向:250nm形貌Z方向:1-2nm? 灵敏度(Amps/V) 10-12到0.1（取决于恒电位仪的型号）? 包含样品扫描和探针扫描模式扫描范围XYZ都可达80微米? 液体样品池材料PEEK，耐受多种溶液环境Counter\reference电极， 最多可达四个。这些电极可以从样品池侧面连接。直径约2mm，长度75px。标准的微型Ag/AgCl电极可以固定在样品池上方。? 提供保护圈，防止样品飞溅到样品扫描台上? 上下都可提供完全开放的光路。? 可根据需要选配背面接线。? 可选配环境腔体，输入惰性气体等（如N2或者Ar）? 恒电压仪：-10V到10V，电流0到±0.25A，灵敏度(Amps/V) 10-12到0.1主要特点：1. Nanonics的SECM功能建立于AFM反馈的基础上,如此可以解决电化学测试中常遇到的探针撞到样品损坏的问题.探针在样品表面扫描的过程中,恒电压仪提供电压并测量电流.2. Nanonics具有专利的悬臂式弯曲玻璃探针设计.玻璃探针的设计可以提供垂直方向的开放光路,便于放置观察样品和探针位置的CCD.3. 因为光路的开放性,Nanonics的SECM功能还可以扩展到与Raman或其他光谱仪的联用.4. Nanonics的探针由玻璃包覆Pt丝组成,Pt丝尺寸约50-100nm.而常见的电化学探针的尺寸约25um. 探针越小, 探针和样品之间的距离也需要更小才能探测到反馈电流的变化,所以传统SECM测试如果用很小尺寸的探针会使探针非常容易撞倒样品表面.而Nanonics的SECM功能因为基于AFM反馈基础,可以确保探针和样品不会发生碰撞,即使在样品具有一定斜率时也可以安全的扫描.5. Nanonics提供SECM cell可以有效地防止液体喷溅,可以提供侧面四个电极和样品的背面电极接线.6. 如果测试需要在惰性气体环境下完成,Nanonics也可以提供Chamber进行环境控制.7. 设备还可以升级到与拉曼光谱仪的联用,完成AFM-SECM-Raman的联合测试功能.

Molecular Vista原子力微镜与可见-红外-拉曼联用系统 ——10nm以下空间分辨可见-红外-拉曼成像与光谱采集原子力显微镜(Atomic Force Microscope, AFM)经过30多年的发展后，从形貌测试及其它常规功能来看已经非常成熟。然而常规的原子力显微镜也越来越无法满足科研人员在纳米尺度下对于样品进行多性质原位测试分析的更高需求，尤其在化学、光学、电学、热学、力学等领域。在这一背景下，美国Molecular Vista应运而生，推出了全新一代原子力显微镜VistaScope！在具备所有常规原子力显微镜功能的条件下，基于专利的光诱导力显微镜（Photo-induced Force Microscope, PiFM)技术，结合波长可调的可见-红外光源，从而实现10nm以下空间分辨可见~红外成像与光谱采集，无需远场光学接收器及光谱仪。此外，VistaScope原子力显微镜还可以与各类拉曼光谱仪进行联用，组成目前市场上功能最为强大的原子力显微镜与可见-红外-拉曼联用系统，以满足科研人员在纳米尺度下的各种测试需求。VistaScope原子力显微镜具备如下功能：NanoIR 纳米红外成像与光谱光诱导力显微镜突破性的采用检测探针与样品之间的偶极交互(dipole interaction)，使其不受到样品横向热膨胀对于空间分辨率带来的负面影响。因此，基于光诱导力显微镜的纳米红外能真正意义上的实现10nm以下空间分辨纳米红外成像！下图为PS-PMMA嵌段共聚物纳米红外成像与光谱案例，红色和绿色分别代表PMMA与PS的分布情况。摘自“Nanoscale chemical imaging by photoinduced force microscopy，Sci. Adv. 2016”基于光诱导力显微镜的纳米红外不仅适合有机高分子材料，也适合无机材料。下图为不同Si/Al比的ZSM-5沸石分子筛的纳米红外骨架振动峰在1100cm-1处的蓝移及劈裂情况，以及通过碳氢化合物在1480cm-1的C=C伸缩振动峰来反映ZSM-5参与甲醇制碳氢化合物（MTH)催化反应后结焦的分布情况。摘自“Nanoscale infrared imaging of zeolites using photoinduced force microscopy，作者Chem”纳米可见吸收成像与光谱NanoVis 偶极交互的检测原理使得光诱导力显微镜不仅能在中红外波段下工作，也可以很好在可见～近红外波段性下进行成像及光谱采集。下图为6-TAMRA荧光染料在不同波长下的可见吸收成像与光谱，黑色箭头所指处的染料颗粒尺寸小于10nm，达到了单分子成像的水平。摘自“Image force microscopy of molecular resonance: A microscope principle, Appl. Phys. Lett. 2010”下图为二硫化钼在不同波长下的可见吸收成像与光谱样品结果来自“Stanford University & University of British Columbia”AFM-Raman 原子力-拉曼联用系统VistaScope原子力显微镜具有正置-倒置光路一体化的设计，可以将激发光从顶部，侧面以及底部激发至样品以适应透明和不透明的样品或使激发在针尖上的光束具有合适的偏振方向从而进一步增强拉曼信号。MVI提供高速高通量的Vista-Raman光谱仪与VistaScope原子力显微镜进行联用，其也可以和其他拉曼光谱仪进行联用。下图为VistaScope联合Vista-Raman对载玻片上碳纳米管的针尖增强拉曼成像(Tip Enhanced Raman Spectroscopy，TERS)。拉曼信号的增强主要源于局域表面等离子体共振(LSPR)的电磁场增强。光诱导力显微镜可以直接表征样品表面的场强分布，通过场强表征结果可以找到高场强进行针尖增强拉曼成像。下图为在光诱导力显微镜对于镀金衬底上亮甲酚蓝(BCB)场强表征，可以看到高场强（亮）和低场强（暗）所得到拉曼光谱信号的强弱对比。s-SNOM 散射式扫描近场光学显微镜有别于传统的扫描近场光学显微镜，光诱导力显微镜采用检测探针与样品之间的偶极交互直接获得样品表面的场强分布，无需远场光学探测器。这不仅杜绝了远场信号的干扰，也无需像SNOM那样配置多个不同波段光学探测器。光诱导力显微镜的检测端可无缝适应紫外～射频，用户仅需考虑如何将激发光激发至样品。同时，MVI也提供散射式扫描近场光学显微镜(s-SNOM)功能，用于光学相位的测量，作为场强测量的补充。下图为金铝二聚体分别在480nm和633nm不同偏振方向激发后的场强分布，图a,b的实测场强与图c,d的理论模拟是否吻合，金铝二聚体间隔仅为5nm!摘自“Wavelength-dependent Optical Force Imaging of Bimetallic Al-Au Heterodimers, Nano Lett. 2018”上面提到拉曼信号的增强主要源于局域表面等离子体共振(LSPR)的电磁场增强，下图为基于银颗粒阵列的表面增强拉曼衬底(SERS)的场强分布，图f的FWHM结果显示光诱导力显微镜实现了3.1nm的空间分辨。摘自“Fabrication and near-field visualization of a waferscale dense plasmonic nanostructured array, RSC Adv. 2018”More Intergration 与其他光学-光谱技术联用VistaScope原子力显微镜还能与其他多种光学-光谱技术联用。例如，非线性-时间分辨-泵浦-探测-超快光谱，光致发光光谱（荧光光谱与磷光光谱），单分子荧光成像，共聚焦成像等。下图为VistaScope原子力显微镜结合飞秒激光器在光诱导力显微镜模式下，以809nm为泵浦光，605nm探测光对于单个萘酞菁硅(SiNc)纳米团簇分子的时间分辨瞬态吸收成像的表征。摘自“Linear and Nonlinear Optical Spectroscopy at the Nanoscale with Photoinduced Force Microscopy, Acc. Chem. Res. 2015”下图为VistaScope原子力显微镜-光诱导力显微镜与荧光光谱对于二硫化钼原位表征结果Multi-frequency AFM 多频原子力显微镜VistaScope原子力显微镜采用了全新的多频模式，在具备所有常规原子力显微镜功能的条件下，也将性能提升到了全新的高度。相比于常规的单频原子力显微镜，多频原子力显微镜拥有更高的空间分辨率与灵敏度。下图为VistaScope在各种AFM模式下的成像结果。

用超越激光衍射极限的系统来研究样品NTEGRA Spectra 在检测样品时，通过扫描近场光学显微术能提供超越激光光学衍射的光学分辨率。支持两种不同的SNOM方式：光纤式SNOM和悬臂梁式SNOM所有的SNOM功能模式：透射模式，反射模式，收集模式。所有SNOM的信号都可以被检测：激光强度，荧光强度，光谱信号等。SNOM刻蚀：矢量式，光栅式。

超高分辨散射式近场光学显微镜-neaSNOMneaSNOM是德国neaspec公司推出的第三代散射式近场光学显微镜（简称s-SNOM），其采用了专利化的散射式核心设计技术，极大的提高了光学分辨率，并且不依赖于入射激光的波长，能够在可见、红外和太赫兹光谱范围内，提供优于10nm空间分辨率的光谱和近场光学图像。由于其高度的可靠性和可重复性。neaSNOM业已成为纳米光学领域热点研究方向的首选科研设备，在等离基元、纳米FTIR和太赫兹等众多研究方向得到了许多重要科研成果。最近，neaspec公司成功开发了可见至太赫兹高分辨光谱和成像综合系统，将上述sSNOM功能与纳米红外（FTIR）、针尖增强拉曼（TERS）、超快光谱（ultrafast）和太赫兹光谱（THz）进行联用，可以为广大科学工作者在等离子激元、二维材料声子极化、半导体载流子子浓度分布、生物材料红外表征、电子激发及衰减过程等的研究上提供相关支持。neaSNOM技术特点和优势：neaSNOM是目前世界上唯一成熟的s-SNOM产品专利保护的散射式近场光学测量技术—独有的极高10 nm空间分辨率专利的高阶解调背景压缩技术—在获得10nm空间分辨率的同时保持极高的信噪比专利保护的干涉式近场信号探测单元专利的赝外差干涉式探测技术—能够获得对近场信号强度和相位的同步成像专利保护的反射式光学系统—用于宽波长范围的光源：可见、红外以至太赫兹高稳定性的AFM系统，—同时优化了纳米尺度下光学测量双光束设计—极高的光学接入角：水平方向180°，垂直方向60°操作和样品准备简单—仅需要常规的AFM样品准备过程neaSNOM重要应用领域：表面等离激元石墨烯六方氮化硼光电流/太赫兹化学过程高分子/生物材料应用案例Science：石墨烯莫尔(moiré）超晶格纳米光子晶体近场光学研究光子晶体又称光子禁带材料。从结构上看，光子晶体是一类在光学尺度上具有周期性介电结构的人工设计和制造的晶体，其物理思想可类比半导体晶体。通过设计，这类晶体中光场的分布和传播可以被调控，从而达到控制光子运动的目的，并使得某一频率范围的光子不能在其中传播，形成光子带隙。光子晶体中介质折射率的周期性结构不仅能在光子色散能带中诱发形成完整的光子带隙，而且在特定条件下还可以产生一维（1D）手性边界态或具有Dirac（或Weyl）准粒子行为的奇异光子色散能带。原则上，光子晶体的概念也适用于控制“纳米光”的传播。该“纳米光”指的是限域在导电介质表面的光子和电子的一种耦合电磁振荡行为，即表面等离子体激元（SPPs）。该SPP的波长，λp，相比入射光λ0来说最多可减少三个数量级。如果要想构筑纳米光子晶体，我们需要在λp尺度上实现周期性介电结构，传统方法中采用top-down技术来构建纳米光子晶体，该方法在加工和制造方面具有较大的限制和挑战。2018年12月，美国哥伦比亚大学D.N. Basov教授在Science上发表了题为Photonic crystals for nano-light in moiré graphene superlattices的全文文章。研究者利用存在于转角双层石墨烯结构（twisted bilayer grapheme, TBG）中的莫尔（moiré）超晶格结构，成功构筑了纳米光子晶体，并利用德国neaspec公司的neaSNOM纳米高分辨红外近场成像显微镜研究了其近场光导和SPP特性，证明了其作为纳米光子晶体对SPP传播的调控。纳米近场成像对钙钛矿太阳能电池的研究苏州大学Q.L. Bao教授等人在钙钛矿结构微纳米线的光电转换离子迁移行为和载流子浓度分布等领域作出了突出贡献。2016年，发表在ACS Nano上的钙钛矿结构微纳米线的光电转换离子迁移行为的研究中，作者利用Neaspec公司的近场光学显微镜neaSNOM发现：1. 未施加外场电压时， 该微纳米线区域中载流子密度（图1 g. s-SNOM振幅信号）和光折射率（图1 g. s-SNOM相位信号）较均匀；2. 施加外场正电压时，该区域中载流子密度随I-离子（Br?）的迁移而向右移动（图1 h. s-SNOM振幅信号），其光折射率随随MA+离子（CH3NH3+）的迁移而向左移动（图1 g. s-SNOM相位信号）较均匀；3. 施加外场负压时，情况正好与施加正电压时相反（图1 i）。该研究显示弄清无机-有机钙钛矿结构中的离子迁移行为对于了解钙钛矿基的特殊光电行为具有重要意义，进而为无机-有机钙钛矿材料的光电器件应用打下了坚实的基础。图1.SNOM测量钙钛矿结构微纳米线的光电转换的离子迁移行为。d-f. 离子迁移测量示意图；g-i,相应的s-SNOM光学信号振幅和相位图2017年， Q.L. Bao教授等人发表在AdvanceMaterials的文章中再次利用Neaspec公司的近场光学显微镜neaSNOM，首次在实验中研究了太阳能电池表面钙钛矿纳米粒子涂层的载流子密度。结果显示：钙钛矿纳米粒子覆盖区域近场信号强度高于Si/SiO2区域中信号强度（参见下图2 b 图2 a为对应区域的形貌）。另外作者也研究了增加光照的时间的影响（参见下图2 c, d）。其结果显示：近场信号强度随光照时间增加，从12.5 μV (黄色，0 min) 增加到 14.4 μV (红色, 60 min)，该近场信号反映了可移动自由载流子密度的变化。最终，红外光neaSNOM研究结果证明：随光照时间增加，太阳能电池表面的钙钛矿纳米粒子涂层富集和捕获了大量的电子。参考文献：1、Wang Y.H. et. al. The Light-InducedField-Effect Solar Cell Concept - Perovskite Nanoparticle Coating IntroducesPolarization Enhancing Silicon Cell Efficiency. Advanced Material 2017, First published: 3 March 2017 DOI: 10.1002/adma.201606370.2、Zhang Y.P. et. al. Reversible StructuralSwell?Shrink and Recoverable Optical Properties in Hybrid Inorganic?OrganicPerovskite. ACS Nano 2016,10, 7031?7038.丝纤蛋白电调控构象转变及其光刻应用的纳米红外研究中科院微系统所陶虎教授带领的研究团队利用neaspec公司的近场光学显微镜（neaSNOM）高化学敏感和10 nm空间分辨的优势，在纳米尺度近分子水平研究了电调控下丝蛋白中的多形态转变。 该研究在纳米尺度实现了蛋白质结构转换的探测，结合纳米精度的电子束光刻技术能为我们在二维及三维尺度实现丝蛋白的结构控制提供有力的方法；同时该工作为开启纳米尺度的蛋白质结构研究和探究蛋白质电诱导构象变化的临界条件铺平了道路；为未来设计基于蛋白质的纳米结构提了供新的规则。参考文献：1. Nanoscale probing of electron regulated structural transitions in silk proteins by near field IR imaging and nano-spectroscopy， Nature Comm. 7:130792. Precise Protein Photolithography (P3): High Performance Biopatterning Using Silk Fibroin Light Chain as the Resist, Adv. Sci. 2017, 1700191可调谐低损耗一维InAs纳米线的表面等离激元研究亚波长下光的调控与操纵对缩小光电器件的体积、能耗、集成度以及响应灵敏度有着重要意义。其中，外场驱动下由电子集体振荡形成的表面等离激元能将光局域在纳米尺度空间中，是实现亚波长光学传播与调控的有效途径之一。然而，表面等离激元技术应用的最关键目标是同时实现：①高的空间局域性，②低的传播损耗，③具有可调控性。但是，由于金属表面等离激元空间局域性较小，在长波段损耗较大且无法电学调控限制了其实用化。由中科院物理所和北京大学组成的研究团队报道了砷化铟（InAs）纳米线作为一种等离激元材料可同时满足以上三个要求。作者利用neaspec公司的近场光学显微镜（neaSNOM, s-SNOM）在纳米尺度对砷化铟纳米线表面等离激元进行近场成像并获得其色散关系。通过改变纳米线的直径以及周围介电环境，实现了对表面等离激元性质的调控，包括其波长、色散、局域因子以及传波损耗等。作者发现InAs纳米线表面等离激元展现出：①制备简易，②高局域性，③低的传波损耗，④具有可调控性，这为用于未来亚波长应用的新型等离子体电路提供了一个新的选择。该工作发表在高水平的Advanced Materials 杂志上。参考文献：Tunable Low Loss 1D Surface Plasmons in InAs Nanowires，Yixi Zhou, Runkun Chen, Jingyun Wang, Yisheng Huang, Ming Li, Yingjie Xing, Jiahua Duan, Jianjun Chen, James D. Farrell, H. Q. Xu, Jianing Chen， Adv. Mater. 2018, 1802551范德华材料异质结构的近场纳米成像研究范德华材料拥有一整套不同的激元种类，在所有已知材料中的具有最高的自由度。德国neaspec公司提供的先进近场成像方法（s-SNOM）允许极化波在范德华层或多层异质结构中传播时被激发和可视化，从而被广泛应用到范德华材料激元的研究中，为研究人员对范德华材料体系中激元的激发、传播、调控等研究提供了有力的工具。另一方面，范德华材料系统中激元的优点是它们具有的电可调性。此外，在由不同的范德华层构成的异质结构中，不同种类的激元相互作用，从而可以在原子尺度上实现激元的完美控制。德neaspec公司提供的纳米光谱（nano-FTIR）和纳米成像成功被研究人员用于激元的调控等研究中，通过实验证实，研究人员已经成功开启了操控激元相关纳米光学现象的多种途径。范德华材料中激元的先进近场光学可视化成像研究：A、石墨烯中Dirac等离激元；B、 石墨烯纳米共振器边缘的等离激元；C、碳纳米管中的一维等离激元；D、 石墨烯-六方氮化硼moiré 超晶格体系中的超晶格等离激元；E、六方氮化硼上石墨烯的杂化等离子-声子激元；F、WSe2中的激子激元；G、 双曲六方氮化硼中的声子激元及波导传播参考文献：Basov, D. N et. al Polaritons in van der Waals materials, Science, 354, aag1992(2016). DOI: 10.1126/science.aag1992发表文章部分最新发表文章：Science (2017) doi:10.1126/science.aan2735Tuning quantum nonlocal effects in graphene plasmonicsNature Nanotechnology (2017) doi:10.1038/nnano.2016.185Acoustic terahertz graphene plasmons revealed by photocurrent nanoscopyNature Photonics (2017) doi:10.1038/nphoton.2017.65Imaging exciton–polariton transport in MoSe2 waveguidesNature Materials (2016) doi:10.1038/nnano.2016.185Acoustic terahertz graphene plasmons revealed by photocurrent nanoscopyNature Materials (2016) doi:10.1038/nmat4755Thermoelectric detection and imaging of propagating graphene plasmons国内用户最新发表文章：Nat. Commun. 8, 15561(2017)Imaging metal-like monoclinic phase stabilized by surface coordination effect in vanadium dioxide nanobeamAdv. Mater. 29, 1606370 (2017)The Light-Induced Field-Effect Solar Cell Concept –Perovskite Nanoparticle Coating Introduces Polarization Enhancing Silicon Cell EfficiencyLight- Sci & Appl 6, 204 (2017)Effects of edge on graphene plasmons as revealed by infrared nanoimaging Light- Sci & Appl，中山大学accepted (2017)Tailoring of electromagnetic field localizations by two-dimensional graphene nanostructures Nanoscale 9, 208 (2017) Study of graphene plasmons in graphene–MoS2 heterostructures for optoelectronic integrated devices Nano-Micro Lett. 9,2 (2017) Molybdenum Nanoscrews: A Novel Non-coinage-Metal Substrate for Surface-Enhanced Raman Scattering J. Phys. D: Appl. Phys. 50, 094002 (2017) High performance photodetector based on 2D CH3NH3PbI3 perovskite nanosheets ACS Sens. 2, 386 (2017) Flexible, Transparent, and Free-Standing Silicon Nanowire SERS Platform for in Situ Food Inspection Semiconductor Sci. and Tech.32,074003 (2017) PbI2 platelets for inverted planar organolead Halide Perovskite solar cells via ultrasonic spray deposition

什么是扫描电子显微镜，泽攸科技小编给大家介绍一下扫描电子显微镜。1930年代和1940年代，除透射电子显微镜外，其他类型的电子显微镜，如扫描、发射、反射、场发射等也相继在德国提出和试验。 经过一段时间的断断续续，扫描电镜再次受到关注，在解决了一些关键技术问题后，发展迅速。 他可以直接观察块状物质的表面，并提供具有很强三维效果的图像。 因此，在科研和工业中得到了广泛的应用。 它已成为生产量很高的电子显微镜。接下来泽攸科技小编带大家深入探讨一下，什么是扫描电子显微镜。扫描电子显微镜（SEM）是介于透射电子显微镜和光学显微镜之间的一种观察方法。 它利用聚焦的很窄的高能电子束对样品进行扫描，通过电子束与物质的相互作用，激发各种物理信息，对信息进行采集、放大、再成像，以观察表征物质的微观形态。扫描电子显微镜基本的功能仍然是放大镜的功能，它实现了人眼和光学显微镜无法观察到的样品更详细的特征。 广泛应用于材料科学研究、生物学、工业制造等领域。ZEM台式扫描电子显微镜扫描电子显微镜的制造是基于电子和物质的相互作用。 当一束高能入射电子轰击材料表面时，激发区会产生二次电子、俄歇电子、特征X射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子以及可见光、紫外光和红外光。 该区域产生的电磁辐射。 同时，还可以产生电子-空穴对、晶格振动（声子）和电子振荡（等离子体）。 原则上，可以利用电子与物质的相互作用来获得被测样品本身的各种物理化学性质，如形貌、成分、晶体结构、电子结构、内部电场或磁场等。扫描电子显微镜对我们来说似乎有点陌生，但它存在于我们的生活中。 我们需要进一步了解它，才能更好地利用它为人类创造价值。 希望今天小编介绍的关于什么是扫描电子显微镜的内容能给您的生活带来更多的帮助，从而在生活中取得进步。本文就是泽攸科技小编介绍的扫描电子显微镜，如果需要了解扫描电镜产品的价格请咨询：（微信同号）。 原文： 安徽泽攸科技有限公司，是一家具有完全自主知识产权的先进装备制造公司。公司集研发、生产和销售业务于一体，向客户提供原位电镜解决方案、扫描电子显微镜等设备，立志成为具有国际先进水平的电子显微镜及附件制造商。 　　公司有精通机械、光学、超高真空、电子技术、微纳加工技术、软件技术的团队，我们为纳米科学的研究提供的设备。公司团队于20世纪90年代投入电镜及相关附件研发中，现有两个系列核心产品： 　　　 （1）PicoFemto系列原位TEM/SEM测量系统； 　　　 （2）ZEM15台式扫描电子显微镜。 　　　 PicoFemto系列原位TEM/SEM测量系统自问世以来，获得了国内外研究者的高度关注，并且已外销至澳洲、美国、欧洲等地。我们协助用户做出大量研究成果，相关成果发表在Nature及其子刊/JACS/AM/Nano. Lett./Joule/Nano. Energy/APL/Angewandte/Inorg. Chem.等高水平刊物上。 目前在国内使用我公司产品的课题组/实验平台多达八十余个，遍布五十余所大学/研究机构，包括中科院过程所、北京大学、清华大学、浙江大学、中科院硅酸盐研究所、厦门大学、电子科大、苏州大学、西安交通大学、武汉理工大学、上海大学、中科院大连化物所等等。国外用户包括澳洲昆士兰科技大学、英国利物浦大学、美国休斯顿大学、美国莱斯大学等。安徽泽攸科技有限公司为您提供PicoFemto扫描电镜原位高温拉伸台的参数、价格、型号、原理等信息，PicoFemto扫描电镜原位高温拉伸台产地为安徽、品牌为泽攸科技，型号为高温拉伸台，价格为面议，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

仪器简介：工作模式 &bull 反射式NSOM，通过样品反射光强度进行成像，扫描过程，样品经由探针孔径光照明，反射光耦合到显微镜物镜，并经过PMT探测； &bull 荧光NSOM允许局域荧光成像，样品经由探针孔径光照明，透射光经显微镜物镜及滤光片，由PMT探测； &bull 透射NSOM可以进行透明样品的成像，透射光同样被倒置光学显微镜收集并由PMT探测。 激光波长选项 Trestles 20/50/100 700-950nm Mavericks65 1240-1270nm Tamarak-Er 1540-1560nm技术参数：参数扫描方式（根据样品或探针可选） 测量头扫描范围 80× 80× 3.5um（+/-10%） 最小扫描步长 0.009nm X,Y样品台移动范围 5× 5mm 移动精度 5um 样品尺寸 可达&Phi 100× 10mm X,Y闭环控制平台 X，Y范围 100× 100um 固有非线形 优于0.2% 精度 2nm 重复性 30nm（典型），小于全程0.2% 最大承重 2Kg 照明激光器 脉冲长度 50fs 输出功率 100mW 重复频率 80MHz 波长范围 740-950nm主要特点：特 点切向力反馈 纳米精度光学成像 反射和透过工作模式 飞秒脉冲或波长可调连续激光照明 光谱测量（可选）

显微镜物镜扫描仪高精度亚纳米物镜扫描台/定位台！上海昊量推出的物镜扫描台采用压电陶瓷直推，以柔性铰链为导向使物镜扫描台具有结构紧凑、体积小、无机械摩擦、定位分辨率高等优点，采用硅位移传感器，物镜扫描台相比于传统的电容式位移传感器，物镜扫描台硅传感器使平移台拥有更高的精度和线性度以及较低的底噪。物镜扫描台的精度可以达到亚纳米，底噪低至10pm。上海昊量光电设备有限公司推出的压电平移台旨在满足超精密定位应用的需求。该平移台采用压电陶瓷驱动，以柔性铰链为导向使其结构紧凑、拥有小的体积、无摩擦、无间隙、定位分辨率高等优点。采用硅高精度位移传感器，与电容位移传感器相比拥有更高的精度、线性度和低底噪。由于其具有较高的精度、线性度和较低的底噪等优点，被广泛的应用于超分辨率显微镜，光学捕获和原子力显微镜等领域。AU-FOCHS采用管状设计，专门用于显微镜物镜快速高精度定位。该物镜扫描台可提供行程可达到100μm，精度可达到0.1 nm，谐振频率可达到1175Hz。它由铝、钢和黄铜构成，配备硅传感器，可提供皮米级的稳定性。以上优点使其拥有广泛的应用，例如，激光加工、显微成像、体容积成像，等还可以与相机系统结合使用实现自动对焦。AU-FOC是一款专门用于显微镜物镜准确定位的设备。该物镜扫描台可提供100/200/300/500μm不同行程。该物镜扫描台由铝和黄铜构成，结合硅传感器可提供皮米量级的稳定性。以上两款物镜扫描台的黄铜安装环可以轻松更换，因此几乎所有的物镜都可以与这两款物镜扫描台结合使用。可用的物镜大小有RMS, M25, M26, M27 和 M32.显微镜物镜扫描台产品特点：l 高分辨率（0.01nm）l 高速度，谐振频率可达1175Hzl 采用硅传感技术l 超低底噪l 柔性铰链导向显微镜物镜扫描台主要应用：l 自动聚焦系统l 共焦显微镜l 3D成像l 超分辨显微镜l 半导体计量学 显微镜物镜扫描台产品参数：更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商，代理品牌均处于相关领域的发展前沿；产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询。

一、产品概述：扫描声学显微镜（SAM）是一种高分辨率的成像设备，用于分析材料内部结构和缺陷。该仪器利用超声波探测技术，可以获得微米级别的分辨率，广泛应用于材料科学、半导体和生物医学等领域。二、设备用途/原理：设备用途扫描声学显微镜主要用于检测和分析材料内部的缺陷、应力和微观结构。工程师和研究人员可以利用该仪器进行材料的质量控制、故障分析和新材料的研发，以确保材料在实际应用中的可靠性和性能。工作原理扫描声学显微镜通过发射超声波信号到样品中，并接收反射回来的信号来工作。仪器内部使用高灵敏度的探测器和信号处理技术，将反射信号转换为图像，显示样品内部的结构和缺陷。用户可以调整扫描参数，以获得不同深度和细节的成像，从而进行深入的材料分析和研究。三、主要技术指标：1. 为了识别沿封装微电子应用中小和细微的缺陷，ECHO VS包括标准功能，如用于佳声耦合的热水、用于有效捕获有用数据的灵活TAMI、用于提高信噪比的波形平均、ICEBERG用于提高图像质量，MFCI用于在苛刻的应用中增强图像质量。ECHO VS是用于成型倒装芯片、CSP、MCM、叠片、MUF和其他先进封装技术的终超声波无损检测设备2. 检测薄至0.01μm的空气缺陷，并在空间上解决低至5μm的缺陷3. 图像优化，提高复杂模制倒装芯片（MUF）和具有聚酰亚胺层的封装的图像质量

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安赛斯（中国）有限公司---国际先进检测设备优质供应商产品标签：超声波扫描显微镜，超声扫描显微镜，声扫显微镜，超声C扫描系统 超声波扫描显微镜是利用超声波对微观物体进行成像的无损检测设备。可对各种材料、元器件内部缺陷、空洞、气泡、分层缺陷、杂质、裂纹进行非破坏性检测；还可进行涂镀层结合质量，内部焊接质量，键合层缺陷等检测、空洞率计算等。 超声波扫描显微镜应用领域：半导体电子行业：半导体晶圆片、封装器件、大功率器件IGBT、红外器件、光电传感器件、SMT贴片器件、MEMS等 材料行业：复合材料、镀膜、电镀、注塑、合金、超导材料、陶瓷、金属焊接、摩擦界面等； 生物医学：活体细胞动态研究、骨骼、血管的研究等超声波扫描显微镜在失效分析中的应用：晶圆面处分层缺陷锡球、晶圆、或填胶中的开裂晶圆的倾斜各种可能之孔洞（晶圆接合面、锡球、填胶… 等）超声波显微镜的在失效分析中的优势：非破坏性、无损检测材料或IC芯片内部结构可分层扫描、多层扫描实施、直观的图像及分析缺陷的测量及缺陷面积和数量统计可显示材料内部的三维图像对人体是没有伤害的可检测各种缺陷（裂纹、分层、夹杂物、附着物、空洞、孔洞等）更多产品信息，请登录安赛斯（中国）有限公司官网获取。V-400E、V-700E、V-1000E单探头超声波扫描显微镜 -该型号超声波扫描显微镜系统是实验室、研发和工业生产线主流机型。- 扫描速度最高可达：2000mm/s- 与其它品牌机型相比扫描效率高30%- 最小扫描范围：200μm×200μm- 射频最大带宽：500MHz- 新型FCT防误判专利探头V-duo、V-quatrro、V-Octo多探头超声波扫显微镜多探头超声波扫描显微镜系统，同时使用2只、4只或8只换能器- 最大扫描速度：2000 mm/s - 与其它品牌相比扫描效率高30% - 最小扫描范围：200μm×200μm - 带宽：550MHz - 新型换能器Nano型高分辨率表层缺陷超声波扫描系统它是声学显微成像系统和光学显微成像系统的完美结合。- 换能器频率范围：100MHz——2000MHz频率实现高分辨率 - 探测深度100nm - 特殊平均模式使信噪比更好 - 同步光学成像和超声波成像使样品在结构上、生物化学性能上和机械性能上具有关联性。 - 光声效应增强了对比性 - 最大放大倍数：1000倍 - 入射光显微镜和倒置光学显微镜可调节 咨询或索取详细产品资料，请联系ANALYSIS（安赛斯）工作人员。 产品标签：超声波扫描显微镜，超声扫描显微镜，声扫显微镜，超声C扫描系统您还可能感兴趣的产品有：德国工业CT系统 X射线计算机断层扫描系统美国声发射检测系统及声发射板卡Pocket-AE美国 水浸式超声C扫描系统德国X射线成像系统 Mu2000德国微焦点X射线成像系统 X光机 Y.Cheetah

仪器简介：在以下方面，easyScan 2扫描隧道显微镜是最理想的工具 在石墨上用易完成的原子分辨率进行非常高分辨率测量 轻松进入纳米世界 大气环境中日常的实验室工作 瑞士Nanosurf公司，全球知名的专业研发扫描探针原子力显微镜制造商和技术服务供应商，在扫描探针原子力显微镜领域有超过15年的研发经验，一直致力于新型扫描探针原子力显微镜的创新性研发和制造。目前已推出新一代低噪音-快速扫描-超高稳定性的AFM 和大扫描范围Nanite AFM系统。瑞士Nanosurf公司承诺提供最高品质的服务和客户支持，同时还提供纳米技术的OEM 客户定制，外包等业务。技术参数：1. 扫描隧道显微镜扫描头 最大扫描范围： X和Y方向0.5um x 0.5um（可以选择1um x 1um） xy轴分辨率： 0.015nm 最大扫描范围： Z方向200nm z轴分辨率： 0.003nm 扫描速度： 每128个数据点，60ms/line 槽压： 5 mV 阶段时，± 10 V 设定点电流： 25 pA阶段时，± 100 nA 反馈回路宽带： 3kHz 自动接近样品 没有使用危险的高电压 包括高效减幅阶段 用0.25 mm的 Pt/Ir 金属丝作为扫描尖端 2. 扫描隧道显微镜电子控制器 数据采集时，可以和任何标准计算计串行端口连接 三个轴都有16位的数据收集与控制系统 轴输出电压：+12V 附加的独立的12位的ADC输入选件 外部电源 可以升级运行AFM扫描仪3. 扫描隧道显微镜软件 测量数据可以实现可视化 不同的窗体的扫描数据可以被同时显示 线观察，点观察，3维观察 在线数学计算功能（减，平均值等等） 可以实现多数据输出 定制显示器、工作场所 多用光谱功能 I-V和I-z曲线测量4. 扫描隧道显微镜可利用的附件和消耗品 覆盖10倍放大高质量光学镜的透明层 全部的STM工具（刀具，钳子，镊子） 提供STM原理信息手册 样品：HOPG，Gold 薄膜，MoS2 云母片上的取向薄膜Gold (111) 接触样品的银粉漆 Pt/Ir STM金属丝(直径为0.25mm)主要特点：可以在大气下进行任何STM实验设计小巧、紧凑；使用简便、舒适扫描仪配置了易接近和可视扫描端自动接近样品所有的功能可以在一台计算机上进行与标准计算机串行端口连接（不需要接界面卡）特殊的扫描仪设计，确保低震动灵敏度

1.产品概述：PVA TePla 超声扫描显微镜SAM Premium系列结合了声学显微镜和光学显微镜。它使超声扫描平台与倒置光学显微镜或反射式光学显微镜相结合。SAM Premium系列所使用的技术是以融合了生产和研究技术的核心平台为基础。SAM Premium系列旗下各个系统均具有高产量、高灵活性和宽广的扫描范围等特性。此外，各系统还可以根据客户的要求进行扩展，并用于多样化的应用。2.产品优势：高频和换能器技术：高频和换能器技术可支持各类特定研究和工业应用，其中高频范围可高达400 MHz，并提供5 MHz和400 MHz之间的可选择频率范围。此外，每个换能器都配备了门的自动对焦功能。其特征在于，该系统可通过特殊的音爆高频单元升到1000MHz的声学成像。一直以来，PVA TePla致力于为企业客户及科研单位提供无损检测设备，满足客户要求。目，我们的SAM系列应用于工业域及多个高科技行业，如半导体行业、电子/电气行业等等。3.产品工艺：X和Y方向的扫描范围可以单独自定义，可选择以下扫描范围配置: 250µ m x 250µ m到320mm x 320mm250µ m x 250µ m到502mm x 502mm如HiSA（高速扫描轴）、或动态穿透式扫描等，可实现高性能扫描成像结果。HiSA（高速扫描轴）跟随样品弓形，具有动态聚焦功能。动态穿透式扫描可在25MHz至100MHz的频率范围内使用。

产品简介：纳尺度扫描电化学分析系统基于扫描电化学池显微镜(SECCM)、离子电导显微镜(SICM)和扫描电化学显微镜(SECM)基本原理，结合自主研发的高灵敏电流检测、高分辨压电陶瓷移动及高精准反馈模块一体化设计，可以对材料的电化学性能、光学性能及三维形貌等进行高空间分辨成像，从而为理解电化学过程机理，遴选电化学材料等提供研究工具；还可以对单个活细胞在生理过程下多种物理参数（形貌、体积、表面电荷分布、模量等）及电生理信息的变化进行高空间分辨成像。技术参数：

超声波扫描显微镜品牌：JIONSUN型号：UTScan400产品简介：扫描显微镜是一种利用传播媒介的无损检测设备。在工作中采用反射或者透射等扫描方式来检查元器件、材料、晶圆等样品内部的分层、空洞、裂缝等缺陷。超声波扫描显微镜是一种实用性极强的无损检测工具。该产品主要利用高频的超声波，对各类半导体器件、材料进行检测，能够检测出样品内部的气孔、裂纹、夹杂和分层等缺陷，并以图形的方式直观展示。在扫描过程中，不会对样品造成损伤，不会影响样品性能。因此，被广泛应用于半导体器件及封装检测、材料检测、IGBT功率模组产品检测等场合。应用领域：■ 半导体器件及封装检测：分立器件（IGBT/SiC）、陶瓷基板、塑封IC、光电器件、微波功率器件、MEMS器件、倒装芯片、堆叠Stacked Die、MCM多芯片模块等。■ 材料检测：陶瓷、玻璃、金属、塑料、焊接件、水冷散热器等。■ IGBT功率模组产品检测：实现 IGBT 模块内部界面和结构缺陷的无损检测，在进行功率循环后，通过SAM测试，准确找到 IGBT 模块材料、焊料层，打线等工艺中出现的问题，筛选不合格产品，并促进 IGBT 模块的封装质量提升。