电子束刻蚀系统

特点：• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例： 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)、i-line(365 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~365nm• 高分辨率(30nm)，高对比度 • 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于三维电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度，低对比度( 1)• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光等• 感光波段：e-beam• 高分辨率( 10 nm)， 高对比度(14)• 高深宽比，高工艺稳定性 • 优异的耐干法刻蚀能力• 采用不同的显影液(AR 600-546/ 548/ 549)，可实现 不同程度的灵敏度• 可实现Lift-off工艺，操作简单• 溶剂为苯甲醚(安全溶剂) 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料 • 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室 5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等； 5091.02，适于酚醛树脂基电子束光刻胶，如AR-N 7520导电性：[注]导电胶电阻测量实验结果：胶层越薄，电阻越大，导电性降低。 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)，光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板显示器(LED,LCD,OLED)，太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束光刻胶（抗蚀剂）以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商，为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。 产品类型： 1.紫外光刻胶（Photoresist） 各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。 各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。 各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。 2. 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。 3. 特殊工艺用胶（Special manufacture/experimental sample） 电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。 4. 配套试剂（Process chemicals） 显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。 产品特点1. 光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电子束光刻胶（包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶（灰度曝光用胶）、混合曝光用胶等）2. 光刻胶包装规格灵活多样，适合各种规模的生产、科研需求。 包装规格包含：250毫升、1升、2.5升等常规包装，还提供试验用小包装，如30毫升、100毫升等。3. 交货时间短。我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单，产品将于第二个月中旬到货，您可以根据实际情况，合理安排采购时间。具体的订购情况，请联系我们的销售人员。 4. 可以提供高水准的技术咨询服务，具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力5. 储存条件：密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。储存在适当的温度下。详情请联系我们的销售人员。 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺、 石墨烯/碳纳米管转移、绝缘保护层等 • 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)• 高分辨率( 10nm)，高对比度 • 多种分子量：50K、200K、 600K、 950K• 多种溶剂：苯甲醚、乳酸乙酯、氯苯• 多种固含量实现了多种涂胶厚度• 可定制特殊用PMMA胶950K PMMA参考涂胶厚度：（其他型号的涂胶厚度，请联系销售人员）应用实例：双层PMMA lift-off工艺PMMA Bilayer(950K/600K) - - AR-P 679.03 / AR-P 669.04欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

一次性培养皿 （电子束灭菌）产品参数及型号：编号型号直径×高（mm）数量RMB(含税)3-1491-01ND90-15φ90×151箱（10张/袋×50袋）398.003-1491-51优惠装φ90×151套（10箱）3,980.00携带方便，采用叠放时不易横向滑动的结构等，已进行电子束灭菌。特点：● 外围四周有加强棱，叠放起来不易倒塌。 ● 透明度好，便于菌落观察。 ● 采用可防止盖子与主体吸附的构造，不影响通气性。 ● 底面有4分割点，便于对菌落的观察。规格：● 材质：PS（聚苯乙烯） ● 已进行电子束灭菌

通过电子束照射，对活体组织（DNA、细胞等）进行损伤无需使用气体、药品等，因此不必担心残留比γ射线灭菌更节省设施空间（在实验室也可设置专门的照射室）

Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.

特点：• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺等• 感光波段：e-beam、deep UV(248nm)• 高分辨率( 10nm)，高灵敏度(PMMA灵敏度的3~4倍)旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构 单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备 1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机； 7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

特点：• 用于LIGA、X射线掩膜板加工等• 感光波段：e-beam、X-ray、synchrotron• 基于PMMA的厚胶• 涂胶厚度从几微米到上百微米，覆盖能力好旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

功能概述：用于透射电镜、扫描电镜、聚焦离子束、电子束光刻机、电子束焊接机、电子束3D打印、电子束蒸镀等领域；主要性能：真空范围：≤2.7 x 10∧-7Pa，温度范围：1750～1850K，针尖曲率半径：0.4~0.9um

这些盖玻片都由纯白玻璃制造，表面刻蚀了永久栅格。它有2种型式可选：l 方形刻蚀坐标盖玻片2号厚度的盖玻片有520个带标记的方格，每个方格的大小是600 x 600μm方便细胞或染色体的展开 l 圆形刻蚀坐标盖玻片25mm直径。厚度2号的盖玻片有1-200个方格，每个方格500um宽可以放入六孔板适合活细胞的生长观察 订购信息：货号产品名称规格72264-18刻蚀坐标盖玻片18 x 18 mm 25/盒 72264-23 刻蚀坐标盖玻片23 x 23 mm 25/盒72265-12刻蚀坐标盖玻片12 mm Diameter25/盒72265-25刻蚀坐标盖玻片25mm Diameter25/盒72265-50刻蚀坐标盖玻片25mm Photo-Etched German Glass 25/盒

这些盖玻片都由纯白玻璃制造，表面刻蚀了永久栅格。它有2种型式可选：l 方形刻蚀坐标盖玻片2号厚度的盖玻片有520个带标记的方格，每个方格的大小是600 x 600μm方便细胞或染色体的展开 l 圆形刻蚀坐标盖玻片25mm直径。厚度2号的盖玻片有1-200个方格，每个方格500um宽可以放入六孔板适合活细胞的生长观察 订购信息：货号产品名称规格72264-18刻蚀坐标盖玻片18 x 18 mm 25/盒 72264-23 刻蚀坐标盖玻片23 x 23 mm 25/盒72265-12刻蚀坐标盖玻片12 mm Diameter25/盒72265-25刻蚀坐标盖玻片25mm Diameter25/盒72265-50刻蚀坐标盖玻片25mm Photo-Etched German Glass 25/盒

特点：• 用于增强光刻胶和衬底的黏附性• 用于紫外光刻胶、电子束光刻胶、特殊功能用光刻胶等• 采用旋涂的方式进行涂覆，操作简单• 涂覆厚度：15nm@ 4000rpm• 和传统的HMDS相比，毒性更小，使用更安全，更经济实惠• new版本与旧版AR 300-80相比,烘烤温度降低 （60℃ 热板 2min）

标题：TRAKETCH 径迹蚀刻膜 微孔过滤膜SABEU 的TRAKETCH 微孔过滤膜（径迹蚀刻膜）适用于气体和液体过滤，用于医疗、敏感电子元件，细胞培养及更多应用，适用于通气、压力补偿、过滤等多个方面。TRAKETCH微孔过滤膜可以是卷状、片状，圆盘状等标准形式或者定制化的形式，材料有聚碳酸酯（PC）,聚酯（PET）和PTFE三种，具有不同的耐化学性和密封兼容性，使用温度，无支撑的达180℃，PP-支撑的达100℃，PET-支撑的达150℃。孔大小：0.08-20μm，孔密度：1.0 E+04 – 5.0 E+09 Pores/ cm2， 膜的厚度是8-36μm。表面处理包括亲水性，TC处理，疏水型，疏油型，灭菌方式有高压灭菌，E-电子束，EtO, γ射线。颜色有白色半透明的，无色透明的，金的，钛金的。卷筒宽度为8-300mm， 片状大小为210x300mm，200x250mm，圆盘状直径为13mm，25mm，37mm，47mm，90mm，293mm，其他规格尺寸可按需定制。TRAKETCH 微孔过滤膜（径迹蚀刻膜）具有精确的孔径，不含PFOA, 具有平坦光滑的表面，疏水和疏油的表面特性，亲水的过滤膜适合燃料的过滤和细胞培养应用。TRAKETCH® 微孔过滤膜完全由SABEU 自己生产，从产品开发到表面处理的制备，再到组装和包装，产品高质量和一致性，可以根据客户需求进行定制化生产。TRAKETCH 微孔过滤膜（径迹蚀刻膜）的产品特点：w 具有精确的孔径w 平坦光滑的表面和高热稳定性w 适合进一步的处理（亲水、疏水、疏油、TC处理、染色）w 不含致癌物全氟辛酸PFOAw 符合FDA 和EU 食品标准用w 在线质量控制 w USP VI 级生物兼容性w 可灭菌（高压灭菌、电子束、EtO和伽马射线）w 圆盘形、片状、卷筒等多种类型TRAKETCH 微孔过滤膜（径迹蚀刻膜）应用于医疗技术、实验室分析、生物技术，化学和药物包装，及汽车和电子产品等，具体包括：1、人类细胞培养：例如肺细胞和组织的培养，与海绵状的膜不同，TRAKETCH 微孔过滤膜不让细胞进入材料并粘附到孔里，而是在平坦光滑的表面进行生长，不损害组织情况下，可以方便剥离组织用于检查或者进一步使用。此原理有利于移植的皮肤细胞的培养。TRAKETCH 微孔过滤膜还用于化妆品和医药行业，在径迹蚀刻膜上进行的皮肤模型可部分替代动物实验。2、病人和医疗设备的保护：用于保护病人和医疗设备的一次性用品，例如通风口，听力设备，传感器保护器和静脉输液器，TRAKETCH 微孔过滤膜具有精确的孔适用于无菌通气和USP 等级的毒性测试，符合FDA 标准具有生物兼容性。该径迹蚀刻膜具有超洁净、不脱落，可提取等特点。3、液体药物的过滤：TRAKETCH微孔膜防止颗粒或细菌进入人体，由于没有纤维脱落，SABEU制造的无PFOA轨道蚀刻膜尤适合用于输液和药物输送系统。4、汽车机动车排气：使用敏感电子和其他复杂部件的汽车制造商的目标是延长其使用寿命。TRAKETCH® 离子径迹膜的IP等级为67或68，由于具有精确的孔隙，可以为这些机械和电气部件过滤液体和颗粒而成为理想的保护。同时，疏油膜表面允许这些组件具有很高的抗环境影响能力。5、保护敏感电子产品：与其他膜相比，TRAKETCH® 离子轨道膜具有均匀的孔径和均匀的气流。而且具有疏水和疏油性。这些特性可以保护在室外和湿度下使用的敏感电子设备，保护电子设备免受颗粒物的影响，同时保持对空气的渗透性。6、军团菌检测：开发的径迹蚀刻膜用于军团菌检测。7、无菌排气：用于生命科学和医疗环境中的无菌排气，保护实验室环境免受微生物的侵害，也要保护活的微生物免受外部污染，确保无微生物通过与医疗设备的接触进入患者体内，同时这些设备中通向外部的开口需要配备无菌空气过滤器，以保护环境受潜在污染。8、压力补偿元件：开发的压力补偿元件 (PCE) 由疏水和疏油过滤膜（不含 PFOA）组成，可补偿产生的压力变化，同时阻止外部水分和颗粒。用于多种电子产品、照明系统、包装物及电子医疗设备等。TRAKETCH微孔过滤膜提供了可靠的屏障，符合 USP Class VI 的生物相容性，适合多种灭菌放手，平坦光滑的表面还会使液体形成液滴并从膜上流出，从而使膜保持干燥，确保必要的无菌空气排放。TRAKETCH微孔过滤膜符合的认证和法规DIN EN ISO 13485:2016DIN EN ISO 9001:2015DIN EN ISO 50001:2018DIN EN ISO 14001（符合标准）USP六级生物相容性ISO 8级洁净室制造欧盟食品一致性FDA合规性疏水过滤膜用于透气应用的产品系列：

AT-Win自动电位滴定仪控制操作软件Windows Software for TitratorsAT-Win软件可使用电脑控制KEM的自动电位滴定仪。当连接到AT-710B时，可提供与AT-710M等效的功能。1. 经由电脑控制操作KEM自动电位滴定仪(AT-710系列或AT-510)。2. 一套AT-Win软件，可同时控制四台自动电位滴定仪。3. 输入样品种类, 分析项目，测试范围等，自动设定测定条件。4. 强大的SOP功能，完全符合GLP/GMP规范。5. 用户权限管理，电子署名，数据安全，监督检査，备份功能。6. 电极, 标准物质校正, 滴定管体积校准的通知、执行和记录。7. 支持Windows 7或Windows 10/11操作系统。8. 测量结果和方法参数，可以用PDF格式输出。 京都电子(KEM)中国分公司 客服热线: 400-820-2557

大和电子科技株式会社成立于1967年，是一家电子显微镜灯丝制造商。 公司成立53年来，一直努力稳定供应灯丝，随着电子显微镜的发展，我们不断追求灯丝制造技术和精度的极限。我们使用电子显微镜专用等级的钨丝，在真空中进行退火处理，以消除灯丝的残余应力。 因此，在电子显微镜下使用时，漂移较少，裂纹的产生也得到抑制，从而获得更稳定的电子束。此外，我们还将自行研发的点焊机与定制的夹具相结合，进行精确焊接。 之后，使用定心夹具在确认中心精度的同时进行定心，因此无需在安装时进行繁杂的定心作业。用途：用于扫描电子显微镜和透射电子显微镜的电子枪种类：热电子发射型灯丝材质：● 灯丝：W、Ta、Re、Th-W、其它● 灯丝焊接柱：Kovar、Ta、Mo、其它● 陶瓷底座：AlO2、MgO?SiO2焊接：灯丝和焊接柱的焊接：电阻点焊灯丝和陶瓷座：玻璃密封，钎焊特征：● 使用电镜专用等级的灯丝● 点焊机为自主研发设备，专用于灯丝焊接。与定制的夹具结合使用，进行精确焊接 可实现从线径φ0.02的极细丝到线径φ0.5左右的极粗丝的焊接● 灯丝（多晶）的尖端可加工成发夹型、点型、尖锐型、线圈型等形状● 真空退火处理（安装设备后释放稳定的电子束）● 无需在安装设备时进行繁琐的定心工作（可提供定心灯丝套件）● 使用各种测量仪器进行产品检验合格后发货除上述灯丝外，还生产场发射发射器、质谱仪用灯丝、气相沉积用灯丝、各种加热器等。如您想了解更多关于产品的报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

Araldite 502包埋树脂套装Araldite 502 Embedding KitsAraldite 502包埋树脂套装使用BDMA或DMP-30作促进剂，其效果是一样有效的。BDMA粘度更低，渗透到组织、有孔和粗糙材料的速度更快。Araldite 502较Eponate树脂电子束稳定性更好。使用时，BDMA浓度为3%，而DMP-30则为1.5－2%。Araldite包埋树脂套装可单独使用或与其它环氧树脂混用。60°C下的固化时间时为16至24小时，如使用PELCO BioWave® 微波系统，则缩短至2至3小时。产品编号描述单位18052Araldite 502包埋树脂套装，950ml (含BDMA)套内含：Araldite 502，450ml (18060)、DDSA， 450g (18022)、BDMA， 25g (18241)。产品编号描述单位18050Araldite 502包埋树脂套装，950ml (含DMP-30)套内含：Araldite 502，450ml (18060)、DDSA， 450g (18022)、DMP-30， 25g (18042) 。

Araldite 502包埋树脂套装Araldite 502 Embedding KitsAraldite 502包埋树脂套装使用BDMA或DMP-30作促进剂，其效果是一样有效的。BDMA粘度更低，渗透到组织、有孔和粗糙材料的速度更快。Araldite 502较Eponate树脂电子束稳定性更好。使用时，BDMA浓度为3%，而DMP-30则为1.5－2%。Araldite包埋树脂套装可单独使用或与其它环氧树脂混用。60°C下的固化时间时为16至24小时，如使用PELCO BioWave® 微波系统，则缩短至2至3小时。产品编号描述单位18052Araldite 502包埋树脂套装，950ml (含BDMA)套内含：Araldite 502，450ml (18060)、DDSA， 450g (18022)、BDMA， 25g (18241)。产品编号描述单位18050Araldite 502包埋树脂套装，950ml (含DMP-30)套内含：Araldite 502，450ml (18060)、DDSA， 450g (18022)、DMP-30， 25g (18042) 。

钨灯丝9210016适用于所有原厂的钨灯丝扫描电镜，使用寿命大于50小时。钨灯丝扫描电镜是一种用于物理学领域的分析仪器，扫描电镜分辨率：高真空二次电子像3.0nm（30KV） 扫描电镜放大倍数：5×～1000000×，连续可调 能谱仪分辨率：MnKα峰的半高宽优于127eV； 能谱仪元素测试范围：Be4— Pu94。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

原理简介简洁型激光稳定系统可用于抵消或纠正由振动、冲击震动、热量漂移，或其他对激光方位有不良影响的因素引起的变化。该系统可应用于所有激光设备和激光系统中。如果激光系统中有您不期望的波动或移位，而您的激光应用需要有很高的精确性和稳定性，那么激光稳定系统可帮助您来达到这一目的。 激光方位是由探测器来确定的。探测器可以是一个四象限光电二极管（4- QD） 或 一个PSD。该稳定系统只需利用用户设备中已有的高反光镜后的一小部分微弱的透射光就足以来稳固激光。 图 1 激光稳定原理 系统中的一个闭循环控制器不断探测激光光线的实际方位与应有方位的偏差，同时借助于一个快速传动装置使一个转向镜把激光光线稳定在所需位置上。 两个不同型号的系统可提供用户使用。“双轴控制系统”包括一个探测器和一个转向镜，其中转向镜可 在两个不同方向轴上转动。这样，激光的位置就可通过转向镜的转动被确定在由探测器设定的位置上。但这种情况下，激光的方向还会有偏移的可能。因为即使激光最后射到探测器上的位置虽然一致，但 该光线射到转向镜上的点位还是可以不同，所以这个系统只能定位但不能定向。相比之下“四轴控制 系统”包含两个探测器和两个转向镜。此系统中两个探测器把激光固定在两个不同的预先确定的位置 上。由此激光的位置和方向都被稳固住了。独立系统，可轻松安装到激光束路径。它的特点是简单的处理和集成。紧凑型系统可实现可靠且非常精确的光束位置和方向稳定性，并可补偿干扰。压电驱动反射镜可以放置在装置现有反射镜的位置。 我们提供用于实时稳定、对准、定位和调整激光束的系统。我们的系统极其精确、快速且非常稳定。不需要用户交互。它们配备有用的操作和安全功能，可快速集成到不同的激光器设置中。使用我们的光束稳定系统，激光始终稳定在所需的目标位置和光束方向。请不要犹豫与我们联系。我们期待在选择、规划和整合方面为您提供帮助。 技术参数典型应用非常精确、快速和可靠的光束对准主动光束位置和光束方向控制激光束指向补偿精确的运动和振动控制自动调整激光束将激光束快速传送到不断变化的应用OEM 解决方案：例如激光材料加工中的在线精度控制 特征有源闭环控制模拟系统内核以最低的相移实现最高的控制性能无需数字化步骤的最高分辨率无需用户交互，无需计算机提供 USB 接口（以太网、RS-232）和软件连续和脉冲激光器的精确定位也适用于超短脉冲激光器（ps、fs） 提供 OEM 版本优异的性价比

微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。 微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料，可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。 编号 名称 MSUP 基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。

方华膜镀有一层薄的碳膜。在电子束作用下，碳膜的导热、导电性能有助于方华膜的稳定。该载膜为弹性多用途支持膜。非常适合薄切片应用，可使用更低的放大倍数。

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